JPH0218346B2 - - Google Patents
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- JPH0218346B2 JPH0218346B2 JP15485082A JP15485082A JPH0218346B2 JP H0218346 B2 JPH0218346 B2 JP H0218346B2 JP 15485082 A JP15485082 A JP 15485082A JP 15485082 A JP15485082 A JP 15485082A JP H0218346 B2 JPH0218346 B2 JP H0218346B2
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- acid
- butyl
- tert
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
本発明は光の効果に対して安定化された合成樹
脂組成物、さらに詳しくは、同一分子中に2,
2,6,6−テトラメチルピペリジル基と2−ヒ
ドロキシベンゾフエノン−4−イル基を有する高
分子量化合物を含有することによつて耐光性の改
善された合成樹脂組成物に関する。 ポリエチレン、ポリプロピレン、ABS樹脂、
ポリ塩化ビニル等の重合体は一般に光の効果に対
し敏感であり、その作用により劣化し、変色ある
いは強度の低下等を引き起こし、長期の使用に耐
えないことが知られている。 そこでこの光による重合体の劣化を防止するた
めに、従来から種々の安定剤が用いられてきた
が、従来用いられてきた光安定剤はその安定化効
果が不充分であり、また安定剤自体が熱あるいは
酸化に対して不安定であつたり、水等の溶剤によ
つて重合体から抽出されやすいものが多く、さら
に重合体に着色を与えるものが多い等の欠点を持
つており、重合体を長期にわたつて安定化するこ
とができなかつた。 これら従来用いられてきた光安定剤の中でもヒ
ンダードピペリジン系の化合物は、特異な効果を
有しており近年特に注目されている。また、2−
ヒドロキシフエニルベンゾトリアゾール類及び2
−ヒドロキシベンゾフエノン類は紫外線吸収剤と
して作用する有用な光安定剤であり、また、ヒン
ダードピペリジン系の光安定剤と併用した場合に
相剰的な安定化効果が得られることも知られてい
る。 近年、同一分子中に紫外線吸収性基とヒンダー
ドピペリジン基を結合させることが試みられてい
る。 例えば特開昭55−49355号公報にはベンゾトリ
アゾールまたは2−ヒドロキシベンゾフエノンと
ポリアルキルピペリジンとの分子結合物が提案さ
れている。 しかしながら、該化合物は光安定化能が不充分
であり、また、比較的低分子量化合物である為
に、ポリマーの高温加工時に揮散したり、水ある
いは有機溶剤によつて抽出されてしまう等の欠点
があり、実用上不満足なものであつた。 本発明者等は、光安定化能に優れ、また揮発
性、耐水性等の良好な化合物を見い出すべく鋭意
検討を重ねた結果N−2,3−エポキシプロピル
ピペリジン類と2,4−ジ−ヒドロキシベンゾフ
エノン類あるいは2,4−ヒドロキシベンゾトリ
アゾール類との付加物のポリカーボネート、ポリ
エステルまたはポリウレタン誘導体が良好な性能
を有することを見い出し、本発明を完成したもの
である。 即ち本発明は、合成樹脂100重量部に、次の一
般式()で表わされる化合物0.001〜10重量部
を添加してなる安定化された合成樹脂組成物を提
供するものである。 (式中、XはCH−O−、
脂組成物、さらに詳しくは、同一分子中に2,
2,6,6−テトラメチルピペリジル基と2−ヒ
ドロキシベンゾフエノン−4−イル基を有する高
分子量化合物を含有することによつて耐光性の改
善された合成樹脂組成物に関する。 ポリエチレン、ポリプロピレン、ABS樹脂、
ポリ塩化ビニル等の重合体は一般に光の効果に対
し敏感であり、その作用により劣化し、変色ある
いは強度の低下等を引き起こし、長期の使用に耐
えないことが知られている。 そこでこの光による重合体の劣化を防止するた
めに、従来から種々の安定剤が用いられてきた
が、従来用いられてきた光安定剤はその安定化効
果が不充分であり、また安定剤自体が熱あるいは
酸化に対して不安定であつたり、水等の溶剤によ
つて重合体から抽出されやすいものが多く、さら
に重合体に着色を与えるものが多い等の欠点を持
つており、重合体を長期にわたつて安定化するこ
とができなかつた。 これら従来用いられてきた光安定剤の中でもヒ
ンダードピペリジン系の化合物は、特異な効果を
有しており近年特に注目されている。また、2−
ヒドロキシフエニルベンゾトリアゾール類及び2
−ヒドロキシベンゾフエノン類は紫外線吸収剤と
して作用する有用な光安定剤であり、また、ヒン
ダードピペリジン系の光安定剤と併用した場合に
相剰的な安定化効果が得られることも知られてい
る。 近年、同一分子中に紫外線吸収性基とヒンダー
ドピペリジン基を結合させることが試みられてい
る。 例えば特開昭55−49355号公報にはベンゾトリ
アゾールまたは2−ヒドロキシベンゾフエノンと
ポリアルキルピペリジンとの分子結合物が提案さ
れている。 しかしながら、該化合物は光安定化能が不充分
であり、また、比較的低分子量化合物である為
に、ポリマーの高温加工時に揮散したり、水ある
いは有機溶剤によつて抽出されてしまう等の欠点
があり、実用上不満足なものであつた。 本発明者等は、光安定化能に優れ、また揮発
性、耐水性等の良好な化合物を見い出すべく鋭意
検討を重ねた結果N−2,3−エポキシプロピル
ピペリジン類と2,4−ジ−ヒドロキシベンゾフ
エノン類あるいは2,4−ヒドロキシベンゾトリ
アゾール類との付加物のポリカーボネート、ポリ
エステルまたはポリウレタン誘導体が良好な性能
を有することを見い出し、本発明を完成したもの
である。 即ち本発明は、合成樹脂100重量部に、次の一
般式()で表わされる化合物0.001〜10重量部
を添加してなる安定化された合成樹脂組成物を提
供するものである。 (式中、XはCH−O−、
【式】または
【式】を示し、Yはカルボニ
ル基、ジアシル基またはジカルバモイル基を示
す。Aは水素原子、アシル基またはR3−O−Y
−を示す。Bは−O−R3、 を示す。Zは
す。Aは水素原子、アシル基またはR3−O−Y
−を示す。Bは−O−R3、 を示す。Zは
【式】または
【式】を示す。R1は水
素原子、アルキル基またはハロゲン原子を示す。
R2は低級アルキル基を示す。R3はアルキル基ま
たはアリール基を示す。nは1〜30を示す。) 以下本発明で用いられる前記一般式()で表
わされる化合物について詳述する。 R1で表わされるアルキル基としてはメチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第3
ブチル、ヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシ
ル、オクタデシル等があげられ、ハロゲン原子と
しては塩素、臭素及び沃素があげられる。 R2で表わされる低級アルキル基としては、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、第2ブチル等があげられる。
R3で表わされるアルキル基としてはメチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、オクチル、2−エチルヘキシル、
ノニル、デシル、ドデシル、テトラデシル、オク
タデシル、ベンジル、フエネチル、シクロヘキシ
ル、メトキシエチル、エトキシエチル、ブトキシ
エチル、メトキシエトキシエチル、ブトキシエチ
ル等があげられ、アリール基としてはフエニル、
トリル、キシリル、第3ブチルフエニル、ジ第3
ブチルフエニル、オクチルフエニル、ノニルフエ
ニル等があげられる。 Aで表わされるアシル基としては次に示すカル
ボン酸からのアシル基があげられる。すなわち、
ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ピバリン酸、
オクチル酸、ラウリン酸、パルミチン酸、ステア
リン酸、アクリル酸、クロトン酸、オレイン酸、
アセト酢酸、レブリン酸、ビルビン酸、ケトステ
アリン酸、アミノ酢酸、ドデシルメルカプトプロ
ピオン酸、3,5−ジ−第3ブチル−4−ヒドロ
キシフエニルプロピオン酸、安息香酸、トルイル
酸、4−第3ブチル安息香酸、3,5−ジ−第3
ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸、ニコチン酸、
イソニコチン酸、3−第3ブチル−4−ヒドロキ
シ−5−メチルフエニルプロピオン酸から誘導さ
れるアシル基があげられる。 Yで表わされるジアシル基としてはシユウ酸、
マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、
セバチン酸、ドデカンニ酸、エイコサンニ酸、酒
石酸、マレイン酸、フタル酸、イソフタル酸、テ
レフタル酸、イミノジ酢酸、チオジプロピオン
酸、ジグリコール酸、テトラヒドロフタル酸、エ
ンドメチレンテトラヒドロフタル酸、チオフエン
ジカルボン酸、フランジカルボン酸、ジカルボキ
シエチルピペラジンから誘導されるジアシル基が
あげられ、ジカルバモイル基としては、ジフエニ
ルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイ
ソシアネート、リジンジイソシアネート、フエニ
ルジイソシアネート、トリレンジイソシアネー
ト、ジフエニルエーテルジイソシアネート、キシ
リレンジイソシアネート、3−イソシアナトメチ
ル−3,5,5−トリメチルシクロヘキシルイソ
シアナート、ビス(イソシアナトメチル)シクロ
ヘキサン、3−(2′−イソシアナトシクロヘキシ
ル)プロピルイソシアネート等の二価イソシアネ
ートから誘導されるカルバモイル基があげられ
る。 従つて、本発明で用いられる前記一般式()
で表わされる化合物としては次の表−1に示すよ
うな化合物があげられる。尚、表中
R2は低級アルキル基を示す。R3はアルキル基ま
たはアリール基を示す。nは1〜30を示す。) 以下本発明で用いられる前記一般式()で表
わされる化合物について詳述する。 R1で表わされるアルキル基としてはメチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第3
ブチル、ヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシ
ル、オクタデシル等があげられ、ハロゲン原子と
しては塩素、臭素及び沃素があげられる。 R2で表わされる低級アルキル基としては、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、第2ブチル等があげられる。
R3で表わされるアルキル基としてはメチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、オクチル、2−エチルヘキシル、
ノニル、デシル、ドデシル、テトラデシル、オク
タデシル、ベンジル、フエネチル、シクロヘキシ
ル、メトキシエチル、エトキシエチル、ブトキシ
エチル、メトキシエトキシエチル、ブトキシエチ
ル等があげられ、アリール基としてはフエニル、
トリル、キシリル、第3ブチルフエニル、ジ第3
ブチルフエニル、オクチルフエニル、ノニルフエ
ニル等があげられる。 Aで表わされるアシル基としては次に示すカル
ボン酸からのアシル基があげられる。すなわち、
ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ピバリン酸、
オクチル酸、ラウリン酸、パルミチン酸、ステア
リン酸、アクリル酸、クロトン酸、オレイン酸、
アセト酢酸、レブリン酸、ビルビン酸、ケトステ
アリン酸、アミノ酢酸、ドデシルメルカプトプロ
ピオン酸、3,5−ジ−第3ブチル−4−ヒドロ
キシフエニルプロピオン酸、安息香酸、トルイル
酸、4−第3ブチル安息香酸、3,5−ジ−第3
ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸、ニコチン酸、
イソニコチン酸、3−第3ブチル−4−ヒドロキ
シ−5−メチルフエニルプロピオン酸から誘導さ
れるアシル基があげられる。 Yで表わされるジアシル基としてはシユウ酸、
マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、
セバチン酸、ドデカンニ酸、エイコサンニ酸、酒
石酸、マレイン酸、フタル酸、イソフタル酸、テ
レフタル酸、イミノジ酢酸、チオジプロピオン
酸、ジグリコール酸、テトラヒドロフタル酸、エ
ンドメチレンテトラヒドロフタル酸、チオフエン
ジカルボン酸、フランジカルボン酸、ジカルボキ
シエチルピペラジンから誘導されるジアシル基が
あげられ、ジカルバモイル基としては、ジフエニ
ルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイ
ソシアネート、リジンジイソシアネート、フエニ
ルジイソシアネート、トリレンジイソシアネー
ト、ジフエニルエーテルジイソシアネート、キシ
リレンジイソシアネート、3−イソシアナトメチ
ル−3,5,5−トリメチルシクロヘキシルイソ
シアナート、ビス(イソシアナトメチル)シクロ
ヘキサン、3−(2′−イソシアナトシクロヘキシ
ル)プロピルイソシアネート等の二価イソシアネ
ートから誘導されるカルバモイル基があげられ
る。 従つて、本発明で用いられる前記一般式()
で表わされる化合物としては次の表−1に示すよ
うな化合物があげられる。尚、表中
【式】
は
【式】を示す。
本発明で用いられる前記一般式()で表わさ
れる化合物は例えば式
れる化合物は例えば式
【式】で表わされる化合
物と、2,4−ジヒドロキシベンゾフエノン類ま
たは2,4−ジヒドロキシフエニルベンゾトリア
ゾール類を反応させることによつて得られる式
たは2,4−ジヒドロキシフエニルベンゾトリア
ゾール類を反応させることによつて得られる式
【式】で表わされるグ
リコールをジカルボン酸あるいはその低級アルキ
ルエステル、ジイソシアネート類、炭酸ジエステ
ル類と反応せしめることによつて容易に製造する
ことができる。 次に本発明で用いられる化合物の具体的な合成
例を記すが、本発明はこれらの合成例によつて制
限を受けるものではない。 合成例 表−1、No.1化合物の合成 2,4−ジヒドロキシベンゾフエノン4.32g、
1−(2,3−エポキシプロピル)−2,2,6,
6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジン
4.26g、1.07規定カリウム−t−ブトキサイドt
−ブタノール溶液1.5g及びプソイドクメン80ml
をとり、7時間加熱還流した。 水洗、乾燥後不溶物を別し、冷蔵庫中に一夜
放置し、黄色粉末の生成物を得た。 元素分析、赤外分光分析の結果次式で表わされ
る2−ヒドロキシ−4−〔2−ヒドロキシ−3−
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキ
シピペリジン−1−イル)〕プロポキシベンゾフ
エノンであることが確認された。 上記化合物1.72g、コハク酸ジエチル0.70g、
テトライソプロピルチタネート0.05g及びプソイ
ドクメン10mlをとり、窒素気流下7時間加熱還流
した。 生成した淡褐色の沈澱物を別、乾燥し、軟化
点170〜205℃の淡黄色粉末の生成物を得た。 分子量 約4000 IR 1595cm-1、1610cm-1、1725cm-1 本発明は前記一般式()で表わされる化合物
を合成樹脂に添加してその耐光性を改善するもの
であり、その添加量は、通常、合成樹脂100重量
部に対し0.001〜10重量部、好ましくは0.01〜3
重量部である。 本発明における耐光性改善の対象となる合成樹
脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリブテン、ポリ−3−メチルブテン、な
どのα−オレフイン重合体またはエチレン−酢酸
ビニル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体
などのポリオレフインおよびこれらの共重合体、
ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフツ化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレ
ン、塩素化ポリプロピレン、ポリフツソ化ビニリ
デン、臭素化ポリエチレン、塩化ゴム、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−エチレン
共重合体、塩化ビニル−プロピレン共重合体、塩
化ビニル−スチレン共重合体、塩化ビニル−イソ
ブチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン
共重合体、塩化ビニル−スチレン−無水マレイン
酸三元共重合体、塩化ビニル−スチレン−アクリ
ロニトリル共重合体、塩化ビニル−ブタジエン共
重合体、塩化ビニル−イソプレン共重合体、塩化
ビニル−塩素化プロピレン共重合体、塩化ビニル
−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三元共重合体、塩
化ビニル−アクリル酸エステル共重合体、塩化ビ
ニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビニル
−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−
アクリロニトリル共重合体、内部可塑化ポリ塩化
ビニルなどの含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、ク
マロン樹脂、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ア
クリル樹脂、スチレンと他の単量体(例えば無水
マレイン酸、ブタジエン、アクリロニトリルな
ど)との共重合体、アクリロニトリル−ブタジエ
ン−スチレン共重合体、アクリル酸エステル−ブ
タジエン−スチレン共重合体、メタクリル酸エス
テル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリメチ
ルメタクリレートなどのメタクリレート樹脂、ポ
リビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポ
リビニルブチラール、直鎖ポリエステル、ポリフ
エニレンオキシド、ポリアミド、ポリカーボネー
ト、ポリアセタール、ポリウレタン、繊維素系樹
脂、あるいはフエノール樹脂、ユリア樹脂、メラ
ミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂、シリコーン樹脂などを挙げることができる。
更に、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリ
ロニトリル−ブタジエン共重合ゴム、スチレン−
ブタジエン共重合ゴムなどのゴム類やこれらの樹
脂のブレンド品であつてもよい。 また、過酸化物あるいは放射線等によつて架橋
させた架橋ポリエチレン等の架橋重合体及び発泡
剤によつて発泡させた発泡ポリスチレン等の発泡
重合体も包含される。 本発明の組成物にさらにフエノール系の抗酸化
剤を添加することによつて酸化安定性を改善する
ことができる。これらのフエノール系抗酸化剤と
してはたとえば、2,6−ジ−第3ブチル−p−
クレゾール、2,6−ジフエニル−4−オクタデ
シロキシフエノール、ステアリル−(3,5−ジ
−メチル−4−ヒドロキシベンジル)チオグリコ
レート、ステアリル−β−(4−ヒドロキシ−3,
5−ジ−第3ブチルフエニル)プロピオネート、
ジステアリル−3,5−ジ−第3ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジルホスホネート、2,4,6−ト
リス(3′,5′−ジ−第3ブチル−4′−ヒドロキシ
ベンジルチオ)−1,3,5−トリアジン、ジス
テアリル(4−ヒドロキシ−3−メチル−5−第
3ブチル)ベンジルマロネート、2,2′−メチレ
ンビス(4−メチル−6−第3ブチルフエノー
ル)、4,4′−メチレンビス(2,6−ジ−第3
ブチルフエノール)、2,2′−メチレンビス〔6
−(1−メチルシクロヘキシル)p−クレゾー
ル〕、ビス〔3,5−ビス(4−ヒドロキシ−3
−第3ブチルフエニル)ブチリツクアシド〕グリ
コールエステル、4,4′−ブチリデンビス(6−
第3ブチル−m−クレゾール)、2,2′−エチリ
デンビス(4,6−ジ−第3ブチルフエノール)、
2,2′−エチリデンビス(4−第2ブチル−6−
第3ブチルフエノール)、1,1,3−トリス
(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−第3ブチル
フエニル)ブタン、ビス〔2−第3ブチル−4−
メチル−6−(2−ヒドロキシ−3−第3ブチル
−5−メチルベンジル)フエニル〕テレフタレー
ト、1,3,5−トリス(2,6−ジメチル−3
−ヒドロキシ−4−第3ブチル)ベンジルイソシ
アヌレート、1,3,5−トリス(3,5−ジ−
第3ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,
6−トリメチルベンゼン、テトラキス〔メチレン
−3−(3,5−ジ−第3ブチル−4−ヒドロキ
シフエニル)プロピオネート〕メタン、1,3,
5−トリス(3,5−ジ−第3ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル)イソシアヌレート、1,3,5
−トリス〔(3,5−ジ−第3ブチル−4−ヒド
ロキシフエニル)プロピオニルオキシエチル〕イ
ソシアヌレート、2−オクチルチオ−4,6−ジ
(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−第3ブチル)フ
エノキシ−1,3,5−トリアジン、4,4′−チ
オビス(6−第3ブチル−m−クレゾール)など
のフエノール類及び4,4′−ブチリデンビス(2
−第3ブチル−5−メチルフエノール)の炭酸オ
リゴエステル(例えば重合度2,3,4,5,
6,7,8,9,10など)などの多価フエノール
炭酸オリゴエステル類があげられる。 本発明の組成物にさらに硫黄系の抗酸化剤を加
えてその酸化安定性の改善をはかることもでき
る。これらの硫黄系抗酸化剤としては、例えばジ
ラウリル−、ジミリスチル−、ジステアリル−な
どのジアルキルチオジプロピオネート及びブチル
−、オクチル−、ラウリル−、ステアリル−など
のアルキルチオプロピオン酸の多価アルコール
(例えばグリセリン、トリメチロールエタン、ト
リメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、
トリスヒドロキシエチルイソシアヌレート)のエ
ステル(例えばペンタエリスリトールテトララウ
リルチオプロピオネート)があげられる。 本発明の組成物に、さらにホスフアイト等の含
リン化合物を添加することによつて、耐光性及び
耐熱性を改善することができる。この含リン化合
物としては、例えばトリオクチルホスフアイト、
トリラウリルホスフアイト、トリデシルホスフア
イト、オクチル−ジフエニルホスフアイト、トリ
ス(2,4−ジ−第3ブチルフエニル)ホスフア
イト、トリフエニルホスフアイト、トリス(ブト
キシエチル)ホスフアイト、トリス(ノニルフエ
ニル)ホスフアイト、ジステアリルペンタエリス
リトールジホスフアイト、テトラ(トリデシル)
−1,1,3−トリス(2−メチル−5−第3ブ
チル−4−ヒドロキシフエニル)ブタンジホスフ
アイト、テトラ(C12〜15混合アルキル)−4,4′−
イソプロピリデンジフエニルジホスフアイト、テ
トラ(トリデシル)−4,4′−ブチリデンビス
(3−メチル−6−第3ブチルフエノール)ジホ
スフアイト、トリス(3,5−ジ−第3ブチル−
4−ヒドロキシフエニル)ホスフアイト、トリス
(モノ・ジ混合ノニルフエニル)ホスフアイト、
水素化−4,4′−イソプロピリデンジフエノール
ポリホスフアイト、ビス(オクチルフエニル)・
ビス〔4,4′−ブチリデンビス(3−メチル−6
−第3ブチルフエノール)〕・1,6−ヘキサンジ
オールジホスフアイト、フエニル・4,4′−イソ
プロピリデンジフエノール・ペンタエリスリトー
ルジホスフアイト、ビス(2,4,−ジ−第3ブ
チルフエニル)ペンタエリスリトールジホスフア
イト、ビス(2,6−ジ−第3ブチル−4−メチ
ルフエニル)ペンタエリスリトールジホスフアイ
ト、トリス〔4,4′−イソプロピリデンビス(2
−第3ブチルフエノール)〕ホスフアイト、フエ
ニル・ジイソデシルホスフアイト、ジ(ノニルフ
エニル)ペンタエリスリトールジホスフアイト、
トリス(1,3−ジ−ステアロイルオキシイソプ
ロピル)ホスフアイト、4,4′−イソプロピリデ
ンビス(2−第3ブチルフエノール)・ジ(ノニ
ルフエニル)ホスフアイト、9,10−ジ−ハイド
ロ−9−オキサ−10−フオスフアフエナンスレン
−10−オキサイド、テトラキス(2,4−ジ−第
3ブチルフエニル)−4,4′−ビフエニレンジホ
スホナイトなどがあげられる。 本発明の組成物に他の光安定剤を添加すること
によつてその耐光性をさらに改善することができ
る。これらの光安定剤としては、例えば、2−ヒ
ドロキシ−4−メトキシベンゾフエノン、2−ヒ
ドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフエノン、
2,2′−ジ−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフ
エノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフエノン等
のヒドロキシベンゾフエノン類、2−(2′−ヒド
ロキシ−3′−t−ブチル−5′−メチルフエニル)
−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒ
ドロキシ−3′,5′−ジ−t−ブチルフエニル)−
5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒド
ロキシ−5′−メチルフエニル)ベンゾトリアゾー
ル、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−アミ
ルフエニル)ベンゾトリアゾール等のベンゾトリ
アゾール類、フエニルサリシレート、p−t−ブ
チルフエニルサリシレート、2,4−ジ−t−ブ
チルフエニル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−3,5−
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート等
のベンゾエート類、2,2′−チオビス(4−t−
オクチルフエノール)Ni塩、〔2,2′−チオビス
(4−t−オクチルフエノラート)〕−n−ブチル
アミンNi、(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル)ホスホン酸モノエチルエステル
Ni塩等のニツケル化合物類、α−シアノ−β−
メチル−β−(p−メトキシフエニル)アクリル
酸メチル等の置換アクリロニトリル類、N−2−
エチルフエニル−N′−2−エトキシ−5−第3
ブチルフエニルシユウ酸ジアミド、N−2−エチ
ルフエニル−N′−2−エトキシフエニルシユウ
酸ジアミド等のシユウ酸ジアニリド類及びビス
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペ
ンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、トリ
ス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリ
ジル)ニトリロトリアセテート、テトラ(2,
2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブ
タンテトラカルボキシレート、ビス(1,2,
2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−
3,5−ジ−第3ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル−n−ブチルマロネート、第3オクチルアミ
ン/N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミ
ン/塩化シアヌル縮合物、コハク酸ジメチル/1
−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テ
トラメチル−4−ヒドロキシピペリジン縮合物、
ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペ
リジル)・ペンタエリスリトールジホスフアイト
等のピペリジン化合物があげられる。 その他必要に応じて、本発明組成物は重金属不
活性化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合物、
可塑剤、エポキシ化合物、顔料、充填剤、発泡
剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、加工助剤等を包
含させることができる。 次に本発明を実施例によつて具体的に説明す
る。しかしながら、本発明はこれらの実施例によ
つて限定されるものではない。 実施例 1 ポリプロピレン 100重量部 ステアリル−β−3,5−ジ−第3ブチル−4−
ヒドロキシフエニルプロピオネート 0.2 安定剤(試料 表−2) 0.3 上記配合にて厚さ0.3mmのプレスシートを作成
し、高圧水銀ランプを用いて耐光性試験を行なつ
た。また80℃の熱水に15時間浸漬後のシートにつ
いても耐光性試験を行なつた。その結果を表−2
に示す。
ルエステル、ジイソシアネート類、炭酸ジエステ
ル類と反応せしめることによつて容易に製造する
ことができる。 次に本発明で用いられる化合物の具体的な合成
例を記すが、本発明はこれらの合成例によつて制
限を受けるものではない。 合成例 表−1、No.1化合物の合成 2,4−ジヒドロキシベンゾフエノン4.32g、
1−(2,3−エポキシプロピル)−2,2,6,
6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジン
4.26g、1.07規定カリウム−t−ブトキサイドt
−ブタノール溶液1.5g及びプソイドクメン80ml
をとり、7時間加熱還流した。 水洗、乾燥後不溶物を別し、冷蔵庫中に一夜
放置し、黄色粉末の生成物を得た。 元素分析、赤外分光分析の結果次式で表わされ
る2−ヒドロキシ−4−〔2−ヒドロキシ−3−
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキ
シピペリジン−1−イル)〕プロポキシベンゾフ
エノンであることが確認された。 上記化合物1.72g、コハク酸ジエチル0.70g、
テトライソプロピルチタネート0.05g及びプソイ
ドクメン10mlをとり、窒素気流下7時間加熱還流
した。 生成した淡褐色の沈澱物を別、乾燥し、軟化
点170〜205℃の淡黄色粉末の生成物を得た。 分子量 約4000 IR 1595cm-1、1610cm-1、1725cm-1 本発明は前記一般式()で表わされる化合物
を合成樹脂に添加してその耐光性を改善するもの
であり、その添加量は、通常、合成樹脂100重量
部に対し0.001〜10重量部、好ましくは0.01〜3
重量部である。 本発明における耐光性改善の対象となる合成樹
脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリブテン、ポリ−3−メチルブテン、な
どのα−オレフイン重合体またはエチレン−酢酸
ビニル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体
などのポリオレフインおよびこれらの共重合体、
ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフツ化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレ
ン、塩素化ポリプロピレン、ポリフツソ化ビニリ
デン、臭素化ポリエチレン、塩化ゴム、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−エチレン
共重合体、塩化ビニル−プロピレン共重合体、塩
化ビニル−スチレン共重合体、塩化ビニル−イソ
ブチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン
共重合体、塩化ビニル−スチレン−無水マレイン
酸三元共重合体、塩化ビニル−スチレン−アクリ
ロニトリル共重合体、塩化ビニル−ブタジエン共
重合体、塩化ビニル−イソプレン共重合体、塩化
ビニル−塩素化プロピレン共重合体、塩化ビニル
−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三元共重合体、塩
化ビニル−アクリル酸エステル共重合体、塩化ビ
ニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビニル
−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−
アクリロニトリル共重合体、内部可塑化ポリ塩化
ビニルなどの含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、ク
マロン樹脂、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ア
クリル樹脂、スチレンと他の単量体(例えば無水
マレイン酸、ブタジエン、アクリロニトリルな
ど)との共重合体、アクリロニトリル−ブタジエ
ン−スチレン共重合体、アクリル酸エステル−ブ
タジエン−スチレン共重合体、メタクリル酸エス
テル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリメチ
ルメタクリレートなどのメタクリレート樹脂、ポ
リビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポ
リビニルブチラール、直鎖ポリエステル、ポリフ
エニレンオキシド、ポリアミド、ポリカーボネー
ト、ポリアセタール、ポリウレタン、繊維素系樹
脂、あるいはフエノール樹脂、ユリア樹脂、メラ
ミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂、シリコーン樹脂などを挙げることができる。
更に、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリ
ロニトリル−ブタジエン共重合ゴム、スチレン−
ブタジエン共重合ゴムなどのゴム類やこれらの樹
脂のブレンド品であつてもよい。 また、過酸化物あるいは放射線等によつて架橋
させた架橋ポリエチレン等の架橋重合体及び発泡
剤によつて発泡させた発泡ポリスチレン等の発泡
重合体も包含される。 本発明の組成物にさらにフエノール系の抗酸化
剤を添加することによつて酸化安定性を改善する
ことができる。これらのフエノール系抗酸化剤と
してはたとえば、2,6−ジ−第3ブチル−p−
クレゾール、2,6−ジフエニル−4−オクタデ
シロキシフエノール、ステアリル−(3,5−ジ
−メチル−4−ヒドロキシベンジル)チオグリコ
レート、ステアリル−β−(4−ヒドロキシ−3,
5−ジ−第3ブチルフエニル)プロピオネート、
ジステアリル−3,5−ジ−第3ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジルホスホネート、2,4,6−ト
リス(3′,5′−ジ−第3ブチル−4′−ヒドロキシ
ベンジルチオ)−1,3,5−トリアジン、ジス
テアリル(4−ヒドロキシ−3−メチル−5−第
3ブチル)ベンジルマロネート、2,2′−メチレ
ンビス(4−メチル−6−第3ブチルフエノー
ル)、4,4′−メチレンビス(2,6−ジ−第3
ブチルフエノール)、2,2′−メチレンビス〔6
−(1−メチルシクロヘキシル)p−クレゾー
ル〕、ビス〔3,5−ビス(4−ヒドロキシ−3
−第3ブチルフエニル)ブチリツクアシド〕グリ
コールエステル、4,4′−ブチリデンビス(6−
第3ブチル−m−クレゾール)、2,2′−エチリ
デンビス(4,6−ジ−第3ブチルフエノール)、
2,2′−エチリデンビス(4−第2ブチル−6−
第3ブチルフエノール)、1,1,3−トリス
(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−第3ブチル
フエニル)ブタン、ビス〔2−第3ブチル−4−
メチル−6−(2−ヒドロキシ−3−第3ブチル
−5−メチルベンジル)フエニル〕テレフタレー
ト、1,3,5−トリス(2,6−ジメチル−3
−ヒドロキシ−4−第3ブチル)ベンジルイソシ
アヌレート、1,3,5−トリス(3,5−ジ−
第3ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,
6−トリメチルベンゼン、テトラキス〔メチレン
−3−(3,5−ジ−第3ブチル−4−ヒドロキ
シフエニル)プロピオネート〕メタン、1,3,
5−トリス(3,5−ジ−第3ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル)イソシアヌレート、1,3,5
−トリス〔(3,5−ジ−第3ブチル−4−ヒド
ロキシフエニル)プロピオニルオキシエチル〕イ
ソシアヌレート、2−オクチルチオ−4,6−ジ
(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−第3ブチル)フ
エノキシ−1,3,5−トリアジン、4,4′−チ
オビス(6−第3ブチル−m−クレゾール)など
のフエノール類及び4,4′−ブチリデンビス(2
−第3ブチル−5−メチルフエノール)の炭酸オ
リゴエステル(例えば重合度2,3,4,5,
6,7,8,9,10など)などの多価フエノール
炭酸オリゴエステル類があげられる。 本発明の組成物にさらに硫黄系の抗酸化剤を加
えてその酸化安定性の改善をはかることもでき
る。これらの硫黄系抗酸化剤としては、例えばジ
ラウリル−、ジミリスチル−、ジステアリル−な
どのジアルキルチオジプロピオネート及びブチル
−、オクチル−、ラウリル−、ステアリル−など
のアルキルチオプロピオン酸の多価アルコール
(例えばグリセリン、トリメチロールエタン、ト
リメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、
トリスヒドロキシエチルイソシアヌレート)のエ
ステル(例えばペンタエリスリトールテトララウ
リルチオプロピオネート)があげられる。 本発明の組成物に、さらにホスフアイト等の含
リン化合物を添加することによつて、耐光性及び
耐熱性を改善することができる。この含リン化合
物としては、例えばトリオクチルホスフアイト、
トリラウリルホスフアイト、トリデシルホスフア
イト、オクチル−ジフエニルホスフアイト、トリ
ス(2,4−ジ−第3ブチルフエニル)ホスフア
イト、トリフエニルホスフアイト、トリス(ブト
キシエチル)ホスフアイト、トリス(ノニルフエ
ニル)ホスフアイト、ジステアリルペンタエリス
リトールジホスフアイト、テトラ(トリデシル)
−1,1,3−トリス(2−メチル−5−第3ブ
チル−4−ヒドロキシフエニル)ブタンジホスフ
アイト、テトラ(C12〜15混合アルキル)−4,4′−
イソプロピリデンジフエニルジホスフアイト、テ
トラ(トリデシル)−4,4′−ブチリデンビス
(3−メチル−6−第3ブチルフエノール)ジホ
スフアイト、トリス(3,5−ジ−第3ブチル−
4−ヒドロキシフエニル)ホスフアイト、トリス
(モノ・ジ混合ノニルフエニル)ホスフアイト、
水素化−4,4′−イソプロピリデンジフエノール
ポリホスフアイト、ビス(オクチルフエニル)・
ビス〔4,4′−ブチリデンビス(3−メチル−6
−第3ブチルフエノール)〕・1,6−ヘキサンジ
オールジホスフアイト、フエニル・4,4′−イソ
プロピリデンジフエノール・ペンタエリスリトー
ルジホスフアイト、ビス(2,4,−ジ−第3ブ
チルフエニル)ペンタエリスリトールジホスフア
イト、ビス(2,6−ジ−第3ブチル−4−メチ
ルフエニル)ペンタエリスリトールジホスフアイ
ト、トリス〔4,4′−イソプロピリデンビス(2
−第3ブチルフエノール)〕ホスフアイト、フエ
ニル・ジイソデシルホスフアイト、ジ(ノニルフ
エニル)ペンタエリスリトールジホスフアイト、
トリス(1,3−ジ−ステアロイルオキシイソプ
ロピル)ホスフアイト、4,4′−イソプロピリデ
ンビス(2−第3ブチルフエノール)・ジ(ノニ
ルフエニル)ホスフアイト、9,10−ジ−ハイド
ロ−9−オキサ−10−フオスフアフエナンスレン
−10−オキサイド、テトラキス(2,4−ジ−第
3ブチルフエニル)−4,4′−ビフエニレンジホ
スホナイトなどがあげられる。 本発明の組成物に他の光安定剤を添加すること
によつてその耐光性をさらに改善することができ
る。これらの光安定剤としては、例えば、2−ヒ
ドロキシ−4−メトキシベンゾフエノン、2−ヒ
ドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフエノン、
2,2′−ジ−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフ
エノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフエノン等
のヒドロキシベンゾフエノン類、2−(2′−ヒド
ロキシ−3′−t−ブチル−5′−メチルフエニル)
−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒ
ドロキシ−3′,5′−ジ−t−ブチルフエニル)−
5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒド
ロキシ−5′−メチルフエニル)ベンゾトリアゾー
ル、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−アミ
ルフエニル)ベンゾトリアゾール等のベンゾトリ
アゾール類、フエニルサリシレート、p−t−ブ
チルフエニルサリシレート、2,4−ジ−t−ブ
チルフエニル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−3,5−
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート等
のベンゾエート類、2,2′−チオビス(4−t−
オクチルフエノール)Ni塩、〔2,2′−チオビス
(4−t−オクチルフエノラート)〕−n−ブチル
アミンNi、(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル)ホスホン酸モノエチルエステル
Ni塩等のニツケル化合物類、α−シアノ−β−
メチル−β−(p−メトキシフエニル)アクリル
酸メチル等の置換アクリロニトリル類、N−2−
エチルフエニル−N′−2−エトキシ−5−第3
ブチルフエニルシユウ酸ジアミド、N−2−エチ
ルフエニル−N′−2−エトキシフエニルシユウ
酸ジアミド等のシユウ酸ジアニリド類及びビス
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペ
ンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、トリ
ス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリ
ジル)ニトリロトリアセテート、テトラ(2,
2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブ
タンテトラカルボキシレート、ビス(1,2,
2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−
3,5−ジ−第3ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル−n−ブチルマロネート、第3オクチルアミ
ン/N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミ
ン/塩化シアヌル縮合物、コハク酸ジメチル/1
−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テ
トラメチル−4−ヒドロキシピペリジン縮合物、
ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペ
リジル)・ペンタエリスリトールジホスフアイト
等のピペリジン化合物があげられる。 その他必要に応じて、本発明組成物は重金属不
活性化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合物、
可塑剤、エポキシ化合物、顔料、充填剤、発泡
剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、加工助剤等を包
含させることができる。 次に本発明を実施例によつて具体的に説明す
る。しかしながら、本発明はこれらの実施例によ
つて限定されるものではない。 実施例 1 ポリプロピレン 100重量部 ステアリル−β−3,5−ジ−第3ブチル−4−
ヒドロキシフエニルプロピオネート 0.2 安定剤(試料 表−2) 0.3 上記配合にて厚さ0.3mmのプレスシートを作成
し、高圧水銀ランプを用いて耐光性試験を行なつ
た。また80℃の熱水に15時間浸漬後のシートにつ
いても耐光性試験を行なつた。その結果を表−2
に示す。
【表】
実施例 2
通常の安定剤は樹脂の高温加工時に揮発、分解
等によりその効果が著るしく失なわれることが知
られている。 本実施例では押し出し加工を繰り返し行なうこ
とにより高温加工による影響を確かめた。 次の配合により樹脂と添加剤をミキサーで5分
間混合した後、押し出し機でコンパウンドを作成
した。(シリンダー温度230℃、240℃、ヘツドダ
イス温度250℃、回転数20rpm)押し出しを5回
繰り返し行なつた後このコンパウンドを用いて試
験片を射出成形機で作成した。(シリンダー温度
240℃、ノズル温度250℃、射出圧475Kg/cm2) 得られた試験片を用いて高圧水銀ランプで耐光
性試験を行なつた。また、押し出し1回のものに
ついても同様に試験した。その結果を表−3に示
す。 <配合> エチレン−プロピレン共重合樹脂 100重量部 ステアリン酸カルシウム 0.2重量部 ステアリル−β−3,5−ジ−第3ブチル−4−
ヒドロキシフエニルプロピオネート 0.1 ジラウリルチオジプロピオネート 0.2 安定剤(試料 表−3) 0.2
等によりその効果が著るしく失なわれることが知
られている。 本実施例では押し出し加工を繰り返し行なうこ
とにより高温加工による影響を確かめた。 次の配合により樹脂と添加剤をミキサーで5分
間混合した後、押し出し機でコンパウンドを作成
した。(シリンダー温度230℃、240℃、ヘツドダ
イス温度250℃、回転数20rpm)押し出しを5回
繰り返し行なつた後このコンパウンドを用いて試
験片を射出成形機で作成した。(シリンダー温度
240℃、ノズル温度250℃、射出圧475Kg/cm2) 得られた試験片を用いて高圧水銀ランプで耐光
性試験を行なつた。また、押し出し1回のものに
ついても同様に試験した。その結果を表−3に示
す。 <配合> エチレン−プロピレン共重合樹脂 100重量部 ステアリン酸カルシウム 0.2重量部 ステアリル−β−3,5−ジ−第3ブチル−4−
ヒドロキシフエニルプロピオネート 0.1 ジラウリルチオジプロピオネート 0.2 安定剤(試料 表−3) 0.2
【表】
実施例 3
ポリエチレン 100重量部
Ca−ステアレート 1.0
テトラキス〔メチレン−3−(3,5−ジ−第3
ブチル−4−ヒドロキシフエニル)プロピオネー
ト〕メタン 0.1 ジステアリルチオジプロピオネート 0.3 安定剤(試料 表−4) 0.2 上記配合物を混練後プレスして厚さ0.5mmのシ
ートを作成した。このシートを用いてウエザオメ
ーター中で耐光性を測定し、脆化するまでの時間
を測定した。その結果を表−4に示す。
ブチル−4−ヒドロキシフエニル)プロピオネー
ト〕メタン 0.1 ジステアリルチオジプロピオネート 0.3 安定剤(試料 表−4) 0.2 上記配合物を混練後プレスして厚さ0.5mmのシ
ートを作成した。このシートを用いてウエザオメ
ーター中で耐光性を測定し、脆化するまでの時間
を測定した。その結果を表−4に示す。
【表】
【表】
実施例 4
エチレン−酢酸ビニルコポリマー 100重量部
2,6−ジ−第3ブチル−p−クレゾール
0.1 Ca−ステアレート 0.1 Zn−ステアレート 0.1 ジイソデシルフエニルホスフアイト 0.2 安定剤(試料 表−5) 0.2 上記配合物をロール上130℃で混練後、140℃で
プレスシート(厚さ0.4mm)を作成した。このシ
ートをウエザオメーター中で500時間照射後の抗
張力残率を測定した。その結果を表−5に示す。
0.1 Ca−ステアレート 0.1 Zn−ステアレート 0.1 ジイソデシルフエニルホスフアイト 0.2 安定剤(試料 表−5) 0.2 上記配合物をロール上130℃で混練後、140℃で
プレスシート(厚さ0.4mm)を作成した。このシ
ートをウエザオメーター中で500時間照射後の抗
張力残率を測定した。その結果を表−5に示す。
【表】
【表】
実施例 5
ポリ塩化ビニル 100重量部
ジオクチルフタレート 48
エポキシ化大豆油 2
トリスノニルフエニルホスフアイト 0.2
Ca−ステアレート 1.0
Zn−ステアレート 0.1
安定剤(試料 表−6) 0.3
上記配合物をロール上で混練し厚さ1mmのシー
トを作成した。このシートを用いウエザオメータ
ー中での耐光性試験を行なつた。その結果を表−
6に示す。
トを作成した。このシートを用いウエザオメータ
ー中での耐光性試験を行なつた。その結果を表−
6に示す。
【表】
実施例 6
ABS樹脂 100重量部
4,4′−ブチリデンビス(2−第3ブチル−m−
クレゾール) 0.1 安定剤(試料 表−7) 0.3 上記配合物をロール練り後プレスして厚さ3mm
のシートを作成した。このシートを用いウエザオ
メーターで800時間照射後の抗張力残率を測定し
た。その結果を表−7に示す。
クレゾール) 0.1 安定剤(試料 表−7) 0.3 上記配合物をロール練り後プレスして厚さ3mm
のシートを作成した。このシートを用いウエザオ
メーターで800時間照射後の抗張力残率を測定し
た。その結果を表−7に示す。
【表】
実施例 7
ポリウレタン樹脂(旭電化製U−100)100重量部
Ba−ステアレート 0.7
Zn−ステアレート 0.3
2,6−ジ−第3ブチル−p−クレゾール
0.1 安定剤(試料 表−8) 0.3 上記配合物を70℃で5分間ロール上で混練し、
120℃5分間プレスして厚さ0.5mmのシートを作成
した。このシートをフエードメーターにて30時間
照射後の伸び残率を測定した。その結果を表−8
に示す。
0.1 安定剤(試料 表−8) 0.3 上記配合物を70℃で5分間ロール上で混練し、
120℃5分間プレスして厚さ0.5mmのシートを作成
した。このシートをフエードメーターにて30時間
照射後の伸び残率を測定した。その結果を表−8
に示す。
【表】
実施例 8
本発明の化合物は塗料用の光安定剤としても有
用である。本実施例においては金属顔料を含有す
るベースコート及び透明なトツプコートからなる
二層金属光沢塗料についてその効果をみた。 (a) ベースコート塗料 メタクリル酸メチル100g、アクリル酸n−
ブチル66g、メタクリル酸−2−ヒドロキシエ
チル30g、メタクリル酸4g、キシレン80g及
びn−ブタノール20gをとり、110℃に加熱撹
拌しながらアゾビスイソブチロニトリル2g、
ドデシルメルカプタン0.5g、キシレン80g及
びn−ブタノール20gの溶液を3時間で滴下し
た。その後同温度で2時間撹拌し、樹脂固型分
50%のアクリル樹脂溶液を調製した。 上記アクリル樹脂12重量部、ブトキシ化メチ
ロールメラミン(三井東圧社製;ユーバン
20SE60;樹脂固型分60%)2.5重量部、セルロ
ースアセテートブチレート樹脂(20%酢酸ブチ
ル溶液)50重量部、アルミニウム顔料(東洋ア
ルミニウム社製;アルペースト1123N)5.5重
量部、キシレン10重量部、酢酸ブチル20重量部
及び銅フタロシアニンブルー0.2重量部をとり
ベースコート塗料とした。 (b) トツプコート塗料 上記アクリル樹脂48重量部、ブトキシ化メチ
ロールメラミン10重量部、キシレン10重量部、
ブチルグリコールアセテート4重量部及び試料
化合物0.15重量部(固型分に対し0.5%)をと
り、トツプコート塗料とした。プライマー処理
した鋼板にベースコート塗料を乾燥膜厚が20μ
になるようにスプレーし、10分間放置後トツプ
コート塗料を乾燥膜厚が30μになるようにスプ
レーした。15分間放置後140℃で30分間焼付し
試片とした。 上記試片をウエザオメーターに入れ塗膜のワ
レの発生するまでの時間を測定した。その結果
を表−9に示す。
用である。本実施例においては金属顔料を含有す
るベースコート及び透明なトツプコートからなる
二層金属光沢塗料についてその効果をみた。 (a) ベースコート塗料 メタクリル酸メチル100g、アクリル酸n−
ブチル66g、メタクリル酸−2−ヒドロキシエ
チル30g、メタクリル酸4g、キシレン80g及
びn−ブタノール20gをとり、110℃に加熱撹
拌しながらアゾビスイソブチロニトリル2g、
ドデシルメルカプタン0.5g、キシレン80g及
びn−ブタノール20gの溶液を3時間で滴下し
た。その後同温度で2時間撹拌し、樹脂固型分
50%のアクリル樹脂溶液を調製した。 上記アクリル樹脂12重量部、ブトキシ化メチ
ロールメラミン(三井東圧社製;ユーバン
20SE60;樹脂固型分60%)2.5重量部、セルロ
ースアセテートブチレート樹脂(20%酢酸ブチ
ル溶液)50重量部、アルミニウム顔料(東洋ア
ルミニウム社製;アルペースト1123N)5.5重
量部、キシレン10重量部、酢酸ブチル20重量部
及び銅フタロシアニンブルー0.2重量部をとり
ベースコート塗料とした。 (b) トツプコート塗料 上記アクリル樹脂48重量部、ブトキシ化メチ
ロールメラミン10重量部、キシレン10重量部、
ブチルグリコールアセテート4重量部及び試料
化合物0.15重量部(固型分に対し0.5%)をと
り、トツプコート塗料とした。プライマー処理
した鋼板にベースコート塗料を乾燥膜厚が20μ
になるようにスプレーし、10分間放置後トツプ
コート塗料を乾燥膜厚が30μになるようにスプ
レーした。15分間放置後140℃で30分間焼付し
試片とした。 上記試片をウエザオメーターに入れ塗膜のワ
レの発生するまでの時間を測定した。その結果
を表−9に示す。
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 合成樹脂100重量部に、次の一般式()で
表わされる化合物0.001〜10重量部を添加してな
る安定化された合成樹脂組成物。 (式中、XはCH−O−、
【式】または 【式】を示し、Yはカルボニ ル基、ジアシル基またはジカルバモイル基を示
す。Aは水素原子、アシル基またはR3−O−Y
−を示す。Bは−O−R3、 を示す。Zは【式】または 【式】を示す。R1は水 素原子、アルキル基またはハロゲン原子を示す。
R2は低級アルキル基を示す。R3はアルキル基ま
たはアリール基を示す。nは1〜30を示す。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15485082A JPS5943061A (ja) | 1982-09-06 | 1982-09-06 | 安定化合成樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15485082A JPS5943061A (ja) | 1982-09-06 | 1982-09-06 | 安定化合成樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5943061A JPS5943061A (ja) | 1984-03-09 |
| JPH0218346B2 true JPH0218346B2 (ja) | 1990-04-25 |
Family
ID=15593262
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15485082A Granted JPS5943061A (ja) | 1982-09-06 | 1982-09-06 | 安定化合成樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5943061A (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2602264B2 (ja) * | 1988-02-01 | 1997-04-23 | シーアイ化成 株式会社 | 農業用オレフイン系樹脂フイルム |
| IT1317848B1 (it) * | 2000-02-23 | 2003-07-15 | Great Lakes Chemical Europ | Composti appartenenti alla classe delle ammine stericamente impedite,procedimento per la loro preparazione e loro utilizzo, quali |
| US7772393B2 (en) * | 2005-06-13 | 2010-08-10 | Innovative Surface Technologies, Inc. | Photochemical crosslinkers for polymer coatings and substrate tie-layer |
| US7989619B2 (en) | 2005-07-14 | 2011-08-02 | Innovative Surface Technoloiges, Inc. | Nanotextured surfaces |
| WO2009002858A2 (en) | 2007-06-22 | 2008-12-31 | Innovative Surface Technologies, Inc. | Stimuli responsive nanofibers |
| WO2009002869A2 (en) | 2007-06-22 | 2008-12-31 | Innovative Surface Technologies, Inc. | Nanofibers containing latent reactive groups |
| WO2010028104A1 (en) | 2008-09-05 | 2010-03-11 | Innovative Surface Technologies, Inc. | Photoactivatable crosslinker compositions for surface modification |
| US8815259B2 (en) | 2008-09-19 | 2014-08-26 | Innovative Surface Technologies, Inc. | Drug eluting superhydrophobic coatings |
| US8691983B2 (en) | 2009-03-03 | 2014-04-08 | Innovative Surface Technologies, Inc. | Brush polymer coating by in situ polymerization from photoreactive surface |
| JP5875576B2 (ja) * | 2012-12-26 | 2016-03-02 | シプロ化成株式会社 | ベンゾトリアゾール化合物及びこれを用いた化粧用紫外線吸収剤と皮膚外用剤 |
-
1982
- 1982-09-06 JP JP15485082A patent/JPS5943061A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5943061A (ja) | 1984-03-09 |
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