JPS6220363A - 半導体集積回路 - Google Patents
半導体集積回路Info
- Publication number
- JPS6220363A JPS6220363A JP60159363A JP15936385A JPS6220363A JP S6220363 A JPS6220363 A JP S6220363A JP 60159363 A JP60159363 A JP 60159363A JP 15936385 A JP15936385 A JP 15936385A JP S6220363 A JPS6220363 A JP S6220363A
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- JP
- Japan
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- transistor
- collector
- semiconductor integrated
- integrated circuit
- current
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- Granted
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 6
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 6
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Bipolar Transistors (AREA)
- Bipolar Integrated Circuits (AREA)
- Amplifiers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明げ半導体集積回路(IC)vc関(−1特にカレ
ントミラー回路を有するICvc関する。
ントミラー回路を有するICvc関する。
従来から、第6図に示すカレントミラー回路は最も一般
的なカレントきラー回路として知られ、特に整合化電流
源(Matched Current 8ources
)と呼ばれている。第6図の構成では、電流源5゜の電
流IrcfとトランジスタQsのコレクタ! ?N I
C3との比はトランジスタQ1のエミッタ面積とトラ
ンジスタQs のエミッタ面積の比と同一となることエ
リ上記の名で呼ばれている。
的なカレントきラー回路として知られ、特に整合化電流
源(Matched Current 8ources
)と呼ばれている。第6図の構成では、電流源5゜の電
流IrcfとトランジスタQsのコレクタ! ?N I
C3との比はトランジスタQ1のエミッタ面積とトラ
ンジスタQs のエミッタ面積の比と同一となることエ
リ上記の名で呼ばれている。
上述した構成のカレントミラー回路では、トランジスタ
QlとトランジスタQzとにより矢印で示すループ50
が形成されるので、ループ利得が1工り大きく位相余裕
がなくなると寄生発振が生じる。特に近年のトランジス
タの微細化に伴ないトランジスタのデバイスパラメータ
のなかの容量成分が著しく減少し、そのためにトランジ
スタのfr(しゃ新局波数)が高くなって高周波でもゲ
インを持つようになって位相余裕がなくなり、この結果
、 29MHz〜50MHzで寄生発振する。寄生発振
防止のために、トランジスタQlのコレクタに数pFか
ら数+pF のコンデンサ01に追加して寄生発振を
おさえていた。
QlとトランジスタQzとにより矢印で示すループ50
が形成されるので、ループ利得が1工り大きく位相余裕
がなくなると寄生発振が生じる。特に近年のトランジス
タの微細化に伴ないトランジスタのデバイスパラメータ
のなかの容量成分が著しく減少し、そのためにトランジ
スタのfr(しゃ新局波数)が高くなって高周波でもゲ
インを持つようになって位相余裕がなくなり、この結果
、 29MHz〜50MHzで寄生発振する。寄生発振
防止のために、トランジスタQlのコレクタに数pFか
ら数+pF のコンデンサ01に追加して寄生発振を
おさえていた。
しかし、コンデンサC1を形成するためのスペースとコ
ンデンサC1の電極とトランジスタQIMを配線する配
線スペースを必要し、そのためにチップ面積が増えると
いう欠点がある。
ンデンサC1の電極とトランジスタQIMを配線する配
線スペースを必要し、そのためにチップ面積が増えると
いう欠点がある。
本発明の半導体集積回路に、整合化電流源(Match
ed Current 5ources) @構成する
第1から第3のトランジスタのうちの第1のトランジス
タのコレクタ領域内に比較的大きなサブストレート−コ
レクタ間容量(LjC) あるいはコレクター配線領
域間に形成されるMOB容量を付加している。
ed Current 5ources) @構成する
第1から第3のトランジスタのうちの第1のトランジス
タのコレクタ領域内に比較的大きなサブストレート−コ
レクタ間容量(LjC) あるいはコレクター配線領
域間に形成されるMOB容量を付加している。
次に本発明について図m1に参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例を示す平面図であり、第4図
にその等価回路図である。トランジスタQ1のエミッタ
(E)面積とトランジスタQaのエンツタ(E)面積は
同一である。従って、トランジスタQlトトランジスタ
Qsとは1:1のカレントミラー回路を構成している。
にその等価回路図である。トランジスタQ1のエミッタ
(E)面積とトランジスタQaのエンツタ(E)面積は
同一である。従って、トランジスタQlトトランジスタ
Qsとは1:1のカレントミラー回路を構成している。
−万、トランジスタQ1のコレクタ面積はトランジスタ
Q2. Q10のトランジスタのコレクタ面積の2倍に
形成されている。従って、トランジスタQ1 のコレク
ターサブストレート間容量CC81H)ランジッタQ2
. Qsのコレクターサブストレート間容量CC82,
CC83のそれぞれに対して2倍程度となる。上記の容
量CC3Iの効果により第4図に示した矢印のループ5
2のループ利得に対して位相余裕が生じ寄生発振を防止
出来る。
Q2. Q10のトランジスタのコレクタ面積の2倍に
形成されている。従って、トランジスタQ1 のコレク
ターサブストレート間容量CC81H)ランジッタQ2
. Qsのコレクターサブストレート間容量CC82,
CC83のそれぞれに対して2倍程度となる。上記の容
量CC3Iの効果により第4図に示した矢印のループ5
2のループ利得に対して位相余裕が生じ寄生発振を防止
出来る。
第2図は本発明の他の実施例を示す。この構成テモ、ト
ランジスタQ1のコレクタ面積?他のトランジスタQ2
.(hそれの2倍に設定されているので、容量CC81
が大きくなる。第5図はその等価回路図である。さらに
、第2図で示した実施例では、そのA−A’線に沿った
断面図を第3図トランジスタQ1のコレクタ領域1に電
極取出し領域として拡散形成される高濃度領域5を広く
形成し、かつこれを覆う絶縁膜8上に広い配線層9を設
けている。したがって、トランジスタQ1のコレクタ3
と上記配線9間にMO8容量C1を新たに付加される。
ランジスタQ1のコレクタ面積?他のトランジスタQ2
.(hそれの2倍に設定されているので、容量CC81
が大きくなる。第5図はその等価回路図である。さらに
、第2図で示した実施例では、そのA−A’線に沿った
断面図を第3図トランジスタQ1のコレクタ領域1に電
極取出し領域として拡散形成される高濃度領域5を広く
形成し、かつこれを覆う絶縁膜8上に広い配線層9を設
けている。したがって、トランジスタQ1のコレクタ3
と上記配線9間にMO8容量C1を新たに付加される。
トランジスタQl のコレクタには、これによって、第
5図のように前記CC3lO外に01が付加され、CI
+CC81>CC81>0082゜CC83となり、第
5図に示した矢印のループ53のループ利得に対して大
きな位相余裕が得られる容量値を実現出来る。なお、第
4図で1は基板、2に埋込領域、4に絶縁領域、6にベ
ース領域、7にエミッタ領域である。
5図のように前記CC3lO外に01が付加され、CI
+CC81>CC81>0082゜CC83となり、第
5図に示した矢印のループ53のループ利得に対して大
きな位相余裕が得られる容量値を実現出来る。なお、第
4図で1は基板、2に埋込領域、4に絶縁領域、6にベ
ース領域、7にエミッタ領域である。
ここで、第1図のトランジスタQ1の大きさに対シて第
2図のトランジスタQl のコレクタに付加される容量
値を同一値に出来る。
2図のトランジスタQl のコレクタに付加される容量
値を同一値に出来る。
また、上述の構成のカレントミラー回路においてはトラ
ンジスタQ1のエミッタ面積とトランクツタQs のエ
ミッタ面積の比でカレントミラー回路の電流比(第6図
におけるI refとIC3の比)が決定され、トラン
ジスタ(h のコレクタ面積とトランジスタQ3 のコ
レクタ面積は無関係である。
ンジスタQ1のエミッタ面積とトランクツタQs のエ
ミッタ面積の比でカレントミラー回路の電流比(第6図
におけるI refとIC3の比)が決定され、トラン
ジスタ(h のコレクタ面積とトランジスタQ3 のコ
レクタ面積は無関係である。
以上説明したように、本発明は整合化電流源(Matc
hed Current 8ources) f構成す
る第1から第3のトランジスタのうちの第1のトランジ
スタのコレクタ領域に容量を付加することによりカレン
トミラー回路の寄生発振を防ぐ効果があり、tたレイア
ウトのスペースも新たにMOSコンデンサを形成するよ
りも小さく出来る効果があり、しかもカレントミラー回
路の特性を失なわない。
hed Current 8ources) f構成す
る第1から第3のトランジスタのうちの第1のトランジ
スタのコレクタ領域に容量を付加することによりカレン
トミラー回路の寄生発振を防ぐ効果があり、tたレイア
ウトのスペースも新たにMOSコンデンサを形成するよ
りも小さく出来る効果があり、しかもカレントミラー回
路の特性を失なわない。
第1図は本発明の一実施例を示す平面図、第2図は本発
明の他の実施例を示す平面図、第3図は第2図のA−A
線に沿った断面図、第4図はm1図の等価回路図、第5
図に第2図の等価回路図。 第6図は基本的なカレン)<ラー回路の回路図である。 Ql、 Q2. Qs・・・・・・トランジスタ、CC
81,CC82゜CC83・・・・・くlレフターサブ
ストレート間容−fit、CI・・・・・・MOSコン
デンザ、1.ref・・・・・・基準電流源、Vec
・・・・・・箪沖ηT、圧。 ・′−−−ノ、−\、 代理人 弁理士 内 原 皆(ニー、;、−(′ Ct t)z 8′ 猶4−口 8′ 寮夕図 ′宥ら乙−し」
明の他の実施例を示す平面図、第3図は第2図のA−A
線に沿った断面図、第4図はm1図の等価回路図、第5
図に第2図の等価回路図。 第6図は基本的なカレン)<ラー回路の回路図である。 Ql、 Q2. Qs・・・・・・トランジスタ、CC
81,CC82゜CC83・・・・・くlレフターサブ
ストレート間容−fit、CI・・・・・・MOSコン
デンザ、1.ref・・・・・・基準電流源、Vec
・・・・・・箪沖ηT、圧。 ・′−−−ノ、−\、 代理人 弁理士 内 原 皆(ニー、;、−(′ Ct t)z 8′ 猶4−口 8′ 寮夕図 ′宥ら乙−し」
Claims (2)
- (1)少なくとも二つのトランジスタを用いて入力電流
に比例した出力電流を発生するカレントミラー回路を有
する半導体集積回路において、前記二つのトランジスタ
のうち前記入力電流を受けるトランジスタのコレクタ領
域を他方のトランジスタのコレクタ領域よりも大きくし
たことを特徴とする半導体集積回路。 - (2)前記入力電流を受けるトランジスタのコレクタ領
域上を同トランジスタのコレクタ電極とは分離されかつ
絶縁膜によって前記コレクタ領域から分離された導体層
で覆ったことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
半導 体集積回路。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60159363A JPS6220363A (ja) | 1985-07-18 | 1985-07-18 | 半導体集積回路 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60159363A JPS6220363A (ja) | 1985-07-18 | 1985-07-18 | 半導体集積回路 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6220363A true JPS6220363A (ja) | 1987-01-28 |
| JPH0587025B2 JPH0587025B2 (ja) | 1993-12-15 |
Family
ID=15692203
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60159363A Granted JPS6220363A (ja) | 1985-07-18 | 1985-07-18 | 半導体集積回路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6220363A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5978559A (ja) * | 1982-10-27 | 1984-05-07 | Nec Corp | 半導体集積回路 |
-
1985
- 1985-07-18 JP JP60159363A patent/JPS6220363A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5978559A (ja) * | 1982-10-27 | 1984-05-07 | Nec Corp | 半導体集積回路 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0587025B2 (ja) | 1993-12-15 |
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