JPS5962492A - 洗浄方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は洗浄方法および装置に関するものであり、より
詳細には、本発明は液浸槽中の洗浄液をかく拌するため
の高圧噴流噴霧器を用いた洗浄装置を用いることによっ
て、汚れた物体の表面から汚れを自動的に洗い落すため
の方法及び装置に関するものである。

〔従来技術〕

廃棄物と、それが我々の環境に与える影響について、人
々の関心は高まっている。そのためいくつかの州では使
い捨てのプラスチック、ガラス及び金属製の飲料容器の
使用を禁じる条例を制定している。最近の研究によれば
、この条例により我々のハイウェイや他の公共施設の汚
れが減少していることが明らかになっている。しかしガ
から、この条例はまた回収可能な飲料容器の回収及び貯
蔵において予期しない別の問題を発生させることになっ
た。

ガラス、プラスチック及び金属製の飲料容器を輸送する
ためにプラスチック製の入れ物を用いることは、飲料業
界において一般に行われている。

これらのプラスチック製の入れ物には通常複数の硬化フ
ランジ及びリプが形成されており、埃が留まり易い多数
の割れ目が形成されている。ある場合には、プラスチッ
ク製の入れ物は取外し自在な第二のカバーを有する複合
体でできている。衛生上及び美観上の問題から、これら
の入れ物はそれらがびん詰工場に戻される度に清掃され
ることが望ましい。

洗浄物を酸性又は塩基性洗浄溶液中に浸して、これらの
化学薬品溶液で表面の汚れを落すようにする洗浄法は良
く知られている。この方法は経済的であシ、かつ最も簡
単な装置を必要とするのみである。しかしながらそれは
また時間がか＼シかつそのよう寿処理を施す物件の割れ
目や孔を常に洗浄できるとは限らないし、さらに、洗浄
液が本体それ自体を冒すことが多く、洗浄サイクルを何
度もくり返した後では、その表面外観に好ましからざる
影響を与えることがある。

洗浄物体を液槽に入れて、その槽中の液体を通２３− して超音波を伝搬させてその物体表面に肖てるようにし
た洗浄方法も良く知られている。この超音波洗浄装置の
一例は、本出願人の特願昭５７−１４１６０３号におい
て開示されている。この超音波洗浄装置によれば汚れを
取除く点において、物体を単に薬品槽につけるよシも効
果的である。しかし残念ながら、一つの物体を槽中につ
ける時間が短くなるに従って、超音波効果でこの物体を
適正に洗浄するのに必要なトランスジューサの数は増大
し、洗浄液１ガロン当たり少くとも一台のトランスジュ
ーサがなくてはならない。超音波を使った洗浄槽による
方法は良く知られているが、極めて容積の太きいものを
並べて十分に洗浄するのにこの超音波洗浄を用いると極
めて高価になることがある。さらに、超音波トランスジ
ューサは、その照射時間及び超音波エネルギーの大きさ
が十分でないと、単にへばシ付いた汚れを解放するだけ
でそれを取除くことはない。従って物体から汚れを落す
ためのすすぎがかならず必要である。最後に、どんな超
音波クリーナでも、洗浄すべき物２４一 体の割れ目及び空所から大きな破片の取除くことができ
ない。プラスチック製の入れ物をびん詰工場に戻した時
、飲料業界で使われているそのプラスチック製の入れ物
の中に、ストロ−、ガラスの破片及びびんのキャップの
ような破片が見つかることはよくあることである。

超音波洗浄装置の効率を高めるのに用いられている一つ
の方法は、前洗浄ステーションを設け、こ＼で物体を超
音波液浸槽に浸すのに先立ってかき落しを行う方法があ
る。この前洗浄ステーションにおいて、例えば、物体は
洗浄液の高圧噴霧によるかき落し作用を受ける。前洗浄
ステーションを使用することの欠点は、この前洗浄ステ
ーションからの洗浄液が液浸槽中に流入することができ
ないということである。もし、前洗浄槽からの洗浄液が
液浸槽中に流入してその中にある洗浄液と混合すること
ができれば、超音波トランスジューサの効率は大いに高
まることとなろう。

前記特願昭５７−１４１６０３号において、洗浄装置に
化学的及び機械的洗浄作用を組合せた液浸槽を設けたも
のが提案されている。化学的洗浄作用は、汚れた物体及
び汚れ自体の表面張力を減らす洗浄液を用いることによ
って生じるものであシ、機械的洗浄作用は、槽中の液体
をかく拌する一連の高圧スプレー又はトランスジューサ
のいずれかによって生じるものである。この装置は所定
量の汚れを落すのに必要なトランスジューサの数を減ら
す点において所望の成果を生じるものであるが、この装
置は依然として、洗浄液中に望ましいレベル以上のアル
カリ性化学物質を使用する必要がある。さらに、開示さ
れた特定の装置は、前洗浄ステーションからの液体が、
液浸槽中の液体と混合できることを示唆するものではな
い。

〔発明の概要〕

本発明は汚れた物体を洗浄するための新規な方法、及び
その方法を用いた装置を提供するものである。本発明の
方法において、汚れた物体は、まず最初に汚れた物体の
表面に高圧噴流を直接当ててその表面から汚れの一部を
取除く前洗浄が施される。その物体は次に加熱された洗
浄液を入れた液浸槽中に一定時間浸される。物体を液浸
槽中の洗浄液中に一定時間浸した後、洗浄液は高圧噴流
によってかく拌される。この高圧噴流は洗浄液中に大き
な乱流を生じて、のこりの汚れを解放して物体から取除
き、かつ大きな破片を物体から上昇できるようにし、最
後に、物体を液浸槽から取り出して、その物体の表面に
ゆすぎ液を直接高圧噴霧して物体から洗浄液を落すとと
もに汚れを取除くようにする。

好ましい実施例においては、本発明の方法は複数の汚れ
た物体を洗浄するための連続プロセスに適用されている
。従って、汚れた物体は最初に前洗浄槽を通り、こ＼で
いくつかの洗浄液高圧噴流のかき落し作用を受けるよう
になっている。この最初のかき落し作用により、汚れの
一部が取除かれるか又は解放される。次に、物体は浸透
ステーション及びかき落しステーションを有する縦に延
在する液浸槽を通過する。液浸槽中の浸透ステーション
において、他の汚れは、高圧の液体分配器によって生じ
る乱流の強力な機械的かき落し作用２７− によって解放されかつ物体から取除かれる。最後に、の
こシの汚れは物体をゆすぎ槽中に通すことによって取除
かれる。このゆすぎ槽中では、物体の表面にゆすぎ液又
は界面活性剤が高圧噴霧されて、それによって物体から
汚れを取除き、かつまた物体の乾燥を早めるようにして
いる。

本発明の装置はノ・ウジングによって特徴付けられてい
る。前洗浄槽はこのノ１ウジングの入口端に設けられて
いる。前洗浄槽は洗浄液を汚れた物体の表面に直接噴霧
する第一のスプレートンネルを内蔵している。ゆすぎ槽
はノ・ウジングの排出端に設けられている。このゆすぎ
槽は汚れた物体の表面にゆすぎ液を直接噴霧する第二の
スプレートンネルを内蔵している。液浸槽は前洗浄槽と
ゆすぎ槽の間でハウジング中に設けられている。高圧液
体分配器はゆすぎ槽に最も接近した液浸種部分に取付け
られている。物体を、前洗浄槽、液浸槽及びゆすぎ檜を
通し７て直線的に移動させるための移送装置が設けられ
ている。物体を洗浄槽、液浸槽及びゆすぎ槽を通して連
続的に案内するための案２８− 岬がハウジング中に取付けられている。

さらに、洗浄装置には、洗浄液中に溶解された汚れの一
部を取除くため、液浸槽の、前洗浄槽に最も接近した部
分に互いに連結されたフィルター装置が設けられている
。このフィルター装置から洗浄液を引き出して、その洗
浄液を所定の圧力レベルまで加圧しかつその加圧洗浄液
を第一のスプレートンネルに送るための第一の高圧ポン
プが設けられている。フィルタ一槽から洗浄液を引き出
し、その洗浄液を所定の圧力レベルまで加圧し、かつそ
の加圧された洗浄液を高圧流体分配器に送るための第二
の高圧ポンプが設けられている。

従って９本発明の第一の目的は、この装置を通る一本の
通路中において、汚れた物体から汚れを取除いてそれを
効果的に洗浄する洗浄装置を提供することである。これ
を達成するため、物体及び汚れの表面張力は液浸槽の浸
透ステーション中の洗浄液の作用で小さくされる。別の
汚れは緩められ、かつ液浸槽のかき落しステーション中
の洗浄液の強力なかき落し作用によって取除かれる。の
こりの汚れ及び残留洗浄液は、高圧流体分配器からのゆ
すぎ液の強力な機械的かき落し作用によって、物体から
取除かれる。

本発明の別の目的は高容量のバッチ（一括処理）操作に
適した低廉な洗浄装置を提供することである。

本発明のさらに多の目的は、汚れた物体を従方向に間隔
をへたてた位置関係に保持しながら、複数の物体をこの
装置を貫通駆動するための装置を設けた、高圧液体洗浄
装置を提供することである。

この発明のさらに別の目的は、汚れた物体を満足に洗浄
するのに必要なアルカリ性化学物質の量を最小限にする
、機械及び化学的洗浄法による。

物体の洗浄法を提供することである。

本発明のさらに別の目的は、一本の通路中において汚れ
た物体から汚れを機械的及び化学的に取除く装置を提供
することである。この目的を達成するため、汚れの一部
は、第一のスプレートンネルの高圧噴流器からの洗浄液
の化学作用によりかつ強力な機械的かき落し作用によっ
て解放されかつ取除かれる。汚れの別の部分は物件を液
浸槽の浸透ステーション中の加熱された洗浄液に浸すこ
とによって解放される。汚れのさらに別の部分は、液浸
槽のかき落しステーション中の乱流及びかく拌された洗
浄液の強力なかき落し作用によって解放されかつ取除か
れる。のこりの汚れ及び残留洗浄液は、第二のスプレー
トンネルの高圧噴流器からのゆすぎ液の強力な機械的か
き落し作用によって取除かれる。

この発明のさらに別の目的は、汚れた物体から機械的及
び化学的に汚れを取除き、かつ物体から大きな破片を機
械的に取除く装置を提供することである。これは液浸槽
の浸透ステーション中の乱流及びかく拌された洗浄液の
強力な作用によって達成される。

本発明のさらに別の目的は、汚れた物体から汚れを機械
的及び化学的に取除く装置であって、移送装置が前洗浄
槽、液浸槽及びゆすぎ槽中に取付けられている装置、を
提供することである。この移送装置は、汚れた物体を装
置を通して縦方向に間隔をへだてた位置関係で駆動する
ものである。

従って、汚れた物体の全外面は前洗浄槽中で高圧の噴流
作用を、かき落しステーション中では洗浄液の乱流作用
を、またゆすぎ槽中では高圧噴流のかき落し作用を受け
る。

本発明のさらに別の目的は、高圧噴流を用いる方法の機
械的及び化学的洗浄と、加熱されかつかく拌された化学
液体を含む液浸槽を用いる方法の機械的洗浄とを組合せ
ることによって、物体を洗浄するだめの方法を提供する
ことである。さらに、この方法は物体を完全に洗浄する
ため、ゆすぎ槽中において高圧噴流を用いている。

本発明の多くの目的１％長及び利点は添付図面を参照し
て以下の詳細表説明を読むことによシ、当業者には明ら
かとなろう。

〔実施例〕

次に、図面とくに第１〜４図を参照する。汚れた物体を
洗浄するための装置の一例を参照番号１０によってその
全体代表させている。図示のものにおいて、洗浄すべき
物体はソフトドリンク用のプラスチック族の入物１２で
ある。このプラスチック族の入物１２は底壁１４．四つ
の側壁１６８〜１６ｄ、及び二つのハンドル１８ａ及び
１８ｂを有している。入れ物１２はソフトドリンクのび
んを収容するための内部隔室２０を有している。当業者
なら洗浄装置１０が、乳製品、肉、菓子、パン及び他の
食品業界で用いられているプラスチック、木、金属又は
その他の容器のような他の汚れた物体を洗浄するのにも
応用できるということが認識できるであろう。本発明は
またプラスチック部材１模械部品及び同様の汚れた物体
を洗浄するのに適用することもできる。

第１図に示すすように、この洗浄装置１０は、縦方向に
延びた頂壁２２．二つの縦方向に延びた側壁２４ｍ及び
２４ｂ及び二つの端壁２６ａ及び２６ｂ中に収容されて
いる。端壁の一つ、端壁２６λ　には入物１２をハウジ
ング１１中に入れるための入口通路２８ｍが設けられて
いる。他の端壁、端壁２６ｂには出口通路２８ｂが設け
られており、入物１２は洗浄された後、この部分を通し
てハウジング１１から出ていくようになっている。洗浄
装置１０のハウジング１１にはさらに以下で説明する底
壁又は床２９が設けられている。ノ・ウジング１１の壁
は槽中の液体からの熱損失を減らすため絶縁されており
、かつそれによって液体を所望の温度に保つのに関連し
たエネルギーコストを最小にしている。

洗浄装置１０のハウジングの内部は、入口通路２Ｂ、及
び出口通路２８ｂ間で連続状に配置された前洗浄槽３０
．液浸槽３２及びゆすぎ槽３４に分割されている。洗浄
装置１０のノ・ウジフグ中の各々の槽３０〜３４の詳細
及び機能については次に詳細に説明することとする。

第１及び第４図に最良に示すように、床２９は液浸槽３
２の中央部に水平な中央部３６を有している。この床２
９は、さらにそれぞれ前洗浄槽及びゆすぎ槽中に配置さ
れた水平な端部分３９ａ及び３８ｂを有している。この
水平な端部分３８ａ及び３８ｂは各々中央部３６上の平
面内に配置されている。中間の傾斜した床部分４０畠及
び４０ｂは、それぞれ端部分３８ａ及び３８ｂ、及び中
央部分３６間で液浸槽３２中に設けられている。付加的
垂直壁４２は液浸槽３２とゆすぎ槽３４の間に設けられ
ている。入物１２用に、通路４３が壁４２を貫通して設
けられている。

前洗浄槽３０の詳細は、第３〜５図に示されている。前
洗浄槽３０は第一のスプレー装置又はトンネル４４を含
んでいる。この第一のスプレー装置４４は開放した矩形
を構成する一対の端部枠部材４６ａ及び４６ｂを含んで
いる。第一のスプレー装置４４は、後で詳細に説明する
洗浄液再循環装置６６から引き出された洗浄液を受入れ
る高圧ポンプ（第２及３図）５０によって供給が行われ
る。

ポンプ５０は洗浄液を７０〜９０　ｐｓｌｇ（４，７６
〜５．４４気圧）の範囲の圧力でスプレー装置４４に供
給する。好ましい供給圧力は７５　ｐｓ　ｉ　ｇ　（５
，１気りである。洗浄液のいくつかの噴流をスプレー装
置の内部に向けかつ入物１２の表面に直接当てるように
、スプレーノズル５２が管状の横部材４８に取付けられ
ている。このスプレーノズル５２は、３５− 長距離にわたって高圧の保持ができるよう選定されてお
り、かつ好ましい実施例においては、約１０００分の８
０インチ（２，０３ｍｍ’）の孔を有している。

このノズル５２によって生じる高圧の噴流は、汚れた物
体から汚れを機械的にかき落とす高速流を生じ、入物か
ら汚れの一部を浮き上がらせるか又は取除くようにして
いる。液体の噴流のかき落し作用及び洗浄液体の化学作
用を組合せることによって、汚れた入物から汚れの一部
を解放させるか又は取除くことができる。前洗浄槽３０
中の洗浄液は前洗浄槽から液浸槽に自由に流動すること
ができるようになっている。

液浸槽３２の詳細については、第２〜４図において最良
に示されている。この液浸槽３２には、好ましくは非発
泡剤を含んでいる化学薬品、即ち洗浄液が所定のレベル
まで充填される。洗浄液の種類及び密度は取除くべき汚
れの性質及び必要な洗浄の程度によって決まる。多くの
適正な洗浄液が従来から良く知られておりかつ市場で入
手可能である。図示の実施例においては、洗浄液中に１
３６− 〜２チの洗剤を含ませることで受入れ可能となることが
分っている。

液浸槽は入物１２に前板って浸透させるための浸透ステ
ーション６０、及び入物１２にかき落し作用を与えるた
めのかき落しステーション６２とに機能的に分割されて
いる。液浸槽３２の浸透ステーション６０は、前洗浄槽
３０の近傍に配置されている。浸透ステーション６０は
、洗浄液によって入物１２及びこの入物上の汚れの表面
張力を減らすことができるようにするために設けられた
ものである。ハウジングの側壁２４ｂ　中の排出管６４
は、洗浄液の一部をこの浸透ステーション６０から洗浄
液再循環装置６６に引き出すことができるようにするた
めに設けたものである。この排出管６４は好ましくは液
浸槽３２の最初のし３のところに設けられており、それ
によって液浸槽の％〜　／３における液体の乱流が減少
しないようにしている。

液体再循環装置６６は、液体タンク７０を区画形成する
ハウジング６８を有している。フィルタ装置（図示せず
）は、洗浄液から汚れを取除くため液体タンク７０中に
設けられている。

液浸槽３２のかき落しステーション６２は、ゆすぎ槽３
４の近傍に配置されている。このかき落しステーション
６２には、液浸槽３２ののこりの部分における洗浄液を
かく拌するための高圧液体分配器７４又は７４′が設け
られている。高圧液体分配器Ｔ４又は７４′の構造は二
側が図示されており、一方の例は第２〜１１図に示され
ておシ、かつ他方の例は第１２〜１３図に示されている
。

第２及び第１０図で最良に示されている第一の例におい
ては、液体分配器７４はその端部が高圧ポンプ７８に連
結された長い主管要素７６から成っている。高圧ポンプ
γ８は、液体再循環装置６６から洗浄液を再循環し、か
つこの液を４５〜５Ｑｐｌｓｇ（３，０６〜３．４０気
圧）の圧力に加圧するものである。

液体分配器７４はさらに、管状の要素７６中の液体を加
圧して、この要素１６からいくつかの高圧流として排出
することができるようにする一連のスプレーノズル８０
を有している。このスプレーノズル８０は、高圧の洗浄
液の噴流を液浸槽中に供給するように選択されている。

好ましい実施例においては、ノズルは約１インチのＶ４
（６，ａｓ朋）の孔を有している。さらに、液体分配器
γ４は、主要素７６に連結しかつそれから半径方向に延
びたいくつかの管状アーム８２ａ〜８２ｄ　　を有して
いる。各々のアーム８２ａ〜８２ｄの端部には付加的な
スプレーノズル８０が設けられている。分配器Ｔ４から
の洗浄液はこのようにして、液浸槽３２中の洗浄液をか
く拌する。かく拌された洗浄液は入物１２０表面を擦っ
てその表面から汚れを取り除く。

分配器７４′の第２の構造が第１２及び１３図に示され
ている。上述の分配器と同様に、分配器７４′は、長い
主要素７６’と連結されたいくつかの半径方向アーム８
２′ａ〜８２′ｄを有している。各々のアーム８２′畠
〜８２′ｄには、洗浄液をかく拌するだめのスプレーノ
ズル８０′が設けられている。更に、分配器７４′は、
要素７６’と連結しかつ各々にスプレーノズル８０′が
設けられているいくつかの％ＬｊＦ３９− 形のアーム８３ａ〜８３ｄを有している。ノズルの種々
の位置及び方向は洗浄すべき物体の形状及び寸法、及び
かき落しを必要とする表面によって決められる。入物１
２０大部分の汚れはその側壁１６ａ〜１６ｄ上に存在し
ている。しかしながら汚れを取除くに最も難しい部分は
、底壁１４である。従って、かなりの数のノズル８０′
が入物１２の下側に配置されている。分配器７４′から
入物１２の底壁１４ｔ−向いたスプレーノズル８０′は
、アーム８３８〜８３ｄ上のスプレーノズル８０′の上
流側となり、かつ従って、それらの圧力がより大きいこ
とによシ、より大きな乱流を生じることができる。

加熱装置（図示せず）はまた、洗浄液を所定の温度、好
ましくは１５０〜１６０下（６５，６〜７１．１℃）の
範囲にまで加熱するため、液浸槽３０中に設けられてい
る。適当な加熱装置は市場で入手可能であるとともに当
業者には良く知られている。

ゆすぎ槽３４の詳細については、第１．３．４及び６図
において最良に示されている。第４図に示すように、ゆ
すぎ槽３４は、前洗浄槽３０で説４０− 明されているスプレー装置４４と同様の第二のスプレー
トンネル又は装置８４を含んでいる。このスプレー装置
８４は、第６図に示すように、開放した矩形を成すよう
配置された一対の管状の端枠部材８６及び管状端枠部材
の間に縦方向に取付けられたいくつかの管状の横部材８
７を有している。

第二のスプレー装置８４は、タンク９０から引き出され
たゆすぎ水を受入れる高圧ポンプ８８によって液体供給
を受は為。複数のスプレーノズル史は横部材ＢＴに取付
けられて、そ＼ぎ液の複数の高圧噴流が第２のスプレー
装置８４に向うようになっている。当業者であれば、タ
ンク９０中のゆすぎ水を、壁によってタンク９０中の洗
浄液から分離しておかなければならたいということが認
識されよう。第２のスプレー装置８４からのゆすぎ液は
、物体からのこりの汚れ及び残留洗浄液を取除くため、
そ＼ぎ槽中の入物に対して７０〜８０ｐｓｉｇ（４，７
６〜５．４４気圧）の圧力で噴射される。

好ましい圧力は７５　ｐｓ　ｉｇ（５，１０気圧）であ
る。このようにして、高圧のゆすぎ液体噴流は高速流を
生じて、物体から残シの汚れを機械的にかき落しかつこ
の物体に付着している残シの洗浄液を洗い流すことがで
きる。タンク９０中の液体は、従来入手可能な加熱部材
によって加熱される。物体がゆすぎ槽３４を通過した後
における物体からの液体の除去は、入れ物１２に対１〜
て空気を吹き付け（第３図においてのみ示す）、場合に
よっては加熱するファン９４（第３及び４図）によって
行われる。

洗浄すべき入物１２は、その表面から全ての汚れを解放
させるために液浸槽中において洗浄液中に完全に浸され
る。これを行うため、プラスチックの入物１２のような
その汚れた物体の密度が水より小さい場合においては、
その物体が液浸槽３２を通過中にその物体を洗浄液の液
面下に完全に保持するために、機械的な案内システムが
設けられている。入物はこの案内装置９６（第２図で最
良に示されている）に沿って装置１０を通過することが
できる。案内装置９６は前洗浄槽３０、液浸槽３２及び
ゆすぎ槽３４を通って連続状に延びている。

案内装置９６は互いに間隔をへだでかつ案内装置９６の
反対側部分に隣接配置された二本の低レール９８ａ及び
９８ｂを有している（第２及び４図返低イ案内レール９
８ｍ及び９８ｂは最初は前洗浄槽３０中を水平に延びか
つ次に、液浸槽３２の入口に下降して物体を液浸槽３２
中の洗浄液の液面下に向ける。液浸槽３２の底部に隣接
して、下方の案内レール９８．及び９８ｂは最初水平に
かつ次に壁４２中の通路を通って上昇する。最後に、こ
の下方レール９８ａ及び９８ｂはゆすぎ槽３４を通して
水平に延びる。

案内装置９６はまた、各案内レール９Ｌｔ、９８ｂの上
側でかつ入物１２の反対側部分に互いに反対向きに配置
された二つの側部支持レール１００ａ及び１００ｂを含
んでいる。これらの側部支持レール１００ｓ及び１００
ｂは、下部案内レール９８＆及び９８ｂと同様に、前洗
浄槽３０液浸槽３２及びゆすぎ槽３４を貫通して延びて
いる。この案内装置９６はまた、側部支持レール１００
ａ及び１００ｂ上４３− でかつ案内装置９６の反対側部分において互いに反対向
きに配置された一対の頂部案内レール１０２ａ及び１０
２ｂを含んでいる。頂部案内レール１０２ｍ及び１０２
ｂは、側部支持レール１０２ａ及び１０２ｂと同様に、
前洗浄槽３０、液浸槽３２及びゆすぎ槽３４を貫通して
延びている。

コンベア装置５４がハウジング中に取付けられており、
このコンベア装置５４は水平かつ前洗浄槽３０．液浸槽
３２及びゆすぎ槽３４を貫通して延びている。案内装置
９６は作業者又は別のコンベア（図示せず）によって、
その上に載せられた汚れた入物１２を受入れる。コンベ
ア装置５４は各々の入物１２を案内装置９６に沿って押
し、かつ入物１２を縦方向に互いに間隔をへだてた状態
で保持する。入物１２が縦方向に間隔をへだてて配置さ
れていることにより、前洗浄槽３０中の洗浄液及びゆす
ぎ槽３４中のゆすぎ液の高圧噴流を、各々の入物の先導
側壁及び後方側壁１６ａ及び１６ｂに当てることができ
る。更に、隣シ合った入物はかき落しステーションを角
度を開いた状態で通過＝４４− しく第４図参照）、かつそれによって乱流洗浄液により
、先導側壁及び後方側壁１６Ｍ及び１６ｂをよシ良好に
かき落し出来るようになっている。

コンベア装置５４の詳細については、第１〜３図におい
て見ることができる。図面に示すコンベア装置５４は、
従来から良く知られたものでありかつ市場で入手可能な
ものである。入物１２を７％ウジングを通して移送する
ための他の手段も使用可能であるが、コンベア装置５４
が好ましい。コンベア装置５４は、二本のトラック（走
路）５５ａ及び５５ｂを有しており、各々は案内装置９
６の反対側で前洗浄槽３０．液浸槽３２．及びゆすぎ槽
３４を貫通して延びている。コンベア装置５４は、また
連続した二本のチェーン５６を有しており、それぞれト
ラック５５ａ及び５５ｂ用のものである。

各々のチェーン５６（図面ではその一方のみが部分的に
示されている）は、ハウジングを通ってトラック５５ａ
又は５５ｂの一方の全長に沿って駆動機構（図示せず）
から突出し、かつ図には示していないが、従来から良く
知られた方法により駆動機構に戻るようになっている。

コンベア装置５４はさらに二つのチェーン装置５６間に
延びたいくつかの押し棒５８を有している。この棒５８
は入物１２の長さを越えて所定の距離だけ間隔をへだて
て配置されている。入物１２は、一方の入物が各々隣接
した押し棒５８間に設けられかつ押し棒５８によって、
入物の先導側壁１６ｂに隣接して案内装置９６に沿って
押圧されるように、コンベア装置５４に供給される。

動作 動作時、一群の汚れた入物１２が洗浄装置１゜の入口通
路２８ａに供給される。コンベア装置５４は、第一のス
プレー装置４４の高圧スプレーを先導側壁（第２図の壁
１６ａ）及び後方側壁（第２図の壁１６ｃ）を含む各々
の入物１２の全面に直接当てることができるように、汚
れた入物を互いに離して配置するように作用する。この
ようにして、入物表面に当たる高圧の噴流のかき落し作
用と、洗浄液の化学的作用とを組合せることによって、
汚れの一部を入物から解放するか取除くことができる。

入物１２はコンベア装置５４によって、前洗浄槽３０か
ら液浸槽３２に運ばれ、かつ案内装置９６によって全体
に亘り案内される。液浸槽３２の浸透ステーション６０
中において、加熱された洗浄液は汚れた入物と汚れの表
面張力を減らす。液浸槽３２の部分中における洗浄液は
以下で明らかにする理由により、かく拌されない。

入物１２はコンベア装置５２によって、液浸槽３２の浸
透ステーション６０からかき落しステーション６２へ運
ばれる。このかき落しステーション６２中において、洗
浄液は入物１２の表面を擦するためにかく拌される。洗
浄液は、ストロ−。

ガラスの破片、キャップのような大きな破片が入物から
取除くことができるような程度にまでかく拌される。

好ましくは、液浸槽３２のかき落しステーション中の液
体分配器のノズル８０は、液浸槽の最後の半分又は最後
の１／３に和尚する部分だけかく拌するようになってい
る。

＝４７− その理由は、液浸槽３２の最初の部分における洗浄液の
乱流によるかき落し作用は液浸槽の最後の部分における
乱流液体のかき落し作用に比較して効率が低いからであ
る。入物１２が液浸槽の浸透ステーション中にある時に
は、洗浄液は汚れを入物に保持している表面張力を減ら
す作用をする。

既に言及したように、液浸槽３２中の加熱装置によって
洗浄液を加熱することにより、このプロ上面張力が減少
すると、乱流洗浄液は迅速かつ効果的汚れを入物から解
放する。このような訳で、ポンプ７８によって供給され
る圧力及び流量が同じであっても、液浸槽３２の最後の
部分にのみスプーノズル８０を設けることによって、よ
シ良い洗浄結果が得られる。

入物１２は最後に、コンベア装置５４によって液浸槽３
２からゆすぎ槽３４に運ばれ、こ＼において各々の入物
１２の全表面が第二のスプレー装置８４の高圧噴流によ
ってゆすぎがなされる。

４８− 従って、本発明が汚れた物件を洗浄するための経済的な
洗浄方法及び装置を提供するものであることが容易に明
らかとなろう。

上述の方法及び装置はかなりの数の汚れた物体を迅速か
つ信頼性を有して経済的に洗浄しなければならない大き
な容積を持ったステーションにおいてとくに有効である
。化学的及び機械的洗浄技術を効果的に組合せたこの方
法及び装置によって、物体を洗浄するために使用しなけ
ればならないアルカリ性化学物質の量を最少限にするこ
とができる。従って、この方法及び装置は、荒い洗浄液
の使用に耐えることができない材料を含んだ汚れた物体
を洗浄するのに適したものである。最後に、この方法及
び装置は汚れた物体の全表面を信頼性を有して洗浄する
ことができ、かつその物体の中から破片を取除くことが
できる手段を提供するものである。

好ましい実施例についての上記の説明は例示のためのも
のであって、それにより限定されるものではない。上記
説明は本出願の出願時において本発明者が本発明を実施
する上で考え得た最良の態様を含んでいる。上記説明の
種々の変更は、当業者には明らかであるし、かつこの明
細書に附記した特許の範囲によってのみ限定される本発
明の範囲中に含まれるものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は、前洗浄槽、液浸槽、及びすすぎ槽を有する本
発明の洗浄装置の一例を示す斜視図、第２図は、第１図
の洗浄装置の液浸槽を切断した部を示す拡大斜視図であ
って、洗浄装置の内部の要素及びこの洗浄装置によって
洗浄することができる汚れた物体を示す図、第３図は第
１図の洗浄装置の上部を一部切断した図、第４図は第１
図の洗浄装置の側部を一部切断した図、第５図は第１図
の洗浄装置の前洗浄槽中に設けられた送υコンベアの一
部及びスプレートンネルの側部斜視図、第６図は第１図
の洗浄装置のそ＼ぎ槽中に設けられたスプレートンネル
の側部斜視図、第７〜１１図は、第４図のそれぞれ■−
■〜ＸＩ−ＸＩ線に沿った洗浄装置の断面図、第１２図
は第２図と同様の斜視図であり、かつ本発明の変更され
た洗浄装置を示す図、第１３図は第１０図に示したもの
と同様の断面図であり、かつ第１２図の洗浄装置の液浸
１１中の高圧スプレージェットを描いた図である。 １０・・・・洗浄装置、１１・・・・ハウジング、１２
・・・・入物、１６・・・・側壁、２８・・・・通路、
３０・・・・前洗浄槽、３２・・・・液浸槽、３４・・
・・すすぎ槽、４４・・・・噴霧アセンブリ、４６・・
・・フレーム部材、５０・・・・高圧ポンプ、６６・・
・・洗浄液再循環装置、７０・・・・液体タンク、８０
・・・・スプレーノズル、９６・・・・案内装置。

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. （１）汚れた物体に高圧スプレ一手段からの洗浄液を噴
   霧して、上記汚れを物体から汚れの一部を取除く過程と
   、汚れた物体を洗浄液を含む液浸槽中に浸して上記洗浄
   液の作用によって汚れた物体から汚れの別の部分を解放
   する過程と、上記液浸槽中の洗浄液をかく拌して、洗浄
   液の作用によって解放された汚れの部分を取除き、かつ
   上記かく拌された洗浄液の機械的作用によって汚れの別
   の部分を解放し取除く過程と、汚れた物体をすすぎ液に
   よってすすいで上記汚れた物体から残りの汚れを取除き
   、かつその物体に付着した洗浄液を取除く過程とを連続
   し、て行う洗浄液及び七−ぎ液を用いた汚れた物体から
   汚れを取除く洗浄方法。
2. （２）汚れた物体に高圧スプレ一手段からの洗浄液を噴
   霧して、上記汚れた物体から汚れの一部を取除く過程と
   、洗浄液を加熱して温度を上げる過程と、洗浄液を、そ
   の液浸過程及び噴霧過程中も温度を上げた状態で保持す
   る過程と、汚れた物体を洗浄液を含む液浸槽中に浸して
   上記洗浄液の作用によって汚れた物体から汚れの別の部
   分を解放する過程と、上記液浸槽中の洗浄液をかく拌し
   て、洗浄液の作用によって解放された汚れの部分を取除
   き、かつ上記かく拌された洗浄液の機械的作用によって
   汚れの別の部分を解放し取除く過程と。 汚れた物体をすすぎ液によってすすいで上記汚れた物体
   から残りの汚れを取除き、かつその物体に付着した洗浄
   液を取除く過程とを連続して行う洗浄液及びそ＼ぎ液を
   用いた汚れた物体から汚れを取除く洗浄方法。
3. （３）汚れた物体を第一のスプレートンネル中に連続的
   に移動する過程と、上記の第一のスプレートンネル中の
   汚れた物体を各々高圧の洗浄液流によって連続的に噴霧
   し、それによって汚れの一部を汚れた物体から解放しか
   つ取除く過程と、汚れた物体を上記スプレートンネルか
   ら上記洗浄液を含む液浸槽の浸透ステーション中に連続
   的に前進させて、汚れの一部を汚れた物体から解放する
   過程と、汚れた物体を上記液浸槽を通してその浸透ステ
   ーションからそのかき落しステーションに連続的に前進
   させる過程と、上記液浸槽の上記かき落しステーション
   中の洗浄液を高圧の流体噴流によってかく拌して、上記
   かく拌された液体のかき落し作用によって、上記かき落
   しステーション中の各々の汚れた物体から汚れの一部を
   機械的に解放しかつ取除く過程と、汚れた物体を上記液
   浸槽の上記かき落しステーションから第二の高圧スプレ
   ートンネルに連続的に前進させる過程と、上記第二のス
   プレートンネルに洗浄液の高圧流を連続的に噴射して、
   それによって汚れた物体からのこりの汚れを、また汚れ
   た物体に付着した洗浄液を機械的に取除く過程と、汚れ
   た物体を上記第二のスプレートンネルから連続的に前進
   させる過程とからなる洗浄液及びゆすぎ液を用いた一連
   の汚れた物体から汚れを取除くための洗浄方法。
4. （４）上記汚れた物体が液浸槽中にある全時間の約Ｖ３
   にわたり、汚れた物体が液浸槽のかき落しステーション
   中にあることを特徴とする特許請求の範囲第２３項記載
   の方法。
5. （５）汚れた物体を第一のスプレートンネル中に連続的
   に移動する過程と、上記第一スプレートンネル中の汚れ
   た物体を各々高圧の洗浄液流によって連続的に噴霧し、
   それによって汚れの一部を汚れた物体から解放しかつ取
   除く過程と、汚れた物体を上記スプレートンネルから上
   記洗浄液を含む液浸槽の浸透ステーション中に連続的に
   前進させて、汚れの一部を汚れた物体から解放する過程
   と、汚れた物体を上記液浸槽を通してその浸透ステーシ
   ョンからのそのかき落しステーションに連続的に前進さ
   せる過程と、上記液浸槽の上記かき落しステーション中
   の洗浄液を高圧の流体噴流によってかく拌して上記かく
   拌された液体のかき落し作用によって、上記かき落しス
   テーション中の各々の汚れた物体から汚れの一部を機械
   的に解放しかつ取除く過程と、汚れた物体を上記液浸槽
   の上記かき落しステーションから第二の高圧スプレート
   ンネルに連続的に前進させる過程と、上記第二〇ス３−
   一 プレートンネルに洗浄液の高圧流を連続的に噴射して、
   それによって汚れた物体からのこシの汚れを、また汚れ
   た物体に付着した洗浄液を機械的に取除く過程と、汚れ
   た物体を上記第二のスプレートンネルから連続的に前進
   させる過程と、洗浄液の一部を上記液浸槽の浸透ステー
   ションからろ過槽に送る過程と、上記汚れた物体から取
   除かれた汚れを上記ろ過槽中の洗浄液からろ過する過程
   と。 上記ろ過された洗浄液の少くとも一部を上記ろ過槽から
   上記液浸槽に再供給する過程とからなる洗浄方法。
6. （６）汚れた物体を第一のスプレートンネル中に連続的
   に移動する過程と、上記の第一スプレートンネル中の汚
   れた物体を各々高圧の洗浄液流によって連続的に噴霧し
   、それによって汚れの一部を汚れた物体から解放しかつ
   取除く過程と、汚れた物体を上記スプレートンネルから
   上記洗浄液を含む液浸槽の浸透ステーション中に連続的
   に前進させて、汚れの一部を汚れた物体から解放する過
   程と。 汚れた物体を上記液浸槽を通してその浸透ステー＝４− ジョンからそのかき落しステーションに連続的に前進さ
   せる過程と、上記液浸槽の上記かき落しステーション中
   の洗浄液を高圧の流体噴流によってかく拌して、上記か
   く拌された液体のかき落し作用によって、上記かき落し
   ステーション中の各々の汚れた物体から汚れの一部を機
   械的に解放しかつ取除く過程と、汚れた物体を上記液浸
   槽の上記かき落しステーションから第二の高圧スプレー
   トンネルに連続的に前進させる過程と、上記第二のスプ
   レートンネルに洗浄液の高圧流を連続的に噴射して、そ
   れによって汚れた物体からのこシの汚れを、また汚れた
   物体に付着した洗浄液を機械的に取除く過程と、汚れた
   物体を上記第二のスプレートンネルから連続的に前進さ
   せる過程と、洗浄液の一部を上記液浸槽の浸透ステーシ
   ョンからろ過槽に送る過程と、上記汚れた物体から取除
   かれた汚れを上記ろ過槽中の洗浄液からろ過する過程と
   、上記ろ過された洗浄液の上記部分を上記液浸槽に再供
   給するろ過槽から、上記洗浄液を加圧する高圧ポンプに
   送る過程と、このポンプから上記液浸槽のかき落しステ
   ーション中の上記高圧液噴射器に供給する過程と、上記
   ろ過された洗浄液の少くとも一部を上記ろ過槽から上記
   液浸槽に再供給する過程とからなる洗浄方法。
7. （７）洗浄液が充填され、かつその端部の一方に設けた
   汚れた物体を入れるための入口部ともう一方の端部に設
   けた汚れた物体を出すための取出口、とが設けられた液
   浸槽で、汚れた物体が上記液浸槽を通過する際に、洗浄
   液中に完全に浸されかつ上記洗浄液が上記の汚れ及び上
   記の汚れた物体の表面に作用して、その汚れの一部を解
   放するようにした縦方向に延びた液浸槽と、洗浄液を汚
   れた物体の表面に直接噴霧して、その汚れの一部をその
   物体から解放しかつ取り除くだめ入口部に隣接して取付
   けられた第一の高圧スプレ一手段と、前記液浸槽中に取
   シ付けられ、槽中の洗浄液をかく拌するようにその槽内
   に対し噴霧するだめの手段であって、かく拌した洗浄液
   が汚れた物体の表面に作用して、その汚れた物体が上記
   液浸槽中を通過する際に、汚れの部分を更に解放し、か
   つ上記汚れた物体から解放された他の汚れの一部を取除
   くようにして第二の高圧スプレ一手段と、上記の汚れた
   物体が上記液浸槽を通過した後、その汚れた物体の表面
   にすすぎ液を直接噴霧することによって、のこりの汚れ
   及び上記物体に付着した洗浄液をそこから取除くように
   した前記取出口に隣接して取付けられた第三の高圧スプ
   レ一手段と、汚れた物体を、上記第一の高圧手段、上記
   入口部。 上記液授権、上記取出口及び上記第三の高圧手段を通し
   て序々に移動させる移送手段、とからなる洗浄液及びす
   すぎ液を用いて汚れた物体から汚れを取除く洗浄装置。
8. （８）前記第二の高圧手段が、液浸槽中において前記入
   口部から所定の距離だけ離れたところに取付けられてい
   ることを特徴とする特許請求の範囲第７項記載の装置。
9. （９）前記の所定距離が前記入口部及び取出口間の距離
   の少くとも２／３であることを特徴とする特許請求の範
   囲第７項記載の装置。 （ＩＯ前記移送手段が、前記第一の高圧スプレ一手段、
   前記液浸槽及び前記第二の高圧スプレ一手段を貫通し、
   かつ複数の汚れた物体をそれに沿って連続的に駆動し、
   かつその汚れた物体を縦方向に間隔をへだてた状態で保
   持するためのコンベア手段を包含していることを特徴と
   する特許請求の範囲第７項記載の装置。 αυ　前記第一の高圧スプレ一手段が、前洗浄槽と。 前洗浄槽中に取付けられたスプレートンネルであって複
   数のスプレーノズルを有する上記スプレートンネルと、
   洗浄液を上記前洗浄槽から上記液浸槽に供給する液体移
   送手段と、上記スプレートンネルに接続されてその間を
   流動連結する高圧ポンプであって、上記液浸槽から洗浄
   液を引き出し、その洗浄液を所定のレベルまで加圧し、
   かつ加圧した洗浄液を上記スプレーノズルに供給しそれ
   によって上記スプレーノズルがいくつかの洗浄液の高圧
   噴流を汚れた物体の表面に尚て、かつ洗浄液によって汚
   れた物体を機械的にかき落１７、その汚れた物体から汚
   れの一部を取除くようにし７た上記ポンプとから構成さ
   れることを特徴とする特許請求の範囲第７項記載の装置
   。 （Ｌり　　前記第一の高圧スプレ一手段が、前記液浸槽
   及び上記高圧ポンプ間に挿入されかつ洗浄液から汚れを
   取除くだめのフィルタ一手段を包含していることを特徴
   とする，特許請求の範囲第７項記載の装置。 （＋３１　　洗浄液が充填され、かつその端部の一方に
   設けた汚れた物体を入れるだめの入口部ともう一方の端
   部に設けた汚れた物体を出すための取出口、とが設けら
   れた液浸槽で、汚れた物体が上記液浸槽を通過する際に
   、洗浄液中に完全に浸されかつ上記洗浄液が上記の汚れ
   及び上記の汚れだ物体の表面に作用して、その汚れの一
   部を解放するようにした縦方向に延びた液浸槽と，洗浄
   液を汚れた物体の表面に直接噴霧して、その汚れの一部
   をその物体から解放しかつ取シ除くため入口部に隣接し
   て取付けられた第一の高圧スプレ一手段と，前記液浸槽
   中に取シ付けられ，槽中の洗浄液をかく拌するようにそ
   の槽内に対し噴霧するための手段であって、かく拌した
   洗浄液が汚れた物体の表面に作用して、その汚れた物体
   が上記液浸槽中を通過する際に、汚れの部分を更に解放
   し、かつ上記汚れた物体から解放された他の汚れの一部
   を取除くようにした第二の高圧スプレ一手段と、上記の
   汚れた物体が上記液浸槽を通過した後、その汚れた物体
   の表面にすすぎ液を直接噴霧することによって、のこり
   の汚れ及び上記物体に付着した洗浄液をそこから取除く
   ようにした前記取出口に隣接して取付けられた第三の高
   圧スプレ一手段と、汚れた物体を、上記第一の高圧手段
   、上記入口部。 上記液浸槽、上記取出口及び上記第三の高圧手段を通し
   て序々に移動させる移送手段、と前記洗浄液を所定の温
   度まで加熱しかつその洗浄液を所定の温度に保持するた
   めの手段とからなる洗浄液及びすすぎ液を用いて汚れた
   物体から汚れを取除く洗浄装置。 Ｑ４）　　前記移送手段が前記第一の高圧スプレ一手段
   と、前記液浸槽及び前記第二の高圧スプレ一手段中に取
   付けられて、いくつかの汚れた物体をそれを通して連続
   的に案内するための案内手段とを包含していることを特
   徴とする特許請求の範囲第７項記載の装置。 （１５１前記液浸槽が前記第一の高圧スプレ一手段及び
   前記第三の高圧スプレ一手段の下側の平面内に配置され
   ており、かつ更に、前記移送手段が、まず最初に上記第
   一の高圧スプレ一手段を通して水平に延び、次に上記液
   浸槽の最初の部分を通して傾斜した平面に沿って下降し
   、次に上記液浸槽の最後の中間部分を通して水平に延び
   かつ最後に上記出口を通して水平に延びており、それに
   よって、汚れた物体が上記液浸槽を通過する際に、その
   先導及び後方面から出して隣り合った汚れた物体の先導
   及び後方面間に角度変位が存在することＫよりかく拌さ
   れた液体によるかき落し作用が増大されるようになって
   いることを特徴とする特許請求の範囲第７項記載の装置
   。 （ＩＱ　　汚れた物体のところにおいて前記第一の高圧
   スプレ一手段によって噴霧された洗浄液が、前記液浸槽
   中に流入することができるように、前記第一の高圧スプ
   レ一手段と前記液浸槽との間に設は１１− られた流体通路を包含していることを特徴とする特許請
   求の範囲第１５項記載の装置。 卸　前記第二の高圧スプレ一手段が、前記液浸槽中に取
   付けられた高圧液体分配器であって、スプレー用の孔を
   有する少くとも一個の流体通路を有する上記分配器と、
   上記液浸槽から洗浄液を引き出し、液体を加圧し、その
   加圧液をスプレートンネルの上記通路に供給し、それに
   よって上記加圧された液体が上記孔を通して上記液浸槽
   中の液体をかく拌する複数の高圧噴流として流出させる
   ようにした、高圧ポンプを有することを特徴とする特許
   請求の範囲第７項記載の装置。 ａ枠　前記第二の高圧スプレ一手段が、汚れた物体から
   取除かれた汚れを前記洗浄液から取除くため、前記洗浄
   槽及び前記高圧ポンプの間に取付けられたフィルターを
   包含していることを特徴とする特許請求の範囲第１７項
   記載の装置。 翰　前記各々の孔が、上記入口部から少くとも上記の所
   定距離だけ離れたところに配置されており、更に、前記
   高圧ポンプが上記入口部及び上記孔の１２− 間で前記液浸槽の一部から洗浄液を引き出すようになっ
   ていることを特徴とする特許請求の範囲第１７項記載の
   装置。 翰　前記第二のスプレ一手段が、前記すすぎ槽中に取付
   けられ、かついくつかのスプレーノズルを有するすすぎ
   槽及び前記スプレートンネル用のすすぎ液加圧供給部を
   包含していることを特徴とする特許請求の範囲第７項記
   載の装置。 Ｑυ　第一のスプレートンネルと、汚れた物体が上記の
   第一スプレートンネルを通過する際に洗浄液と共に汚れ
   た物体に機械的にかき落しをするため、上記の第一スプ
   レートンネル中に設けられた少くとも一つのスプレーノ
   ズルと、加圧された洗浄液を上記第一のスプレートンネ
   ルの上記スプレーノズルに供給する第一の液体供給手段
   と、二つの端部を有し、かつその端部の一方において上
   記第一のスプレートンネルに連結しかつそこから延びる
   縦方向の液浸槽であって、汚れた物体赤上記液浸槽を通
   過する際に、その汚れた物体を浸すための洗浄液を含む
   上記液浸槽、上記液浸槽に沿って上記第一のスプレート
   ンネルから離れたところに配置されたかく拌部材と、第
   一のスプレートンネルから所定の距離れた液浸槽の一部
   にある洗浄液をかく拌するため、上記かく拌部材上に設
   けられた少くとも一つのスプレーノズルと、加圧洗浄液
   を上記かく拌部材の上記スプレーノズルに供給する第二
   の液体供給手段と、液浸部材の他方の端部と連結された
   第二のスプレートンネルと、汚れた物体が第二のスプレ
   ートンネルを通過する際に、汚れた物体にそ＼ぎ液によ
   ってかき落しを行うため、上記第二のスプレートンネル
   中に設けられた少くとも一つのスプレーノズルと、加圧
   されたゆすぎ液を上記第二のスプレートンネルの上記ス
   プレーに供給するための第三の液体供給手段と、汚れた
   物体を上記第一のスプレートンネル、上記液浸槽。 及び−Ｆ記第二のスプレートンネルを通して連続的に移
   動させるだめの移送手段とからなる洗浄液及びす＼ぎ液
   を用いた汚れた物体から汚れを取除くための洗浄装置。 （２邊　　前記の第一スプレートンネル及び前記の第ニ
   スプレートンネルが液浸槽上の平面中に配置されており
   、上記の第一スプレートンネル中の洗浄液が上記第一の
   スプレートンネルから上記液浸槽中に流動できるように
   なっていることを特徴とする特許請求の範囲第２１項記
   載の装置。 （ハ）前記第一の液体供給手段が前記液浸槽の一方の端
   部及びかく押部材間において液浸槽の一部に連結された
   高圧ポンプを包含しておシ、その高圧ポンプは上記液浸
   槽の上記部分から洗浄液を引き出し、上記洗浄液を所定
   の圧力レベルまで加圧し、上記加圧された液体を上記第
   一のスプレートンネルの上記ノズルに供給するようにな
   っていることを特徴とする。ｔ￥ｉ許請求の範囲第２２
   項記載の装置０ （財）前記液浸槽及び前記高圧ポンプ間に挿入され、汚
   れた物体から取除かれた汚れの少くとも一部を、洗浄液
   から取除くようにするフィルターをさらに包含している
   ことを特徴とする特許請求の範囲第２２項記載の装置。 Ｑ５）第一のスプレートンネルと、汚れた物体が上記の
   第一スプレートンネルを通過する際に洗浄液と共に汚れ
   た物体に機械的にかき落しをするため。 上記の第一スプレートンネル中に設けられた少くとも一
   つのスプレーノズルと、加圧された洗浄液を上記第一の
   スプレートンネルの上記スプレーノズルに供給する第一
   の流体供給手段と、二つの端部を有し、かつその端部の
   一方において上記第一のスプレートンネルに連結しかつ
   そこから延びる縦方向の液浸槽であって、汚れを物体が
   上記液浸槽を通過する際に、その汚れた物体を浸すため
   の洗浄液を上記液浸槽、上記液浸槽に沿って上記第一の
   スプレートンネルから離れたところに配置されたかく拌
   部材と、第一のスプレートンネルから所定の距離能れた
   液浸槽の一部にある洗浄液をかく拌するため、上記かく
   拌部材上に設けられた少くとも一つのスプレーノズルと
   、加圧洗浄液を上記かく拌部材の上記スプレーノズルに
   供給する第二の液体供給手段、液浸部材の他方の端部と
   連結された第二のスプレートンネルと、汚れた物体が第
   二のスプレートンネルを通過する際に、汚れたｍそ＼ぎ
   液によってかき落しを行うため、上記第二のスプレート
   ンネル中に設けられた少くとも一つのスプレーノズルと
   、加圧されたゆすぎ液を上記第二のスプレートンネルの
   上記スプレーに供給するための第三の液体供給手段と、
   汚れた物体を上記第一のスプレートンネル、上記液浸槽
   、及び上記第二のスプレートンネルを通して連続的に移
   動させるための移送手段と、前記洗浄液の温度を所定の
   レベルまで高め、かつ上記洗浄液の温度を上記所定のレ
   ベルに保持するため、上記液浸槽中に設けられた液体加
   熱手段とからなる洗浄装置。 （ハ）前記第二の液体供給手段が、一方の端部及びかく
   押装置間において前記液浸槽の一部と連結した高圧ポン
   プから成シ、上記高圧ポンプは、上記液浸槽の上記部分
   から洗浄液を引き出し、洗浄液を所定の圧力レベルまで
   加圧し、かつ加圧した液体を上記ノズルに供給すること
   を特徴とする特許請求の範囲第２１項記載の装置。 （財）第一のスプレートンネルと、汚れた物体が上記の
   第一スプレートンネルを通過する際に洗浄液と共に汚れ
   た物体に機械的にかき落しをするため、上記の第一スプ
   レートンネル中に設けられた少くとも一つのスプレーノ
   ズルと、加圧された洗浄液を上記第一のスプレートンネ
   ルの−Ｅ記ススプレーノズル供給する第一の液体供給手
   段と、二つの端部を有し、かつその端部の一方において
   上記第一のスプレートンネルに連結しかつそこから延び
   る縦方向の液浸槽であって、汚れた物体が上記液浸槽を
   通過する際に、その汚れた物体を浸すための洗浄液を含
   む上記液浸槽、上記液浸槽に沿って上記第一のスプレー
   トンネルから離れたところに配置されたかく押部材と、
   第一のスプレートンネルから所定の距離離れた液浸槽の
   一部にある洗浄液をかく拌するため、上記かく拌部材上
   に設けられた少くとも一つのスプレーノズルと、加圧洗
   浄液を上記かく押部材の上記スプレーノズルに供給する
   第二の液体供給手段、液浸部材の他方の端部と連結され
   た第二のスプレートンネルと、汚れた物体が第二のスプ
   レートンネルを通過する際に、汚れた物体にそ＼ぎ液に
   よってかき落しを行うため、上記第二のスプレートンネ
   ル中に設けられた少くトモ一つのスプレーノズルと、加
   ・圧されたゆすぎ液を上記第二のスプレートンネルの上
   記スプレーに供給するだめの第三の液体供給手段と、汚
   れた物体を上記第一のスプレートンネル、上記液浸槽及
   び上記第二のスプレートンネルを通して連続的に移動さ
   せるだめの移送手段と、前記液浸槽及び高圧ポンプ間に
   介挿され、汚れた物体から取除かれた汚れを洗浄液から
   取除くためのフィルタ一手段とからなる洗浄装置。 （ハ）第一のスプレートンネルと、汚れた物体が上記の
   第一スプレートンネルを通過する際に洗浄液と共に汚れ
   た物体に機械的にかき落しをするため、上記の第一スプ
   レートンネル中に設けられた少くとも一つのスプレーノ
   ズルと、加圧された洗浄液を上記第一のスプレートンネ
   ルの上記スプレーノズルに供給する第一の流体供給手段
   と、二つの端部を有し、かつその端部の一方において上
   記第一のスプレートンネルに連結しかつそこから延びる
   縦方向の液浸槽であって、汚れた物体が上記液浸１９− 檜を通過する際に、その汚れた物体を浸すための洗浄液
   を含む上記液浸槽、上記液浸槽に沿って上記第一のスプ
   レートンネルから離れたところに配置されたかく押部材
   と、第一のスプレートンネルから所定の距離離れた液浸
   槽の一部にある洗浄液をかく拌するため、上記かく拌部
   材上に設けられた少くとも一つのスプレーノズルと、加
   圧洗浄液を上記かく押部材の上記スプレーノズルに供給
   する第二の液体供給手段、液浸部材の他方の端部と連結
   された第二のスプレートンネルと、汚れた物体が第二の
   スプレートンネルを通過する際に、汚れた物体にそ＼ぎ
   液によってかき落しを行うため、上記第二のスプレート
   ンネル中に設けられた少くとも一つのスプレーノズルと
   、加圧されたゆすぎ液を上記第二のスプレートンネルの
   上記スプレーに供給するだめの第三の液体供給手段と、
   汚れた物体を上記第一のスプレートンネル、上記液浸槽
   。 及び上記第二のスプレートンネルを通して連続的に移動
   させるための移送手段と、前記第二のスプレ一手段に供
   給されるそ＼ぎ液の温度を所定のし＝２０− ベルまで高めるだめの液体加熱手段とからなる洗浄装置
   。 （ハ）前記移送手段が、前記スプレートンネル、前記液
   浸槽、前記第二のスプレートンネルを貫通して延び、か
   つ汚れだ物体をそれに沿って連続的に駆動し、かつ汚れ
   た物体を縦方向に間隔をへだてて保持するコンベア手段
   及び上記第一のスプレートンネル、上記液浸槽及び上記
   第二のスプレートンネル中に取付けられて汚れた物体を
   それを通して案内する案内手段を含んでいることを特徴
   とする特許請求の範囲第２１項記載の装置。 （至）上記の所定距離が液浸槽の長さの５であることを
   特徴とする特許請求の範囲第２１項記載の装置。 Ｃ１１）　　前記かく押部材が、前記液浸槽中に取付け
   られた高圧液体分配手段を包含しており、上記液体分配
   手段が各々少くとも一個のスプレーノズルを有するいく
   つかの液体通路を有していることを特徴とする特許請求
   の範囲第２１項記載の装置。