JPS596039A - Ｘ線コンピユ−タ断層装置 - Google Patents
Ｘ線コンピユ−タ断層装置Info
- Publication number
- JPS596039A JPS596039A JP57115705A JP11570582A JPS596039A JP S596039 A JPS596039 A JP S596039A JP 57115705 A JP57115705 A JP 57115705A JP 11570582 A JP11570582 A JP 11570582A JP S596039 A JPS596039 A JP S596039A
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- JP
- Japan
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- ray
- high voltage
- slice
- width
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- Pending
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、Ｘ線ビームのスライス方向幅を可変とし、好
適なＸ鵞発生条件を自動的に選択する機能を備えたＸ線
コンビーータ断層装置（以下、単に、Ｘ線ＯＴ装置とい
う）に関するものである。
適なＸ鵞発生条件を自動的に選択する機能を備えたＸ線
コンビーータ断層装置（以下、単に、Ｘ線ＯＴ装置とい
う）に関するものである。
Ｘ線ＣＴ装置の描出するスライス断層像は、Ｘ線ビーム
が透過した部位の被検体情報を含み、Ｘ線ビームのスラ
イス方向幅に相当して、スライス方向に平均化された断
層像である。
が透過した部位の被検体情報を含み、Ｘ線ビームのスラ
イス方向幅に相当して、スライス方向に平均化された断
層像である。
通常、Ｘ線ＣＴ装置のＸ線ビームは、スライス方向に１
〜１０ｍｍの幅を持つものが診断目的に応じて選択され
る。被検体の広範囲を短時間に検査する場合や、スライ
ス方向の構造が緩やかに変化する部位では、１０ｍｍな
どスライス方向に広い幅を持つＸ線ビームが用いられる
。他方、被検体のスライス方向の構造を検査対象とする
場合は、１〜３間などスライス方向に狭い幅を持つＸ線
ビームが用いられる。
〜１０ｍｍの幅を持つものが診断目的に応じて選択され
る。被検体の広範囲を短時間に検査する場合や、スライ
ス方向の構造が緩やかに変化する部位では、１０ｍｍな
どスライス方向に広い幅を持つＸ線ビームが用いられる
。他方、被検体のスライス方向の構造を検査対象とする
場合は、１〜３間などスライス方向に狭い幅を持つＸ線
ビームが用いられる。
ここで、Ｘ線ビームスライス方向幅を狭めるとＸ線検出
量に入射するＸ線量は減少腰Ｘ線光子の統計的ゆらぎが
スライス断層像を劣化させる。
量に入射するＸ線量は減少腰Ｘ線光子の統計的ゆらぎが
スライス断層像を劣化させる。
したがって、スライス断層像のノイズレベルを一定以下
とするだめには、Ｘ線ビームのスライス方向幅に応じて
Ｘ線発生条件を適宜に変えてＸ線検出器に入射するＸ線
量を均一化することが考えられるが、これはＸ線ＣＴ装
置の検査をきわめて煩雑なものとしてしまうという問題
があった。
とするだめには、Ｘ線ビームのスライス方向幅に応じて
Ｘ線発生条件を適宜に変えてＸ線検出器に入射するＸ線
量を均一化することが考えられるが、これはＸ線ＣＴ装
置の検査をきわめて煩雑なものとしてしまうという問題
があった。
本発明の目的は、前記の従来技術の問題を解消し、能率
的な検査と良好なスライス断層像を描出し得るＸ線ＯＴ
装置を提供することにある。
的な検査と良好なスライス断層像を描出し得るＸ線ＯＴ
装置を提供することにある。
本発明の特徴は、あらかじめ想定される種々のＸ線ビー
ムスライス方向幅について、Ｘ線発生条件を一義的に決
定するＸ線発生条件選択回路を設け、Ｘ線ビームスライ
ス方向幅の選択に応じて自動的にＸ線発生条件を調整す
ることにある。
ムスライス方向幅について、Ｘ線発生条件を一義的に決
定するＸ線発生条件選択回路を設け、Ｘ線ビームスライ
ス方向幅の選択に応じて自動的にＸ線発生条件を調整す
ることにある。
以下、実施例と共に本発明の詳細な説明する。
第１図は、本発明の一実施例の概要構成を示す図である
。図中、１は制御パネル装置、２はスキャンニング装置
、°６は高電圧発生装置であり、前記スキャンニング装
置２は、Ｘ線発生装置２Ａ。
。図中、１は制御パネル装置、２はスキャンニング装置
、°６は高電圧発生装置であり、前記スキャンニング装
置２は、Ｘ線発生装置２Ａ。
コリメータ装置２Ｂ、Ｘ線検出器２０等を含んでいる。
前記制御パネル装置１は、スライス幅指示命令ａをコリ
メータ装置２Ｂと高・電圧発生装置３に入力するもので
ある。
メータ装置２Ｂと高・電圧発生装置３に入力するもので
ある。
前記コリメータ装置２Ｂは、スライス幅指示命令ａによ
って、Ｘ線検出器２Ｃに入射するＸ線ビームＸのスライ
ス方向幅（紙面に垂直方向）を制限するものである。
って、Ｘ線検出器２Ｃに入射するＸ線ビームＸのスライ
ス方向幅（紙面に垂直方向）を制限するものである。
前記高電圧発生装置３は、スライス幅指示命令ａによっ
てＸ線発生条件を選択し、高電圧エネルギーＥをＸ線発
生装置２人に供給するものである。
てＸ線発生条件を選択し、高電圧エネルギーＥをＸ線発
生装置２人に供給するものである。
第２図は、第１図に示す高電圧発生装置乙の内部構成を
示す図であり、６ＡはＸ、線発生条件選択回路、３Ｂは
高電圧発生回路である。前記Ｘ線発生条件選択回路は、
スライス幅指示命令ａの内容に応じて一義的に定まる高
電圧側′姉信号すを高電圧発生回路６Ｂに入力するもの
である。該高電圧制御信号すは、Ｘ線ビームのスライス
方向幅の増減に伴なうＸ線検出器への入射Ｘ線量変化を
打消す方向に゛Ｘ線管電圧値とＸ線管電流値のいずれか
、又は両方を設定するものである。
示す図であり、６ＡはＸ、線発生条件選択回路、３Ｂは
高電圧発生回路である。前記Ｘ線発生条件選択回路は、
スライス幅指示命令ａの内容に応じて一義的に定まる高
電圧側′姉信号すを高電圧発生回路６Ｂに入力するもの
である。該高電圧制御信号すは、Ｘ線ビームのスライス
方向幅の増減に伴なうＸ線検出器への入射Ｘ線量変化を
打消す方向に゛Ｘ線管電圧値とＸ線管電流値のいずれか
、又は両方を設定するものである。
次に、本実施例の動作を第１図及び第２図において説明
する。
する。
制御パネル装置１からスライス幅指示命令ａがコリメー
タ装置２Ｂと高電圧発生装置乙のＸ線発生条件選択回路
６Ａに入力すると、Ｘ線発生条件選択回路３Ａから、前
記スライス幅指示命令ａの内容に応じた高電圧制御信号
すを発生する。この高電圧制御信号すは、高電圧発生回
路６Ｂに入力され、Ｘ線ビームＸのスライス方向幅の増
減に伴なうＸ線検出器２Ｃへの入射Ｘ線量変化を打消す
方向に、Ｘ線管電圧値とＸ線管電流値のいずれか、又は
両方を設定する。他方、コリメータ装置２Ｂは、スライ
ス幅指示命令ａに応じたコリメータスリ、トが設定され
る。
タ装置２Ｂと高電圧発生装置乙のＸ線発生条件選択回路
６Ａに入力すると、Ｘ線発生条件選択回路３Ａから、前
記スライス幅指示命令ａの内容に応じた高電圧制御信号
すを発生する。この高電圧制御信号すは、高電圧発生回
路６Ｂに入力され、Ｘ線ビームＸのスライス方向幅の増
減に伴なうＸ線検出器２Ｃへの入射Ｘ線量変化を打消す
方向に、Ｘ線管電圧値とＸ線管電流値のいずれか、又は
両方を設定する。他方、コリメータ装置２Ｂは、スライ
ス幅指示命令ａに応じたコリメータスリ、トが設定され
る。
この状態でＸ線発生装置２ＡのＸ線放射開始スイ、チ（
図示していない）が投入されると、高電圧発生回路３Ｂ
から前記設定された条件の高電圧エネルギーＥがＸ線発
生装置２Ａに印加されて、好適なスライス方向の所定幅
のＸ線ビームＸが放射される。
図示していない）が投入されると、高電圧発生回路３Ｂ
から前記設定された条件の高電圧エネルギーＥがＸ線発
生装置２Ａに印加されて、好適なスライス方向の所定幅
のＸ線ビームＸが放射される。
以上説明したように、本発明によれば、Ｘ線ビームのス
ライス方向幅の選択にかかわらず、ノイズレベルの低い
良好なスライス断層像が得られる。
ライス方向幅の選択にかかわらず、ノイズレベルの低い
良好なスライス断層像が得られる。
第１図は、本発明の一実施例の概要構成を示す図、第２
図は、第１図に示す高電圧発生装置の内部構成を示す図
である。 １ 制御パネル装置 ２ スキャンニング装置６ 高電
圧発生装置 ３Ａ−Ｘ線発生条件選択回路 ６Ｂ 高電圧発生回路 ａ スライス幅指示命令ｂ 高
電圧制御信号 Ｅ 高電圧エネルギー代理人 弁理士
秋 １）収 喜
図は、第１図に示す高電圧発生装置の内部構成を示す図
である。 １ 制御パネル装置 ２ スキャンニング装置６ 高電
圧発生装置 ３Ａ−Ｘ線発生条件選択回路 ６Ｂ 高電圧発生回路 ａ スライス幅指示命令ｂ 高
電圧制御信号 Ｅ 高電圧エネルギー代理人 弁理士
秋 １）収 喜
Claims (1)
- Ｘ線コンビーータ断層装置において、Ｘ線ビームのスラ
イス方向幅を変化させる手段と、Ｘ線発生条件を変化さ
せる手段と、前記Ｘ線ビームのスライス方向幅に応じた
Ｘ線発生条件を設定する手段を備えたことを特徴とする
Ｘ線コンビーータ断層装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57115705A JPS596039A (ja) | 1982-07-02 | 1982-07-02 | Ｘ線コンピユ−タ断層装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57115705A JPS596039A (ja) | 1982-07-02 | 1982-07-02 | Ｘ線コンピユ−タ断層装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS596039A true JPS596039A (ja) | 1984-01-13 |
Family
ID=14669171
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57115705A Pending JPS596039A (ja) | 1982-07-02 | 1982-07-02 | Ｘ線コンピユ−タ断層装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS596039A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53110495A (en) * | 1977-03-09 | 1978-09-27 | Toshiba Corp | Radiation tomograph ic device |
| JPS53126886A (en) * | 1977-04-11 | 1978-11-06 | Ohio Nuclear | Variable collimator |
| JPS5591339A (en) * | 1978-12-30 | 1980-07-10 | Shimadzu Corp | Computerrtomography device |
-
1982
- 1982-07-02 JP JP57115705A patent/JPS596039A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53110495A (en) * | 1977-03-09 | 1978-09-27 | Toshiba Corp | Radiation tomograph ic device |
| JPS53126886A (en) * | 1977-04-11 | 1978-11-06 | Ohio Nuclear | Variable collimator |
| JPS5591339A (en) * | 1978-12-30 | 1980-07-10 | Shimadzu Corp | Computerrtomography device |
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