JPS598774Y2 - 光フアイバ被覆材料塗布装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は光ファイバに被覆材料を塗布する際に使用され
る塗布装置に関するものである。

光ガラスファイバは表面に傷がつき易く、傷の発生によ
り実用強度を大きく低下させている。

これを避けるため、光ファイバの紡糸直後に、光ファイ
バ表面に被覆材料を塗布乾燥させ、保護膜を形或するこ
とが試みられている。

このように被覆された光ファイバの強度は、被覆されて
いない光ファイバに比べてｌ桁以上も大きくなることが
知られている。

この被覆材料の塗布工程における塗布装置は、均一な被
膜を得るために、ファイバの通過孔を精度よく形或する
ことが必要であり、また被覆の目的を達成するためには
、塗布時にファイバを傷つけることを避けなければなら
ない。

従来、一般に塗布装置は金属またはプラスチックもしく
はゴム等で形威されていたが、金属は機械精度が良いの
で、精度よく通過孔を形戒できる半面、ファイバに傷を
つけ易く、またプラスチックゴムはファイバを損傷する
ことはないが、機械精度が悪く、所望のファイバ通過孔
が得られず、均一な被覆が得られない欠点があった。

本考案はこれらの欠点を除去するため、機械精度の良い
ダイスの内側の表面に、ファイバを損傷することのない
高分子薄膜を形或したものである。

以下図面により本考案を詳細に説明する。

第１図は本考案において用いた線引き装置の構或を示し
、１は光ファイバ母材、２は母材送り、３は加熱炉、４
はファイバ、６は乾燥炉、７はキャプスタンまたはドラ
ムであり、５は本考案の塗布装置で、その拡大図を後述
する第２図に示す。

第１図に示す線引き装置を動作させるには、ファイバ母
材１を母材送り２に取り付け、加熱炉３に徐々に挿入す
る。

ファイバ母材１は加熱炉３内にて加熱軟化され、ファイ
バ４に線引きされる。

ファイバ４は線引きされた後、ただちに塗布装置５によ
ってプラスチックを塗布され、乾燥炉６によって乾燥さ
れ、プラスチック被覆が形或される。

第２図は本考案の一実施例を示し、８はダイス基材、９
は高分子薄膜である。

本考案における塗布装置のダイス基材としては、真鍮、
アルミ、銅等の金属が挙げられ、高分子薄膜を形戊する
高分子材料としては、特に限定するものではないが、ポ
リーｐ−キシリレン、ポリイミドエポキシ樹脂、シリコ
ーン樹脂またはテフロン等のクロロカーボンポリマがあ
げられる。

本考案において、金属塗布装置のダイスの内側の表面に
高分子薄膜を形或する方法としては、キャスティング、
蒸着、プラズマ重合、電着、スプレー、静電塗装、浸漬
、ローラコーター、流動浸漬などの方法が適用できるが
、均一な薄膜を形或するには、蒸着、プラズマ重合、ス
プレー法が適している。

また本考案における光ファイバとは、導波構造を有する
石英ガラスまたはアルカリ金属、アルカリ上類金属を含
むシリカガラスを主或分とする通常、その直径が１００
〜２００μｍのモノフィラメントをさす。

以下実施例について説明する。

実施例 １ 蒸着法により、ダイスの内側の表面に３０ＯＡのポリー
ｐ−キシリレンの薄膜を形或した真鍮製塗布装置により
、線引き直後の石英光ファイバにポリウレタンを塗布し
、次の工程において乾燥硬化させた。

得られた光ファイバの被覆は均一であり、その平均強度
は５４０ｋｇ／ｍｍ２、また最低強度は４８０ｋｇ／ｍ
ｍ２であッタ。

実施例 ２ スプレー法により、ダイスの内側の表面に２μｍのエポ
キシ樹脂の薄膜を形或したアルミ製の塗布装置を用い、
線引き直後の石英光ファイバにポリウレタンを塗布し、
次の工程において、乾燥硬化させた。

得られた光ファイバの被覆は均一であり、その平均強度
は５３８ ｋｇ／ｍｍ２、また最低強度は４９２ ｋｇ
／ｍｍ２テあッタ。

実施例 ３ プラズマ重合法により、ダイスの内側の表面に２μｍの
へキサメチルジシロキサンの薄膜を形或した真鍮製の塗
布装置を用い、紡糸直後の石英光ファイバにポリウレタ
ンを塗布した後、次の工程において乾燥硬化させた。

得られた光ファイバの被覆は均一であり、その平均強度
は５２２ ｋｇ／ｍｍ２、最低強度は４９０ｋｇ／ｍｍ
２であった。

実施例 ４ 実施例３において、ヘキサメチルジシロキサンの代りに
、ノルボルナジエンを用い、平均強度５２７ｋｇ／ｍｍ
２、最低強度４８８ｋｇ／ｍｍ２ノ光ファイバを得た。

比較例 １ 真鍮製の塗布装置により、ポリウレタンを塗布した後、
次の工程において乾燥硬化させた。

得られた光ファイバの平均強度は５０２ｋｇ／ｍｍ２、
最低強度は１８０ ｋｇ／ｍｍ２であッタ。

比較例 ２ シリコーン樹脂からなる塗布装置を用い、紡糸直後の光
ファイバにポリウレタンを塗布した後、加熱硬化させた
。

得られた光ファイバの平均強度は５３８ｋｇ／ｍｍ２で
あったが、被膜表面は不均一であった。

以上説明したように、本考案の光ファイバ被覆材料塗布
装置は、機械精度の良い金属がらなるダイスの内側の表
面に高分子薄膜を有するので、均一な被膜が得られ、か
つ光ファイバを傷つけることがないので、高強度ファイ
バが得られる利点がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は光ファイバ線引き装置の構或図、第２図は本考
案の一実施例図である。 １・・・・・・ファイバ用母材、２・・・・・・母材送
リ、３・・・・・・加熱炉、４・・・・・・ファイバ、
５・・・・・・塗布装置、６・・・・・・乾燥炉、７・
・・・・・キャプスタンまたはドラム、８・・・・・・
ダイス基材、９・・・・・・高分子薄膜。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. ダイスによって光ファイバの表面にプラスチックを塗布
   する装置において、前記ダイスはその内側の表面に高分
   子薄膜を有する金属により形或されていることを特徴と
   する光ファイバ被覆材料塗布装置。