JPS5969924A - マ−ク位置検出装置 - Google Patents

マ−ク位置検出装置

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Publication number
JPS5969924A
JPS5969924A JP57180912A JP18091282A JPS5969924A JP S5969924 A JPS5969924 A JP S5969924A JP 57180912 A JP57180912 A JP 57180912A JP 18091282 A JP18091282 A JP 18091282A JP S5969924 A JPS5969924 A JP S5969924A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mark
moment
mark signal
center position
signal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP57180912A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideo Kusakabe
秀雄 日下部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP57180912A priority Critical patent/JPS5969924A/ja
Publication of JPS5969924A publication Critical patent/JPS5969924A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/304—Controlling tubes by information coming from the objects or from the beam, e.g. correction signals
    • H01J37/3045—Object or beam position registration

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、位置合わせ用マークを電子ビームで走査して
マークの中心位置を検出するマーク位置検出装置の改良
に関する。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
近時、半導体ウェハやマスク幕板等の試料に微細パター
ンを形成するものとして各種の電子ビーム露光装置が用
いられているが、この装置では精度良い露光を可能とす
るだめ試料の高精託な位置合わせが必要となる。このた
め、試料、カセット或いは試料台等に位INf合わせ用
マークを設け、このマークを電子ビームで走査して得ら
れる反射電子、2次電子或いは吸収電子等に基づいてマ
ーク位置を検出し、これによシ試料の位置合わせを行う
ようにしている。
ところで、上記マーク位置の検出では、試料のダメージ
を少なくするため、できるだけ弱い電子ビームを少ない
走査回数とすることが望まれる。弱い′NL子ビームで
マークを走査した場合、マーク信号のSN比は劣化する
ことになシ、マーク位置検出精g51の低下を招く。マ
ーク位1面検出梢匠の向上をはかるため、マツチドフィ
ルタを用い上記マーク信号のSN比を高める方法が考え
られるが、この場合マツチドフィルタの演算時間が多大
なものとなシ、実用的でない。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、マーク位it検出精度の向上をはかり
得、かつ検出時間の短イ・箔化をはかり寿るマーク位置
検出装置を提供することにある。
〔発明の概要〕
本発明の骨子は、マンチドフイル′り等の演算領域を制
限し、演算時間を短縮することにある。
すなわち本発明は、位置検出用マークを電子ビームで走
汗することにより得られるマーク信号に基づいてマーク
の中心位!醒を検出するマーク位置検出装器において、
1次モーメント計算号の大略中心位置を検出し、マツチ
ドフィルタ及び1次モーメント計算回路等からなる第2
の検出手段によシ、上記マツチドフィルタの演算領域を
マーク信号の大略中心位置前後に設定して、マーク信号
の中心位置を検出するようにしたものである。
〔発明の効果〕
本発明によれば、第1の検出手段ではマーク信号の中心
位置を租硝就で検出すればよいので、その検出時間は極
めてケσい。さらに、第2の検出手段ではマツチドフィ
ルタ等の演算領域がマーク信号の中心前後に制限される
ので、演算時間は比較的短くて済む。しだがって、マー
クの中心位置を高梢度に、かつ短時間に検出することが
できる。また、マツチドフィルタ等を用いることから、
試料上で走査する゛電子ビームの強度を弱くできるので
、マーク位置検出に係わる試料のダメージをイ祇力少な
くすることができる。
〔発明の実施しlU) 第1図は本発明の一実施しリの概略構成を示すブロック
図である。図中1は位置合わせ用マークであり、このマ
ーク1を電子ビーム2で走査したときに得られるマーク
lからの反射電子は、反射電子検出器、ヲにて検出され
る。ここで、反射電子検出器3の検出信号(マーク信号
)4は、第2図に示す如く電子ビーム2がマーク1を横
切るときその振幅が太きいものと々る。マーク信号4は
アナログ・デジタル・コンバータ(以下A/Dと1略記
する)5を介して記憶回路6及び1次モーメント計算回
路7に供給される。記憶回路6はアドレスコントロール
8の動作により、′電子ビーム20走介と同期してA/
D 5の変換出力を順次記憶する。1次モーメント計算
回路7は乗算器、累積加算器及び除算器等からなるもの
で、A/D5の変換出力の1欠モーメン)m。′を計算
する。記憶回路6に記憶された情報は、演算回路9に送
出される。演算回路9はマツチドフィルタからなるもの
で、その演算領域は上記1次モーメン)m。の前後に設
定されている。
演算回路9を介してSN比を向上された信号は1次モー
メント計算回路10に供給される。そして、この1次モ
ーメント計算回路10の計算結果がマーク信号4の中心
位置を示すものとなっている。
このように構成された本装置の作用についてm13図(
a)〜(C)を参照して説明する。
捷ず 8+! 3図(a)に示す如きマーク1を電子ビ
ームで走査したときに得られるマーク信号4は同図(b
)に示す如くなり、このマーク信号40所定レベル八よ
り大きい部分の1次モーメントmo′が1次モーメント
計算回路7にで求められる。この計算は短時間で行われ
、1次モーメントmo′はマーク信号40大略中心位置
(粗マーク中心位置)を示すものとなる。演算回路9で
は記憶回路6の内容から次の演算が行われる。
S O(I> =Σ8i(工J)・5i(I+J)  
−・・・・・・(1)−0 ここで、So  は演算回路9の出力、Slは記1意回
路6の内容でマーク信号4のデジタル変換値Nは記憶回
路6の最終アドレスである。上記第1式のIは前記粗マ
ーク中心位置m。′の整数値をMo2の整数値をMo’
とすれば Mo’lll<I≦Mo’ 十n   ・曲曲曲・曲f
21(nは適当な整数) と定義される。したがって、演算回路9ではマツチドフ
ィルタの演算領域を上記第2式で示される範囲に設定し
て、前記第1式の演算が行われる。っ1す、マツチドフ
ィルタの演算領域が前記租マーク中心立471 m。2
前後の狭い範囲に制限されるので、演算に要する時間は
比較的短いものとなる。演算回路9VCよシSN比が高
められた信号は第3図(C)に示す如くなる。そして、
この信号の所定レベルBよシ大きい部分の1次モーメン
)m6 が1次モーメント計算回路1゜により求められ
る。この計算は短時間で行われ、かつ上記信号がSN比
の高いものであるため、上記1次モーメン)m。はマー
ク信号4の正確な中心位置を示すものとなる。
なお、マーク1の中心位置を検出するには、上述した操
作を行いマーク1のY方向中心線を求め、同様に゛電子
ビームの少なくとも2回のY方向走をで上述した操作を
行いマーク1のX方向中心線を求め、これらの中心線の
交点を求めればよい。
かくして本実施例によれば、1次モーメント計算回路7
によシマーク信号4の中心位1dを粗精度がj宋りイ食
出することができ、この検出された柑マーク中心位置に
基づいて演算回路9及び1次モーメント計算回路10に
よりマーク信号4の中心位置を高精度に、かつ比較的短
時間で検出することができる。すなわち、演算回路9の
マツチドフィルタの演算領域を1次モーメント計算回路
′7により求められた粗マーク位置の前後に制限するこ
とによって、演算に委する時間を極めて短くすることが
できる。したがって、マーク1の中心位置検出を高精度
で、かつ短時間で行うことが可能となる。
なお、本発明は上水した実用例に限定されるものではな
く、その要旨を逸脱しない範囲で、捗々変形して実施す
ることができる。例えば、前記第1の検出手段としての
1次モーメント計算回路の代りには、前記デジタル化さ
れたマーク信号の中心位置を短時間で検出できるもので
あればよい。丑だ、前記反射電子検出器の代シには、マ
ークを配子ビームで走査したと@VC得られる吸収電子
或いは2次電子を検出するものを用いてもよい。さらに
、前記マークはL字形に限るものでは表<、十字形のも
のであってもよい。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の(概略構成を示すブロック
図、第2図は上記実711!i例に係わる電子ビーム走
査とマーク信号波形との関係を示す模式図、第3図(a
)〜(C)は上記実施例の作用を説明するだめの模式図
である。 1・・・位置合わせ用マーク、2・・・電子ビーム、3
・・・反射電子検出器、4・・・マーク信号、5・・・
アナログ・デジタル・コンバータ(A7D)、e・・・
記憶面路、7.10・・・1次モーメント計算回路、8
・・・アドレスコントロール、9・・・演n 回路。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)位置検出用マークを電子ビームで走査し該走査に
    よる反射電子、2次電子若しくは吸収電子を検出してマ
    ーク信号を得る手段と、上記マーク信号の中心位置を粗
    精度で速く検出する第1の検出手段と、この手段によシ
    検出されたマーク信号の大略中心位置に基づき上記マー
    ク信号の中心位置を高精度に検出する第2の検出手段と
    を具備してなることを特徴とするマーク位置検出装置。
  2. (2)前記第1の検出手段は前記マーク信号の1次モー
    メントを検出する第1の1次モーメント計算回路からな
    るものであシ、前記第2の検出手段は上記検出された1
    次モーメントの前後にその演算領域を設定されたマツチ
    ドフィルタ、及びこのマツチドフィルタを介したマーク
    信号の1次モーメントを検出する第2の1次モーメント
    計算回路からなるものであることを特徴とする特許請求
    の郵囲第1項記載のマーク位置検出装置。
JP57180912A 1982-10-15 1982-10-15 マ−ク位置検出装置 Pending JPS5969924A (ja)

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JP57180912A JPS5969924A (ja) 1982-10-15 1982-10-15 マ−ク位置検出装置

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JP57180912A JPS5969924A (ja) 1982-10-15 1982-10-15 マ−ク位置検出装置

Publications (1)

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JPS5969924A true JPS5969924A (ja) 1984-04-20

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ID=16091462

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JP57180912A Pending JPS5969924A (ja) 1982-10-15 1982-10-15 マ−ク位置検出装置

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