JPS5978559A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JPS5978559A
JPS5978559A JP57188720A JP18872082A JPS5978559A JP S5978559 A JPS5978559 A JP S5978559A JP 57188720 A JP57188720 A JP 57188720A JP 18872082 A JP18872082 A JP 18872082A JP S5978559 A JPS5978559 A JP S5978559A
Authority
JP
Japan
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emitter
transistor
width
circuit
transistors
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP57188720A
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English (en)
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JPH0425712B2 (ja
Inventor
Sadaji Tamura
田村 貞二
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by NEC Corp, Nippon Electric Co Ltd filed Critical NEC Corp
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Publication of JPS5978559A publication Critical patent/JPS5978559A/ja
Publication of JPH0425712B2 publication Critical patent/JPH0425712B2/ja
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    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
    • H10D84/60—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers characterised by the integration of at least one component covered by groups H10D10/00 or H10D18/00, e.g. integration of BJTs
    • H10D84/641—Combinations of only vertical BJTs
    • H10D84/642—Combinations of non-inverted vertical BJTs of the same conductivity type having different characteristics, e.g. Darlington transistors

Landscapes

  • Bipolar Transistors (AREA)
  • Bipolar Integrated Circuits (AREA)
  • Logic Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はエミッタ結合論理回路を用いた半導体集積回路
(以下IOと略称する)に関する。
エミッタ結合論理回路(EC,I、)は高速な応答が可
能であるため高速論理IOや高速メモIJ I Oに多
く用いられている。EOLで構成した論理ICの一例を
第1図に示すが、EOLllSi:基本的に、エミッタ
が結合され、スイッチ動作を行う複数のゲートφトラン
ジスタ(TG)と、ゲートの出力をレベルeシフトする
エミッタ・フォロア・トランジスタ(Tg ) 、それ
にTGとTBのそれぞれのエミッタにつながる定電流性
の回路より成る。トランジスタTcは定電流回路を構成
するためにある。この回路図でTFIOで示したトラン
ジスタはこのICの出力口゛路のrエミッタ・フォロア
・トランジスタで、エミッタが、出力端子につながって
いる。
このようなECLの応答速度はTG + TEの利得帯
域幅積(fT)、  ベース寄生抵抗(rb)、  接
合容量(cl)に大きく依存する。rb及びCjを小さ
くする有力な手段はエミッタの幅を小さくする事である
。
第2図(a)、 (b)に、第1図で使われるTG +
 THとTBOの平面図をそれぞれ示すが、エミツタ幅
ばWで示しである。すなわちWを小さくする事によりト
ランジスタの同波数特性が向上し応答速度を短くできる
ので、高速を目指すICでは通常、TG+TB+ TP
OのWを加工可能な限界まで小さくする。
(ここでエミツタ幅というのは、エミッタ形状を長方形
とみなしだ時には短辺の長さ、楕円とみなしだ時は短径
を指す。) 一般にエミッタ・フォロア回路は、それに用いるトラン
ジスタの周波数特性が上ると発振を起しやすくなる。特
に、エミッタに容量性負荷が付くとさらに発振しやすく
なる。上に述べたようなICの出力形式の場合、出力端
子、すなわちエミッタ・フォロア・トランジスタTEO
のエミッタに110PFの容量性負荷が付く事があるの
で、出力回路が発振しやすい。又発振までいかなくとも
リンギングが起る場合が多い。
以上述べたように、EOLが用いられ、出力端子にエミ
ッタ・フォロア・トランジスタのエミッタがつながれて
いるICでは、応答速度を上げるためにエミッタの幅を
小さくすると、出力回路が発振、ない[7はリンギング
を起し、正常に動作し々くなる危険性がある。
本発明の目的は、上記問題点を改善する事にある。
本発明では、エミツタ幅を広げる事でトランジスタの周
波数特性が落ち、エミッタ・フォロア回路が発振外いし
はリンギングを起こしずらくなる事に注目する。
本発明によれば、EOLが用いられ、1つ以上の出力端
子に、エミッタ・フォロア・トランジスタのエミッタが
つながれている集積回路に於て、このトランジスタのエ
ミッタの幅を、内部回路のスイッチング用トランジスタ
のエミツタ幅より大きくする事によシ、出力回路が発振
ないしリンギングを起さないようにする。
出力段のトランジスタのエミツタ幅を広げる事は、出力
段だけ応答速度が遅くなる事を意味するが、この遅れは
、例えば0.1 n5ec以下であ、Q、IC!全体の
応答時間(例えば5nsec)に比べその影響は無視で
きる。
第3図(a)、 (b)に本発明の実施例を示す。本発
明の主旨に従い、第3図(a)のT(1+TB のエミ
ツタ幅Wを1.5μmにしたのに対し、TKOのエミツ
タ幅は第3図(b)の如く3μmにしである。エミッタ
長りは使用する電流値に応じて’I’G、 ’J”、は
3μm TT BOでは20μmのものを2本並列にし
ている。
TPOのエミツタ幅を1.5μm、長さを20μm×4
としていた従来のものは、負荷に30pF、50Ωをつ
けると、時に発振やリンギングを起こしていたが、この
実施例の形状とする事で、発振、リンギングは起こらな
くなった。応答時間の遅れは高々0.1 n5ecであ
り、問題とはならない。
以上述べたように本発明によれば、高速で、しかも特性
の安定したIOを提供する事ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はEOLで構成した論理ICの回路例を示す図、
第2図(a)、 (b)は第1図の回路で用いる2種の
トランジスタの平面図、第3図(a)、(b)は本発明
による2種のトランジスタを示す図である。 TG・・・・・・ゲート・トランジスタT8・・・・・
・エミッタψフォロア・トランジスタTEO・・・・・
・出力回路のエミッタ・フォロア・トランジスタ E°゛“°′トランジシフのエミッタ B・・・・・・トランジスタのベース電極C・・・・・
・トランジスタのコレクタ電極第1 凹 ((z)              (b)EO (0−)                 (b)第
3 閃

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. エミッタ結合論理回路が用いられ、1つ以上の出力1m
     子にエミッタ・フォロア・トランジスタのエミッタが
    つながれている集積回路に於て、このトランジスタのエ
    ミッタの幅が内部回路のスインチング用トランジスタの
    エミツタ幅より大キい事を特徴とする半導体集積回路。
JP57188720A 1982-10-27 1982-10-27 半導体集積回路 Granted JPS5978559A (ja)

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JP57188720A JPS5978559A (ja) 1982-10-27 1982-10-27 半導体集積回路

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JP57188720A JPS5978559A (ja) 1982-10-27 1982-10-27 半導体集積回路

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Publication Number Publication Date
JPS5978559A true JPS5978559A (ja) 1984-05-07
JPH0425712B2 JPH0425712B2 (ja) 1992-05-01

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ID=16228597

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6110267A (ja) * 1984-06-26 1986-01-17 Nec Corp モノリシック集積回路の製造方法
JPS6220363A (ja) * 1985-07-18 1987-01-28 Nec Corp 半導体集積回路
JPH04138720A (ja) * 1990-09-28 1992-05-13 Toshiba Corp 半導体装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6110267A (ja) * 1984-06-26 1986-01-17 Nec Corp モノリシック集積回路の製造方法
JPS6220363A (ja) * 1985-07-18 1987-01-28 Nec Corp 半導体集積回路
JPH04138720A (ja) * 1990-09-28 1992-05-13 Toshiba Corp 半導体装置

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