JPS595733Y2 - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
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- JPS595733Y2 JPS595733Y2 JP15420679U JP15420679U JPS595733Y2 JP S595733 Y2 JPS595733 Y2 JP S595733Y2 JP 15420679 U JP15420679 U JP 15420679U JP 15420679 U JP15420679 U JP 15420679U JP S595733 Y2 JPS595733 Y2 JP S595733Y2
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、真空蒸着装置に関し、特に、被蒸着物に斜め
蒸着を施しうる真空蒸着装置に関するものである。
蒸着を施しうる真空蒸着装置に関するものである。
電子計算機等の磁気記録体として磁気テープや磁気ディ
スク、ドラム等が利用されていることは周知のことであ
る。
スク、ドラム等が利用されていることは周知のことであ
る。
このような磁気記録体に磁性被覆を施す方法としては、
酸化第2鉄等の粉末をバインダーと混合したものを塗布
することが一般に採用されているが、記録密度が低いた
めに、最近は真空蒸着法が用いられるようになってきた
。
酸化第2鉄等の粉末をバインダーと混合したものを塗布
することが一般に採用されているが、記録密度が低いた
めに、最近は真空蒸着法が用いられるようになってきた
。
真空蒸着法は、被覆速度が早く、製造が容易であるとい
う利点があるが、通常の蒸着法では保持力が小さいため
実用化が困難である。
う利点があるが、通常の蒸着法では保持力が小さいため
実用化が困難である。
そのため、特に蒸発金属を被蒸着物に蒸着する際に、被
蒸着物の法線に対してある角度をもつようにしたいわゆ
る斜め蒸着法が利用されている。
蒸着物の法線に対してある角度をもつようにしたいわゆ
る斜め蒸着法が利用されている。
斜め蒸着を採用したものとしては、一つには蒸着金属の
蒸発源と被蒸着物との間に遮蔽物を設けた装置があるが
、このような装置では、蒸着金属の大部分が遮蔽物に付
着してしまい、ロスが多く、被覆速度が早いという真空
蒸着法の利点も減少してしまう欠点があった。
蒸発源と被蒸着物との間に遮蔽物を設けた装置があるが
、このような装置では、蒸着金属の大部分が遮蔽物に付
着してしまい、ロスが多く、被覆速度が早いという真空
蒸着法の利点も減少してしまう欠点があった。
また、被蒸着物を蒸着金属の蒸発方向に対して斜めに走
行させる装置もあるが、蒸着金属が被蒸着物に蒸着する
角度を変化することが困難であり装置が複雑になる欠点
があった。
行させる装置もあるが、蒸着金属が被蒸着物に蒸着する
角度を変化することが困難であり装置が複雑になる欠点
があった。
本考案は、以上の欠点を改良し、効率が良く、被蒸着物
に任意の角度で金属を蒸着しうる真空蒸着装置の提供を
目的とするものである。
に任意の角度で金属を蒸着しうる真空蒸着装置の提供を
目的とするものである。
本考案は、上記の目的を達或するために、蒸発源から蒸
発した金属にガスを吹き付ける送風機構を設け、金属が
被蒸着物に斜めに蒸着される真空蒸着装置を要旨とする
ものである。
発した金属にガスを吹き付ける送風機構を設け、金属が
被蒸着物に斜めに蒸着される真空蒸着装置を要旨とする
ものである。
以下、本考案を図示の実施例に基づいて説明する。
1は円筒状の真空槽であり、通常10−4〜10”To
rrの真空度に保持されている。
rrの真空度に保持されている。
2はこの真空槽1内のガスを外部に放出して真空度を所
定値に係持するための排気口である。
定値に係持するための排気口である。
真空槽1内には、被蒸着物である所定幅のフイルム3を
送り出す捲出用ローラー4と、送り出されたフイルム3
を捲き取るための捲取用ローラー5と、フイルム3に蒸
着した金属を結晶化するようフイルム3をガイドする円
筒状の冷却キャン6とが配設されている。
送り出す捲出用ローラー4と、送り出されたフイルム3
を捲き取るための捲取用ローラー5と、フイルム3に蒸
着した金属を結晶化するようフイルム3をガイドする円
筒状の冷却キャン6とが配設されている。
また、真空槽1内には、冷却キャン6の下にくるように
蒸発源7が配設されている。
蒸発源7が配設されている。
蒸発源7の内部にはクロムやニッケル等の金属が充填さ
れている。
れている。
さらに、この金属を溶融して蒸発させる6ために蒸発源
7の下部に加熱用ヒーター8が配設されているが、コイ
ルを設けて高周波誘導加熱してもよく蒸発手段は任意で
ある。
7の下部に加熱用ヒーター8が配設されているが、コイ
ルを設けて高周波誘導加熱してもよく蒸発手段は任意で
ある。
そして蒸発源7から蒸発した金属9にガスを吹き付ける
ための送風機構10が真空槽1の壁に貫設されていて、
リークバルブ11の調節により、アルゴンやネオン等の
不活性ガスや酸素等の活性ガス等が通風管12を通して
真空槽1内に流出できるようになっている。
ための送風機構10が真空槽1の壁に貫設されていて、
リークバルブ11の調節により、アルゴンやネオン等の
不活性ガスや酸素等の活性ガス等が通風管12を通して
真空槽1内に流出できるようになっている。
すなわち、蒸発源7から蒸発した金属9には通風管12
から噴出したガスが吹き付けられるために、金属9は、
ガスの吹き付けの強さに応じた角度だけ傾いて蒸発する
。
から噴出したガスが吹き付けられるために、金属9は、
ガスの吹き付けの強さに応じた角度だけ傾いて蒸発する
。
そしてその傾斜のまま、フイルム3に蒸着され、冷却キ
ャン6により結晶化される。
ャン6により結晶化される。
ガスを強く吹き付ければ金属9の傾斜角度は大きくなり
、吹き付けを弱くすれば傾斜角度は小さくなるものであ
り、容易に任意の角度の蒸着が可能で、それ故、実用可
能な任意の保持力を得ることができる。
、吹き付けを弱くすれば傾斜角度は小さくなるものであ
り、容易に任意の角度の蒸着が可能で、それ故、実用可
能な任意の保持力を得ることができる。
また、遮蔽物を必要としないので、蒸発した金属9はほ
とんどロスなくフイルム3に蒸着され被覆速度も減殺さ
れることなく十分に早く被覆される。
とんどロスなくフイルム3に蒸着され被覆速度も減殺さ
れることなく十分に早く被覆される。
なお、ガスとしては特に不活性ガスを用いることにより
、フイルムに蒸着される金属が変質するのを防止でき、
精度が向上する。
、フイルムに蒸着される金属が変質するのを防止でき、
精度が向上する。
が、ガスは不活性ガスに限定されることなく、酸素等の
活性ガスであってもよく、所期の目的を達戊しうるもの
である。
活性ガスであってもよく、所期の目的を達戊しうるもの
である。
また、送風機構は、上記の実施例においては、ほぼフイ
ルムの走行方向からガスを噴出するように配設されてい
るが、他に例えば、フイルムの走行方向と逆の方向から
ガスを噴出しうる位置に設けられてもよい。
ルムの走行方向からガスを噴出するように配設されてい
るが、他に例えば、フイルムの走行方向と逆の方向から
ガスを噴出しうる位置に設けられてもよい。
以上の通り、本考案によれば、製造が容易で被蒸着物に
任意の角度でしかも効率よく、早い速度で金属を蒸着し
うる真空蒸着装置を得ることができる。
任意の角度でしかも効率よく、早い速度で金属を蒸着し
うる真空蒸着装置を得ることができる。
図は本考案の実施例の断面図である。
1・・・・・・真空槽、3・・・・・・フイルム、7・
・・・・・蒸発源、9・・・・・・金属、10・・・・
・・送風機構。
・・・・・蒸発源、9・・・・・・金属、10・・・・
・・送風機構。
Claims (1)
- 真空槽内において被蒸着物を走行させ、該被蒸着物に金
属を蒸着するものにおいて、蒸発源から蒸発した金属が
、被蒸着物に斜蒸着されるように前記金属にガスを吹き
付ける送風機構を有することを特徴とする真空蒸着装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15420679U JPS595733Y2 (ja) | 1979-11-08 | 1979-11-08 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15420679U JPS595733Y2 (ja) | 1979-11-08 | 1979-11-08 | 真空蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5674062U JPS5674062U (ja) | 1981-06-17 |
| JPS595733Y2 true JPS595733Y2 (ja) | 1984-02-21 |
Family
ID=29667113
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15420679U Expired JPS595733Y2 (ja) | 1979-11-08 | 1979-11-08 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS595733Y2 (ja) |
-
1979
- 1979-11-08 JP JP15420679U patent/JPS595733Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5674062U (ja) | 1981-06-17 |
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