JPS5957976A - 金属膜積層セラミツクス - Google Patents
金属膜積層セラミツクスInfo
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- JPS5957976A JPS5957976A JP16785982A JP16785982A JPS5957976A JP S5957976 A JPS5957976 A JP S5957976A JP 16785982 A JP16785982 A JP 16785982A JP 16785982 A JP16785982 A JP 16785982A JP S5957976 A JPS5957976 A JP S5957976A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は金属膜積層セラミックスに関し、更に詳しくは
外力、熱的歪みを受ｔＪた場合にＪ３いても金属膜とセ
ラミックスとの間で高い耐久付省竹を示づ金属膜積層セ
ラミックスに関づるものである。
外力、熱的歪みを受ｔＪた場合にＪ３いても金属膜とセ
ラミックスとの間で高い耐久付省竹を示づ金属膜積層セ
ラミックスに関づるものである。
セラミックスは一般に優れた耐熱性、熱笥撃強度、高温
時の機械的強麿、耐摩耗性あるいは高絶縁性をイｉする
ために厳しい条（’ｌ下で使用される部材として好適な
ものである。しかし現実にはセラミックス単独で用いら
れることは少なく、ヒラミックスを用いる１幾械部品な
どにおいて他の月別例えば金属などと共に用いられて、
イの１幾能４光揮りる。
時の機械的強麿、耐摩耗性あるいは高絶縁性をイｉする
ために厳しい条（’ｌ下で使用される部材として好適な
ものである。しかし現実にはセラミックス単独で用いら
れることは少なく、ヒラミックスを用いる１幾械部品な
どにおいて他の月別例えば金属などと共に用いられて、
イの１幾能４光揮りる。
ところが、セラミックスと金属とを接合しまうとりる場
合、直］１；両７１を１８合りることは困テ１１である
ので、−、ＩＡ、 セラミックスの表面をある秤の方法
で金属化し、その後［］的の金属部材を接合りる方法が
ｔ”１われＣさた。１この方法としてはメタライズベー
ス１−をセラミックスの表面にスクリーン印刷した後、
非酸化ｔ１雰囲気で加熱する高融点金属法、活性の高い
金属（Ｔｉ、Ｚｒ）をセラミックスの表面にのけ真空容
器内又は不活性雰囲気内で加熱して行う活性金属法ある
いは真空中で金属を強熱して、イの１１．ｆ発生づる然
気を付着させる方法等による物理蒸ｒ１法が／、【され
てきた。
合、直］１；両７１を１８合りることは困テ１１である
ので、−、ＩＡ、 セラミックスの表面をある秤の方法
で金属化し、その後［］的の金属部材を接合りる方法が
ｔ”１われＣさた。１この方法としてはメタライズベー
ス１−をセラミックスの表面にスクリーン印刷した後、
非酸化ｔ１雰囲気で加熱する高融点金属法、活性の高い
金属（Ｔｉ、Ｚｒ）をセラミックスの表面にのけ真空容
器内又は不活性雰囲気内で加熱して行う活性金属法ある
いは真空中で金属を強熱して、イの１１．ｆ発生づる然
気を付着させる方法等による物理蒸ｒ１法が／、【され
てきた。
しかし、単に」二連のようにして金属層をセラミックス
の土に積層°ツるのみでは、例えば、モリブデンとマン
ガンとを使用した高融点金属法では層を形成できる金属
が限られ、例えばセラミックスが窒化珪Ｚ（の場合、モ
リブデン−マンガンと反応相を形成りる酸化物がセラミ
ックス中に非常に少ないのでこの全屈ｒＦｉ番よ十分イ
ｆ付着強度を得ることはでさない。活性金属法でも高融
点金属法と同じ欠Ｉｊｉ時有しくいる。又、物理蒸着法
で金属層を形成しても、この蒸着し１（金属層に他の金
属部（４を取りっ【Ｊるような場合、銀ロウィ；ｊのＪ
、゛）な高温１−１ウイｑを用いると、蒸着する金属に
Ｊ、−ノでは熱拡散が生じセラミックスどのｒ＝Ｉ Ｎ
強度の低下をもたらしｌ〔。
の土に積層°ツるのみでは、例えば、モリブデンとマン
ガンとを使用した高融点金属法では層を形成できる金属
が限られ、例えばセラミックスが窒化珪Ｚ（の場合、モ
リブデン−マンガンと反応相を形成りる酸化物がセラミ
ックス中に非常に少ないのでこの全屈ｒＦｉ番よ十分イ
ｆ付着強度を得ることはでさない。活性金属法でも高融
点金属法と同じ欠Ｉｊｉ時有しくいる。又、物理蒸着法
で金属層を形成しても、この蒸着し１（金属層に他の金
属部（４を取りっ【Ｊるような場合、銀ロウィ；ｊのＪ
、゛）な高温１−１ウイｑを用いると、蒸着する金属に
Ｊ、−ノでは熱拡散が生じセラミックスどのｒ＝Ｉ Ｎ
強度の低下をもたらしｌ〔。
又、セラミックスが酸化ジルコニラｌ＼の場合には、上
記窒化珪素材に較べれば熱膨張は大きくかつ酸化物であ
るので高融点金属法による方法で一］分な付着強度を得
ることが期待できるが、セラミックスの組成の違いにに
す、（＝Ｊ着強度が十分にｉｑられないものがあった。
記窒化珪素材に較べれば熱膨張は大きくかつ酸化物であ
るので高融点金属法による方法で一］分な付着強度を得
ることが期待できるが、セラミックスの組成の違いにに
す、（＝Ｊ着強度が十分にｉｑられないものがあった。
付着強度が十分に冑られた場合でも繰り返し熱処理を加
えた場合には金属層の付着性に十分な信頼性を得ること
ができなかつ １こ 。
えた場合には金属層の付着性に十分な信頼性を得ること
ができなかつ １こ 。
このようにヒラミックス部月をＬｌつ付等により金属部
材に接合させるためにセラミックス表面に十分ｔｊ着強
度の高い金属膜を積層することが必要であるにもががね
らず、セラミックスと金属との低反応性あるいは熱膨張
率の違いから、あらゆる状況に耐えられるものが存在し
なかった。
材に接合させるためにセラミックス表面に十分ｔｊ着強
度の高い金属膜を積層することが必要であるにもががね
らず、セラミックスと金属との低反応性あるいは熱膨張
率の違いから、あらゆる状況に耐えられるものが存在し
なかった。
本発明と等は、１−記の問題点に鑑み、広範な使用状況
■・にｔｌ・１えられる用途の広い金属膜積層セラミッ
クスを実現刀べ＜ 、 ’ｔＱ怠（ＩＪ１究の結果、本
発明を完成しＩＪ。
■・にｔｌ・１えられる用途の広い金属膜積層セラミッ
クスを実現刀べ＜ 、 ’ｔＱ怠（ＩＪ１究の結果、本
発明を完成しＩＪ。
叩も、第１光明の要旨と覆るところは、セラミックスの
表面に物理魚り法により形成されたＩＶａ族元素り目ら
）パばれた１種又は２種以上からなる第１金属層、該第
゛１金属層の上に物理蒸着法により形成されたＶｌａ族
元素から選ばれた１１！口又は２種板−１１，からなる
第２金属層及び該第２金属層の上に物理蒸ｉ′１法ある
いは化学メッキ法により形成されたＪａ族元県から選ば
れた１種又は２種以上からなる第３金属層Ｊ、す］１１
１成される金属膜を右することを特徴どづる金属膜積層
セラミックスにあり、第２発明の要旨とづるところは、
セラミックスの表面に物理魚り法に、」こり形成された
ＩＶａ族九累から選ばれた１種又は２杯以−１からなる
第１金属層、該第′１金ｔｒｒＳ層のＩに物理蒸着法に
より形成されたＶｌ、１１ｆＪ、几素から選ば′れた１
４！Ｉ！又は２種以上からなる第２金属層、該第２金属
層の上に物理蒸着法により形成されたＶ■族元素から選
ばれた１種又は２種以上からなる第３金属層及び該第３
金属層の１に物理蒸着法あるいは化学メッキ法にｊ、り
形成されたＩａ１ｒＡ元素から選ばれた１種又は２ｆ！
Ｉ＋以」二からなる第４金Ｙｆ５層より構成される金属
膜を右りることを特徴とづる金属膜積層セラミックスに
ある。
表面に物理魚り法により形成されたＩＶａ族元素り目ら
）パばれた１種又は２種以上からなる第１金属層、該第
゛１金属層の上に物理蒸着法により形成されたＶｌａ族
元素から選ばれた１１！口又は２種板−１１，からなる
第２金属層及び該第２金属層の上に物理蒸ｉ′１法ある
いは化学メッキ法により形成されたＪａ族元県から選ば
れた１種又は２種以上からなる第３金属層Ｊ、す］１１
１成される金属膜を右することを特徴どづる金属膜積層
セラミックスにあり、第２発明の要旨とづるところは、
セラミックスの表面に物理魚り法に、」こり形成された
ＩＶａ族九累から選ばれた１種又は２杯以−１からなる
第１金属層、該第′１金ｔｒｒＳ層のＩに物理蒸着法に
より形成されたＶｌ、１１ｆＪ、几素から選ば′れた１
４！Ｉ！又は２種以上からなる第２金属層、該第２金属
層の上に物理蒸着法により形成されたＶ■族元素から選
ばれた１種又は２種以上からなる第３金属層及び該第３
金属層の１に物理蒸着法あるいは化学メッキ法にｊ、り
形成されたＩａ１ｒＡ元素から選ばれた１種又は２ｆ！
Ｉ＋以」二からなる第４金Ｙｆ５層より構成される金属
膜を右りることを特徴とづる金属膜積層セラミックスに
ある。
ここで、■ｖａ族元素とは周期１１１表のチタン、ジル
コニウム及びハフニウムからなる族を、Ｖｌ ａ 族元
素とはり［Ｊム、モリブデン及びタングステンからなる
族を、■ａ族元素とは銅、銀及び金１．ｓ ＋ろ仕る族
を、■族元素とは鉄、ｆＪパル１−、ニッケル、ルテニ
ウム、ロジウム、パラジウム、Ａスミラム、イリジウム
及び白金からなる族を爲う。 −セラミックスは窒化
珪素、ジルコニア、アルミナあるいは炭化珪素等の公知
の全てのセラミックスが含まれる。
コニウム及びハフニウムからなる族を、Ｖｌ ａ 族元
素とはり［Ｊム、モリブデン及びタングステンからなる
族を、■ａ族元素とは銅、銀及び金１．ｓ ＋ろ仕る族
を、■族元素とは鉄、ｆＪパル１−、ニッケル、ルテニ
ウム、ロジウム、パラジウム、Ａスミラム、イリジウム
及び白金からなる族を爲う。 −セラミックスは窒化
珪素、ジルコニア、アルミナあるいは炭化珪素等の公知
の全てのセラミックスが含まれる。
物理蒸着法は一般的な公知の方法が用いられ、例えば真
空蒸着法、イオンビーム蒸盾法あるい（まスパッタリン
グ法等が挙げられ、これら【よ４Ａ７１及び膜厚を自由
に選定できるという特徴を右づる、。
空蒸着法、イオンビーム蒸盾法あるい（まスパッタリン
グ法等が挙げられ、これら【よ４Ａ７１及び膜厚を自由
に選定できるという特徴を右づる、。
又、ｈｕ 、−ｌ： Ｉｉ’りに用いることか可能な化
学メッキ２人も一般的イ「公知の１）２１．が用いられ
、例えば電解メツ１？ノいフ１（（電解メツ１θ、等が
挙げられる。
学メッキ２人も一般的イ「公知の１）２１．が用いられ
、例えば電解メツ１？ノいフ１（（電解メツ１θ、等が
挙げられる。
し’；ｔ 、”、ックスと接りる第１層のＩＶ ａ族元
素は活１！１度の商い全屈（（ｉリリ、セラミックス中
の窒素や酸メ・、どＪ、く反応し窒化物や酸化物の中間
層を形成覆る。このため第１層は強固にセラミックスに
イリ？’ｉ？ｌる作用を右刀る。ＩＶａ族元素の内でも
１．１１にチタン、ジル−」ニウムはイ・」９性がにｂ
いので第１層とし′ＣりＹましい元素である。第１層の
厚さは通常５５００ ＝ ５０００ 人に設定され、こ
の内でも耐熱衝撃性の貞から１０００〜２０００人の範
囲が好ましい。第１層が５００Ａ未満であるとセラミッ
クスと低層あるいは最」一層に接合される金属部材との
熱膨張Ｚが緩和されず、（＝Ｊ着強度低下をＩＢき、又
、５０００人を越えると第１層自体の熱膨張とセラミッ
クスとの差の影響が現われ付着強度低下を１？１＜。
素は活１！１度の商い全屈（（ｉリリ、セラミックス中
の窒素や酸メ・、どＪ、く反応し窒化物や酸化物の中間
層を形成覆る。このため第１層は強固にセラミックスに
イリ？’ｉ？ｌる作用を右刀る。ＩＶａ族元素の内でも
１．１１にチタン、ジル−」ニウムはイ・」９性がにｂ
いので第１層とし′ＣりＹましい元素である。第１層の
厚さは通常５５００ ＝ ５０００ 人に設定され、こ
の内でも耐熱衝撃性の貞から１０００〜２０００人の範
囲が好ましい。第１層が５００Ａ未満であるとセラミッ
クスと低層あるいは最」一層に接合される金属部材との
熱膨張Ｚが緩和されず、（＝Ｊ着強度低下をＩＢき、又
、５０００人を越えると第１層自体の熱膨張とセラミッ
クスとの差の影響が現われ付着強度低下を１？１＜。
第２層のＶＩｎＦ６、元素は熱膨張係数が５．５〜８゜
’１Ｘ１０ ／℃ｒあり、セラミックスの熱膨張保釈
の緩衝材としての効果を生ずることと、ｒ１馬１′１度
も高いので第１層の傭１１１の補助効果しある。又、本
金属躾積層セラミックスを他の金属部材ど接合リ−るよ
うな場合、共晶銀ロウを用いｌｔ Ｉｌｌつｆす（ノを
行うが、このＪ：−ラな高温時に第１発明にお）Ｊる最
、Ｊ一層である第３層のＪａ族元素あるいは第２発明に
お【Ｊる第３層の■族元素の熱拡散が第１層まで及ぶこ
とによるイ」９性の低下を防１１する隔壁的効果をも第
２層は果している。
’１Ｘ１０ ／℃ｒあり、セラミックスの熱膨張保釈
の緩衝材としての効果を生ずることと、ｒ１馬１′１度
も高いので第１層の傭１１１の補助効果しある。又、本
金属躾積層セラミックスを他の金属部材ど接合リ−るよ
うな場合、共晶銀ロウを用いｌｔ Ｉｌｌつｆす（ノを
行うが、このＪ：−ラな高温時に第１発明にお）Ｊる最
、Ｊ一層である第３層のＪａ族元素あるいは第２発明に
お【Ｊる第３層の■族元素の熱拡散が第１層まで及ぶこ
とによるイ」９性の低下を防１１する隔壁的効果をも第
２層は果している。
−に記の第１及び第２層の説明は第１発明及び第２発明
に其通である。
に其通である。
次に第１光明の第３層はＩａ族元素であるが、この第３
層は特に展延性に富み、本発明の積層セラミックスの適
用によりこの層に接合される相手部材との熱膨張差を緩
和する効果を右Ｊる。イれ故、この層の厚さは厚い佇よ
いのぐあるが、試ｔｌ形状にも関係があり、１μｍ以上
であることが望ましく、更に本発明の積層セラミックス
と接合りる金属部Ｈの熱膨張係数差に比例して厚くづる
ことが好、１しく、イのＸ［にＪ、る歪みの吸収能が向
］−りる１、叉、このクビ３層（，１物理然着法の他に
、重連の電解メツー１法、；Ｉ！（電解メッキ法秀の化
学メッキ法Ｃ形成１〕℃し同様なり１果を生ずるが第２
層とのイ・１？１強１印のｊｌｏｌから物理魚ｉ′１法
にＪ、る方が好ましい。
層は特に展延性に富み、本発明の積層セラミックスの適
用によりこの層に接合される相手部材との熱膨張差を緩
和する効果を右Ｊる。イれ故、この層の厚さは厚い佇よ
いのぐあるが、試ｔｌ形状にも関係があり、１μｍ以上
であることが望ましく、更に本発明の積層セラミックス
と接合りる金属部Ｈの熱膨張係数差に比例して厚くづる
ことが好、１しく、イのＸ［にＪ、る歪みの吸収能が向
］−りる１、叉、このクビ３層（，１物理然着法の他に
、重連の電解メツー１法、；Ｉ！（電解メッキ法秀の化
学メッキ法Ｃ形成１〕℃し同様なり１果を生ずるが第２
層とのイ・１？１強１印のｊｌｏｌから物理魚ｉ′１法
にＪ、る方が好ましい。
第１発明は上述しｌ、：、Ｊ、うに、セラミックス側よ
り１νａ ｌへ元メ・勤口うなる第１層、Ｖｌａ族元素
からなる第２ＦＶ１及び１層族元素からなる第３層が積
層したしのＣｄ１）−）だが、第２発明は第１発明の第
２層と第：３層の間に■族元素からなる層を右する４１
４造と／、１つている。つ：Ｌす、第２発明はセラミッ
クス側か’３１Ｖ ａ ／／χノーＬ素かｌうなる第１
層、Ｖｉａ族元系か’−）４７る第２層、■ｆ１５：元
素からなる第３層及びＩａ欣冗県か１３なる第１Ｉ層Ｊ
、り構成されていることになる１、この４層の内、第１
層、第２層及び第４層ｔＪ ｊ、、 ；８： ｌ−た第
１発明の第１層、第２層及び第３層に該当し、ぞの内容
も全く同様である。
り１νａ ｌへ元メ・勤口うなる第１層、Ｖｌａ族元素
からなる第２ＦＶ１及び１層族元素からなる第３層が積
層したしのＣｄ１）−）だが、第２発明は第１発明の第
２層と第：３層の間に■族元素からなる層を右する４１
４造と／、１つている。つ：Ｌす、第２発明はセラミッ
クス側か’３１Ｖ ａ ／／χノーＬ素かｌうなる第１
層、Ｖｉａ族元系か’−）４７る第２層、■ｆ１５：元
素からなる第３層及びＩａ欣冗県か１３なる第１Ｉ層Ｊ
、り構成されていることになる１、この４層の内、第１
層、第２層及び第４層ｔＪ ｊ、、 ；８： ｌ−た第
１発明の第１層、第２層及び第３層に該当し、ぞの内容
も全く同様である。
第２発明の■族元素からなる第３層について説明覆ると
、この層は第４Ｎｉ７に覆われているにしかかわらヂ’
ｊｌ！Ｉｌウド１等のぬれ性向上の効果を果ツ１５ので
、厚さは通常５００〜５０００ ’Ａに形成されるが、
他層との熱膨張係数の差にＪ、る（・１着強度ｆＩｔ下
を考慮りるど１０００〜２０００人が好ましく、５００
Ａ未渦ではぬれ性の効果が簿く、ｒ）ｏ ｏ 。
、この層は第４Ｎｉ７に覆われているにしかかわらヂ’
ｊｌ！Ｉｌウド１等のぬれ性向上の効果を果ツ１５ので
、厚さは通常５００〜５０００ ’Ａに形成されるが、
他層との熱膨張係数の差にＪ、る（・１着強度ｆＩｔ下
を考慮りるど１０００〜２０００人が好ましく、５００
Ａ未渦ではぬれ性の効果が簿く、ｒ）ｏ ｏ 。
入を越えると（＝１着強麿が急速に低下りる。又、木屑
は、この上の層つまりＩａ族元素からなる第４層を化学
メッキ法で形成さＩる場合にｖｌａ族元素からなる第２
層が酸化してもろくなるのを防Ｊ１する効果も果り。
は、この上の層つまりＩａ族元素からなる第４層を化学
メッキ法で形成さＩる場合にｖｌａ族元素からなる第２
層が酸化してもろくなるのを防Ｊ１する効果も果り。
以上の如＜（ｊ４成されていることに、１、り第１発明
の金属膜積層セラミックスは金属膜自体強固にセラミッ
クスに（Ｊ ｎし、淵しい熱仲１撃にｂ耐久性を右づる
ものであり、更に金属膜」ニに１］ウイ」等にＪ、り他
の金属部材７Ｊ％取り（’Ｉ ４）られてし該金属部材
とセラミックスどの熱膨張係数の差にＪ：る歪みを吸収
し、高いイ」省↑りを保持づるものである。又、第２発
明にｄ３いても第１発明と同様な効果を生ずるイｌ！シ
に、■欣元素層が存在づることにＪ、り峨Ｌ：１つ（＝
Ｊ等のぬれｆｌが向１−シて、Ｊ、り高伺首性となると
」（に、化学メッキ時の第２層の酸化を防１１−シ、Ｊ
、す強固／、「イ・１１′１効宋を／１す゛るしのであ
る。
の金属膜積層セラミックスは金属膜自体強固にセラミッ
クスに（Ｊ ｎし、淵しい熱仲１撃にｂ耐久性を右づる
ものであり、更に金属膜」ニに１］ウイ」等にＪ、り他
の金属部材７Ｊ％取り（’Ｉ ４）られてし該金属部材
とセラミックスどの熱膨張係数の差にＪ：る歪みを吸収
し、高いイ」省↑りを保持づるものである。又、第２発
明にｄ３いても第１発明と同様な効果を生ずるイｌ！シ
に、■欣元素層が存在づることにＪ、り峨Ｌ：１つ（＝
Ｊ等のぬれｆｌが向１−シて、Ｊ、り高伺首性となると
」（に、化学メッキ時の第２層の酸化を防１１−シ、Ｊ
、す強固／、「イ・１１′１効宋を／１す゛るしのであ
る。
Ｊれらクビ１発明、第２発明による金属膜稙層セラミッ
クス（，１変１１器川の絶縁１！１敢だ１フインの部品
どじ（変月：；Ｈ本体ど６ン属ツインどの中間にあって
両８’ｔ ＋＞；含・Ｊるのに用いたり、自動車用どじ
で１ｌｉｌ熱性、１ｌｉＪ Ｉ！’／・耗１ｊ１部品に
用い〕ζす、その地名１１Ｆ機械の軽量化、耐熱化、耐
摩耗化にての部品として用い、父、ｊ）屈膜白体導電層
として用いて効果的で（ｉうる。
クス（，１変１１器川の絶縁１！１敢だ１フインの部品
どじ（変月：；Ｈ本体ど６ン属ツインどの中間にあって
両８’ｔ ＋＞；含・Ｊるのに用いたり、自動車用どじ
で１ｌｉｌ熱性、１ｌｉＪ Ｉ！’／・耗１ｊ１部品に
用い〕ζす、その地名１１Ｆ機械の軽量化、耐熱化、耐
摩耗化にての部品として用い、父、ｊ）屈膜白体導電層
として用いて効果的で（ｉうる。
次に実施例に見づき本発明を具体的に説明ザる。
、１、ヂ第１発明を実施例−′１に説明づる。
実施例−１
しラミックスを如月−成型及び焼成の後、金属膜を形成
りる而をｌ１Ｊｌ磨し）ご。−での後、中性洗剤及び純
水にＪ、る洗浄、次いでアレ１〜ンにＪ：る水分の置換
、史に１．１．１−１−リクロルエタン及びアレ］ヘン
にＪ、る乾燥という洗浄工程を実施した。この洗浄した
ビラミックスを基板とし真空蒸着（幾（日本真空技術株
式会君製 「１３ Ｖ−６Ｄ Ｉ−１）の真空槽内にＵ
ツ１〜し、内部を１０ Ｔｏ ｒ １台に減圧して３０
０℃に加熱し、ＩＶｎｒ７％元素、Ｖｌ ａｆＭ冗素及
び■ａ族元素の順で電子ビームにＪ、り溶融蒸れさｕ１
３層の金属膜をセラミック」に形成した。
りる而をｌ１Ｊｌ磨し）ご。−での後、中性洗剤及び純
水にＪ、る洗浄、次いでアレ１〜ンにＪ：る水分の置換
、史に１．１．１−１−リクロルエタン及びアレ］ヘン
にＪ、る乾燥という洗浄工程を実施した。この洗浄した
ビラミックスを基板とし真空蒸着（幾（日本真空技術株
式会君製 「１３ Ｖ−６Ｄ Ｉ−１）の真空槽内にＵ
ツ１〜し、内部を１０ Ｔｏ ｒ １台に減圧して３０
０℃に加熱し、ＩＶｎｒ７％元素、Ｖｌ ａｆＭ冗素及
び■ａ族元素の順で電子ビームにＪ、り溶融蒸れさｕ１
３層の金属膜をセラミック」に形成した。
次に第２発明を実施例−２に３１明づる。
実施例−２
実施例−１と同様にレラミックスに対し洗浄−［程を実
施した。次いで同様な真空槽内にセラ１〜し、同様な条
件で、Ｉｖａ族元素、ＶＩａ族元素、■族元素及び］ａ
族元県の順で蒸着さｌ！４層の金属膜を形成した。
施した。次いで同様な真空槽内にセラ１〜し、同様な条
件で、Ｉｖａ族元素、ＶＩａ族元素、■族元素及び］ａ
族元県の順で蒸着さｌ！４層の金属膜を形成した。
上記、実施例−１，２の比較例とし゛（従）１！のしラ
ミックス表面金属化法どして知られている第′１層をチ
タンとし、第２層を銅と覆る２層全屈ＩＱを実施例と同
様にレラミックス表面に形成した。これら実施例−１，
２及び比較例においてレラミックスの種類、金属層の種
類あるいは厚さをかえ（、次に承り（Ｊ看強度試験を行
った。実施例−１おＪ、び比較例の試験片にＪ、る試験
結果を第１表に、実施例−２の試験片による試験結果を
第２表に示づ。
ミックス表面金属化法どして知られている第′１層をチ
タンとし、第２層を銅と覆る２層全屈ＩＱを実施例と同
様にレラミックス表面に形成した。これら実施例−１，
２及び比較例においてレラミックスの種類、金属層の種
類あるいは厚さをかえ（、次に承り（Ｊ看強度試験を行
った。実施例−１おＪ、び比較例の試験片にＪ、る試験
結果を第１表に、実施例−２の試験片による試験結果を
第２表に示づ。
付着強電試験
第１図の側面図に小１ｊりＩＩ ＜ 、−１−記実施例
−１、？あろい＋、ｌ １．１；較１り１（こＪ、り製
作されたレラミックス１１−の金属１１ｓｉ ２入面に
ｊｌ ｌ’ｌウイ；１３にて銀塊４を接合し、試ハＧｉ
Ｉ’＋を！Ｉ（′Ｊ作しｌこ。但し、レラミックス１
は１ ！］ １殺ｍｘ １ ｉｉ ｍｍｘ ５ ｍ＋ｎ
Ｘ４Ｎ １ｍ ４は１５ｍｍｘ１５ｍｍＸ １０ ｍｍ
ｑ）刈７人にｔｌ（ｌｌ「−ン３）の厚さは０．０３ｍ
ｍに説定した。
−１、？あろい＋、ｌ １．１；較１り１（こＪ、り製
作されたレラミックス１１−の金属１１ｓｉ ２入面に
ｊｌ ｌ’ｌウイ；１３にて銀塊４を接合し、試ハＧｉ
Ｉ’＋を！Ｉ（′Ｊ作しｌこ。但し、レラミックス１
は１ ！］ １殺ｍｘ １ ｉｉ ｍｍｘ ５ ｍ＋ｎ
Ｘ４Ｎ １ｍ ４は１５ｍｍｘ１５ｍｍＸ １０ ｍｍ
ｑ）刈７人にｔｌ（ｌｌ「−ン３）の厚さは０．０３ｍ
ｍに説定した。
このＪ、うにして製イ′１した試験ハの銀塊４側を治具
に固定しｌこ１殺、しラミックス１の側面からノｊを加
えて金属ｎｔｔｓ ２のイｔＪ盾剪断強度を測定した。
に固定しｌこ１殺、しラミックス１の側面からノｊを加
えて金属ｎｔｔｓ ２のイｔＪ盾剪断強度を測定した。
又、別に０００ ＴＪ Ｘ ２時間→２ り’ＣＸ ２
時間の熱処理試験１なの試験ハも同様にイ」着剪…ｉ強
度を測定した。
時間の熱処理試験１なの試験ハも同様にイ」着剪…ｉ強
度を測定した。
第１表に示された結果の如く、第］光明の実ｂ１にの試
才斗Ｎ０１１〜７．９．１０、′１２．１３３の験片は
他の試オ″」１に比してレラミックスに金属膜非常に強
固にイ」着していることがわかり、熱処に対しでしｔ′
モい耐久性を示した。
才斗Ｎ０１１〜７．９．１０、′１２．１３３の験片は
他の試オ″」１に比してレラミックスに金属膜非常に強
固にイ」着していることがわかり、熱処に対しでしｔ′
モい耐久性を示した。
又、第２表に示された結果の如く、第２発明の施例の試
１′３１Ｎｏ、２１〜２８の試Ｍ）ハはしラミクスに金
属膜が非常に強固に１」着している。又、施例−１に比
べて熱処理に苅Ｊる耐久性ｈ（史にいことが常温の剪断
強度ど熱処理後の剪断強度の差が小さいことかられかる
。
１′３１Ｎｏ、２１〜２８の試Ｍ）ハはしラミクスに金
属膜が非常に強固に１」着している。又、施例−１に比
べて熱処理に苅Ｊる耐久性ｈ（史にいことが常温の剪断
強度ど熱処理後の剪断強度の差が小さいことかられかる
。
第１図は剪断強度試験の試験片の正面図を表わ１・・・
けラミックス ２・・・金属膜 ３・・・Ｌ１ウイ」部分 ４・・・銀塊 代理人 弁Ｊ！Ｉ！十 定立 勉 ばか１名
けラミックス ２・・・金属膜 ３・・・Ｌ１ウイ」部分 ４・・・銀塊 代理人 弁Ｊ！Ｉ！十 定立 勉 ばか１名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ セラミックスの表面に物理蒸着法により形成されＩ
こＩＶａ／ｆｆＶＩａ族元素た１種又は２種以上から４
する第１金属層、該第１金属層の上に物理蒸着法ににり
形成されたＶＩａ族元素から選ばれた１種又は２梗以十
からなる第２金属層及び該第２金属層の十に物Ｉｑ′！
蒸老法あるいは化学メッキ法にＪ、り形成されたｌｊ
ａ族元素から選ばれた１種又は２種以上／Ｊ ｌらなる
第３金属層より構成される金属Ｉ５）を４ｊりることを
特徴とする金属膜積層セラミックス。 ２ セラミックスの表面に物理蒸着法により形成され／
、：ＩＶ ａ族元素から選ばれた１種又は２梗以十から
なる第１金屈層、該第１金属層の上に物理蒸着法により
形成されたＶＪ ａ族元素から選ばれた１秤又は２種以
、１から１，２る第２金属層、該第２金属層の上に物理
蒸着法により形成された■族元素から選ばれた１種又は
２秤以１−７Ｊ日らなる第３金属層及び該第３金属層の
上に物理蒸着法あるいは化学メッキ法により形成された
Ｉａａ族元素ら選ばれた１秤又は２種以上からなる第４
金属層よりＩＭ成される金属膜を右Ｊることを特徴とす
る金属膜ｆｉｉ層セラミックス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16785982A JPS5957976A (ja) | 1982-09-27 | 1982-09-27 | 金属膜積層セラミツクス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16785982A JPS5957976A (ja) | 1982-09-27 | 1982-09-27 | 金属膜積層セラミツクス |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5957976A true JPS5957976A (ja) | 1984-04-03 |
| JPS6337077B2 JPS6337077B2 (ja) | 1988-07-22 |
Family
ID=15857409
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16785982A Granted JPS5957976A (ja) | 1982-09-27 | 1982-09-27 | 金属膜積層セラミツクス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5957976A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60211897A (ja) * | 1984-04-05 | 1985-10-24 | 日本電気株式会社 | 多層配線基板 |
| JPS62297275A (ja) * | 1986-06-16 | 1987-12-24 | 住友電気工業株式会社 | 非酸化物セラミックスと金属との接合体の製法 |
| JPS62297274A (ja) * | 1986-06-16 | 1987-12-24 | 住友電気工業株式会社 | 非酸化物セラミックスと金属との接合体の製法 |
| US5198265A (en) * | 1991-04-01 | 1993-03-30 | General Electric Company | Method of coating an aluminum compound substrate with a composition of elemental titanium and an alkali metal halide, melting the coating, and rinsing the coated substrate |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS495837A (ja) * | 1972-03-24 | 1974-01-19 | ||
| JPS51125641A (en) * | 1974-08-05 | 1976-11-02 | Ngk Insulators Ltd | Process for metallizing ceramics |
-
1982
- 1982-09-27 JP JP16785982A patent/JPS5957976A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS495837A (ja) * | 1972-03-24 | 1974-01-19 | ||
| JPS51125641A (en) * | 1974-08-05 | 1976-11-02 | Ngk Insulators Ltd | Process for metallizing ceramics |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60211897A (ja) * | 1984-04-05 | 1985-10-24 | 日本電気株式会社 | 多層配線基板 |
| JPS62297275A (ja) * | 1986-06-16 | 1987-12-24 | 住友電気工業株式会社 | 非酸化物セラミックスと金属との接合体の製法 |
| JPS62297274A (ja) * | 1986-06-16 | 1987-12-24 | 住友電気工業株式会社 | 非酸化物セラミックスと金属との接合体の製法 |
| US5198265A (en) * | 1991-04-01 | 1993-03-30 | General Electric Company | Method of coating an aluminum compound substrate with a composition of elemental titanium and an alkali metal halide, melting the coating, and rinsing the coated substrate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6337077B2 (ja) | 1988-07-22 |
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