JPS5981348A - 安定化高分子材料組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、耐光性の改善された畠分子材料組成ｌ勿、訂
“しくは、２，２，６．６−チトラメチルビベリジル基
を有゛するカルボン酸エステルのメリゴマーを含有せし
めてなる耐光性のｒ女良された高分子材料組成物に関す
る。

ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塙化ビニル叫の合
成（ｓ′９脂は一般に光の効果に対して繊感であり、そ
の作用により劣化し、変色あるいは機械的強度の１氏下
等を引き起こし、長期の使用に耐えないことが知られて
いる。

そこでこの光による合成樹脂の劣化を防止するために、
従来種々の安定剤が用いられてきたが、従来用いられて
きた光安定剤はその安定化効果がまだ不十分であシ、ま
た安定剤自体が熱あるいは酸化に対して不安定であった
夛、水等の溶剤によって樹脂から抽出されやすいものが
多く、さらに樹脂に着色を−りえるものが多い等の欠点
を持っており、長期にわたって合成樹脂を安定化するこ
とｔ（できなかった。

これら従来用いられてきた光安定剤の中でもピペリジン
糸の化合物はそれ自体が非着色性であり、また紫外線吸
収側としてではなく、消光剤として作用するなどの’ｈ
黴を有して紐シ近年特に注目されている。

これらのピペリジン化合物中最も重要なものは２，２，
６．６−テトラメチルビベリジン−４−オールまたｔま
２，２，６．６−チトラメテルピベリジンー４−オンの
トリメチロールアルカンケタールのカルボン岐エステル
であり、これまで多くの化合物が提案され−〔きた。

例えは、特公昭４６−４２６１８号公報、同５３−３６
５０２号公￥し、同５５−４２３４７号公報、同５４−
２０９７７号公報、同５６−５４３１号公報、特開昭４
８−６５ｊ８Ｄ号公報、同５２−１１２６４８号公報、
同５３−７７４８号公報及び同５６−１６５３４号公報
には独々のポリカルボン酸の２．２，６．６−テトラメ
チルピペリジン−４−オール類または２，２，６．６−
チトラメチルピベリジンー４−オンのトリメチロールア
ルカンケタールのエステルが開示されている。

１．７か１−ながら、どれら公報記載の化合物は耐水性
に劣るものが多く、高分子材料に証加した場合も水によ
り容易に抽出されてし咬い、躬に屋外等における会期間
の使用に耐えない場合が多い。また、これらの化合物ｔ
よ比奴的分子Ｓｋ、が小さく、高分子材料を高温で加工
する場合に揮敗しその対果を失う場合もあった。

これらの欠点を解消するために、ｄｊＩ分子分子化合物
を用いることも提案されている。

例えば、特Ｒ１昭５２−１４１，８８５号公報にはヒン
ダードピペリジル基を有するポリエステル、ボリアぐド
等の重合体が提案されている。しかしながら同公報記載
の重合体は、ヒンダードピペリジル基を有するグリコー
ルまたはジアミンとジカルボン酸から訪導されるか、あ
るいはヒンダードピペリジル基を有するジカルボン酸と
グリコールまたはジアミンから紡導されるものでアリ、
３〜６価のポリカルボン酸を用いる本発明の化合物とは
全く異なるものである。しかも、同公報記載■ｉ合体の
多くはその製法が極めて繁雑であり、さらに反復分子単
位中にヒンダードピペリジル基を有する重合体はそのＣ
−Ｎ結合が光の照射によシ明断され曲分子蛍化されるこ
とも近年示唆されており、実用上満足しイ４Ｉるもので
はない。

本発明者等は、かかる現状に鑑み鋭意検討を重ねた結果
、３〜６価のポリカルボン酸の２，２゜６．６−チトラ
メチルビペリジルエステルをジアミンまたはグリコール
でオリゴマー化することにより上記欠点が全て解消され
ることを見い出し本発明に到達した。

即し、本発明は、■ム分子材料１００重Ｍ一部に、次の
一般式（１）で表わされる化合！＋！／Ｉｎ、００１〜
５重量部を添加してなる安定化高分子材料組成物を提供
するものである。

（式中、Ｒは５〜６価のポリカルボン酸の残基を示し、
ｍは１〜４を示す。Ｘは一〇−または−Ｎ−を示し、Ａ
は２価アルコールの残基ま１ζ５ たは２価アミンの残基を示す。Ｒ３は水素原子、アルギ
ル基またはアリール基を示し、または２示し、■もＩｌ
ｔよアルキル基を示す。Ｉ′ｔ２は水ｇＭ子、を示す。

ｎは１〜１０を示す。） 以下、本発明の組成物について詳述する。

本発明で用いられる、前記一般式（１＞で表わされる化
合物において、Ｒ２で表わされるアルキル基としては、
例えはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、２−エチ
ルヘキシル、ノニル、デシル、ドデシル、オクタデシル
、ベンジル、フェニルエチル、２−ヒドロキシエチル、
２−ヒドロギンプロピル、２−ヒドロキシブチル、２，
３−エボ午ジプロピルなどがあげられ、アシル基として
ｔユ、例えばアセチル、プロピオニル、ブチロイル、ア
クリロイル、メタクリロイル、オクタノイル、ベン′ソ
゛イルなどがあげられる。

Ｒ５で表わされるアルキル基としては、例えばメチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル
、第２ブチル、ヘキシル、シクロヘキンル、オクチル、
イソオクチル、２−エチルヘキシル、第５オクチル、デ
シル、ドデシル、テトラデシル、オクタデシルなどがあ
げられ、アリール基としては、例えばフェニル、ナフチ
ル、トリル、キンリル、第３ブチルフエニル、オクチル
フェニル、２，４−ジーＭＳ３ブチルフェニル、ノニル
フェニル、ジノニルフェニルなどがあげらｉｚる。また
、２個のｉｔ５が互いに結合してアルキレン基を示すと
きは、例えばメチレン、エチレン、１．２−フロピレン
、１．３−プロピレンであってもよい。

Ｒ１１で表わされるアルキル基としては、例えばメチル
、エチル、プロピル、ブチル、インブチルなどがあげら
れる。

Ａで表わされる基は、２価アルコールの残基または２価
アミンの残基であり、上記２価アルコールとしては例え
ば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、
１，４−ブチレングリコール、チオジェタノール、１，
６−ヘキサンジオール、３−メチルペンタン−１，５−
ジオール、ネオペンチルクリコール、１，１ｏ−ｙ’カ
ンジオール、１．１２−ドデカンジオール、ンクロヘキ
サンジメタノール、ベンゼンジメタツール、水添ビスフ
ェノールＡ、２−ブテン−１，４−ジオール、３，９−
ビス（１，１−ジメチル−２−ヒドロキンエチル）−２
，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５，５：］ウン
デカンなどがあげられ、また、上記２価アミンとしては
例えばエチレンジアミン、１，３−プロピレンジアミン
、１．６−ヘキサメチレンジアミン、１，８−オクタメ
チレンジアミン、１．１０−デカメチレンジアミン、１
．１１−ウンデカメチレンジアミン、キンリレンジアミ
ン、ビス（アミノメチル）ンクロヘキザン、インフォロ
ンジアミン、ビス（アミノンクロヘキンル）メタン、３
，９−ビス（３−１ミノプロピル）　−２，４，８，１
０−テトラオキサスピロ（Ｓ、Ｓ）ウンデカン、ピペラ
ジン、２，５−ジメチルピペラジンなどがあげられる。

カルボン酸としては次に示すものが包含される。

即ち、トリカルバリル酸、クエン酸、アセチルクエン酸
、ブタン−１，２，３−トリカルボン酸、６−プテンー
１．２．５−　トリカルボン酸、トリメリット酸、ブタ
ン−１，２，３，４−テトラカルボン酸、１，１，２．
２−エテンテト２カルボン酸、７−ビンクロ［：　２．
２．２　］］オクテンー２．３，５．６−テトラカルボ
ン酸１，１，２．５−プロパンテトラカルボン酸、ピロ
メリット酸、１，６，７，８，９．１４−テトラデカン
ヘキサカルボン酸、１，６，８．１４−テトラデカンテ
トラカルボン酸、ニトリロトリ酢酸、ニトリロトリプロ
ピオン酸などがあげられる。

本発明で用いられる前記一般式（１）で表わされる化合
物の代表例を次の表−１に示す。尚表中、−（ＣＨ２）
５９Ｊｉｑ１１１．：ｆ（ｑＨ−（ＣＩｉ２÷５　をそ
れぞれ示す。

−′５．１ 扁１・ 應２ 雁４ Ｋ６ 畜１１ Ｃ１■。

、角１２ ａｌｌ−。

属１３ Ａ１５ 本発明で用いられる前記一般式（１）で表わされヲ有す
るアルコール及び１−ＩＸ　−Ａ　−ＸＨで表わされる
２価のアルコールまたは２価のアミンと全反応させるこ
とによって容易に製造することができる。また、反応は
段階的に行なうことも、あるいは−［便で行なうことも
できる。

以下、具体的な合成例をもって本発明をさらに詳細に読
切するが、本発明は以下の合成ｆ夕・すによってｆｌｊ
ｌｌ限忙受けるものではない。

合成しＩＪＩ　　　（’ｒ％−１のＡ１化合物の合成）
フ′タンーｊ、２，５．４−テトシカルボンｂ−ンテト
ラメチルエステル１４．５Ｆ、２，２，６．６−ラート
シメチルー４−ピペリジツール２６．Ｏｆ及びテトライ
ソプロピルチクネート肌８ｇ！をミネラルスピリ　ツ　
）５０ｍｌ！に溶解し、窒素気流１１６０〜１６５℃で
６時ＩＭｔカロ熱撹拌した。次に１，１０−テカンジオ
ール４．４１及びテト２イングロビルチタネート０．２
９ｆｉｒ：加え３０　ｍ）Ｌｇの減圧下１６０〜１６５
℃で６時間撹拌した。溶媒及び過剰の２．２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジツールを減圧下に除去した
後、４０ｍＡのキンレンを加え水洗、乾燥臘キンレンを
留去し、融点５０〜５５Ｃの淡褐色固体の生成物ｆ：得
た。

合成例２　　（吹−１の煮２化合物の合成）ブタン−１
，２，３，４−テトラカルボン酸テトラメチルエステル
１４．５　Ｆ、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジツール２６．Ｏｒ及びテトライソプロピルチタネ
ート０．８ｇをミネラルスピリット５０ｍｅに６１Ｍ　
Ｌ　、窒素気流下１６０〜１６５Ｃで６時間加熱攪拌し
た。次に水添ビスフェノールＡ６．ｏｙ及びテトライソ
プロピルチタネート０．２２を加え、３０　ｃｒｎ）ｉ
ｇの減圧下１６０〜１６５℃で６時間撹拌した。その後
合成例１と同様に処理し一点８０〜８５Ｃの淡褐色固体
の生成物を得た。

合成例３＜表−１の扁３化合物の合成）ブタン−１，２
，３，４−テトラカルボン酸テトラメチルエステル５．
８２．２，２，６．６−テトラメチル−４−ピペリジツ
ール８．６ｆ及びテトライソブロビルチタネー）０．４
Ｆをミネラルスピリット２５ｍｅＶｃ溶解し、窒素気流
下１６０〜１６５Ｃで５時間加熱攪拌した。次に水添ビ
スフェノールＡ３．６ｆを加え、１６０〜１６５℃で６
時間加熱ＪＲ拌した。その後合成例１と同様に処理し、
融点９２〜９４℃、平均重合度ｎ＝３の淡褐色固体の生
成物を得た。

合成例４（ｉ−１の黒５化合物の合成）ブタン−１，２
，３，４−テトラカルボン酸テトラメチルエステル５，
１３　ｔ、　　２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジツール１０．４ｆ及びテトライソプロピルチタネ
ート肌４２をミネラルスビリツ）　２５　ｍｌに溶解し
、窒素気流下１６０〜１６５℃で５時間攪拌した。次に
３，９−ビス（１，１−ジメチル−２−ヒドロヤシエチ
ル）　−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５，
５〕ウンデカン３２を加え、１６０〜１６５℃で６時間
撹拌した。その後合成例１と同様に処理し、融点７５〜
８０℃の淡褐色固体の生成′吻を得た。

合成例５　　　（９＝１のＡ７化合物の合成）ブタン−
１，２，５，４−テトラカルボン酸テトラメチルエステ
ル５．８２．２，２，６．６−テト２メチル−４−ピペ
リジツール８．６ｖ及びテトライソプロピルチタネート
０．４Ｆをミネラルスビリッ）　２５　ｍｅに溶解し、
窒素気流下１６０〜１６５℃で５時間ｊ′Ｊｔ、拌し／
ヒ。次に３，９−ビス（１，１−ジメチル−２−ヒドロ
キシエチル−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ（
５，Ｓ）ウンデカン４．６１を加え、１６０〜１６５′
Ｃで６時間撹拌した。その後合成例１と同１虫に処理し
、８′１！点９０〜９５℃、平均重合度ｎ　＝　５の淡
褐色固体の生成物を得た。

本発明はｉケ記一般式（１）で表わされる化合物を高分
子材料に添加してその耐光性を改善するものであり、そ
の添加力（１１通常、高分子材料１００重上重上に対し
０．００１〜５１０敏部、好ましくは０．０１〜３　’
ｊｉｊ　ｊｌｔ部である。

本発明におＶ」る耐光性改善の対象となる高分子（１科
としては、例えは、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リブテン、ポリ−３−メチルブテン、などのα−オレフ
ィン重合体またはエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチ
レン−プロピレン共重合体などのポリオレフィンおよび
これらの共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、
ポリフッ化ビニル、ポリ塩化ビニリチン、塩素化ポリエ
チレン、塩素化ポリプロピレン、ポリフッソ化ビニリデ
ン、臭素化ポリエチレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化
ビニル−プロピレン共乗合体、塩化ビニルースチレン共
重合体、塩化ビニル−イソブチレン共重合体、塩化ビニ
ル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−スチレン−
無水マレイン岐三元共重合体、塩化ビニルースチレンー
アクリロニ）　ＩＪル共共合合体塩化ビニル−ブタジェ
ン共重合体、塩化ビニル−イソプレン共重合体、塩化ビ
ニル−塩素化プロピレン糸車合体、塩化ビニル−塩化ビ
ニリデン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−アク
リル酸エステル共重合体、塩化ビニル−マレイン酸エス
テル共重合体、塩化ビニルーメタクリル献エステル共重
合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、内部可
塑化ポリ塩化ビニルなどの含ハロゲン合成樹脂、石油樹
脂、クマロン閘１１凱　ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル
、アクリル樹脂、スチレンと他の単量体（例えば無水マ
レイン酸、ブタジェン、アクリロニトリルなど）との共
重合体、アクリロニトリル−ブタジェン−スチレン共重
合体、アクリル酸エステルーブタジエンーステレ／共重
合体、メタクリル酸エステル−フタジエン−スチレン共
重合体、ポリメチルメタクリレートなどのメタクリレ−
）　樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマー
ル、ポリビニルブチラール、直鎖ポリエステル、ポリフ
エニレンオキンド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポ
リアセタール、ポリウレタン、繊維素系樹脂、あるいは
フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキン
樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂などを
挙げることができる。更に、インプレンゴム、ブタジェ
ンゴム、アクリロニトリル−共重合ゴムなどのゴム類や
これらのｔｉｔ　ｌ］Ｗのブレンド品であってもよい。

また、過酸化物あるいは放射線等によって架橋させた架
橋ポリエチレン等の架ｈｉ合体及び発泡剤によって発泡
させた発泡ポリスチレン等の発泡重合体も泣含される。

本発明の組成物にさらにフェノール系の抗酸化剤を小加
することによって酸化安定性を改善することができる。

これらのフェノール系抗厳化削としてはたとえは、２，
６−ジー第５ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジフェ
ニル−４−オクトキンフェノール、ステアリル−（３，
５−ジ−メチル−４−ヒドロキンベンジル）チオグリコ
レート、ステアリル−β−（４−ヒドロキシ−３，５−
ジー第３ブチルフェニル）グロビオネート、ジステアリ
ル−３，５−ジー第６ブチルー４−ヒドロキンペンジル
ホスホネー）、２，４．／）−トリス（３′、イージー
第３ブチル−４′−ヒドロキシベンジルチオ）　−１，
３，５−）リアジン、ジステアリル（４−ヒドロキｖ−
３−メチル−５−第５　メチル）ペンジルマロネ−）、
２．２−メチレンビス（４−メグ−ルー６−第５ブチル
フェノール）、４，４′−メチレンビス（２，６−ジー
第３ブチルフエノール）、２，２−メチレンビス〔６−
（１−メチルシクロヘキンル〕ｐ−クレゾール〕、ビス
〔５，５−ビス（４−ヒドロ午シー６−第３ブチルフェ
ニル）ブチリックアンドコグリコールエステル、４．４
’−ブチリデンビス（６−４Ｆｌブチル−ｒｎ−クレゾ
ール）、２，２−エチリテンビス（４，６−ジー第３ブ
チルフエノール）、２゜２′−エチリテンビス（４−第
２ブチル−６−第５ブチルフエノール）、　１，１．３
−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−ｓ　−第ｓブ
チルフェニル）ブタン、ビス〔２−第５ブチ／ｌ／　−
４−メチル−６−（２−ヒドロキン−３−第３ブチル−
５−メチルベンジル）フェニル〕テレフタレート、１，
３．５−トリス（２，６−シメチルー５−ヒドロキン−
４−第３ブアル）ペンジルイソンアヌレート、１，３．
５−）リス（５，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキン
ベンジル）　−２，４，６−ドリメチルベンゼン、テト
ラキス〔メチレン−ｓ　　　（ｓ　＋　５−ジー第３ブ
チル−４−ヒドロキンフェニル）プロピオネートコメタ
ン、　　１，３．５−トリス（５，５−ジー第３ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，５
．５−トリス［（３，５−ジー絹５フチルー４−ヒドロ
キンフェニル）プロビオニルオキンエチル〕イソンアヌ
レート、２−オクチルチオ−４，６−ジ（４−ヒドロキ
ン−６，５−ジー第５ブチル）フェノキン−１，３，５
−トリアジン、４，４′−チオビス（６−第３ブチル−
ｍ−クレゾール）などのフェノール類及び４，４′−ブ
チリデンビス（２−第３ブチル−５−メチルフェノール
）の炭酸オリゴエステル（例えば重合度２，５，４，５
，６，７．Ｂ、９゜１０など）などの多価フェノール炭
酸オリゴエステル類があげられる。

本発明の組成物にさらに何し量系の抗酸化剤を加えてそ
の酸化安定性の改善をはかることもできる。これらの硫
黄系抗酸他剤としては、例えはジシウリルー、シミリス
チル−、ジステアリル−などのジアルキルテオジプロビ
オネート及びブチル−、オクチル−、ラウリル−、ステ
アリル−などのアルキルチオプロピオン酸の多価アルコ
ール（例えばグリセリン、トリメチロールエタン、トリ
メチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリスヒ
ドロキンエチルイソンアヌレート）のエステル（例えは
ペンタエリスリトールテトララウリルテオブロピオネー
ト）があげられる。

本発明の組成物に、さらにホスファイト涛の４ｈ　リン
化合物ｔ　ｌ／ｒＭ加することによって、耐光性及び■
［ｊ熱性を改善することができる。この含リン化合物と
してＱよ、例えばトリオクチルホスファイト、トリラウ
リルホスファイト、トリデンルホスファイト、オクチル
−ジフェニルホスファイト、トリス（２，４−ジー第５
ブチルフエニル）ホスファイト、トリフェニルホスファ
イト、トリス（フトキンエチル）ホスファイト、トリス
（ノニルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタ
エリスリトールジホスフ゛アイト、テトラ（トリデシル
）　−１，１，３−トリス（２−メチル−Ｓ　−第Ｓブ
チル−４−ヒドロキンフェニル）ブタンジホスファイト
、テト”ｙ　（０１２〜１５混合アルキル）　−４，４
１’−イソプロピリチンジフェニルジホスファイト、テ
トラ（トリデシル）−４，４−フチリチンビス（６−メ
チル−６−第３ブチルフエノール）ジホスファイト、ト
リス（５，５−シー％　３ブチル−４−ヒドロキンフェ
ニル）ホスファイト、トリス（モノ・ジ混合ノニルフェ
ニル）ホスファイト、水Ｅ化−４１４’　−インプロピ
リデンジフェノールポリホスファイト、ビス（オクチル
フェニル）・ビス［４，４’−ブチリデンビス（５−メ
チル−６−第５フチルフエノール）〕・１，６−ヘキザ
ンジオールジポスフアイト、フェニル・４，４′−イソ
プロピリデンジフェノール舎ペンタエリスリトールジホ
スファイト、ビス（２，４−ジー第３ブヂルフエニル）
ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−
シー１４ｓブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリス
リトールジホスファイト、トリス［４，４−イソプロピ
リデンビス（２−ｋ７ｒ　３ブチルフエノール）〕ホス
ファイト、−フェニル・ジフェニルホスファイト、ジ（
ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト
、トリス（１，３−ジーステアロイルオヤンイソプロピ
ル）ホスファイト、４，４−イソプロピリデンビス（２
−第３ブナルフエノール）・ジ（ノニルフェニル）ホス
ファ　イ）　、９　、１０−　シー　、７％イドロー９
−オキサ−１０−フオスフアフエナンスレン−１０−オ
キサイド、テトラキス（’２．４−ジー第３ブチルフェ
ニル）−４，４’−ビフエニレンジホスホナイトなどが
あげられる。

本発明の組成物に他の光安定削を添加することによって
その耐光性をさらに改善することができる。これらの光
安定削としては、例えば、２−ヒドロキｖ−４−メトキ
シベンゾフェノン、２−ヒドロキＶ−４−ｎ−オクトキ
シベンゾフェノン、２．（−ジーヒドロキｖ−４−メト
キンベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキンベンゾフェ
ノン等のヒドロキンベンゾフェノン＆ｔ、２−（２′−
ヒドロキシ−３”ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）
−５−クロロベンツトリアゾール、２−　（ノーヒドロ
キン−３′、イージーし一ブチルフェニル）−５−クロ
ロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキン−５’
　−メチルフェニル）ペンツトリアゾール、２−（２’
−ヒドロキシ−３，５−ジーｔ−’アミルフェニル）ベ
ンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール類、フェニル
ザリシレー）、ｐ−ｔ−ブチルフェニルザリンレート、
２，４−ジーＬ−ブチルフェニルー３，５−ジーも一ブ
チルー４−ヒドロキシベンゾニー１−、ヘキザデンルー
６，５−ジーＬ−フチルー４−ヒドロキンベンゾニー１
−　％のベンゾニー）”Ｉｉ！４．２＋２−チオビス（
４−ｔ−オクチルフェノール）Ｎｉ塩、〔２，ダーチオ
ビス（４−Ｌ−メクチルフエノラート））−１１−メチ
ルアミンＮｉ　、　（５＋”−シーモーブチルー４−ヒ
ドロキンベンジル）ホスホン酸モノエチルエステルＮｔ
　ｍ、’ｉｊのニック゛ル化合物知、α−シγノーβ−
メチルーβ−（ｐ−メト−ｒ−、、ｚフェニル）アクリ
ル類メチル等のｂ＜、７：換アクリ［コニトリル類及び
Ｎ−２−エチルフェニル−１４−２−エトキシ−ｓ　−
Ｈｔｓ　ブチルフェニルシュウＣ（ｉジアミド、Ｎ−２
−エチルフエ；Ｌ　／レ−Ｎ　−２−エトキヅノコ＝ニ
ルンユウｔｒｉ　シｙミド号のシュウ酸ジアニリド知が
あげられる。

その他必、要に応じて、本発明組成物は重金属不活性化
剤、造核剤、金椙石けん、有機錫化合１面、ｉｉＪ鋒ｉ
削、エボ’Ｖ　？〕化合物、順相、充填剤、発泡剤、’
：ｆ′ｉ’￥０．防止削、難燃剤、滑剤、加工助ｕｌｌ
や？　ｋ　ｒ見金させることができる。

本シロ切によって安定化された高分子材料は極めて多像
な形で、例えばフィルム、繊維、テープ、シート、名、
（・ＩＩ成型品として使用でき、また、塗Ａ゛（、ラッ
カー用１７１合剤、接着剤、パテ及び写真（オ科におけ
る基材としても用いることができる。

次に本発明を実がａ例によって具体的に説明する。しか
しながら、本発明はこれらの実施例によって１υｋ　）
ｌされるものではなし１゜ポリプロピレン　　　　　　
　　　　　　　１００東Ｊｌｔ部ステアリル−β−３，
５−ジー第３ブチル−４−０，２ヒドロキンフエニルプ
ロピオネート 安定剤（表−２）　　　　　　　　　　　０．３上記配
合にて厚さ０．５間のプレスシートを作成し、重圧水銀
ランプを用いて耐光性試駆を行なった。また８０℃の熱
水に１５時間浸漬後のシートについても耐光性試験を行
なった。その結果を表−２に示す。

表　　　　−２ 実施例２ 通常の安定剤は樹脂の高温加工時に揮発、分解等により
その効果が著るしく失なわれることが知られている。

本実施例では押、し出し加工全繰り返し行なうことによ
り高温加工による影響を確かめた。

次の配合により拉１脂と添加剤をミー＋サーで５分間混
合した後、押し出し機でコンパウンドを作成した。（ｖ
リンダ−１ｈＡ度２３０℃、２４０ｃ。

ヘッドダイス温度２５０℃、回転数２Ｏｒｐｍ）押し出
しを５回繰り返し行なった後このコンパウンドを用いて
試験片を射出成形様で作成した。

（ンリンダ一温度２４０℃、ノズル温度２５０Ｃ１射出
圧４７５　Ｋｑ／ａｊ　） ↑！Ｉられた試験片を用いて高圧水銀ランプでｆｉｔｊ
光性試験を行なった。また、押し出し１回のものについ
ても同様に試験した。その結果を表−６に示す。

く配　合〉 エチレン−プロピレン共乗合樹脂　　　　　１００　重
鼠部ステアリン酸カルンウム　　　　　　　　　０．２
　　重量部ステアリル−β−３，５−ジー第３ブチル−
４−０，１ヒドロキンフエニルブロビオネート ジラウリルテオジプロビオネート　　　　　　　０．２
安定削（表−３）　　　　　　　　　０．２表　　　　
　　　　　　　３ 実施例３ ポリエチレン　　　　　　　　　　　　　１００　重量
部Ｃａ−ステアレート　　　　　　　　　　　　　　１
・０テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジー第３ブ
チル−４−ヒドロΦンフェニル）フ、　　０．１０ビオ
ネート〕メタン ジステアリルチオジプロピオネート０．３安定削（表−
４）　　　　　　　　　０．２」１記配合物を混練後プ
レスして厚さ０．５ｍｍのソートを作成した。このシー
トを用いてウエザオフ−ター中で耐光性を測定し、脆化
するまでの時間を測定した。その結果を表−４に示す。

表　　　　　　　　　　４ 実施例４ エチレン−酢酸ビニルコポリマー　　　　　１００　重
景部２．６−ジー第３ブチル−ｐ−クレゾール　　　　
　０．１Ｃａ−ステアレー　ト　　　　　　　　　　　
　　　０．１２ｎ−ステアレート　　　　　　　　　　
　　　　０．１ジイソデンルフエニルポスフアイト　　
　　　　　０．２安定削（衣−５）　　　　　　　　　
０．２上ｄ己配合ｑ−／ｌをロールＪニー　１３０℃で
混練後、１４０℃でプレスシート（厚さ０．４ｍｍ）を
作成した。このシートをウエザオフ−ター中で５００時
間照射後の抗張力残率を測定した。その結果を表−５に
示す。

表　　　　　　　　　　　５ 実施例５ ポリｊ篇化ビニル　　　　　　　　　　１ｏ０：ｊ［置
部ジオクチルフタレート　　　　　　　　　４８エポキ
ン化大豆Ｉ′１ｌ１２ トリスノニルフェニルホスファイト　　　　　０．２Ｃ
ａ−ステアレート　　　　　　　　　　　１．０Ｚｎ−
ステアレート　　　　　　　　　　０．１安定削（衣−
６）０・３ 」二ｉ己配合物をロール上で混練し厚さ１間のシートヶ
作成した。このシートを用いウエザオフ−ター中での制
光１に（・試験を行なった。その結果を表−６にボす。

表　　　　　　　　　　　６ １５　５１　　Ａ１４　　　（／／　　）　　　　　　
　ｊ６２０　１実篩拶」６ Ａ　Ｂ　Ｓケｖ刊旨　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　１００　　耳ｒ石１弗４．４−フチ
リデンビス（２−第６０．１ブチル−ｍ−クレゾール） 安定側（表−７）　　　　　　　　　０．３上記能合物
４０−ル綜り後プレスして厚さ６門のシートを一作成し
た。このシートを用いウェヤメメーターで８００時間照
射後の抗張力残率を測定した１、その結果を表−７に示
す。

表　　　　−７ 実施例７ ポリウレタン樹脂（旭屯化製Ｕ−ｊ００）　　　　　１
００　　重量部Ｂａ−ステアレート　　　　　　　　　
　　　　０．７Ｚｎ−ステアレート　　　　　　　　　
　　　　０．６２．６−ジー第３グチル−ｐ−クレゾー
ル　　　　　０．１安定削（表−８）　　’　　　　　
　　　０．３」二□己配合物を７０Ｃで５分間ロール上
で混線し、１２０℃で５分間プレスして厚さ０．５門の
シートを作成した。このシートをフェードメーターにて
５０時間照射後の伸び残率を測定した。

その結束を表−８に示す。

表　　　　　　　　　　８ 実ｔＱ（ｉ　９’！ｌ　８ 本発明の化合′吻は塗料用の光安定削としても有用であ
２．。本実権例においては全極顔料を含有するベースコ
ート及び透明なトップコートからなる二層金鵬光沢塗浩
についてその効果をみた。

ａ）ベース−７−ト塗料 メタクリル酸メチル１００２、アクリル酸ｎ−ブチル６
６ｙ、メタクリル酸−２−ヒドロヤシエチル３０？、メ
タクリル酸４１、キンレン８０２及びｎ−ブタノール２
０１をとり、１１０℃に加熱ＪＭ、拌しながらアゾビス
イソブチロニトリル２１、ドデンルメル力ブタン０．５
２、キンレン８０２及びｎ−ブタノール２０２からなる
溶液を３時間で滴下した。その後同温度で２時間（ｊ耐
拌し、樹脂固型分５０％のアクリル樹脂溶液をｗｔａ　
ＩＪＪした。

上記アクリル樹脂浴′＃、１２重宝部、ブトキシ化メチ
ロールメラミン（三井東圧社製；ニーパン２０ＳＥ６０
：樹脂固型分６０％）２６５重爺部、セルロースアセテ
ートブチレート樹脂（２０％酢酸ブチル溶液）５０恵蛍
都、アルミニウム顔料（東洋アルミニウム社製；アルペ
ースト１１２３Ｎ）５．５重石部、キシＬ／／１０軍釦
１部、酢鍍フチル２０乗量都及び銅フタロンアニンブル
ー０．２重一部奮と９ベースコート塗料とした。

ｂ））ツブコート塗料 上記アクリル樹脂浴′Ｄ、４８市届部、ブトキン化メチ
ロールメラミン１０班短部、キシレン１０曳輔都、ブチ
ルグリコールアセテート４１拉−ｈ（：部及び安定側（
表−９）０．１５畢知部（固型分に対し０．５％）をと
り、トップコート塗料とした。

ブライマー処理した鋼板にベースコート塗料を乾燥膜厚
が２０μになるようにスプレーし、１０分間放直後トッ
プコート塗料を乾燥膜厚が５０μになるようにスプレー
した。１５分間放仙゛後１４０Ｃで３０分間焼付し試片
とした。

上記試片をウエザオメーターに入れ塗膜のワレの発生ず
るまでの時間を測定した。その結果を表−９に７Ｊマす
。

表　　　　　　　　　　　９ 第１頁の続き ０発　明　者　西村純 浦和市白幡五丁目２番１３号アデ カ・アーガス化学株式会社内

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 高分子伺料１００重嗣１部に、次の一般式（Ｉ）で表わ
   される化合物０．００１〜５車−Ｗ　Ｓを添加してなる
   、安定化高分子制科組成物。 （式中、■也は６〜６価のポリカルボン酸の残基螢示し
   、ｍは１〜４を示す。Ｘは一〇−またけ−Ｎ−を示し、
   Ａは２価アルコールの残１も５ 基または２１曲アミンの残基を示す。Ｒ５は水素Ｊ、ｌ
   ｊｔ子、アルキル基またはアリール基を示し、または２
   個のＲ５が互いに結合してアルキレン／ 基を示しても良い。Ｙは−ＣＨ８またはａ２は水素原子
   、オキシル、アルキルＡｌｉまたはアシル基を示す。１
   ζ１は＝ｘ　−Ａ　−ｘ　−ｕまたは