JPH0481624B2 - - Google Patents
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- JPH0481624B2 JPH0481624B2 JP59203597A JP20359784A JPH0481624B2 JP H0481624 B2 JPH0481624 B2 JP H0481624B2 JP 59203597 A JP59203597 A JP 59203597A JP 20359784 A JP20359784 A JP 20359784A JP H0481624 B2 JPH0481624 B2 JP H0481624B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
- C07D401/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing three or more hetero rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D491/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed ring system both one or more rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms and one or more rings having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D451/00 - C07D459/00, C07D463/00, C07D477/00 or C07D489/00
- C07D491/02—Heterocyclic compounds containing in the condensed ring system both one or more rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms and one or more rings having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D451/00 - C07D459/00, C07D463/00, C07D477/00 or C07D489/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D491/10—Spiro-condensed systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3467—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
- C08K5/3477—Six-membered rings
- C08K5/3492—Triazines
- C08K5/34926—Triazines also containing heterocyclic groups other than triazine groups
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- Polymers & Plastics (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は、特定のトリアミンから誘導されるシ
アヌレート化合物を含有する高分子材料組成物、
詳しくは、分子内に２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジン基を有する、ウンデカントリアミン
から誘導されるシアヌレート化合物を含有するこ
とにより、特に耐光性の改善された高分子材料組
成物に関する。 〔従来の技術及び発明が解決しようとする問題
点〕 ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、スチレン系
樹脂等の高分子材料は光の作用により劣化し、変
色或いは機械的強度の低下等を引き起こし、長期
の使用に耐えないことが知られている。 そこで、高分子材料の劣化を防止するために、
従来種々の安定剤が用いられており、分子中に
２，２，６，６−テトラメチルピペリジン基を有
する化合物も多数提案されている。 これらのピペリジン化合物のうち、シアヌレー
ト誘導体は化合物自体の耐熱性が比較的良好であ
る利点を有しており、これまでいくつかの化合物
が提案されている。例えば、特開昭49−21389号
公報にはピペリジル基を有するシアヌレート化合
物が提案されているが、該公報に記載の化合物
は、低分子量化合物であるために高分子材料の加
工中に揮散し、或いは水、有機溶媒により抽出さ
れやすい等の欠点を有していた。 このため、特開昭52−73886号公報、特開昭58
−47030号公報、特開昭58−194931号公報及び特
開昭59−122487号公報等には高分子量の化合物が
提案されているが、これらの化合物の安定化効果
は未だ不充分であり、また製造上も工程数が多く
煩雑な操作が要求される等の問題があり、実用上
満足し得るものではなかつた。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明者等は、高分子材料に対する光安定化効
果が大きく、また比較的容易な操作により製造し
得る化合物を提供すべく鋭意検討を重ねた結果、
次の一般式（）で表される化合物が容易な操作
により製造でき、また高分子材料に配合した場
合、高分子材料の耐光性を著しく改善することを
見い出し、本発明に到達した。 即ち、本発明は、高分子材料100重量部に、次
の一般式（）で表される化合物0.001〜５重量
部を添加してなる、安定化された高分子材料組成
物を提供するものである。 （式中、Ｘは
アヌレート化合物を含有する高分子材料組成物、
詳しくは、分子内に２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジン基を有する、ウンデカントリアミン
から誘導されるシアヌレート化合物を含有するこ
とにより、特に耐光性の改善された高分子材料組
成物に関する。 〔従来の技術及び発明が解決しようとする問題
点〕 ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、スチレン系
樹脂等の高分子材料は光の作用により劣化し、変
色或いは機械的強度の低下等を引き起こし、長期
の使用に耐えないことが知られている。 そこで、高分子材料の劣化を防止するために、
従来種々の安定剤が用いられており、分子中に
２，２，６，６−テトラメチルピペリジン基を有
する化合物も多数提案されている。 これらのピペリジン化合物のうち、シアヌレー
ト誘導体は化合物自体の耐熱性が比較的良好であ
る利点を有しており、これまでいくつかの化合物
が提案されている。例えば、特開昭49−21389号
公報にはピペリジル基を有するシアヌレート化合
物が提案されているが、該公報に記載の化合物
は、低分子量化合物であるために高分子材料の加
工中に揮散し、或いは水、有機溶媒により抽出さ
れやすい等の欠点を有していた。 このため、特開昭52−73886号公報、特開昭58
−47030号公報、特開昭58−194931号公報及び特
開昭59−122487号公報等には高分子量の化合物が
提案されているが、これらの化合物の安定化効果
は未だ不充分であり、また製造上も工程数が多く
煩雑な操作が要求される等の問題があり、実用上
満足し得るものではなかつた。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明者等は、高分子材料に対する光安定化効
果が大きく、また比較的容易な操作により製造し
得る化合物を提供すべく鋭意検討を重ねた結果、
次の一般式（）で表される化合物が容易な操作
により製造でき、また高分子材料に配合した場
合、高分子材料の耐光性を著しく改善することを
見い出し、本発明に到達した。 即ち、本発明は、高分子材料100重量部に、次
の一般式（）で表される化合物0.001〜５重量
部を添加してなる、安定化された高分子材料組成
物を提供するものである。 （式中、Ｘは
【式】又は
【式】を示し、Ｒは
水素原子、オキシル（Ｏ・）、アルキル基又はア
シル基を示し、R1は低級アルキル基を示し、Ｙ
は−Ｏ−又は
シル基を示し、R1は低級アルキル基を示し、Ｙ
は−Ｏ−又は
【式】を示し、R2は水素原子又
はアルキル基を示す。）
以下、本発明の高分子材料組成物について詳述
する。 本発明で用いられる前記一般式（）で表され
る化合物において、Ｒで表されるアルキル基とし
ては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、オクチル、デシル、ドデシル、ベン
ジル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプ
ロピル、２，３−エポキシプロピル等があげら
れ、アシル基としては、ホルミル、アセチル、プ
ロピオニル、ブチロイル、オクタノイル、ベンゾ
イル、アクリロイル、メタクリロイル等があげら
れる。 また、R1で表される低級アルキル基としては、
メチル、エチル、プロピル、ブチル等があげられ
る。 また、R2で表されるアルキル基としては、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、第２ブチル、イソブチル、アミル、ヘキシ
ル、オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、デ
シル、ドデシル、テトラデシル、オクタデシル等
があげられる。 従つて、本発明で用いられる前記一般式（）
で表される化合物としては、例えば次の表−１に
示すものがあげられる。 尚、表−１中、UDTAは
する。 本発明で用いられる前記一般式（）で表され
る化合物において、Ｒで表されるアルキル基とし
ては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、オクチル、デシル、ドデシル、ベン
ジル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプ
ロピル、２，３−エポキシプロピル等があげら
れ、アシル基としては、ホルミル、アセチル、プ
ロピオニル、ブチロイル、オクタノイル、ベンゾ
イル、アクリロイル、メタクリロイル等があげら
れる。 また、R1で表される低級アルキル基としては、
メチル、エチル、プロピル、ブチル等があげられ
る。 また、R2で表されるアルキル基としては、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、第２ブチル、イソブチル、アミル、ヘキシ
ル、オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、デ
シル、ドデシル、テトラデシル、オクタデシル等
があげられる。 従つて、本発明で用いられる前記一般式（）
で表される化合物としては、例えば次の表−１に
示すものがあげられる。 尚、表−１中、UDTAは
【式】を示し、
【式】は
【式】を示す。
これらの化合物は、例えば、
【式】
で示されるジ置換シアヌル酸モノクロライドと
１，６，11−トリアミノウンデカンを反応させる
ことによつて容易に製造することができる。 次に、本発明で用いられる前記一般式（）で
表される化合物の具体的な合成例をあげるが、本
発明は下記の合成例に制限を受けるものではな
い。 合成例 （表−１のNo.２化合物の合成） ２，４−ビス〔Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ〕−
６−クロロ−１，３，５−トリアジン13.4ｇ、
１，５，11−トリアミノウンデカン1.7ｇ、キシ
レン100ml及び水酸化ナトリウム粉末1.0ｇをと
り、窒素気流下140℃で24時間撹拌した。これに
トルエン100mlを加え、濾過後、水洗、乾燥した。
溶媒を留去し、軟化点105〜111℃のガラス状固体
の生成物を得た。 この生成物は、高速液体クロマトグラフイーに
よる分析の結果１ピークであり、また分子量が約
1700（計算値1698）であつた。また、この生成物
についての元素分析の結果は下記の如くであり、
計算値と良く一致した。 元素分析 Ｃ Ｈ Ｎ 実測値(%) 69.43 11.17 19.40 計算値(%) 69.26 10.95 19.79 本発明は、前期一般式（）で表される化合物
を高分子材料に添加してその安定性、特に耐光性
を改善するものであり、その添加量は、通常、高
分子材料100重量部に対し0.001〜５重量部、好ま
しくは0.01〜３重量部である。 本発明における安定性改善の対象となる高分子
材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリブテン、ポリ−３−メチルブテン等
のα−オレフイン重合体又はエチレン−酢酸ビニ
ル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体等の
ポリオレフイン及びこれらの共重合体、ポリ塩化
ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフツ化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化
ポリプロピレン、ポリフツ化ビニルデン、臭素化
ポリエチレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩
化ビニル−プロピレン共重合体、塩化ビニル−ス
チレン共重合体、塩化ビニル−イソブチレン共重
合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩
化ビニル−スチレン−無水マレイン酸三元共重合
体、塩化ビニル−スチレン−アクリロニトリル共
重合体、塩化ビニル−ブタジエン共重合体、塩化
ビニル−イソプレン共重合体、塩化ビニル−塩素
化プロピレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリ
デン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−ア
クリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−マレイ
ン酸エステル共重合体、塩化ビニル−メタクリル
酸エステル共重合体、塩化ビニル−アクリロニト
リル共重合体、内部可塑化ポリ塩化ビニル等の含
ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポ
リスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ポ
リアクリロニトリル、スチレンと他の単量体（例
えば無水マレイン酸、ブタジエン、アクリロニト
リル等）との共重合体、アクリロニトリル−ブタ
ジエン−スチレン共重合体、アクリル酸エステル
−ブタジエン−スチレン共重合体、メタクリル酸
エステル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリ
メチルメタクリレート等のメタクリレート樹脂、
ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、
ポリビニルブチラール、直鎖ポリエステル、ポリ
フエニレンオキシド、ポリアミド、ポリカーボネ
ート、ポリアセタール、ポリウレタン、繊維素系
樹脂、或いはフエノール樹脂、ユリア樹脂、メラ
ミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂、シリコーン樹脂等をあげることができる。更
に、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリロ
ニトリル−ブタジエン共重合ゴム、スチレン−ブ
タジエン共重合ゴム等のゴム類やこれらの樹脂の
ブレンド品であつてもよい。 また、過酸化物或いは放射線等によつて架橋さ
せた架橋ポリエチレン等の架橋重合体及び発泡剤
によつて発泡させた発泡ポリスチレン等の発泡重
合体も包含される。 本発明の組成物に更に周知のフエノール系の抗
酸化剤を添加することによつてその酸化安定性を
一層改善することができる。このフエノール系抗
酸化剤としては例えば、２，６−ジ−第３ブチル
−ｐ−クレゾール、２，６−ジフエニル−４−オ
クトキシフエノール、ステアリル−（３，５−ジ
−メチル−４−ヒドロキシベンジル）チオグリコ
レート、ステアリル−β−（４−ヒドロキシ−３，
５−ジ−第３ブチルフエニル）プロピオネート、
ジステアリル−３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジルホスホネート、２，４，６−ト
リス（3′，5′−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルチオ）１，３，５−トリアジン、ジステ
アリル（４−ヒドロキシ−３−メチル−５−第３
ブチル）ベンジルマロネート、２，2′−メチレン
ビス（４−メチル−６−第３ブチルフエノール）、
４，4′−メチレンビス（２，６−ジ−第３ブチル
フエノール）、２，2′−メチレンビス〔６−（１−
メチルシクロヘキシル）ｐ−クレゾール〕、ビス
〔３，５−ビス（４−ヒドロキシ−３−第３ブチ
ルフエニル）ブチリツクアシド〕グリコールエス
テル、４，4′−ブチルデンビス（６−第３ブチル
−ｍ−クレゾール）−２，2′−エチリデンビス
（４，６−ジ−第３ブチルフエノール）、２，2′−
エチリデンビス（４−第２ブチル−６−第３ブチ
ルフエノール）、１，１，３−トリス（２−メチ
ル−４−ヒドロキシ−５−第３ブチルフエニル）
ブタン、ビス〔２−第３ブチル−４−メチル−６
−（２−ヒドロキシ−３−第３ブチル−５−メチ
ルベンジル）フエニル〕テレフタレート、１，
３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロ
キシ−４−第３ブチル）ベンジルイソシアヌレー
ト、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第３ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−ト
リメチルベンゼン、テトラキス〔メチレン−３−
（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシフエ
ニル）プロピオネート〕メタン、１，３，５−ト
リス（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリ
ス〔（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシ
フエニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシア
ヌレート、２−オクチルチオ−４，６−ジ（４−
ヒドロキシ−３，５−ジ−第３ブチル）フエノキ
シ−１，３，５−トリアシン、４，4′−チオビス
（６−第３ブチル−ｍ−クレゾール）等のフエノ
ール類及び４，4′−ブチリデンビス（２−第３ブ
チル−５−メチルフエノール）の炭酸オリゴエス
テル（例えば重合度２、３、４、５、６、７、
８、９、10等）の多価フエノール炭酸オリゴエス
テル類があげられる。 本発明の組成物に更に硫黄系の抗酸化剤を加え
てその酸化安定性の改善をはかることもできる。
この硫黄系抗酸化剤としては、例えば、ジラウリ
ル−、ジミリスチル−、ジステアリル−等のジア
ルキルチオジプロピオネート及びブチル−、オク
チル−、ラウリル−、ステアリル−等のアルキル
チオプロピオン酸の多価アルコール（例えばグリ
セリン、トリメチロールエタン、トリメチロール
プロパン、ペンタエリスリトール、トリスヒドロ
キシエチルイソシアヌレート）のエステル（例え
ばペンタエリスリトールテトララウリルチオプロ
ピオネート）があげられる。 本発明の組成物に、更にホスフアイト等の含リ
ン化合物を添加することによつてその耐光性及び
耐熱性を一層改善することができる。この含リン
化合物としては、例えば、トリオクチルホスフア
イト、トリラウリルホスフアイト、トリデシルホ
スフアイト、オクチル−ジフエニルホスフアイ
ト、トリス（２，４−ジ−第３ブチルフエニル）
ホスフアイト、トリフエニルホスフアイト、トリ
ス（ブトキシエチル）ホスフアイト、トリス（ノ
ニルフエニル）ホスフアイト、ジステアリンペン
タエリスリトールジホスフアイト、テトラ（トリ
デシル）−１，１，３−トリス（２−メチル−５
−第３ブチル−４−ヒドロキシフエニル）ブタン
ジホスフアイト、テトラ（C12〜15混合アルキル）
−４，4′−イソプロピリデンジフエニルジホスフ
アイト、テトラ（トリデシル）−４，4′−ブチリ
デンビス（３−メチル−６−第３ブチルフエノー
ル）ジホスフアイト、トリス（３，５−ジ−第３
ブチル−４−ヒドロキシフエニル）ホスフアイ
ト、トリス（モノ・ジ混合ノニルフエニル）ホス
フアイト、水素化−４，4′−イソプロピリデンジ
フエノールポリホスフアイト、ビス（オクチルフ
エニル）・ビス〔４，4′−ブチリデンビス（３−
メチル−６−第３ブチルフエノール）〕・１，６−
ヘキサンジオールジホスフアイト、フエニル・
４，4′−イソプロピリデンジフエノール・ペンタ
エリスリトールジホスフアイト、ビス（２，４−
第３ブチルフエニル）ペンタエリスリトールジホ
スフアイト、ビス（２，６−ジ−第３ブチル−４
−メチルフエニル）ペンタエリスリトールジホス
フアイト、トリス〔４，4′−イソプロピリデンビ
ス（２−第３ブチルフエノール）〕ホスフアイト、
フエニル・ジイソデシルホスフアイト、ジ（ノニ
ルフエニル）ペンタエリスリトールジホスフアイ
ト、トリス（１，３−ジ−ステアロイルオキシイ
ソプロピル）ホスフアイト、４，4′−イソプロピ
リデンビス（２−第３ブチルフエノール）・ジ
（ノニルフエニル）ホスフアイト、９，10−ジ−
ハイドロ−９−オキサ−10−フオスフアフエナン
スレン−10−オキサイド、テトラキス（２，４−
ジ−第３ブチルフエニル）−４，4′−ビフエニレ
ンジホスホナイト等があげられる。 本発明の組成物に他の光安定剤を添加すること
によつてその耐光性を一層改善することができ
る。この光安定剤としては、例えば、２−ヒドロ
キシ−４−メトキシベンゾフエノン、２−ヒドロ
キシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフエノン、２，
2′−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフエノ
ン、２，４−ジヒドロキシベンゾフエノン等のヒ
ドロキシベンゾフエノン類、２−（2′−ヒドロキ
シ−3′−ｔ−ブチル−5′−メチルフエニル）−５
−クロロベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒドロ
キシ−3′，5′−ジ−ｔ−ブチルフエニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒドロキ
シ−5′−メチルフエニル）ベンゾトリアゾール、
２−（2′−ヒドロキシ−3′，5′−ジ−ｔ−アミノフ
エニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾ
ール類、フエニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチル
フエニルサリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチル
フエニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等のベ
ンゾエート類、２，2′−チオビス（４−ｔ−オク
チルフエノール）Ni塩、〔２，2′−チオビス（４
−ｔ−オクチルフエノラート）〕−ｎ−ブチルアミ
ンNi、（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）ホスホン酸モノエチルエステルNi
塩等のニツケル化合物類、α−シアノ−β−メチ
ル−β−（ｐ−メトキシフエニル）アクリル類メ
チル等の置換アクリロニトリル類及びＮ−２−エ
チルフエニル−N′−２−エトキシ−５−第３ブ
チルフエニルシユウ酸ジアミド、Ｎ−２−エチル
フエニル−N′−２−エトキシフエニルシユウ酸
ジアミド等のシユウ酸ジアニリド類があげられ
る。 その他必要に応じて、本発明の組成物には重金
属不活性化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合
物、可塑剤、エポキシ化合物、顔料、充填剤、発
泡剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、加工助剤等を
包含させることができる。 本発明によつて安定化された高分子材料は極め
て多様な形で、例えばフイルム、繊維、テープ、
シート、各種成型品として使用でき、また、塗
料、ラツカー用結合剤、接着剤、パテ及び写真材
料における基材としても用いることができる。 次に本発明を実施例によつて具体的に説明す
る。しかしながら、本発明はこれらの実施例によ
つて限定されるものではない。 実施例 １ ＜配合＞ ポリプロピレン 100重量部 ステアリン酸カルシウム 0.2 ペンタエリスリトールテトラキス（３，５−ジ−
第３ブチル−４−ヒドロキシフエニルプロピオネ
ート） 0.1 安定剤（表−２参照） 0.2 上記配合にて厚さ0.3mmのプレスシートを作成
し、このシートについて高圧水銀ランプを用いて
の耐光性試験を行つた。また、100時間光照射後
80℃の熱水に24時間浸漬後のシートについても耐
光性試験を行つた。その結果を表−２に示す。
１，６，11−トリアミノウンデカンを反応させる
ことによつて容易に製造することができる。 次に、本発明で用いられる前記一般式（）で
表される化合物の具体的な合成例をあげるが、本
発明は下記の合成例に制限を受けるものではな
い。 合成例 （表−１のNo.２化合物の合成） ２，４−ビス〔Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ〕−
６−クロロ−１，３，５−トリアジン13.4ｇ、
１，５，11−トリアミノウンデカン1.7ｇ、キシ
レン100ml及び水酸化ナトリウム粉末1.0ｇをと
り、窒素気流下140℃で24時間撹拌した。これに
トルエン100mlを加え、濾過後、水洗、乾燥した。
溶媒を留去し、軟化点105〜111℃のガラス状固体
の生成物を得た。 この生成物は、高速液体クロマトグラフイーに
よる分析の結果１ピークであり、また分子量が約
1700（計算値1698）であつた。また、この生成物
についての元素分析の結果は下記の如くであり、
計算値と良く一致した。 元素分析 Ｃ Ｈ Ｎ 実測値(%) 69.43 11.17 19.40 計算値(%) 69.26 10.95 19.79 本発明は、前期一般式（）で表される化合物
を高分子材料に添加してその安定性、特に耐光性
を改善するものであり、その添加量は、通常、高
分子材料100重量部に対し0.001〜５重量部、好ま
しくは0.01〜３重量部である。 本発明における安定性改善の対象となる高分子
材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリブテン、ポリ−３−メチルブテン等
のα−オレフイン重合体又はエチレン−酢酸ビニ
ル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体等の
ポリオレフイン及びこれらの共重合体、ポリ塩化
ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフツ化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化
ポリプロピレン、ポリフツ化ビニルデン、臭素化
ポリエチレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩
化ビニル−プロピレン共重合体、塩化ビニル−ス
チレン共重合体、塩化ビニル−イソブチレン共重
合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩
化ビニル−スチレン−無水マレイン酸三元共重合
体、塩化ビニル−スチレン−アクリロニトリル共
重合体、塩化ビニル−ブタジエン共重合体、塩化
ビニル−イソプレン共重合体、塩化ビニル−塩素
化プロピレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリ
デン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−ア
クリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−マレイ
ン酸エステル共重合体、塩化ビニル−メタクリル
酸エステル共重合体、塩化ビニル−アクリロニト
リル共重合体、内部可塑化ポリ塩化ビニル等の含
ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポ
リスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ポ
リアクリロニトリル、スチレンと他の単量体（例
えば無水マレイン酸、ブタジエン、アクリロニト
リル等）との共重合体、アクリロニトリル−ブタ
ジエン−スチレン共重合体、アクリル酸エステル
−ブタジエン−スチレン共重合体、メタクリル酸
エステル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリ
メチルメタクリレート等のメタクリレート樹脂、
ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、
ポリビニルブチラール、直鎖ポリエステル、ポリ
フエニレンオキシド、ポリアミド、ポリカーボネ
ート、ポリアセタール、ポリウレタン、繊維素系
樹脂、或いはフエノール樹脂、ユリア樹脂、メラ
ミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂、シリコーン樹脂等をあげることができる。更
に、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリロ
ニトリル−ブタジエン共重合ゴム、スチレン−ブ
タジエン共重合ゴム等のゴム類やこれらの樹脂の
ブレンド品であつてもよい。 また、過酸化物或いは放射線等によつて架橋さ
せた架橋ポリエチレン等の架橋重合体及び発泡剤
によつて発泡させた発泡ポリスチレン等の発泡重
合体も包含される。 本発明の組成物に更に周知のフエノール系の抗
酸化剤を添加することによつてその酸化安定性を
一層改善することができる。このフエノール系抗
酸化剤としては例えば、２，６−ジ−第３ブチル
−ｐ−クレゾール、２，６−ジフエニル−４−オ
クトキシフエノール、ステアリル−（３，５−ジ
−メチル−４−ヒドロキシベンジル）チオグリコ
レート、ステアリル−β−（４−ヒドロキシ−３，
５−ジ−第３ブチルフエニル）プロピオネート、
ジステアリル−３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジルホスホネート、２，４，６−ト
リス（3′，5′−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルチオ）１，３，５−トリアジン、ジステ
アリル（４−ヒドロキシ−３−メチル−５−第３
ブチル）ベンジルマロネート、２，2′−メチレン
ビス（４−メチル−６−第３ブチルフエノール）、
４，4′−メチレンビス（２，６−ジ−第３ブチル
フエノール）、２，2′−メチレンビス〔６−（１−
メチルシクロヘキシル）ｐ−クレゾール〕、ビス
〔３，５−ビス（４−ヒドロキシ−３−第３ブチ
ルフエニル）ブチリツクアシド〕グリコールエス
テル、４，4′−ブチルデンビス（６−第３ブチル
−ｍ−クレゾール）−２，2′−エチリデンビス
（４，６−ジ−第３ブチルフエノール）、２，2′−
エチリデンビス（４−第２ブチル−６−第３ブチ
ルフエノール）、１，１，３−トリス（２−メチ
ル−４−ヒドロキシ−５−第３ブチルフエニル）
ブタン、ビス〔２−第３ブチル−４−メチル−６
−（２−ヒドロキシ−３−第３ブチル−５−メチ
ルベンジル）フエニル〕テレフタレート、１，
３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロ
キシ−４−第３ブチル）ベンジルイソシアヌレー
ト、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第３ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−ト
リメチルベンゼン、テトラキス〔メチレン−３−
（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシフエ
ニル）プロピオネート〕メタン、１，３，５−ト
リス（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリ
ス〔（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシ
フエニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシア
ヌレート、２−オクチルチオ−４，６−ジ（４−
ヒドロキシ−３，５−ジ−第３ブチル）フエノキ
シ−１，３，５−トリアシン、４，4′−チオビス
（６−第３ブチル−ｍ−クレゾール）等のフエノ
ール類及び４，4′−ブチリデンビス（２−第３ブ
チル−５−メチルフエノール）の炭酸オリゴエス
テル（例えば重合度２、３、４、５、６、７、
８、９、10等）の多価フエノール炭酸オリゴエス
テル類があげられる。 本発明の組成物に更に硫黄系の抗酸化剤を加え
てその酸化安定性の改善をはかることもできる。
この硫黄系抗酸化剤としては、例えば、ジラウリ
ル−、ジミリスチル−、ジステアリル−等のジア
ルキルチオジプロピオネート及びブチル−、オク
チル−、ラウリル−、ステアリル−等のアルキル
チオプロピオン酸の多価アルコール（例えばグリ
セリン、トリメチロールエタン、トリメチロール
プロパン、ペンタエリスリトール、トリスヒドロ
キシエチルイソシアヌレート）のエステル（例え
ばペンタエリスリトールテトララウリルチオプロ
ピオネート）があげられる。 本発明の組成物に、更にホスフアイト等の含リ
ン化合物を添加することによつてその耐光性及び
耐熱性を一層改善することができる。この含リン
化合物としては、例えば、トリオクチルホスフア
イト、トリラウリルホスフアイト、トリデシルホ
スフアイト、オクチル−ジフエニルホスフアイ
ト、トリス（２，４−ジ−第３ブチルフエニル）
ホスフアイト、トリフエニルホスフアイト、トリ
ス（ブトキシエチル）ホスフアイト、トリス（ノ
ニルフエニル）ホスフアイト、ジステアリンペン
タエリスリトールジホスフアイト、テトラ（トリ
デシル）−１，１，３−トリス（２−メチル−５
−第３ブチル−４−ヒドロキシフエニル）ブタン
ジホスフアイト、テトラ（C12〜15混合アルキル）
−４，4′−イソプロピリデンジフエニルジホスフ
アイト、テトラ（トリデシル）−４，4′−ブチリ
デンビス（３−メチル−６−第３ブチルフエノー
ル）ジホスフアイト、トリス（３，５−ジ−第３
ブチル−４−ヒドロキシフエニル）ホスフアイ
ト、トリス（モノ・ジ混合ノニルフエニル）ホス
フアイト、水素化−４，4′−イソプロピリデンジ
フエノールポリホスフアイト、ビス（オクチルフ
エニル）・ビス〔４，4′−ブチリデンビス（３−
メチル−６−第３ブチルフエノール）〕・１，６−
ヘキサンジオールジホスフアイト、フエニル・
４，4′−イソプロピリデンジフエノール・ペンタ
エリスリトールジホスフアイト、ビス（２，４−
第３ブチルフエニル）ペンタエリスリトールジホ
スフアイト、ビス（２，６−ジ−第３ブチル−４
−メチルフエニル）ペンタエリスリトールジホス
フアイト、トリス〔４，4′−イソプロピリデンビ
ス（２−第３ブチルフエノール）〕ホスフアイト、
フエニル・ジイソデシルホスフアイト、ジ（ノニ
ルフエニル）ペンタエリスリトールジホスフアイ
ト、トリス（１，３−ジ−ステアロイルオキシイ
ソプロピル）ホスフアイト、４，4′−イソプロピ
リデンビス（２−第３ブチルフエノール）・ジ
（ノニルフエニル）ホスフアイト、９，10−ジ−
ハイドロ−９−オキサ−10−フオスフアフエナン
スレン−10−オキサイド、テトラキス（２，４−
ジ−第３ブチルフエニル）−４，4′−ビフエニレ
ンジホスホナイト等があげられる。 本発明の組成物に他の光安定剤を添加すること
によつてその耐光性を一層改善することができ
る。この光安定剤としては、例えば、２−ヒドロ
キシ−４−メトキシベンゾフエノン、２−ヒドロ
キシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフエノン、２，
2′−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフエノ
ン、２，４−ジヒドロキシベンゾフエノン等のヒ
ドロキシベンゾフエノン類、２−（2′−ヒドロキ
シ−3′−ｔ−ブチル−5′−メチルフエニル）−５
−クロロベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒドロ
キシ−3′，5′−ジ−ｔ−ブチルフエニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒドロキ
シ−5′−メチルフエニル）ベンゾトリアゾール、
２−（2′−ヒドロキシ−3′，5′−ジ−ｔ−アミノフ
エニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾ
ール類、フエニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチル
フエニルサリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチル
フエニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等のベ
ンゾエート類、２，2′−チオビス（４−ｔ−オク
チルフエノール）Ni塩、〔２，2′−チオビス（４
−ｔ−オクチルフエノラート）〕−ｎ−ブチルアミ
ンNi、（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）ホスホン酸モノエチルエステルNi
塩等のニツケル化合物類、α−シアノ−β−メチ
ル−β−（ｐ−メトキシフエニル）アクリル類メ
チル等の置換アクリロニトリル類及びＮ−２−エ
チルフエニル−N′−２−エトキシ−５−第３ブ
チルフエニルシユウ酸ジアミド、Ｎ−２−エチル
フエニル−N′−２−エトキシフエニルシユウ酸
ジアミド等のシユウ酸ジアニリド類があげられ
る。 その他必要に応じて、本発明の組成物には重金
属不活性化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合
物、可塑剤、エポキシ化合物、顔料、充填剤、発
泡剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、加工助剤等を
包含させることができる。 本発明によつて安定化された高分子材料は極め
て多様な形で、例えばフイルム、繊維、テープ、
シート、各種成型品として使用でき、また、塗
料、ラツカー用結合剤、接着剤、パテ及び写真材
料における基材としても用いることができる。 次に本発明を実施例によつて具体的に説明す
る。しかしながら、本発明はこれらの実施例によ
つて限定されるものではない。 実施例 １ ＜配合＞ ポリプロピレン 100重量部 ステアリン酸カルシウム 0.2 ペンタエリスリトールテトラキス（３，５−ジ−
第３ブチル−４−ヒドロキシフエニルプロピオネ
ート） 0.1 安定剤（表−２参照） 0.2 上記配合にて厚さ0.3mmのプレスシートを作成
し、このシートについて高圧水銀ランプを用いて
の耐光性試験を行つた。また、100時間光照射後
80℃の熱水に24時間浸漬後のシートについても耐
光性試験を行つた。その結果を表−２に示す。
【表】
【表】
実施例 ２
通常の安定剤は樹脂の高温加工時に揮発、分解
等によりその効果が著しく失われることが知られ
ている。 本実施例では押し出し加工を繰り返し行うこと
により高温加工による影響を確かめた。 次の配合により樹脂と添加剤をミキサーで５分
間混合した後、押し出し機でコンパンドを作成し
た（シリンダー温度230℃、240℃、ヘツドダイス
温度250℃、回転数20rpm）。押し出しを５回繰り
返し行つた後このコンパンドを用いて試験片を射
出成形機で作成した（シリンダー温度240℃、ノ
ズル温度250℃、射出圧475Kg／cm2）。 得られた試験片を用いて高圧水銀ランプで耐光
性試験を行つた。また、押し出し１回のものにつ
いても同様に試験した。その結果を表−３に示
す。 ＜配合＞ エチレン−プロピレン共重合樹脂 100重量部 ステアリン酸カルシウム 0.2 ステアリル−β−３，５−ジ−第３ブチル−４−
ヒドロキシフエニルプロピオネート 0.1 ジラウリルチオジプロピオネート 0.2 安定剤（表−３参照） 0.2
等によりその効果が著しく失われることが知られ
ている。 本実施例では押し出し加工を繰り返し行うこと
により高温加工による影響を確かめた。 次の配合により樹脂と添加剤をミキサーで５分
間混合した後、押し出し機でコンパンドを作成し
た（シリンダー温度230℃、240℃、ヘツドダイス
温度250℃、回転数20rpm）。押し出しを５回繰り
返し行つた後このコンパンドを用いて試験片を射
出成形機で作成した（シリンダー温度240℃、ノ
ズル温度250℃、射出圧475Kg／cm2）。 得られた試験片を用いて高圧水銀ランプで耐光
性試験を行つた。また、押し出し１回のものにつ
いても同様に試験した。その結果を表−３に示
す。 ＜配合＞ エチレン−プロピレン共重合樹脂 100重量部 ステアリン酸カルシウム 0.2 ステアリル−β−３，５−ジ−第３ブチル−４−
ヒドロキシフエニルプロピオネート 0.1 ジラウリルチオジプロピオネート 0.2 安定剤（表−３参照） 0.2
【表】
実施例 ３
＜配合＞
ポリエチレン 100重量部
Ca−ステアレート 1.0
テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ−第３
ブチル−４−ヒドロキシフエニル）プロピオネー
ト〕メタン 0.1 ジステアリルチオジプロピオネート 0.3 安定剤（表−４参照） 0.2 上記配合物を混練後プレスして厚さ0.5mmのシ
ートを作成した。このシートを用いてウエザオメ
ーター中で耐光性を測定し、脆化するまでの時間
を測定した。その結果を表−４に示す。
ブチル−４−ヒドロキシフエニル）プロピオネー
ト〕メタン 0.1 ジステアリルチオジプロピオネート 0.3 安定剤（表−４参照） 0.2 上記配合物を混練後プレスして厚さ0.5mmのシ
ートを作成した。このシートを用いてウエザオメ
ーター中で耐光性を測定し、脆化するまでの時間
を測定した。その結果を表−４に示す。
【表】
実施例 ４
＜配合＞
ポリ塩化ビニル 100重量部
ジオクチルフタレート 48
エポキシ化大豆油 ２
トリスノニルフエニルホスフアイト 0.2
Ca−ステアレート 1.0
Zn−ステアレート 0.1
安定剤（表−５参照） 0.2
上記配合物を混練ロール上で混練し、厚さ１mm
のシートを作成した。このシートを用いウエザオ
メーター中での耐光性試験を行つた。その結果を
表−５に示す。
のシートを作成した。このシートを用いウエザオ
メーター中での耐光性試験を行つた。その結果を
表−５に示す。
【表】
【表】
実施例 ５
＜配合＞
ABS樹脂 100重量部
４，4′−ブチリデンビス（２−第３ブチル−ｍ−
クレゾール） 0.1 安定剤（表−６参照） 0.25 上記配合物をロール練り後プレスして厚さ３mm
のシートを作成した。このシートを用いウエザオ
メーターで800時間照射後の抗張力残率を測定し
た。その結果を表−６に示す。
クレゾール） 0.1 安定剤（表−６参照） 0.25 上記配合物をロール練り後プレスして厚さ３mm
のシートを作成した。このシートを用いウエザオ
メーターで800時間照射後の抗張力残率を測定し
た。その結果を表−６に示す。
【表】
実施例 ６
＜配合＞
ポリウレタン樹脂（旭電化製Ｕ−100）100重量部
Ba−ステアレート 0.7
Zn−ステアレート 0.3
２，６−ジ−第３ブチル−ｐ−クレゾール
0.1 安定剤（表−７参照） 0.5 上記配合物を70℃で５分間ロール上で混練し、
120℃で５分間プレスして厚さ0.5mmのシートを作
成した。このシートを用いフエードメーターにて
50時間照射後の伸び残率を測定した。その結果を
表−７に示す。
0.1 安定剤（表−７参照） 0.5 上記配合物を70℃で５分間ロール上で混練し、
120℃で５分間プレスして厚さ0.5mmのシートを作
成した。このシートを用いフエードメーターにて
50時間照射後の伸び残率を測定した。その結果を
表−７に示す。
【表】
実施例 ７
本発明の化合物は塗料用の光安定剤としても有
用である。本実施例においては金属顔料を含有す
るベースコート及び透明なトツプコートからなる
二層金属光沢塗料についてその効果をみた。 (a) ベースコート塗料 メタクリル酸メチル100ｇ、アクリル酸ｎ−
ブチル66ｇ、メタクリル酸−２−ヒドロキシエ
チル30ｇ、メタクリル酸４ｇ、キシレン80ｇ及
びｎ−ブタノール20ｇをとり、110℃に加熱撹
拌しながらアゾビスイソブチロニトリル２ｇ、
ドデシルメルカプタン0.5ｇ、キシレン80ｇ及
びｎ−ブタノール20ｇからなる溶液を３時間で
滴下した。その後同温度で２時間撹拌し、樹脂
固形分50％のアクリル樹脂溶液を調製した。 上記アクリル樹脂溶液12重量部、ブトキシ化
メチロールメラミン（三井東圧社製；ユーバン
20SE60；樹脂固形分60％）2.5重量部、セルロ
ースアセテートブチレート樹脂（20％酢酸ブチ
ル溶液）50重量部、アルミニウム顔料（東洋ア
ルミニウム社製；アルペースト1123N）5.5重
量部、キシレン10重量部、酢酸ブチル20重量部
及び銅フタロシアニンブルー0.2重量部をとり
ベースコート塗料とした。 (b) トツプコート塗料 上記アクリル樹脂溶液48重量部、ブトキシ化
メチロールメラミン10重量部、キシレン10重量
部、ブチルグリコールアセテート４重量部及び
安定剤（表−８参照）0.15重量部（固形分に対
し0.5％）をとり、トツプコート塗料とした。 プライマー処理した鋼板にベースコート塗料を
乾燥膜厚が20μになるようにスプレーし、10分間
放置後トツプコート塗料を乾燥膜厚が30μになる
ようにスプレーした。15分間放置後140℃で30分
間焼付し試片とした。 上記試片をウエザオメーターに入れ塗膜のワレ
の発生するまでの時間を測定した。その結果を表
−８に示す。
用である。本実施例においては金属顔料を含有す
るベースコート及び透明なトツプコートからなる
二層金属光沢塗料についてその効果をみた。 (a) ベースコート塗料 メタクリル酸メチル100ｇ、アクリル酸ｎ−
ブチル66ｇ、メタクリル酸−２−ヒドロキシエ
チル30ｇ、メタクリル酸４ｇ、キシレン80ｇ及
びｎ−ブタノール20ｇをとり、110℃に加熱撹
拌しながらアゾビスイソブチロニトリル２ｇ、
ドデシルメルカプタン0.5ｇ、キシレン80ｇ及
びｎ−ブタノール20ｇからなる溶液を３時間で
滴下した。その後同温度で２時間撹拌し、樹脂
固形分50％のアクリル樹脂溶液を調製した。 上記アクリル樹脂溶液12重量部、ブトキシ化
メチロールメラミン（三井東圧社製；ユーバン
20SE60；樹脂固形分60％）2.5重量部、セルロ
ースアセテートブチレート樹脂（20％酢酸ブチ
ル溶液）50重量部、アルミニウム顔料（東洋ア
ルミニウム社製；アルペースト1123N）5.5重
量部、キシレン10重量部、酢酸ブチル20重量部
及び銅フタロシアニンブルー0.2重量部をとり
ベースコート塗料とした。 (b) トツプコート塗料 上記アクリル樹脂溶液48重量部、ブトキシ化
メチロールメラミン10重量部、キシレン10重量
部、ブチルグリコールアセテート４重量部及び
安定剤（表−８参照）0.15重量部（固形分に対
し0.5％）をとり、トツプコート塗料とした。 プライマー処理した鋼板にベースコート塗料を
乾燥膜厚が20μになるようにスプレーし、10分間
放置後トツプコート塗料を乾燥膜厚が30μになる
ようにスプレーした。15分間放置後140℃で30分
間焼付し試片とした。 上記試片をウエザオメーターに入れ塗膜のワレ
の発生するまでの時間を測定した。その結果を表
−８に示す。
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 高分子材料100重量部に、次の一般式（）
で表される化合物0.001〜５重量部を添加してな
る、安定化された高分子材料組成物。 （式中、Ｘは【式】又は 【式】を示し、Ｒは 水素原子、オキシル（Ｏ・）、アルキル基又はア
シル基を示し、R1は低級アルキル基を示し、Ｙ
は−Ｏ−又は【式】を示し、R2は水素原子又 はアルキル基を示す。）
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59203597A JPS6181441A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | 高分子材料組成物 |
| US06/778,357 US4698381A (en) | 1984-09-28 | 1985-09-19 | N,N',N"-tris((2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)triazinyl) undecane triamines as stabilizers for synthetic polymers |
| EP85112305A EP0176106B1 (en) | 1984-09-28 | 1985-09-27 | N,n',n-tris((2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)triazinyl)-undecane triamines as stabilizers for synthetic polymers |
| DE8585112305T DE3580637D1 (de) | 1984-09-28 | 1985-09-27 | N,n',n"-tris((2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)triazinyl)-undecane-triamine als stabilisatoren fuer synthetische polymere. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59203597A JPS6181441A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | 高分子材料組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6181441A JPS6181441A (ja) | 1986-04-25 |
| JPH0481624B2 true JPH0481624B2 (ja) | 1992-12-24 |
Family
ID=16476695
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59203597A Granted JPS6181441A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | 高分子材料組成物 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4698381A (ja) |
| EP (1) | EP0176106B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6181441A (ja) |
| DE (1) | DE3580637D1 (ja) |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3518375C1 (de) * | 1985-05-22 | 1986-07-17 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt | Oxymethylencopolymerisat-Formmassen mit verminderter Formaldehyd-Emission bei der thermoplastischen Verarbeitung |
| IT1205023B (it) * | 1987-05-22 | 1989-03-10 | Ciba Geigy Spa | Composti piperidin-triazinici utilizzabili come stabilizzanti di poliolefine |
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- 1984-09-28 JP JP59203597A patent/JPS6181441A/ja active Granted
-
1985
- 1985-09-19 US US06/778,357 patent/US4698381A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-09-27 EP EP85112305A patent/EP0176106B1/en not_active Expired
- 1985-09-27 DE DE8585112305T patent/DE3580637D1/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4698381A (en) | 1987-10-06 |
| DE3580637D1 (de) | 1991-01-03 |
| JPS6181441A (ja) | 1986-04-25 |
| EP0176106A3 (en) | 1987-08-19 |
| EP0176106A2 (en) | 1986-04-02 |
| EP0176106B1 (en) | 1990-11-22 |
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