JPS5976891A - 金合金の製造方法 - Google Patents

金合金の製造方法

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JPS5976891A
JPS5976891A JP18556882A JP18556882A JPS5976891A JP S5976891 A JPS5976891 A JP S5976891A JP 18556882 A JP18556882 A JP 18556882A JP 18556882 A JP18556882 A JP 18556882A JP S5976891 A JPS5976891 A JP S5976891A
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gold
silver
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copper
plating
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JP18556882A
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Eiji Togawa
戸川 栄司
Mitsutaka Nishikawa
西川 光貴
Masaki Kasai
笠井 昌己
Shigeo Toda
茂生 戸田
Yoshiyuki Miyasaka
宮坂 善之
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HAMASAWA KOGYO KK
Seiko Epson Corp
Suwa Seikosha KK
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HAMASAWA KOGYO KK
Seiko Epson Corp
Suwa Seikosha KK
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  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、メッキと熱拡散によって形成する金・銀・銅
合金に関するものである。(以下、金はAu。
銀はAg、 @けOu  と表現する。)従来り、!7
、Au 合金メッキは数多く開発・実用化されている。
Au が95%以上のメッキを除くと、Au 合金メッ
キ浴としてけAu−Ag、Au−(’3u、Au−Zu
、Au−Pd、Au−Cd等の2元合金メツキおよびこ
れらを組合わせた5元以上の合金が実用されている。
一方、溶解法ではAu−Ag−1’3u 合金が最も一
般的であシ、色調・耐食性等の機能を備えでいるため多
用さhている。例を18カラツトにあげると、Au75
%、Ag  12.5%、Cu12.5%のようにAg
とnuが同等かそれに近い比率で配合されているものが
多い。
しかしながら、メッキにおいてはA u −A g −
Ouが同時に、しかも希望する比率で析出するような浴
U更用さilていない。一般的にはAu−Ag、Au−
Ouのいずれかに鴫し、AgとCuを自由に析出させる
ことは楠めて困難であった。一部にはそのような浴も開
発さJlているがAgと(3uの比率は制限され、しか
も浴は安定性に乏しく実用的ではなかった。これ#′i
Au、hg、Ou の析出電位。
特KAuとCuの析出電位が大きく離れているため同時
析出が困難であり、未だに両者の析出−位を近づけるよ
うな安定した錯体が発見されていなンλめである。
本発明は上記の欠点を克服して、メッキ法によって希望
する組成のAu−Ag−0u 合金の製造方法を与える
ものである。
前述したように、Au−Ag合金メッキとAu−0u合
金メッキはすでに実用され又おシ、一般的にはともにア
ルカリ複シアン化合物によってつくられている。両者の
違いは析出電位とこれを左右する錯イオン形成化合物で
ある。
本発明者vJ、弱アルカリ炭酸化合物をP[(緩衝剤と
する低遊離シアンの、Au−Ag−cu を含むアルカ
リ複シアン化物からなるメッキ液が、ある電流密度を境
に、これより低電流密度側ではAu−Agで95%以上
の電流密度によってほとんど組成の変化のない合金析出
物を、これより高電流密度側ではAu−Cuで95チ以
上のN流密度によって続とんど組成の変化のない合金析
出物を形成することを発見した。
Au−Ag、Au−cu合金析出物はそれぞれわずかに
nu、Agを含有しているが、ここでは便宜上A u 
 A g + A u  Ou @金と記す。
Au−Ag、Au−cuの合釜組成はメッキ液中のAu
、 Ag、 (3uの綿度、PH,遊離シアンおよび 
 1温度などによって決定されるが、これらの条件を設
定することによって、Au−Ag、Au−(’!u合金
全下記のようにメッキし、熱拡散を行なうことによって
希望する組成のA u、 −A g −Ou  合金を
得ることができる。
<Au−Ag合金〉・・・・・・低電流密度A u ・
A%、Ag・ B%、0u−0% (A十B≧95)比
重D(g/i)、メッキ厚・・・E(μ)(Au−Ou
合余〉・・・・・・高電流密度A u ・F%、  O
u −G % 、 A g −H%  (F十G≧゛9
5)比重工(g、/cA)、メッキ厚・・・J(μ)く
熱拡散後のAu、 Ag、 nu の組成〉熱拡散後に
希望する組成のAu−Ag−0u 合金をイ(するため
には、Au−Ag、Au−0u合金は交互に。
それぞれある)vみでメンキされる。
Au−Age:Au−0uの厚みの比けそノLそれの餌
成と、熱拡散後に得ようとする合金組成1/rjつて決
定されるが、−J−の厚みは0.1μ以上が望ましい。
これは、メッキが低電流密度と高に流密度で交互に行な
われる念め、メッキ析出組成が安定化するために必要な
厚さである。0.1μ以上の上限については、熱拡散の
温度・時間にょうで拡散厚みが決定さtLるため1本発
明では上限にこだわらない。寸た、熱拡散の温度は20
0℃以上Au−Ag−0u合金の融点以下であればよく
、基材Vこ上記のメッキ・拡散処理を行なう場合tこは
基材の軟化・温度・融点等を考慮して拡散温度・時間を
決定すtl、 (rJ’よい。
次に本発明に裏って希望するAu  Ag  l’)u
合金を得るための手順の1例を示す。
(11Au7Ag、Au−Cuの組成を決定する。すな
わち浴中のAu、Ag、 Cu の濃度、PH。
遊離シアン瞬かくはん速成を設定する。
(21Au−Ag、 Au−Duのメンキ)1−比をM
述のd1゛算弐にした。かって股足する。
に])低m流密度・高[fi密度でAu−Ag、Au−
Cuを交互に所定の厚み1・でメッキする。
(4)200℃以上で熱拡散処理を行なう。
次に、本発明の実施例を以下に示す。
実施例1 〈メッキ液組屏1〉 金(KAu(ON)2として)  6?、/を銀(KA
g(0N)aとして)0.52/を銅(K、、au(O
N >s Lして)551/lシアン化カリワム   
  5y7を 炭塵水素カリワム    10・0・yytPH9,0 温度    60℃ 以上に示すメッキ液は、第1図に示ずLうな屯流密度−
祈出組成を示す。この図かられかるようFC%0.5 
A/dnl  とo、 y s A/dn/の間でAu
−Ag合♀とAu  Ou合金に分離さytでいる4、
また、o、sA/aばと0.75 A/rlrlの間で
くり返しメッキを行なったが、かくはん速度のわずかな
違いで組成がA u −A gになったりAu−Cuに
なったりして極めて不安定でイ)シ、o、 s A/a
rr?以下と0.75A/dITI′以上のAu、 A
go Cuの組成の安定−性とは対照的である。この特
性を利用して、次のような条件でN1メッキした洋白上
にAl1−Ag、 Au −Cuメッキを交互に行なっ
た。
<Au−Agメッキ〉 電流密度     o、 s A/dnI″時   間
        5分 メッキ厚      1μ 析出組成     jl−u・・・84チAg・・・1
4チ Cu・・・2elb <Au−Cuメッキ〉 電流密度     1. s A/drI時   間 
       2分 メッキ厚     1.2 /7 析出組成     Au・・・62% Ag・・・  4% Cu−・・・54% 総メンキjワが50μのメッキ層が得られたところでこ
のメッキ層を600℃で2時間熱処理した結果、 Au
7.5%、Ag9%、0u18%5色8周N−■−4(
スイス時計工業規格による)のAu−Ag−Cu合金が
得られた。
実施例2 市販のAu−Ag−0u を含む合金メッキ液オーロベ
ースADG(M品名:日進化成(株))を用いたところ
第1図と11とんと同じm流密度−組byの特性が得ら
り、た。これを用いて以下のような条件でN1メッキし
た黄銅上に交互に300μメンキした。
<Au−Agメッキ〉 m流密変     0.5 A/d+7時   間  
      4分 メンキノリ     0.8μ 析出組成     l覧U・・・82%八g・・・16
% Cu・・・ 2% (Au−Cuメッキ〉 電流密度     1.2A/at/ 時   間        1分20秒メッキ厚   
  0・64μ 析出組成     Au・・・65チ Ag・・・ 5% Ou・・・50% メッキ後、基材の黄銅、Niメッキを剥離したのち、8
00℃で30分間拡散処理をした結果、Au ・75 
% 、 kg−12%、 0u−15%、色MlliI
 N −1−2の18力ラツトAuAg−0u合金が得
られた。
次に、本発明において得られる効果を以下に示す。
■ Au−Ag−Cu合金の組成が自由に制御できる。
このため、カラット9色調が従来のメッキに比べ幅広く
選択できる。
■ 熱拡散したA u −A g −Ou合金であるた
め、通常のメッキ皮嘆りり硬度が高い。
■−耐食性が良い。
Au−Cuメッキは合金てはなく共析メッキであると言
われているが、本発明では熱拡散をするので光全に合金
化しており、耐食性は冶釜的に製造した合金と同号にな
るため、Au−Ag、 Au−Cu単独のメッキよりも
耐食性が著しく向上する。
■ 18カラツトメツキとして用いられるAu−0u−
Cd合金メッキのように危険なCdを使用しないため、
公害対策上、作業上で安全になる。
(0色調1組成が自由であるため、従来の高カラット仕
土はメッキの代わりに低カラツト仕上げメッキにするこ
とができ、コストが低減される。
■ 電鋳に応用ずhす5例えiM8カラットの腕時計ケ
ースが、色調、硬興0組成(カラットを含む)を満足し
た形で実現できる。
以上に示すように1本発明による矢合金の!F?!造方
法は数多くの利点、応用を壱する1ζめ、実用上極めて
有用な発明である。
【図面の簡単な説明】
第1図は、笑施例1.2に示すメッキ液の電流密度とA
u−Ag−0u組成の関係を示ブ。 以   土

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. それぞれアルカリ複シアン化物からなる金・銀・銅合金
    メッキ浴において、省・銀で95チ以上を析出する低電
    流密度条件の合金メッキ層と金・銅で95チ以上を析出
    する高電流密度条件の合金メッキ層を交互にそれぞれ0
    .1ミクロン以上析出させ、しかるのちに熱拡散に1つ
    て金・銀、銅合金を形成したことを特徴とする金合金の
    製造方法。
JP18556882A 1982-10-22 1982-10-22 金合金の製造方法 Granted JPS5976891A (ja)

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JP18556882A JPS5976891A (ja) 1982-10-22 1982-10-22 金合金の製造方法

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JPS5976891A true JPS5976891A (ja) 1984-05-02
JPH0470394B2 JPH0470394B2 (ja) 1992-11-10

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0382788A (ja) * 1989-08-28 1991-04-08 Eagle Ind Co Ltd 多層電析層の形成方法
JP2006348383A (ja) * 2005-06-02 2006-12-28 Rohm & Haas Electronic Materials Llc 改善された金合金電解質
CN102896832A (zh) * 2011-07-28 2013-01-30 中国科学院金属研究所 一种功率模块金属化陶瓷基板及金属化方法
CN109396364A (zh) * 2018-12-11 2019-03-01 西安诺博尔稀贵金属材料有限公司 一种金银铜合金铸锭的制备方法

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