JPS5972152A - マスタスライス方式集積回路 - Google Patents

マスタスライス方式集積回路

Info

Publication number
JPS5972152A
JPS5972152A JP57182316A JP18231682A JPS5972152A JP S5972152 A JPS5972152 A JP S5972152A JP 57182316 A JP57182316 A JP 57182316A JP 18231682 A JP18231682 A JP 18231682A JP S5972152 A JPS5972152 A JP S5972152A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
power supply
supply
wirings
integrated circuit
chip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP57182316A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsutomu Hatano
波田野 勤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp, Nippon Electric Co Ltd filed Critical NEC Corp
Priority to JP57182316A priority Critical patent/JPS5972152A/ja
Publication of JPS5972152A publication Critical patent/JPS5972152A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D84/00Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
    • H10D84/90Masterslice integrated circuits

Landscapes

  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、マスタスライス方式集積回路にかがシ、特に
マスタスライス方式集積回路の改良に関するものである
一般に、マスタスライス方式集積回路を含む半導体集積
回路においては、電源に重畳する高周波ノイズ(以下、
電源ノイズと呼ぶ)が半導体集積回路チップ(以下チッ
プと呼ぶ)内の論理誤動作の原因になる場合が多い。
上記電源ノイズを防ぐためには1例えば第1図に示すよ
うにコンデンサCe半導体集積回路チップ1の外で、電
源間(例えば集積回路に電源を供給する電源装置の電源
端子とアース端子間)に挿入し電源ノイズの高周波成分
を分流してチップ内部の誤動作を抑えるという処置がな
されることが多い。なお第1図において2と3は電源に
つながるべき外付配線である。しかし上記方法ではチッ
プ内部のある箇所に位置する素子の電気的動作に起因す
る電源電位の変動が、他の箇所に位置する素子に対する
影響を防止する対策となっていない。
本発明は、上記問題点に対処してなされたもので、その
目的は電源ノイズの緩和に対する効果を有スる1スタス
ライス方式集積回路を提供するにある。
本発明によるマスタスライス方式集積回路は。
任意の論理機能全有する回路単位全1チツプ上に複数個
備え前記回路単位間の電気的接続を行なうことによって
所望の論理機能を有するようにしたマスタスライス方式
集積回路において、前記回路単位各々に電源を供給する
複数本の電源配線と、前記回路単位各々に前記電源配線
とは異なる電位の電源を供給する複数本の電源配線とを
互いに異なる層に直交する方向に設け、かつ前記2種の
電源配線の交差部にコンデンサを設けたことを特徴とす
るマスタスライス方式集積回路にある。
以下、実施例に基き本発明の詳細な説明する。
添付図面に示す例について説明する。
第2図は、本発明に依るマスタスライス方式集積回路の
構成金示す説明図である。第2図で鎖線で囲まれた領域
が1つのセルAljを構成し、チップ上に行列状に配列
されている。電源がパッド4及び5から各々櫛目状の電
源配線6(実線)及び7(破線)に延びて、チップ上の
すべてのセルに電源の供給がなされる様に敷設されてい
る。ここで、電源配線6と7は、互に層間絶縁膜によっ
て絶縁され、各セルに異なる電位の電源を供給するもの
とする。本発明は、第2図における電源配線6と7の交
差部にコンデンサを設けることにょフ、電源ノイズの防
止に役立たせようとするものである。第3図は、第2図
のff1s分拡大図であ夛、同一符号は@2図と同様の
ものを表わす。斜線部8がコンデンサ部を表わし、上記
コンデンサはチップ内部の素子の電気的動作に起因する
電源ノイズの高周波成分をチップ内部で分流して、セル
の論理誤動作を防ぐ効果音もつ。即ち、上記コンデンサ
はチップ内部における電源電位の安定化の役割を果たす
。第3図においては、コンデンサ容量を大きくとるため
に、7の電源配線を、電源配線6の交差部で若干太くし
ている。
次に1本発明に用いられるコンデンサの構造例全第4図
に示す。第4図で、9は半導体基板、10は半導体基板
9と、第1の配線層11とを絶縁するシリコン酸化膜、
12は第1の配線層11と第2の配線層13とを絶縁す
るシリコン酸化膜である。14は通常のフォトリソグラ
フィ技術でパターニングを行ない、エツチングして厚さ
500λ程度に薄くしたシリコン酸化膜である。
一般にマスタスライス方式集積回路は、コンビーータを
用いた自動デザインシステムでセルの自動配置、及びセ
ル間の自動配線全行なっている。
このため、如何なるセルの自動配置に対しても回路の信
頼性を満足するために、割合太い電源配線幅を必要とす
るので、第2図の構成をもつマスタスライス集積回路で
は異種電源配線の交差部に割合大きい面積をとることが
でき、第4図の例の如きコンデンサの容量は、比較的大
きくとることができる。
以上の説明でわかるように、本発明によればマスタスラ
イス方式集積回路の異種重罪配線を、互いに異なる層に
、互いに直交する方向に敷設し、かつ上記異種電源配線
の交差部にコンデンサを設けることによって、電源に重
畳する高周波成分を分流せしめ、よって電源ノイズの緩
和に効果を有するマスタスライス方式集積回路を得るこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は電源ノイズに対し従来用いられた緩和法を示す
回路図%第2図は本発明によるマスタスライス方式集積
回路の構成を示す説明図%@3図は第2図の部分拡大図
、第4図は本発明で用いらレルコンデンサの断面図を示
す。 1・・・・・・半導体集積回路チップ、2.3・川・・
外付けの電源配線、4,5・・・・・・電源パッド、6
.7・・・・・・電源配線、8・・・・・・コンデンサ
、9・・・・・・半導体基板、10,12.14・・・
・・シ・ノコン酸化膜、11゜13・・・・・・電源配
線、C・・・・・・コンデンサsA”J・・・・・・セ
ル。 第 7 図        Z 4霞 篤 、3 図 グ 篤 ? 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 任意の論理機能を有する回路単位を1チ、ブ上に複数個
    備え、前記回路単位間の電気的接続を行なうことによっ
    て所望の論理機能を有するようにしたマスタスライス方
    式集積回路において、前記回路単位各々に電源を供給す
    る複数本の電源配線と、前記回路単位各々に前記電源配
    線とは異なる電位の電源を供給する複数本の電源配線と
    を、互いに異なる層に直交する方向に設け、かつ前記2
    種の電源配線の交差部にコンデンサを設けたことを特徴
    とするマスタスライス方式集積回路。
JP57182316A 1982-10-18 1982-10-18 マスタスライス方式集積回路 Pending JPS5972152A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57182316A JPS5972152A (ja) 1982-10-18 1982-10-18 マスタスライス方式集積回路

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57182316A JPS5972152A (ja) 1982-10-18 1982-10-18 マスタスライス方式集積回路

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS5972152A true JPS5972152A (ja) 1984-04-24

Family

ID=16116171

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57182316A Pending JPS5972152A (ja) 1982-10-18 1982-10-18 マスタスライス方式集積回路

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5972152A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63158851A (ja) * 1986-12-22 1988-07-01 Nec Corp 半導体集積回路装置
JPS63232454A (ja) * 1987-03-20 1988-09-28 Fujitsu Ltd 半導体集積回路
JPH03283459A (ja) * 1990-03-30 1991-12-13 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置
WO2000067324A1 (fr) * 1999-04-30 2000-11-09 Hitachi, Ltd. Circuit integre, son procede de fabrication, et procede de production d'un dessin de masque
JP2009218577A (ja) * 2008-02-15 2009-09-24 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 保護回路及びそれを有する表示装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63158851A (ja) * 1986-12-22 1988-07-01 Nec Corp 半導体集積回路装置
JPS63232454A (ja) * 1987-03-20 1988-09-28 Fujitsu Ltd 半導体集積回路
JPH03283459A (ja) * 1990-03-30 1991-12-13 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置
WO2000067324A1 (fr) * 1999-04-30 2000-11-09 Hitachi, Ltd. Circuit integre, son procede de fabrication, et procede de production d'un dessin de masque
US7030030B2 (en) 1999-04-30 2006-04-18 Renasas Technology Corp. Method of manufacturing a semiconductor integrated circuit device having a plurality of wiring layers and mask-pattern generation method
JP2009218577A (ja) * 2008-02-15 2009-09-24 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 保護回路及びそれを有する表示装置
US8541785B2 (en) 2008-02-15 2013-09-24 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW577152B (en) Semiconductor integrated circuit device
US5903050A (en) Semiconductor package having capacitive extension spokes and method for making the same
US6346743B1 (en) Embedded capacitor assembly in a package
KR101024241B1 (ko) 반도체 장치 및 그를 포함하는 반도체 패키지
JPH08250643A (ja) チップ間静電放電防止マルチチップ半導体構造およびその製造方法
JP2002190568A (ja) 半導体チップ,半導体チップ群及びマルチチップモジュール
US9478525B2 (en) Semiconductor device
US6476459B2 (en) Semiconductor integrated circuit device with capacitor formed under bonding pad
JP2012019063A (ja) 半導体装置
JPS5854661A (ja) 多層セラミツク半導体パツケ−ジ
JPS5972152A (ja) マスタスライス方式集積回路
JPH01225137A (ja) 半導体集積回路装置
US6563192B1 (en) Semiconductor die with integral decoupling capacitor
JP7730046B2 (ja) 半導体集積回路装置
US6285070B1 (en) Method of forming semiconductor die with integral decoupling capacitor
JPH01239964A (ja) 半導体集積回路の電源配線レイアウト法
JPH01185943A (ja) 半導体集積回路装置
JPH025550A (ja) 半導体装置
JPS6070742A (ja) マスタ・スライス型半導体装置
KR100691493B1 (ko) 저항 필터를 이용한 전원 잡음 제거 장치
JPH09307067A (ja) セミカスタム半導体集積回路装置
JP3075858B2 (ja) 半導体集積回路装置
JPH1187520A (ja) 半導体集積回路装置
JP2960242B2 (ja) 集積回路装置
JP2778235B2 (ja) 半導体装置