JPS5951254A - 1−アミノ−8−ナフト−ル−3・6−ジスルホン酸の精製方法 - Google Patents

1−アミノ−8−ナフト−ル−3・6−ジスルホン酸の精製方法

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JPS5951254A
JPS5951254A JP16013382A JP16013382A JPS5951254A JP S5951254 A JPS5951254 A JP S5951254A JP 16013382 A JP16013382 A JP 16013382A JP 16013382 A JP16013382 A JP 16013382A JP S5951254 A JPS5951254 A JP S5951254A
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JP
Japan
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disulfonic acid
acid
amino
diaminonaphthalene
naphthol
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JP16013382A
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JPH0329066B2 (ja
Inventor
Hiroki Fujii
宏紀 藤井
Nobuyori Shibamoto
芝本 信頼
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Sugai Chemical Industry Co Ltd
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Sugai Chemical Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は1−アミノ−8−ハフトール 3・6−ジスル
ホン酸の精製方法に関する。
1−アミノ−8−ナフトール−3・6−ジスルホン酸は
染顔料の原料、特に直接、酸性等のアゾ系染料の中間体
として重要な位置を占めている。
又、近年染料における公害などの問題から各種中間体の
高品質が要求され、該1−アミノ−8−ナフトール−3
・6−ジスルホン酸においても高品質化が強く望まれて
いるところである。本方法は少量の1・8−ジアミノナ
フタレン−3・6−ジスルホン酸を含有する1−アミノ
−8−ナフトール3・6−ジスルホン酸から、1・8−
ジアミノナフタレン−2・6−ジスルホン酸を除去する
ことを目的とした精製方法として提供するものである。
1−アミノ−8−ナフトール−3・6−ジスルホン酸に
混入された少量の1・8−ジアミノナフタレン−3・6
−ジスルホン酸は、一般的な精製方法、例えば再結晶法
、活性炭吸着法等では除去することが困難であった。
これらの状況から本発明者らは、該1・8−ジアミノナ
フタレン−3・6−ジスルホン酸を除去することを目的
とした精製方法について鋭意研究の結果、選択的に1・
8−ジアミノナフタレン3・6−ジスルホン酸と反応し
、且つ1−アミノ−8−ナフトール−3・6−ジスルホ
ン酸の析出時においても安定して、1・8−ジアミノナ
フタレン−3・6−ジスルホン酸を溶液中に残存させ得
る試剤を見い出すことによって本発明を完成した。
すなわち、少量の1・8−ジアミノナフタレン−3・6
−ジスルホン酸を含有する1−アミノ8−ナフトール−
3・6−ジスルホン酸水溶液に、(ここにはR1は水素
、水酸基、炭素数1乃至5の低級アルキル基、R2は水
素、炭素数1乃至5の低級アルキル基を示す。但し、R
1、R2は同時に水素ではない。) 及び、一般式 (ここにR1、R2は前述と同じ。) で示される化合物及び塩化チオニル、亜セレン酸、ロダ
ンアンモ及び一般式 R 3−N(E S (ここにR31.は炭素数1乃至5の低級アルキル基、
アリール基を示す。) で示される化合物のうちから選ばれた1乃至それ以上を
、1・8−ジアミノナフタレン−3・6−ジスルホン酸
に対し、等モル乃至僅かに過剰モルを加え、かきまぜな
がら反応を行ない、後鉱酸又は有機酸で酸析することに
よって、1・8−ジアミノナフタレン−3・6−ジスル
ホン酸を含まない1−アミノ−8−ナフトール−3・6
−ジスルホン酸を高収率で得ることを特徴とする1−ア
ミノ−8−ナフトール−3・6−ジスルホン酸の精製方
法である。
更に詳しく述べるならば、溶解された水溶液は入部分が
1−アミノ−8−ナフトール−3・6−ジスルホン酸で
あるが、その液中に少量混入する1・8−ジアミノナフ
タレン−3・6−ジスルホン酸の等モル乃至僅かの過剰
モル分の試剤を投入することによって、該試剤は1−ア
ミノ−8−ナナトール−3・6−ジスルホン酸に影響す
ることなく、含有する少量の1・8−ジアミノナフタレ
ン−3・6−ジスルホン酸と選択的に反応が行なわれる
。本試剤は、1−アミノ−8−ナフトール−3・6−ジ
スルホン酸の有するアミノ基とは本質的に反応せず、1
・8−ジアミノナフタレン3・6−ジスルホン酸と選択
的にのみ反応するのか、あるいは該条件下で1−アミノ
−8−ナフトール−3・6−ジスルホン酸とは不安定な
化合物の生成、分解をくり返し、ついには1・8−ジア
ミノナフタレン−3・6−ジスルホン酸と安定化合物あ
るいは付加物を生成するのか該反応機構は不明であるが
、事実添加する試剤により、ある温度との関連による攪
拌時間により、1・8−ジアミノナフタレン−3・6−
ジスルホン酸が焼失することは、液体クロマトグラフィ
ーで確認できる。
更に該試剤と1・8−ジアミノナフタレン・−3・(3
−ジスルホン酸との反応生成物は、1−アミノ−8−ナ
フトール−3・6−ジスルホン酸を析出させる酸析条件
下でも安定な溶解性を示し、1アミノ−8−ナフトール
−3・6−ジスルホン酸中に混入することはない。従っ
て本方法においいえは大過剰の資剤は必要とせず、実際
的には該反応条件における蒸発等による不足分のみの過
剰モルを, あらかじめ加えておくか、あるいは追加す
る方法により加えてもよい。又、反応は常温にても行な
われるが、反応温度を高くすることによって反応時間を
短縮することもできる。これらの諸条件は、使用する資
剤の種類により、且つ実際の工業上の諸条件を加味して
決められるべきものである。かくして後、酸析、分離す
ることにより、1・8−ジアミノナフタレン−3・6−
ジスルホン酸を含まない高品質の1−アミノ−8−ナフ
トール−3・6 ジスルホン酸を高収率で得ることがで
きる。
本発明を詳細に説明するため、以下に実施例をあげて説
明するが、本発明の範囲はこれら実施例のみに限定され
るものではない。
実施例1 撹拌機を付した200mlのガラス製4ッ口フラスコに
、粗製の1−アミノ−8−アフトール−3・6−ジスル
ホンさん(1・8−ジアミノナフタレン3・6−ジスル
ホン酸 1.8%含有)20gを仕込み、2 N 苛性
ソーダ液59mlを注入し、攪拌しながら溶解する。次
いで水21mlを加えて濃度を20w%に調整した。こ
の溶解液にメチルエチルケトン0.19mlを添加しで
加熱し、温度が沸点に達すると同温度で1.5時間の保
温反応を行なった。後63%硫酸50を加えて酸析し、
更に同温度で1時間の保温攪拌を行ない、後3(1℃t
まで冷却して濾過する。
分離した結晶を40mlの水で洗浄してから結晶を乾燥
して22.6Qの精製1−アミノ−8−ナフトール−3
・6−ジスルホンを得た。この場合の1.8%含有して
いる1.8−ジアミノナフタレン−3・6−ジスルホン
酸は、メチルエチルケトンの添加後、昇温して沸点に達
した時は既に1.3%1,二減少し、1時間後には0.
03%、1.5時間後には痕跡程度までになっており、
この減少と新しい生成物の出来ていることは液体クロマ
トグラフィーによって確認した。収率97.25%。1
・8−ジアミノナフタレン3・6ジスルホン酸の含有は
09+i o 実施例2〜15 実施例1と同様の方法で行ない、添加剤、反応温度及び
反応時間を変えて実施した。その結果を表1に示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 少量の1・8−ジアミノナフタレン−3・6−ジスルホ
    ン酸を含有する4−アミノ−8−ナフトール−3・6−
    ジスルホン酸水溶液に、一般式(ここにR1は水素、水
    酸基、炭水数1乃至5の低級アルキル基、R2は水素、
    炭素数1乃至5の低級アルキル基を示す。但し、R1、
    R2は同時に水素ではない。) 及び、一般式 (ここにR1、R2は前述と同じ。) で示される化合物及び塩化チオニル、亜セレン酸、ロダ
    ンアンモン及び一般式 R3−NCR (ここにR3は炭素数1乃至5の低級アルキル基、アリ
    ール基を示す。) で示される化合物のうちから選ばれた1乃至それ以上を
    、1・8−ジアミノナフタレン−3・6−ジスルホン酸
    に対し、等モル乃至僅かに過剰モルを加え、かきまぜな
    がら反応を行ない、後鉱酸又は有機酸で酸析することに
    よって、1・8−ジアミノナフタレン−3・6−ジスル
    ホン酸を含まない1−アミノ−8−ナフトール−3・6
    −ジスルホン酸を高収率で得ることを特徴とする1−ア
    ミノ−8−ナフトール−3・6−ジスルホン酸の精製方
    法。
JP16013382A 1982-09-14 1982-09-14 1−アミノ−8−ナフト−ル−3・6−ジスルホン酸の精製方法 Granted JPS5951254A (ja)

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JPS5951254A true JPS5951254A (ja) 1984-03-24
JPH0329066B2 JPH0329066B2 (ja) 1991-04-23

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