JPS598826B2 - 静電荷像現像用キヤリア - Google Patents
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Landscapes
- Developing Agents For Electrophotography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は静電荷像現像用キャリア、すなわちトナーと共
に静電荷像現像剤を構成するキャリアに関するものであ
る。
に静電荷像現像剤を構成するキャリアに関するものであ
る。
電子写真においては、光導電性要素よりなる感光体に暗
所にて均一な表面電荷を与えた後、画像露光により静電
荷潜像を形成し、この静電荷像を現像して可視像を形成
する。
所にて均一な表面電荷を与えた後、画像露光により静電
荷潜像を形成し、この静電荷像を現像して可視像を形成
する。
一般に斯かる静電荷像を現像する方法は液体現像法と乾
式現像法とに大別される。
式現像法とに大別される。
液体現像法は絶縁性有機液体中に各種の顔料や染料を微
細粒子として分散して成る液体現像剤を用いて現像する
方法であり、又乾式現像法は、天然または合成の樹脂中
にカーボンブラック等の着色材を分散含有して成るトナ
ーと称する微粉末検電粉を使用する現像方法である。
細粒子として分散して成る液体現像剤を用いて現像する
方法であり、又乾式現像法は、天然または合成の樹脂中
にカーボンブラック等の着色材を分散含有して成るトナ
ーと称する微粉末検電粉を使用する現像方法である。
この乾式現像方法には前記トナーのみを主成分とした現
像剤を用いるいわゆる、毛ブラシ法、インプレッション
法パウダークラウド法のほか鉄粉或いはガラスビーズ等
より成るキャリアと前記トナーとの混合体を現像剤とし
て用いる所謂、磁気ブラシ法、カスケード法がある。こ
れらの現像方法により、現像剤中に含有される電荷を有
するトナー粒子等の検電粒子が静電荷像に付着して可視
像が形成される。
像剤を用いるいわゆる、毛ブラシ法、インプレッション
法パウダークラウド法のほか鉄粉或いはガラスビーズ等
より成るキャリアと前記トナーとの混合体を現像剤とし
て用いる所謂、磁気ブラシ法、カスケード法がある。こ
れらの現像方法により、現像剤中に含有される電荷を有
するトナー粒子等の検電粒子が静電荷像に付着して可視
像が形成される。
この可視像は熱、圧力、溶媒蒸気等によりそのまま感光
体上にあるいは紙等の他の像支持体に転写され、後に定
着される。本発明は、上記現像方法のうち、磁気ブラシ
法およびカスケード法に用いる現像剤のキャリア、すな
わちトナーと共に攪拌されることによつてトナーに所望
の電荷を付与するためのキャリアに関するものである。
体上にあるいは紙等の他の像支持体に転写され、後に定
着される。本発明は、上記現像方法のうち、磁気ブラシ
法およびカスケード法に用いる現像剤のキャリア、すな
わちトナーと共に攪拌されることによつてトナーに所望
の電荷を付与するためのキャリアに関するものである。
一般にこのキャリアは導電性キャリアと絶縁性キャリア
とに大別することができる。
とに大別することができる。
導電性キャリアとしては通常酸化されたまたは未酸化の
鉄粉が用いられるが、この鉄粉キャリアを成分とする現
像剤においてはトナーに対する摩擦帯電特性が不安定で
あり、また現像剤により形成される可視像にカブリが発
生する欠点がある。
鉄粉が用いられるが、この鉄粉キャリアを成分とする現
像剤においてはトナーに対する摩擦帯電特性が不安定で
あり、また現像剤により形成される可視像にカブリが発
生する欠点がある。
すなわち、現像剤の使用に伴い鉄粉キャリア粒子の表面
にトナー粒子が付着するためキャリア粒子の電気抵抗が
増大してバイアス電流が低下し、しかも摩擦帯電特性が
不安定となり、この結果形成される可視像の画像濃度が
低下しカブリが増大する。従つて鉄粉キヤリアを含有す
る現像剤を用いて電子複写装置により連続的に複写を行
なうと少数回で現像剤が劣化するため現像剤を早期に交
換することが必要となり、結局コストが高いものとなる
。また絶縁性キヤリアとしては、一般に鉄、ニツケル、
フエライト等の強磁性体より成るキヤリア用核体粒子の
表面を絶縁性樹脂により均一に被覆したキャリアが代表
的なものである。
にトナー粒子が付着するためキャリア粒子の電気抵抗が
増大してバイアス電流が低下し、しかも摩擦帯電特性が
不安定となり、この結果形成される可視像の画像濃度が
低下しカブリが増大する。従つて鉄粉キヤリアを含有す
る現像剤を用いて電子複写装置により連続的に複写を行
なうと少数回で現像剤が劣化するため現像剤を早期に交
換することが必要となり、結局コストが高いものとなる
。また絶縁性キヤリアとしては、一般に鉄、ニツケル、
フエライト等の強磁性体より成るキヤリア用核体粒子の
表面を絶縁性樹脂により均一に被覆したキャリアが代表
的なものである。
この絶縁性キヤリアを用いた現像剤においてはキヤリア
粒子表面にトナー粒子が融着することが導電性キヤリア
の場合に比べ著しく少なく、同時にトナーとキャリアと
の摩擦帯電特性を制御することが容易であり、耐久性に
優れ使用寿命が長い点で特に高速の電子複写機に好適で
あるという利点がある。しかしながら、この絶縁性キヤ
リアにおいては、その核体粒子の表面を被覆する被覆材
が十分な耐摩滅性を有すること、キャリア粒子表面にト
ナーによる膜体が形成されぬよう被覆材が良好な固着防
止特性を有することおよびキャリアと共に用いられる特
定のトナーとの摩擦により所望の大きさおよび極性の帯
電状態が得られることが要求される。すなわち、絶縁性
キャリア粒子は現像器内において他のキャリア粒子、ト
ナー粒子および器壁等と摩擦されるが被覆材がこの摩擦
により摩滅するとトナーとの摩擦によつて生ずる帯電特
性の安定性が失われるようになり、結局トナー粒子に所
望の帯電状態を付与することができない。また、絶縁性
キヤリアの被覆材が十分な耐摩滅性を有していても、そ
の核体粒子に対する接着力が小さいと上述の摩擦により
被覆材が剥離し、あるいは砕けることにより同様に帯電
特性が失われるようになる。さらに被覆材の表面にトナ
ーが付着して被膜が形成されるとやはり帯電特性が不安
定となる。かかる場合には何れの場合においても現像剤
全体を早期に新しいものと交換する必要がある。またト
ナーに生ずる摩擦電荷の大きさおよび極性はキャリアの
電荷の大きさおよび極性によつて制御されるから、トナ
ーに所望の帯電状態を付与するためには当然キヤリアが
これに応じた帯電特性を有するものでなければならない
。この所望の帯電特性を有する為には従来染料、もしく
は帯電しやすい樹脂をバインダと共に溶剤中に溶解し、
コーテイング乾燥し被膜を形成していたが、染料は高価
であるという欠点を持ち、又帯電しやすい樹脂は溶剤及
びバインダとの相溶性という点に問題が有りいずれにし
ても好ましい物ではなかつた。本発明は以上の如き点に
鑑み十分大きな耐久性を有する」:、安定した摩擦帯電
特性を有し、従つて使用寿命が著しく長い静電荷像現像
用キヤリアを提供することを目的とする。本発明の他の
目的は被覆材が核体粒子に対して十分大きな付着力を有
し機械的に破壊されて剥離するおそれがなく、この点か
らも安定した摩擦帯電特性を有する静電荷像現像用キヤ
リアを提供する事にある。
粒子表面にトナー粒子が融着することが導電性キヤリア
の場合に比べ著しく少なく、同時にトナーとキャリアと
の摩擦帯電特性を制御することが容易であり、耐久性に
優れ使用寿命が長い点で特に高速の電子複写機に好適で
あるという利点がある。しかしながら、この絶縁性キヤ
リアにおいては、その核体粒子の表面を被覆する被覆材
が十分な耐摩滅性を有すること、キャリア粒子表面にト
ナーによる膜体が形成されぬよう被覆材が良好な固着防
止特性を有することおよびキャリアと共に用いられる特
定のトナーとの摩擦により所望の大きさおよび極性の帯
電状態が得られることが要求される。すなわち、絶縁性
キャリア粒子は現像器内において他のキャリア粒子、ト
ナー粒子および器壁等と摩擦されるが被覆材がこの摩擦
により摩滅するとトナーとの摩擦によつて生ずる帯電特
性の安定性が失われるようになり、結局トナー粒子に所
望の帯電状態を付与することができない。また、絶縁性
キヤリアの被覆材が十分な耐摩滅性を有していても、そ
の核体粒子に対する接着力が小さいと上述の摩擦により
被覆材が剥離し、あるいは砕けることにより同様に帯電
特性が失われるようになる。さらに被覆材の表面にトナ
ーが付着して被膜が形成されるとやはり帯電特性が不安
定となる。かかる場合には何れの場合においても現像剤
全体を早期に新しいものと交換する必要がある。またト
ナーに生ずる摩擦電荷の大きさおよび極性はキャリアの
電荷の大きさおよび極性によつて制御されるから、トナ
ーに所望の帯電状態を付与するためには当然キヤリアが
これに応じた帯電特性を有するものでなければならない
。この所望の帯電特性を有する為には従来染料、もしく
は帯電しやすい樹脂をバインダと共に溶剤中に溶解し、
コーテイング乾燥し被膜を形成していたが、染料は高価
であるという欠点を持ち、又帯電しやすい樹脂は溶剤及
びバインダとの相溶性という点に問題が有りいずれにし
ても好ましい物ではなかつた。本発明は以上の如き点に
鑑み十分大きな耐久性を有する」:、安定した摩擦帯電
特性を有し、従つて使用寿命が著しく長い静電荷像現像
用キヤリアを提供することを目的とする。本発明の他の
目的は被覆材が核体粒子に対して十分大きな付着力を有
し機械的に破壊されて剥離するおそれがなく、この点か
らも安定した摩擦帯電特性を有する静電荷像現像用キヤ
リアを提供する事にある。
本発明の他の目的は製造が容易であり、均一な正帯電を
有する静電荷像現像用キャリアを提供する事にある。
有する静電荷像現像用キャリアを提供する事にある。
本発明の更に他の目的は製造が容易であり均一な負帯電
を有する静電荷像現像用キヤリアを提供する事にある。
を有する静電荷像現像用キヤリアを提供する事にある。
本発明の前記した諸目的はエポキシ基を有する化合物と
パーフルオロアルキル基を有しない脂肪族第1級、第2
級アミン系化合物及び/あるいは窒素原子に結合した脂
肪族化合物が互いに環化して含窒素複素環を形成した第
1級、第2級アミン系化合物とを反応して得た樹脂(以
下本発明の樹脂と称する)を含有した被覆材によりキヤ
リア用核体粒子の表面を被覆した静電荷像現像用キャリ
アにより達成される。
パーフルオロアルキル基を有しない脂肪族第1級、第2
級アミン系化合物及び/あるいは窒素原子に結合した脂
肪族化合物が互いに環化して含窒素複素環を形成した第
1級、第2級アミン系化合物とを反応して得た樹脂(以
下本発明の樹脂と称する)を含有した被覆材によりキヤ
リア用核体粒子の表面を被覆した静電荷像現像用キャリ
アにより達成される。
本発明のキヤリアは樹脂自体に良好な正の帯電制御特性
を有するため、その製造にあたつて、帯電制御を目的と
したものを添加する必要がなく、本発明の樹脂は、通常
、側鎖に長鎖のアルキル基を有するため、帯電制御特性
が非常に安定しており、耐水性を有し、且つ高耐久性で
あるという特徴を有する。
を有するため、その製造にあたつて、帯電制御を目的と
したものを添加する必要がなく、本発明の樹脂は、通常
、側鎖に長鎖のアルキル基を有するため、帯電制御特性
が非常に安定しており、耐水性を有し、且つ高耐久性で
あるという特徴を有する。
本発明の樹脂を構成するエポキシ基を有する化合物とし
ては、該化合物が樹脂としての性質を有するものであつ
てもよいが、該化合物が樹脂としての性質を有しない、
重合前のモノマー、であつてもよい。
ては、該化合物が樹脂としての性質を有するものであつ
てもよいが、該化合物が樹脂としての性質を有しない、
重合前のモノマー、であつてもよい。
前記化合物が樹脂としての性質を有するものとし,ては
、例えばエポキシ樹脂、ノボラツク樹脂のグリシジルエ
ーテル、あるいはハロゲン化ビスフエノール類のグリシ
ジルエーテルがある。また前記化合物が樹脂としての性
質を有しないものとしては例えばグリシジルメタクリレ
ートまたはグリシジルアクリレートのコポリマーまたは
ホ※くモポリマ一がある。エポキシ基を有する化合物と
しては下記一般式〔1〕、〔〕、〔〕、〔〕、〔v〕、
〔〕、〔〕、〔〕および〔〕で示される化合物が好まし
いものとして挙げられる。
、例えばエポキシ樹脂、ノボラツク樹脂のグリシジルエ
ーテル、あるいはハロゲン化ビスフエノール類のグリシ
ジルエーテルがある。また前記化合物が樹脂としての性
質を有しないものとしては例えばグリシジルメタクリレ
ートまたはグリシジルアクリレートのコポリマーまたは
ホ※くモポリマ一がある。エポキシ基を有する化合物と
しては下記一般式〔1〕、〔〕、〔〕、〔〕、〔v〕、
〔〕、〔〕、〔〕および〔〕で示される化合物が好まし
いものとして挙げられる。
〔各式中、Rは水素原子またはメチル基、Xは水素原子
またはハロゲン原子、lは1〜15の整数nは011ま
たは2、ならびにpおよびqは1〜10の整数を表わす
。〕さらにエポキシ基を有する化合物としては下記一般
式〔X]で示される構成単位を有するホモポリマーもし
くはコポリマーが好ましいものとして挙げられる。
またはハロゲン原子、lは1〜15の整数nは011ま
たは2、ならびにpおよびqは1〜10の整数を表わす
。〕さらにエポキシ基を有する化合物としては下記一般
式〔X]で示される構成単位を有するホモポリマーもし
くはコポリマーが好ましいものとして挙げられる。
〔式中、R1は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基
を表わす。
を表わす。
〕そして一般式〔x〕で示される構成単位と共にコポリ
マ一を形成するモノマーとしては、スチレン、p−クロ
ルスチレン、p−メチルスチレン等のスチレン類;ビニ
ルナフタリン類;フツ化ビニル、塩化ビニル、臭化ビニ
ル等のハロゲン化ビニル類;エチレン、プロピレン、ブ
チレン、イソブチレン等のエチレン性不飽和モノオレフ
イン類;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ベンゾエ酸
ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類;アクリル酸
メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−ブチル、ア
クリル酸イソブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸
n−オクチル、アクリル酸(2−クロル)エチル、アク
リル酸フエニル、α−クロルアクリル酸メチル、メタク
リル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチ
ル等のα一メチレン脂肪族モノカルボン酸のエステル類
;ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニ
ルイソブチルエーテル等のビニルエーテル類;ビニルメ
チルケトン、ビニルヘキシルケトン、ビニルイソプロペ
ニルケトン等のビニルケトン類;N−ビニルピロール、
N−ビニルカルバゾール、N−ビニルインドール、N−
ビニルピロリドン等のN−ビニル化合物;アクリルアミ
ド等のα−メチレン脂肪族モノカルボン酸のアミド類;
アクリルニトリル;ならびにメタアクリルニトリルが挙
げられる。
マ一を形成するモノマーとしては、スチレン、p−クロ
ルスチレン、p−メチルスチレン等のスチレン類;ビニ
ルナフタリン類;フツ化ビニル、塩化ビニル、臭化ビニ
ル等のハロゲン化ビニル類;エチレン、プロピレン、ブ
チレン、イソブチレン等のエチレン性不飽和モノオレフ
イン類;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ベンゾエ酸
ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類;アクリル酸
メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−ブチル、ア
クリル酸イソブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸
n−オクチル、アクリル酸(2−クロル)エチル、アク
リル酸フエニル、α−クロルアクリル酸メチル、メタク
リル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチ
ル等のα一メチレン脂肪族モノカルボン酸のエステル類
;ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニ
ルイソブチルエーテル等のビニルエーテル類;ビニルメ
チルケトン、ビニルヘキシルケトン、ビニルイソプロペ
ニルケトン等のビニルケトン類;N−ビニルピロール、
N−ビニルカルバゾール、N−ビニルインドール、N−
ビニルピロリドン等のN−ビニル化合物;アクリルアミ
ド等のα−メチレン脂肪族モノカルボン酸のアミド類;
アクリルニトリル;ならびにメタアクリルニトリルが挙
げられる。
これらのエポキシ基を有する化合物としては、例えばエ
ピコート828、830、834、1001、1002
、1004、1007(いずれもシエル石油社製)、ア
ラルタイト6071、6084(いずれもチバ社製)、
ビスフエノールB、あるいはテトラクロルビスフエノー
ルAのグリシジルエーテルとして市販されている。
ピコート828、830、834、1001、1002
、1004、1007(いずれもシエル石油社製)、ア
ラルタイト6071、6084(いずれもチバ社製)、
ビスフエノールB、あるいはテトラクロルビスフエノー
ルAのグリシジルエーテルとして市販されている。
エポキシ基を有する化合物と反応するアミン系化合物と
しては第1級アミンまたは第2級アミン等が挙げられ、
そのうち第1級アミンまたは第2級アミン化合物として
は脂肪族系、芳香族系および複素環系の第1級アミンま
たは第2級アミン化合物が挙げられるが、本発明におい
てはアミン系化合物は脂肪族第1級アミンまたは第2級
アミン化合物が好ましい。
しては第1級アミンまたは第2級アミン等が挙げられ、
そのうち第1級アミンまたは第2級アミン化合物として
は脂肪族系、芳香族系および複素環系の第1級アミンま
たは第2級アミン化合物が挙げられるが、本発明におい
てはアミン系化合物は脂肪族第1級アミンまたは第2級
アミン化合物が好ましい。
そして炭素原子数4以上のアルキル基、アルケニル基を
有する脂肪族第1級アミンまたは第2級アミン化合物が
好ましい。本発明のアミン化合物の好ましいものとして
は下記一般式〔A〕で示される化合物である。一般式〔
A〕 一般式〔A〕中、Aはアルキル基(例えばアミル基ヘキ
シル基、ドデシル基、オクタデシル基)、アルケニル基
(例えばブテニル基、オクテニル基)または、ならびに
NおよびA〃は水素原子、アルキル基(例えばメチル基
、エチル基)、アルケニル基(例えばビニル基)または
を表わし、またAおよびNが互いに環化して含窒素複素
環(例えばイミダゾール環)を形成してもよい。
有する脂肪族第1級アミンまたは第2級アミン化合物が
好ましい。本発明のアミン化合物の好ましいものとして
は下記一般式〔A〕で示される化合物である。一般式〔
A〕 一般式〔A〕中、Aはアルキル基(例えばアミル基ヘキ
シル基、ドデシル基、オクタデシル基)、アルケニル基
(例えばブテニル基、オクテニル基)または、ならびに
NおよびA〃は水素原子、アルキル基(例えばメチル基
、エチル基)、アルケニル基(例えばビニル基)または
を表わし、またAおよびNが互いに環化して含窒素複素
環(例えばイミダゾール環)を形成してもよい。
尚、A(〜のうち少なくとも1方は水素原子である。前
述したA.Nおよび〜の各基および環は未置換のものの
他アミノ基、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキ
ル基、アラルキル基、等の任意の置換基で置換されたも
のも含む。
述したA.Nおよび〜の各基および環は未置換のものの
他アミノ基、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキ
ル基、アラルキル基、等の任意の置換基で置換されたも
のも含む。
一般式〔A〕において、Aはそれぞれ炭素原子数4以上
のアルキル基もしくはアルケニル基が好ましく、特にそ
れぞれ炭素原子数4〜22のアルキル基もしくはアルケ
ニル基が好ましく:Nおよびには水素原子、またはそれ
ぞれ炭素原子数4以下のアルキル基もしくはアルケニル
基が好ましい。
のアルキル基もしくはアルケニル基が好ましく、特にそ
れぞれ炭素原子数4〜22のアルキル基もしくはアルケ
ニル基が好ましく:Nおよびには水素原子、またはそれ
ぞれ炭素原子数4以下のアルキル基もしくはアルケニル
基が好ましい。
さらに、一般式〔A〕において、含窒素複素環としては
5〜7員の含窒素複素環が好ましい。以下に本発明のア
ミン化合物の代表的具体例を示す。例示化合物 (−1) ヘキシルアミン (−2) イソヘキシルアミン (−3) へブチルアミン (−4) オクチルアミン (−5) ノニルアミン (−6) デシルアミン (−7) ウンデシルアミン (−8) ドデシルアミン (−9) トリデシルアミン (−10) テトラデシルアミン (−11) ペンタデシルアミン (−12) ヘキサデシルアミン (−13) ヘプタデシルアミン (−14) オクタデシルアミン (−15) オクテニルアミン (−16) キシレンジアミン(異性体混合物)(−1
7) メチルエチルアミン(−18) メチルブチルア
ミン (−19) メチルアミルアミン (−20) メチルプロピルアミン (−21) エチルプロピルアミン (−22) ブチルイソブチルアミン (−23) エチレンジアミン (−24) トリメチレンジアミン (−25) ペンタメチレンジアミン (−26) ヘキサメチレンジアミン (−27) ヘプタメチレンジアミン (−28) オクタメチレンジアミン (−29) ノナメチレンジアミン (−30) デカメチレンジアミン (−31) ウンデカメチレンジアミン (−32) “ドデカメチレンジアミン (−33) ジエチレントリアミン (−34) トリエチレンテトラミン (−35) ジエチルアミノプロピルアミン(−36)
N−アミノエチルピペラジン(−37) ビスアミノ
プロピルテトラオキサスピロウンデカン付加物(−38
) エチルメチルイミダゾール (−44) ビスアミノプロピルテトラオキサスピロウ
ンデカン付加物(−45) エチルメチルイミダゾール 本発明の樹脂は、本発明のエポキシ基を有する化合物と
本発明のアミン化合物を粉砕混合した後熱溶融せしめ数
時間反応させるか、あるいは共に溶媒に溶解し、攪拌下
に加熱反応せしめた後、該溶媒を留去するかして製造す
る。
5〜7員の含窒素複素環が好ましい。以下に本発明のア
ミン化合物の代表的具体例を示す。例示化合物 (−1) ヘキシルアミン (−2) イソヘキシルアミン (−3) へブチルアミン (−4) オクチルアミン (−5) ノニルアミン (−6) デシルアミン (−7) ウンデシルアミン (−8) ドデシルアミン (−9) トリデシルアミン (−10) テトラデシルアミン (−11) ペンタデシルアミン (−12) ヘキサデシルアミン (−13) ヘプタデシルアミン (−14) オクタデシルアミン (−15) オクテニルアミン (−16) キシレンジアミン(異性体混合物)(−1
7) メチルエチルアミン(−18) メチルブチルア
ミン (−19) メチルアミルアミン (−20) メチルプロピルアミン (−21) エチルプロピルアミン (−22) ブチルイソブチルアミン (−23) エチレンジアミン (−24) トリメチレンジアミン (−25) ペンタメチレンジアミン (−26) ヘキサメチレンジアミン (−27) ヘプタメチレンジアミン (−28) オクタメチレンジアミン (−29) ノナメチレンジアミン (−30) デカメチレンジアミン (−31) ウンデカメチレンジアミン (−32) “ドデカメチレンジアミン (−33) ジエチレントリアミン (−34) トリエチレンテトラミン (−35) ジエチルアミノプロピルアミン(−36)
N−アミノエチルピペラジン(−37) ビスアミノ
プロピルテトラオキサスピロウンデカン付加物(−38
) エチルメチルイミダゾール (−44) ビスアミノプロピルテトラオキサスピロウ
ンデカン付加物(−45) エチルメチルイミダゾール 本発明の樹脂は、本発明のエポキシ基を有する化合物と
本発明のアミン化合物を粉砕混合した後熱溶融せしめ数
時間反応させるか、あるいは共に溶媒に溶解し、攪拌下
に加熱反応せしめた後、該溶媒を留去するかして製造す
る。
溶媒中で反応させる場合、触媒として0H基(例えばエ
タノール、n−ブタノール)、COOH基(例えば酢酸
)、CONH,基(例えばホルムアミド)を有する溶媒
を用いるか、あるいは該溶媒と他の溶媒とを組合せて用
いると有効である。
タノール、n−ブタノール)、COOH基(例えば酢酸
)、CONH,基(例えばホルムアミド)を有する溶媒
を用いるか、あるいは該溶媒と他の溶媒とを組合せて用
いると有効である。
上記の如く1して得られた本発明の樹脂は、キヤリア用
核体粒子の被覆用樹脂として単独で用いることも可能で
あるが、より好ましくは軟化温度および機械的強度を調
整するため、他の相溶性の良い樹脂と混合して使用する
。混合する場合は、本発明の樹脂が全樹脂量の2%以上
となることが必要であり、より好ましくは全樹脂量の5
%以上が望ましい。本発明の樹脂と混合する樹脂には、
スチレン、p−クロルスチレン、メチルスチレン等のス
チレン類;ビニルナフタリン類;塩化ビニル、臭化ビニ
ル、フツ化ビニル等のハロゲン化ビニル類、酢酸ビニル
、プロピオン酸ビニル、ベンゾエ酸ピニル、酪酸ビニル
等のピニルエステル類;アクリル酸メチル、アクリル酸
エチル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸イソ−ブチ
ル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸n−オクチル、ア
クリル酸3−クロルエチル、アクリル酸フエニル、α−
クロルアクリル酸メチル、メタアクリル酸メチル、メタ
アクリル酸エチル、メタアクリル酸ブチル等のα−メチ
レン脂肪族モノカルボン酸のエステル類、アクリロニト
・リル、メタアクリロニトリル、アクリルアミド、ビニ
ルメチルエーテル、ピニルイソブチルエーテル、ビニル
エチルエーテル等のビニルエーテル類、ビニルメチルケ
トン、ビニルヘキシルケトン、メチルイソプロピニルケ
トン等のビニルケトン類、N−ビニルピロール、N−ビ
ニルカルバゾール、N−ビニルインドール、N−ピニル
ピロリドン等のN−ビニル化合物などの単量体を重合さ
せたホモポリマーまたはこれらの単量体を2種以上組み
合せて共重合させたコポリマーあるいは、エポキシ樹脂
、ロジン変性フエノールホルマリン樹脂、セルローズ樹
脂、ポリエーテル樹脂などの非ビニル系熱可塑性樹脂等
がある。
核体粒子の被覆用樹脂として単独で用いることも可能で
あるが、より好ましくは軟化温度および機械的強度を調
整するため、他の相溶性の良い樹脂と混合して使用する
。混合する場合は、本発明の樹脂が全樹脂量の2%以上
となることが必要であり、より好ましくは全樹脂量の5
%以上が望ましい。本発明の樹脂と混合する樹脂には、
スチレン、p−クロルスチレン、メチルスチレン等のス
チレン類;ビニルナフタリン類;塩化ビニル、臭化ビニ
ル、フツ化ビニル等のハロゲン化ビニル類、酢酸ビニル
、プロピオン酸ビニル、ベンゾエ酸ピニル、酪酸ビニル
等のピニルエステル類;アクリル酸メチル、アクリル酸
エチル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸イソ−ブチ
ル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸n−オクチル、ア
クリル酸3−クロルエチル、アクリル酸フエニル、α−
クロルアクリル酸メチル、メタアクリル酸メチル、メタ
アクリル酸エチル、メタアクリル酸ブチル等のα−メチ
レン脂肪族モノカルボン酸のエステル類、アクリロニト
・リル、メタアクリロニトリル、アクリルアミド、ビニ
ルメチルエーテル、ピニルイソブチルエーテル、ビニル
エチルエーテル等のビニルエーテル類、ビニルメチルケ
トン、ビニルヘキシルケトン、メチルイソプロピニルケ
トン等のビニルケトン類、N−ビニルピロール、N−ビ
ニルカルバゾール、N−ビニルインドール、N−ピニル
ピロリドン等のN−ビニル化合物などの単量体を重合さ
せたホモポリマーまたはこれらの単量体を2種以上組み
合せて共重合させたコポリマーあるいは、エポキシ樹脂
、ロジン変性フエノールホルマリン樹脂、セルローズ樹
脂、ポリエーテル樹脂などの非ビニル系熱可塑性樹脂等
がある。
しかし、相溶性という点から見れば、本発明の樹脂と混
合する樹脂は、アミン類ど反応せしめた樹脂すなわちエ
ポキシ系樹脂が適当である。本発明に係るキヤリアを製
造するには、例えば本発明のエポキシ基を有する化合物
と方本発のアミン化合物との当量反応によつて得られる
本発明の樹脂を溶剤に溶解し塗布液を作成する。この時
必要ならば相溶性の良い他の樹脂と混合し溶解しても良
い。
合する樹脂は、アミン類ど反応せしめた樹脂すなわちエ
ポキシ系樹脂が適当である。本発明に係るキヤリアを製
造するには、例えば本発明のエポキシ基を有する化合物
と方本発のアミン化合物との当量反応によつて得られる
本発明の樹脂を溶剤に溶解し塗布液を作成する。この時
必要ならば相溶性の良い他の樹脂と混合し溶解しても良
い。
次にこの塗布液をキャリア用核体粒子表面に塗布する為
には浸漬法、又はスプレー法等を用いる事が出来るが特
に流動化ベツド法によるのが好適である。この流動化ベ
ツド法は前記核体粒子を流動化ベツド装置内において上
昇する加圧ガス流により、平衡高さに迄上昇浮遊させ該
核体粒子が再び落下する迄の間に前記溶液を上方からス
プレーして、各粒子に塗布し、これを繰返して所望の厚
さの塗膜を形成する方法であつてこの方法により各粒子
に均一な塗布を行う事が出来る。この製造に用いる溶剤
としては前記樹脂に溶解性を有するもの、例えばメタノ
ール、エタノール、ブタノール、イソプロパノール等の
アルコール類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、その
他のテトラヒドロフラン、ジオキサン等の有機溶剤、又
はこれらの混合溶剤が用いられる。
には浸漬法、又はスプレー法等を用いる事が出来るが特
に流動化ベツド法によるのが好適である。この流動化ベ
ツド法は前記核体粒子を流動化ベツド装置内において上
昇する加圧ガス流により、平衡高さに迄上昇浮遊させ該
核体粒子が再び落下する迄の間に前記溶液を上方からス
プレーして、各粒子に塗布し、これを繰返して所望の厚
さの塗膜を形成する方法であつてこの方法により各粒子
に均一な塗布を行う事が出来る。この製造に用いる溶剤
としては前記樹脂に溶解性を有するもの、例えばメタノ
ール、エタノール、ブタノール、イソプロパノール等の
アルコール類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、その
他のテトラヒドロフラン、ジオキサン等の有機溶剤、又
はこれらの混合溶剤が用いられる。
前述の如き方法により製造される本発明のキヤリアは通
常、キャリア用核体粒子の表面に0.1〜30ミクロン
、好ましくは0.2〜20ミクロンの厚さで被覆される
。
常、キャリア用核体粒子の表面に0.1〜30ミクロン
、好ましくは0.2〜20ミクロンの厚さで被覆される
。
本発明に用いるキヤリア用核体粒子としては強磁性体な
らば任意のものが用いられるが、一般には鉄、ニツケル
、コバルト、フエライト等の強磁性体が用いられる。
らば任意のものが用いられるが、一般には鉄、ニツケル
、コバルト、フエライト等の強磁性体が用いられる。
これらのキヤリア用核体粒子の粒径としては50〜10
00ミクロンが好ましく、50〜500ミクロンが特に
好ましい。以上述べた本発明のキャリアはトナーと組合
せて、電子写真、静電記録及び静電印刷等における現像
剤として使用出来るもので下記の如き優れた効果を奏す
るものである。すなわちキヤリア粒子間の摩擦電荷量が
均一であり、且つ電荷量の制御が容易である。
00ミクロンが好ましく、50〜500ミクロンが特に
好ましい。以上述べた本発明のキャリアはトナーと組合
せて、電子写真、静電記録及び静電印刷等における現像
剤として使用出来るもので下記の如き優れた効果を奏す
るものである。すなわちキヤリア粒子間の摩擦電荷量が
均一であり、且つ電荷量の制御が容易である。
使用中変質して摩擦電荷量がバラツキ又は減少すること
がなく極めて安定なキャリアである。
がなく極めて安定なキャリアである。
このため先述した如き現像カブリ、トナー飛散、電子写
真感光体汚染、複写機の汚染等の障害が除去されると共
に、電荷制御性極性基をもつ本発明の樹脂の物性が極め
てすぐれているため、例えば従来大きな欠点であつた耐
久性、電荷の安定性、生産性において優れた効果を発揮
する。本発明のキヤリアを用いて現像剤を構成する場合
、本発明のキヤリア100部に対してトナー1〜10部
の範囲で使用される。
真感光体汚染、複写機の汚染等の障害が除去されると共
に、電荷制御性極性基をもつ本発明の樹脂の物性が極め
てすぐれているため、例えば従来大きな欠点であつた耐
久性、電荷の安定性、生産性において優れた効果を発揮
する。本発明のキヤリアを用いて現像剤を構成する場合
、本発明のキヤリア100部に対してトナー1〜10部
の範囲で使用される。
以上説明した本発明のキヤリアと共に現像剤を構成すべ
きトナーとしては樹脂に適当な顔料、又は染料を添加し
たものが用いられる。
きトナーとしては樹脂に適当な顔料、又は染料を添加し
たものが用いられる。
ここに顔料又は染料としては、例えばカーボンブラツク
、ニグロシン染料(C.I.應50415B)、アニリ
ンブルー(C.I.黒50405)、カルコニルブル一
(C.I.屈AzOecBlue3)、クロムイエロ一
(C.I.黒14090)、ウルトラマリンブル一(C
.I.屋77007)、メチレンブルークロライド(C
.I.屋52015)、フタロシアニンブルー(C.I
.黒74160)、ローズベンガル(C.I.黒454
35)及びこれらの混合物が用いられる。又トナーに用
いる代表的な樹脂としてはスチレン系樹脂であるが、こ
のスチレン系樹脂にはスチレンのホモポリマ一及び他の
ビニル単量体との共重合体が含まれる。この他のビニル
単量体としてはp−クロルスチレン、ピニルナフタレン
、例えばエチレン、プロピレン、プチレン、イソプチレ
ン等のエチレン性不飽和モノオレフイン類、例えば塩化
ビニル、弗化ビニル、酢酸ピニル等のハロゲン化ビニル
類、例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アク
リル酸フエニル等のα−メチレン脂肪族カルボン酸エス
テル類、例えばアクリロニトリル、メタアクリロニトリ
ル、アクリルアミド、例えばビニルメチルエーテル、ピ
ニルエチルエーテル等のビニルエーテル類、例えばピニ
ルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン等のビニルケト
ン類、例えばN−ビニルピロール、N−ピニルピロリド
ン等のN−ビニル化合物の1種又は2種以上が用いられ
る。スチレン樹脂以外の樹脂としては、ビニルエステル
樹脂、ロジン変性フエノールホルマリン樹脂、エポキシ
樹脂、及びこれらの混合体が用いられる。また、低分子
量のポリプロピレンもスチレン系樹脂と併用して用いる
と有効である。以下本発明を実施例をもつて説明するが
これによつて本発明をこれらに限定されるものではない
。実施例 1 エピコート1001、100tと例示化合物(−14)
20tとを混合粉砕した後120〜160℃で1〜2時
間反応釜にて反応させて本発明の樹脂を製造した。
、ニグロシン染料(C.I.應50415B)、アニリ
ンブルー(C.I.黒50405)、カルコニルブル一
(C.I.屈AzOecBlue3)、クロムイエロ一
(C.I.黒14090)、ウルトラマリンブル一(C
.I.屋77007)、メチレンブルークロライド(C
.I.屋52015)、フタロシアニンブルー(C.I
.黒74160)、ローズベンガル(C.I.黒454
35)及びこれらの混合物が用いられる。又トナーに用
いる代表的な樹脂としてはスチレン系樹脂であるが、こ
のスチレン系樹脂にはスチレンのホモポリマ一及び他の
ビニル単量体との共重合体が含まれる。この他のビニル
単量体としてはp−クロルスチレン、ピニルナフタレン
、例えばエチレン、プロピレン、プチレン、イソプチレ
ン等のエチレン性不飽和モノオレフイン類、例えば塩化
ビニル、弗化ビニル、酢酸ピニル等のハロゲン化ビニル
類、例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アク
リル酸フエニル等のα−メチレン脂肪族カルボン酸エス
テル類、例えばアクリロニトリル、メタアクリロニトリ
ル、アクリルアミド、例えばビニルメチルエーテル、ピ
ニルエチルエーテル等のビニルエーテル類、例えばピニ
ルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン等のビニルケト
ン類、例えばN−ビニルピロール、N−ピニルピロリド
ン等のN−ビニル化合物の1種又は2種以上が用いられ
る。スチレン樹脂以外の樹脂としては、ビニルエステル
樹脂、ロジン変性フエノールホルマリン樹脂、エポキシ
樹脂、及びこれらの混合体が用いられる。また、低分子
量のポリプロピレンもスチレン系樹脂と併用して用いる
と有効である。以下本発明を実施例をもつて説明するが
これによつて本発明をこれらに限定されるものではない
。実施例 1 エピコート1001、100tと例示化合物(−14)
20tとを混合粉砕した後120〜160℃で1〜2時
間反応釜にて反応させて本発明の樹脂を製造した。
この樹脂10tとエピコート一1007、1007をメ
チルエチルケトン200m1中に溶解し塗布液を調整し
、流動化ベツド装置を用いて平均粒径100ミクロンの
球形鋼シヨツト1kgに前記溶液をスブレ一して、70
℃の温度で乾燥して厚さ2〜3ミクロンの被覆層を有す
る本発明のキヤリアを作つた。得られたキヤリアは粘着
性の無い集塊もない流動性の良いものであつた。このキ
ヤリアをスチレン系樹脂100部とカーボンブラツク8
部よりなる約10ん20ミクロンの平均粒径を持つトナ
ーと混合して2重量%の現像剤を作り改良型ユービツク
ス一VCU−Bix−V小西六写真工業(株)製〕複写
機を用いて連続コピーを行つた。
チルエチルケトン200m1中に溶解し塗布液を調整し
、流動化ベツド装置を用いて平均粒径100ミクロンの
球形鋼シヨツト1kgに前記溶液をスブレ一して、70
℃の温度で乾燥して厚さ2〜3ミクロンの被覆層を有す
る本発明のキヤリアを作つた。得られたキヤリアは粘着
性の無い集塊もない流動性の良いものであつた。このキ
ヤリアをスチレン系樹脂100部とカーボンブラツク8
部よりなる約10ん20ミクロンの平均粒径を持つトナ
ーと混合して2重量%の現像剤を作り改良型ユービツク
ス一VCU−Bix−V小西六写真工業(株)製〕複写
機を用いて連続コピーを行つた。
この結果得られた複写画像は何れもカブリの無い優れた
画質を有し、又高速耐久性テストに於ても2万回以上の
複写が可能であつた。又初期に於るこの現像剤の帯電量
は18マイクロクーロン/7であり、2万コピー後も1
6.8マイクロクーロン/tであり、ほとんど変動が無
く優れた現像剤である事がわかつた。実施例 2 エピコート一1002、100t,例示化合物(−8)
20tとを実施例1と同様に反応させて本発明の樹脂を
得た。
画質を有し、又高速耐久性テストに於ても2万回以上の
複写が可能であつた。又初期に於るこの現像剤の帯電量
は18マイクロクーロン/7であり、2万コピー後も1
6.8マイクロクーロン/tであり、ほとんど変動が無
く優れた現像剤である事がわかつた。実施例 2 エピコート一1002、100t,例示化合物(−8)
20tとを実施例1と同様に反応させて本発明の樹脂を
得た。
この樹脂10fとスチレンーブタジエンコーポリマ一1
0fをメチルエチルケトン200m1中に溶解し、塗布
液を調整し、流動化ベツド装置を用いて平均粒径100
ミクロンの球形鋼シヨツト1kgに前記溶液をスプレー
して、60℃の温度で乾燥して厚さ2〜3ミクロンの被
覆層を有する本発明のキヤリアを作つた。
0fをメチルエチルケトン200m1中に溶解し、塗布
液を調整し、流動化ベツド装置を用いて平均粒径100
ミクロンの球形鋼シヨツト1kgに前記溶液をスプレー
して、60℃の温度で乾燥して厚さ2〜3ミクロンの被
覆層を有する本発明のキヤリアを作つた。
得られたキャリアは粘着性の無い集塊も無い流動性の良
いものであつた。このキヤリアを実施例1と同じトナー
を用いて混合し2重量%の現像剤を作り、改良型U−B
IX−V複写機を用いて連続コピーを行つた。この結果
得られた複写画像は何れもカブリの無い優れた画質を有
し、又高速耐久性テストに於ても3万回以上の複写が可
能であつた。又、初期に於るこの現像剤中の帯電量は2
0.5マイクロクーロン/tであり、3万コピー後も1
9.2マイクロクーロン/fでありほとんど変動が無く
優れた現像剤である事がわかつた。
いものであつた。このキヤリアを実施例1と同じトナー
を用いて混合し2重量%の現像剤を作り、改良型U−B
IX−V複写機を用いて連続コピーを行つた。この結果
得られた複写画像は何れもカブリの無い優れた画質を有
し、又高速耐久性テストに於ても3万回以上の複写が可
能であつた。又、初期に於るこの現像剤中の帯電量は2
0.5マイクロクーロン/tであり、3万コピー後も1
9.2マイクロクーロン/fでありほとんど変動が無く
優れた現像剤である事がわかつた。
実施例 3
エピコート一1001、100fと例示化合物(−32
)30f7とをトルエン1000m1,テトラハイドロ
フラン200m1およびn−ブタノール1000m1の
混合溶媒に溶解し100℃の熱浴で1〜2時間加熱し攪
拌した。
)30f7とをトルエン1000m1,テトラハイドロ
フラン200m1およびn−ブタノール1000m1の
混合溶媒に溶解し100℃の熱浴で1〜2時間加熱し攪
拌した。
次に4〜5時間かけて100℃で溶剤を除去し本発明の
樹脂を得た。この樹脂10fとポリエステル樹脂10?
をメチルエチルケトン200WLI!中に溶解し、塗布
液を調整し、流動化ベツド装置を用いて平均粒径100
ミクロンの球形鋼シヨツト1kgに前記溶液をスプレー
して、80℃の温度で乾燥して厚さ2〜3ミクロンの被
覆層を有する本発明のキャリアを製造した。得られたキ
ャリアは粘着性の無い集塊もない流動性の良いものであ
つた。このキヤリアを実施例1と同じトナーを用いて混
合して2重量%の現像剤を作り改良型U−BIX−V複
写機を用いて連続コピーを行つた。
樹脂を得た。この樹脂10fとポリエステル樹脂10?
をメチルエチルケトン200WLI!中に溶解し、塗布
液を調整し、流動化ベツド装置を用いて平均粒径100
ミクロンの球形鋼シヨツト1kgに前記溶液をスプレー
して、80℃の温度で乾燥して厚さ2〜3ミクロンの被
覆層を有する本発明のキャリアを製造した。得られたキ
ャリアは粘着性の無い集塊もない流動性の良いものであ
つた。このキヤリアを実施例1と同じトナーを用いて混
合して2重量%の現像剤を作り改良型U−BIX−V複
写機を用いて連続コピーを行つた。
この結果得られた複写画像は何れもカブリの無い優れた
画質を有し、又高速耐久性テストに於ても2万回以上の
複写が可能であつた。又、初期に於るこの現像剤の帯電
量は14.3マイクロクーロン/7であり、2万コピー
後も1436マイクロクーロン/F7であり、ほとんど
変動が無く優れた現像剤である事がわかつた。
画質を有し、又高速耐久性テストに於ても2万回以上の
複写が可能であつた。又、初期に於るこの現像剤の帯電
量は14.3マイクロクーロン/7であり、2万コピー
後も1436マイクロクーロン/F7であり、ほとんど
変動が無く優れた現像剤である事がわかつた。
実施例 4共重合モル比が84:16であるスチレン−
グリシジルメタクリレート共重合体100rと例示化合
物(−・17)9yをリルエン1000mt、テトラハ
イドロフラン200m2およびn−ブタノール1000
dの混合溶媒中に入れ実施例3と同様に反応させて本発
明の樹脂を得た。
グリシジルメタクリレート共重合体100rと例示化合
物(−・17)9yをリルエン1000mt、テトラハ
イドロフラン200m2およびn−ブタノール1000
dの混合溶媒中に入れ実施例3と同様に反応させて本発
明の樹脂を得た。
この樹脂10tとスチレンーアクリルコーポリマ一10
fをメチルエチルケトン200m1中に溶解し塗布液を
調整し、流動化ベツド装置を用いて平均粒径100ミク
ロンの球形鋼ンヨツト1kgに前記溶液をスプレーして
40℃の温度で乾燥して厚さ2〜3ミクロンの被覆層を
有する本発明のキャリアを製造した。得られたキヤリア
は粘着性の無い集塊も無い流動性の良いものであつた。
このキャリアを実施例1と同じトナーを用いて混合し2
重量%の現像剤を作り、改良型U−BIX−V複写機を
用いて連続コピーを行つた。この結果得られた複写画像
は何れもカブリの無い優れた画質を有し、又高速耐久性
テストに於いても2万回以上の複写が可能であつた。
fをメチルエチルケトン200m1中に溶解し塗布液を
調整し、流動化ベツド装置を用いて平均粒径100ミク
ロンの球形鋼ンヨツト1kgに前記溶液をスプレーして
40℃の温度で乾燥して厚さ2〜3ミクロンの被覆層を
有する本発明のキャリアを製造した。得られたキヤリア
は粘着性の無い集塊も無い流動性の良いものであつた。
このキャリアを実施例1と同じトナーを用いて混合し2
重量%の現像剤を作り、改良型U−BIX−V複写機を
用いて連続コピーを行つた。この結果得られた複写画像
は何れもカブリの無い優れた画質を有し、又高速耐久性
テストに於いても2万回以上の複写が可能であつた。
Claims (1)
- 1 エポキシ基を有する化合物と、パーフルオロアルキ
ル基を有しない脂肪族第1級、第2級アミン系化合物及
び/または窒素原子に結合した脂肪族化合物が互いに環
化して含窒素複素環を形成した第1級、第2級アミン系
化合物とを反応させて得た樹脂を含有した被覆材により
キャリア用核体粒子の表面を被覆したことを特徴とする
静電荷像現像用キャリア。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54058919A JPS598826B2 (ja) | 1979-05-14 | 1979-05-14 | 静電荷像現像用キヤリア |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54058919A JPS598826B2 (ja) | 1979-05-14 | 1979-05-14 | 静電荷像現像用キヤリア |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55151649A JPS55151649A (en) | 1980-11-26 |
| JPS598826B2 true JPS598826B2 (ja) | 1984-02-27 |
Family
ID=13098223
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP54058919A Expired JPS598826B2 (ja) | 1979-05-14 | 1979-05-14 | 静電荷像現像用キヤリア |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS598826B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0327846U (ja) * | 1989-07-28 | 1991-03-20 |
-
1979
- 1979-05-14 JP JP54058919A patent/JPS598826B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0327846U (ja) * | 1989-07-28 | 1991-03-20 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55151649A (en) | 1980-11-26 |
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