JPS599157A - 非晶質磁性合金の熱処理方法 - Google Patents
非晶質磁性合金の熱処理方法Info
- Publication number
- JPS599157A JPS599157A JP57119013A JP11901382A JPS599157A JP S599157 A JPS599157 A JP S599157A JP 57119013 A JP57119013 A JP 57119013A JP 11901382 A JP11901382 A JP 11901382A JP S599157 A JPS599157 A JP S599157A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- plate
- alloy
- magnetic field
- heat treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/12—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
- H01F1/14—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
- H01F1/147—Alloys characterised by their composition
- H01F1/153—Amorphous metallic alloys, e.g. glassy metals
- H01F1/15341—Preparation processes therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
- C21D1/04—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering with simultaneous application of supersonic waves, magnetic or electric fields
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、非晶質磁性合金の熱処理方法、特に非晶質磁
性合金の磁気特性のうち透磁率を改善する熱処理方法に
関する。
性合金の磁気特性のうち透磁率を改善する熱処理方法に
関する。
磁気ヘッド等の軟磁性コア材料として要求される磁気特
性は使用する周波数帯域で透磁率が高いことのみならず
、飽和磁束密度の高いことや、磁歪が零に近いことなど
があげられる。このような要求を満たす非晶質磁性材料
としてはＣＯを主体とするＣｏ −Ｆｅ−８１−Ｂ ｆ
非晶質が良く知られておシ、これらの透磁率はその合金
のキュリ一温度以上、結晶化温度に保持した後急冷する
ことで、さらに改善されることも周知の事実である。一
方、上記の系の非晶質にあっては（Ｃｏ＋Ｆｅ）の総量
を増すことで飽和磁束密度を高めることができるが、第
１図に示すように（Ｃｃ＋Ｆｏ）の総量の増加に伴い、
製造されたままの状態での透磁率は低く、特にオーディ
オ用ヘッド等への実用は困難であシ、何らかの透磁率の
改善法が必要であった。ところが、この系の結晶化温度
Ｔｘは（Ｃｏ４−Ｆｅ ）量の増加とともに低下しくＣ
ｏ＋Ｆｅ）総量が約７８原子チ以上ではキュリ一温度Ｔ
ｃよ勺も低くなシ、必然的に上述したキュリ一温度Ｔｃ
以上からの急冷という熱処理法は適用できなくなる。そ
の結果、上記熱処理によって透磁率の改善される組成の
飽和磁束密度は約９０００がウス程度が最大であシ、こ
れでは合金テープ等の高抗磁力記録媒体の特性を十分引
き出すことは不可能であった。
性は使用する周波数帯域で透磁率が高いことのみならず
、飽和磁束密度の高いことや、磁歪が零に近いことなど
があげられる。このような要求を満たす非晶質磁性材料
としてはＣＯを主体とするＣｏ −Ｆｅ−８１−Ｂ ｆ
非晶質が良く知られておシ、これらの透磁率はその合金
のキュリ一温度以上、結晶化温度に保持した後急冷する
ことで、さらに改善されることも周知の事実である。一
方、上記の系の非晶質にあっては（Ｃｏ＋Ｆｅ）の総量
を増すことで飽和磁束密度を高めることができるが、第
１図に示すように（Ｃｃ＋Ｆｏ）の総量の増加に伴い、
製造されたままの状態での透磁率は低く、特にオーディ
オ用ヘッド等への実用は困難であシ、何らかの透磁率の
改善法が必要であった。ところが、この系の結晶化温度
Ｔｘは（Ｃｏ４−Ｆｅ ）量の増加とともに低下しくＣ
ｏ＋Ｆｅ）総量が約７８原子チ以上ではキュリ一温度Ｔ
ｃよ勺も低くなシ、必然的に上述したキュリ一温度Ｔｃ
以上からの急冷という熱処理法は適用できなくなる。そ
の結果、上記熱処理によって透磁率の改善される組成の
飽和磁束密度は約９０００がウス程度が最大であシ、こ
れでは合金テープ等の高抗磁力記録媒体の特性を十分引
き出すことは不可能であった。
本発明は、このような実情を考慮してなされたもので、
キュリ一温度Ｔ０と結晶化温度Ｔｘの関係に束縛される
ことなく、高い飽和磁束密度を有する組成であってもそ
の透磁率を高め得る熱処理方法を提供するものである。
キュリ一温度Ｔ０と結晶化温度Ｔｘの関係に束縛される
ことなく、高い飽和磁束密度を有する組成であってもそ
の透磁率を高め得る熱処理方法を提供するものである。
以下、本発明について詳述する。
第１図で既に示したように、Ｃｏを主体とするＣ０−Ｆ
ｅ−８ｉ−Ｂ系非晶質合金にあっては、（Ｃｏ ＋ Ｆ
ｅ ）量の増加に伴って透磁率は低下する。一方、対応
する各組成（Ｆｅ＋Ｃｏ）Ｘ（Ｓｉ＋Ｂ）１ｏｏ−ｘの
交流Ｂ −Ｈ曲線を第２図に示すが、このＢ−Ｈ曲線は
（Ｃｏ＋Ｆｅ ）量の増加に伴ってその傾きを増し、非
晶質の製造時に誘起される誘導磁気異方性が（Ｃｏ−１
−Ｆｅ）量の増加に伴って増大することを示している。
ｅ−８ｉ−Ｂ系非晶質合金にあっては、（Ｃｏ ＋ Ｆ
ｅ ）量の増加に伴って透磁率は低下する。一方、対応
する各組成（Ｆｅ＋Ｃｏ）Ｘ（Ｓｉ＋Ｂ）１ｏｏ−ｘの
交流Ｂ −Ｈ曲線を第２図に示すが、このＢ−Ｈ曲線は
（Ｃｏ＋Ｆｅ ）量の増加に伴ってその傾きを増し、非
晶質の製造時に誘起される誘導磁気異方性が（Ｃｏ−１
−Ｆｅ）量の増加に伴って増大することを示している。
この誘導磁気異方性の存在が特に（Ｃｏ＋Ｆｅ）量の多
い組成領域で大きな透磁率の得られない原因であると考
えられる。この誘導磁気異方性は一旦キユリ一温度’ｒ
ｅ以上に保持し、急冷することで消失し、透磁率は大幅
に改善されるが、Ｔｃ≧Ｔｘなる組成領域では適用でき
ない。
い組成領域で大きな透磁率の得られない原因であると考
えられる。この誘導磁気異方性は一旦キユリ一温度’ｒ
ｅ以上に保持し、急冷することで消失し、透磁率は大幅
に改善されるが、Ｔｃ≧Ｔｘなる組成領域では適用でき
ない。
一方、こわらの系の非晶質磁性合金はすべて磁場中冷却
効果を示す。すなわち、磁場中で熱処理を行なえは印加
磁場方向に一軸磁気異方性が新たに誘起され、製造時に
存在していた誘導磁気異方性は消滅する。この時誘起さ
れる誘導磁気異方性の方向試外部磁場の向きを１８００
反転させても不変である。ところが第３図に示すように
非晶質磁性合金薄板（１）に対して、まずＸ方向に外部
磁場Ｈａを印加しながらその合金の結晶化温度以下でか
つキュリ一温度以下の温度で熱処理を行い、Ｘ方向に十
分誘導磁気異方性Ｋｘを発生せしめた後、Ｘ方向の磁場
を取り去り、改めてＸ方向から正確に９０゜離れたＹ方
向より外部磁場）（ａを印加して熱処理すればＸ方向の
誘導磁気異方性ＫＸけ消滅しつつＹ方向の誘導磁気異方
性ＫＹが生成する。透磁率μと誘導磁気異方性の大きさ
Ｋｕとの間には次式の関係が成り立つことが認められて
いる。
効果を示す。すなわち、磁場中で熱処理を行なえは印加
磁場方向に一軸磁気異方性が新たに誘起され、製造時に
存在していた誘導磁気異方性は消滅する。この時誘起さ
れる誘導磁気異方性の方向試外部磁場の向きを１８００
反転させても不変である。ところが第３図に示すように
非晶質磁性合金薄板（１）に対して、まずＸ方向に外部
磁場Ｈａを印加しながらその合金の結晶化温度以下でか
つキュリ一温度以下の温度で熱処理を行い、Ｘ方向に十
分誘導磁気異方性Ｋｘを発生せしめた後、Ｘ方向の磁場
を取り去り、改めてＸ方向から正確に９０゜離れたＹ方
向より外部磁場）（ａを印加して熱処理すればＸ方向の
誘導磁気異方性ＫＸけ消滅しつつＹ方向の誘導磁気異方
性ＫＹが生成する。透磁率μと誘導磁気異方性の大きさ
Ｋｕとの間には次式の関係が成り立つことが認められて
いる。
μｏｃｌ／Ｋｕ 、又は μｏｃｌ／〆Ｋｌｌ −−
−−（１）従って透磁率μを大きくするためには、Ｋｕ
を小さくする必要がある。（１）式で示し、たＫｕはあ
くまでもＸ方向の誘導磁気異方性ＫｘとＹ方向の誘導磁
気異方性ＫＹとの差だけで定まる。
−−（１）従って透磁率μを大きくするためには、Ｋｕ
を小さくする必要がある。（１）式で示し、たＫｕはあ
くまでもＸ方向の誘導磁気異方性ＫｘとＹ方向の誘導磁
気異方性ＫＹとの差だけで定まる。
Ｋｕ ＝ ｌＫｘ Ｋｙ ｌ ・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
（２）従って原理的には第３図に示した誘導磁気異方
性が９０°向きを変えながら消滅−生成を行なう過程に
あっては Ｋｘ 主に、 ・・・・・・・・・・・・・
・曲・・・・・・叩・叩・・・ （３）となった瞬間、
Ｋｕは零となり、大きな透磁率μが得られることになる
。しかし、一旦Ｘ方向に誘起された誘導磁気異方性に対
し、Ｙ方向に１回だけ外部磁場を印加してＫｘ ンＫＹ
なる条件を実現することは、原理的に可能であっても、
工業的に再現することが困雛である。
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
（２）従って原理的には第３図に示した誘導磁気異方
性が９０°向きを変えながら消滅−生成を行なう過程に
あっては Ｋｘ 主に、 ・・・・・・・・・・・・・
・曲・・・・・・叩・叩・・・ （３）となった瞬間、
Ｋｕは零となり、大きな透磁率μが得られることになる
。しかし、一旦Ｘ方向に誘起された誘導磁気異方性に対
し、Ｙ方向に１回だけ外部磁場を印加してＫｘ ンＫＹ
なる条件を実現することは、原理的に可能であっても、
工業的に再現することが困雛である。
そこで本発明に於ては、非晶質磁性合金薄板に対して、
この磁性合金の結晶化温度以下でがっキュリ一温度却下
の温度で、薄板の主面内のＸ方向と之に直交するＹ方向
に交互に互に同じ時間ずつ磁場を印加しなから熱処理す
る。その結果、第４図１１ ％ ｇに模式的に示すよう
に、時間の経過と共にＸ方向及びＹ方向に誘導磁気異方
性Ｋｘ及びＫＹはほぼ等しい大きさで成長し、製造時に
存在していた誘導磁気異方性が消滅しつつＫｘ字Ｋｙな
る条件に到達する。磁場を印加した後、誘導磁気異方性
が生成又は消滅する壕でには有限な時間（緩和時間τ）
を伴うものであ勺、Ｘ方向がらＹ方向に磁場を切り換え
る速度がτよシも十分速ければ常にＫＸ≧ＫＹなる条件
が実現されるのである。
この磁性合金の結晶化温度以下でがっキュリ一温度却下
の温度で、薄板の主面内のＸ方向と之に直交するＹ方向
に交互に互に同じ時間ずつ磁場を印加しなから熱処理す
る。その結果、第４図１１ ％ ｇに模式的に示すよう
に、時間の経過と共にＸ方向及びＹ方向に誘導磁気異方
性Ｋｘ及びＫＹはほぼ等しい大きさで成長し、製造時に
存在していた誘導磁気異方性が消滅しつつＫｘ字Ｋｙな
る条件に到達する。磁場を印加した後、誘導磁気異方性
が生成又は消滅する壕でには有限な時間（緩和時間τ）
を伴うものであ勺、Ｘ方向がらＹ方向に磁場を切り換え
る速度がτよシも十分速ければ常にＫＸ≧ＫＹなる条件
が実現されるのである。
以上が本発明の基礎原理であって、本質的に重要なのは
Ｘ方向及びＹ方向に印加される磁場を有限時間保持しな
ければならない点である。
Ｘ方向及びＹ方向に印加される磁場を有限時間保持しな
ければならない点である。
従って本発明は、非晶質磁性合金板を磁場中で連続的に
回転させ、若しくは連続的に回転する磁場中で熱処理を
行ない、誘導磁気異方性を等方的に分布せしめる従来方
法とは異なるものである。
回転させ、若しくは連続的に回転する磁場中で熱処理を
行ない、誘導磁気異方性を等方的に分布せしめる従来方
法とは異なるものである。
なお、この従来方法では、合成磁界を少くとも１８０度
回転させた時には誘導磁気異方性が巨視的に等方的にな
るというものであるが、合成磁界が１８０度回転すると
、誘導磁気異方性の向きは初期状態と同一になシ等方分
布は期待できない。
回転させた時には誘導磁気異方性が巨視的に等方的にな
るというものであるが、合成磁界が１８０度回転すると
、誘導磁気異方性の向きは初期状態と同一になシ等方分
布は期待できない。
しかして本発明は、上述の基礎原理に基づいて具体的に
は非晶質磁性合金薄板をその結晶化温度以下でかつキュ
リ一温度以下の温度に保持し、外部よシ正確に９０’方
向の異なる磁場を交互に印加し、あるいは一方向の磁場
中で上記薄板を正確に９０°だけ間欠的又は連続的に向
きを変え（揺動）させながら熱処理を行うようになす。
は非晶質磁性合金薄板をその結晶化温度以下でかつキュ
リ一温度以下の温度に保持し、外部よシ正確に９０’方
向の異なる磁場を交互に印加し、あるいは一方向の磁場
中で上記薄板を正確に９０°だけ間欠的又は連続的に向
きを変え（揺動）させながら熱処理を行うようになす。
斯くすれば、製造時に存在し２ていた誘導磁気異方性が
消滅しつつＫＸ≧ＫＹなる条件に到達するものであや、
従って結晶化温度Ｔｘとキュリ一温度Ｔｃの関係に束縛
されることなく、磁場中冷却効果を呈する非晶質磁性合
金全般に対してその透磁率を高め、特に飽和磁束密度１
ｏｏｏｏガウス以上有する組成にあっても高い透磁率を
付与することが出来る。
消滅しつつＫＸ≧ＫＹなる条件に到達するものであや、
従って結晶化温度Ｔｘとキュリ一温度Ｔｃの関係に束縛
されることなく、磁場中冷却効果を呈する非晶質磁性合
金全般に対してその透磁率を高め、特に飽和磁束密度１
ｏｏｏｏガウス以上有する組成にあっても高い透磁率を
付与することが出来る。
次に本発明の実施例について述べる。
比較例（１）
液体急冷法によって作製されたＦｅ５Ｃｏ７５Ｓ１４Ｂ
１６なる組成の非晶質磁性合金リボンから外径１０間、
内径６咽のリング状試料を打抜き、製造されたままの状
態の１０ ｍＯｅの励磁磁界下の透磁率を測定した。透
磁率の測定にはマクスウェルブリッジを使用した。第５
図の曲線（ａ）にその各周波数における透磁率の測定結
果を示す。
１６なる組成の非晶質磁性合金リボンから外径１０間、
内径６咽のリング状試料を打抜き、製造されたままの状
態の１０ ｍＯｅの励磁磁界下の透磁率を測定した。透
磁率の測定にはマクスウェルブリッジを使用した。第５
図の曲線（ａ）にその各周波数における透磁率の測定結
果を示す。
比較例（１）と同一の非晶質磁性合金ＩＪ ＆ンから一
辺が２５６Ｉｎの正方形のシートを切シ出し、銅製の保
持具に挾み、このシートに対してシート面と平行に２．
４ ｋｏｅの一方向の磁場を印加しながら電気炉中で３
４０℃の温度に保持し、１０分間熱処理を行った。しか
る後、比較例（１）で述べたと同様なリング状試料を打
抜き透磁率を測定した。第５図の曲線（ｂ）にその各周
波数における透磁率の測定結果を示すＯ 実施例（１） 比較例（１）と同一の非晶質磁性合金リボンから一辺が
２５側の正方形のシートを切シ出し、銅製の保持具に挾
んだ。この保持具はロータリーアクチュエータにより正
確に９０度だけ往復揺動する。０変位置及び９０度変位
置おける停止時間を約０５秒、Ｏ変位置から９０度変位
置で揺動に要する時間を約０２秒となるように設定した
後、電気炉中で加熱しながらシート面と平行に一方向の
磁場を印加した。印加磁場は２．４ ｋｏｅ 、温度３
４５℃、処理時間を１０分とした。しかる後、磁場を印
加し、がっ揺動を続けながら室温捷で冷却し、比較例（
１）と同様にリング状試料を打抜き透磁率を測定した。
辺が２５６Ｉｎの正方形のシートを切シ出し、銅製の保
持具に挾み、このシートに対してシート面と平行に２．
４ ｋｏｅの一方向の磁場を印加しながら電気炉中で３
４０℃の温度に保持し、１０分間熱処理を行った。しか
る後、比較例（１）で述べたと同様なリング状試料を打
抜き透磁率を測定した。第５図の曲線（ｂ）にその各周
波数における透磁率の測定結果を示すＯ 実施例（１） 比較例（１）と同一の非晶質磁性合金リボンから一辺が
２５側の正方形のシートを切シ出し、銅製の保持具に挾
んだ。この保持具はロータリーアクチュエータにより正
確に９０度だけ往復揺動する。０変位置及び９０度変位
置おける停止時間を約０５秒、Ｏ変位置から９０度変位
置で揺動に要する時間を約０２秒となるように設定した
後、電気炉中で加熱しながらシート面と平行に一方向の
磁場を印加した。印加磁場は２．４ ｋｏｅ 、温度３
４５℃、処理時間を１０分とした。しかる後、磁場を印
加し、がっ揺動を続けながら室温捷で冷却し、比較例（
１）と同様にリング状試料を打抜き透磁率を測定した。
第５図の曲線（ｃ）にその各周波数における透磁率の測
定結果を示す。
定結果を示す。
実施例（２）
実施例（１）で述べた熱処理を行なったシートに対して
、さらにシート面と垂直に約１４ｋＯｅの磁場を印加し
ながら電気炉中で３００℃に保ち、１０分間熱処理を行
った。しかる後、比較例（１）と同様なリング状試料を
打ち抜き、透磁率を測定した。第５図の曲線（ｄ）にそ
の各周波数における透磁率の測定結果を示す。
、さらにシート面と垂直に約１４ｋＯｅの磁場を印加し
ながら電気炉中で３００℃に保ち、１０分間熱処理を行
った。しかる後、比較例（１）と同様なリング状試料を
打ち抜き、透磁率を測定した。第５図の曲線（ｄ）にそ
の各周波数における透磁率の測定結果を示す。
上記比較例及び実施例から明らかなように印加磁場の向
きを正確に９０度切換え、Ｘ方向及びＹ方向に均等に誘
導磁気異方性を生成させることで、透磁率は大幅に改善
される。
きを正確に９０度切換え、Ｘ方向及びＹ方向に均等に誘
導磁気異方性を生成させることで、透磁率は大幅に改善
される。
本実施例においては３４５℃の熱処理（面内直交磁場中
熱処理の場合）及び３００℃の熱処理（垂直磁場中熱処
理の場合）によって透磁率の改善が顕著に認められたが
、この効果は誘導磁気異方性の発生−消滅の機構を有効
に活用したものであって、いずれも少くとも２００℃以
上の温度であれば磁場中温度は、結晶化温度以下でかっ
キュリ一温度以下、実用上は２００℃以上であり、又引
きつづき垂直磁場中熱処理を行う時の温度も結晶化温度
以下でかつキュリ一温度以下、実用上は２ｏｏ℃以上で
ある。
熱処理の場合）及び３００℃の熱処理（垂直磁場中熱処
理の場合）によって透磁率の改善が顕著に認められたが
、この効果は誘導磁気異方性の発生−消滅の機構を有効
に活用したものであって、いずれも少くとも２００℃以
上の温度であれば磁場中温度は、結晶化温度以下でかっ
キュリ一温度以下、実用上は２００℃以上であり、又引
きつづき垂直磁場中熱処理を行う時の温度も結晶化温度
以下でかつキュリ一温度以下、実用上は２ｏｏ℃以上で
ある。
てもよい。
上記実施例では、一方向の固定磁場中で非晶質磁性合金
薄板の試料を０変位置と９０度変位置で揺動させて熱処
理したが、他の処理方法としては例えば第６図に示すよ
うに互に直交する２つのコイル（２）及び（３）内に上
記試料（１）を置き、コイル（２）及び（３）に通電１
〜て交互に互に直交する磁場を発生させながら熱処理す
ることもできる。この場合、両コイル（２）及び（３）
への通電は第７図のタイミング波形（４）及び（５）で
示す如くなす。但し、１１＝１２＞１３とするＯ 又、非晶質磁性合金の長いリボン状試料を連続処理する
場合には、例えば第８図又１”！：第９図及び第１０図
に示す処理方法が考えられる。第８図の場合は炉中に互
に直交する磁場を発生させる２つのコイル（６）及び（
７）を設け、このコイル（６）及び（７）内をＩＪ 、
ｌ？ン状試料（１）を走行させ、両コイル（６）及び（
７）に夫々第７図と同様のタイミング波形（４） 、
（５）による通電を行って磁場中熱処理を行う。第９図
及び第１０図は炉中に第１のコイル（８）を巻装したＵ
字状の磁性コア（９）と、磁性コア（９）内に位置して
この磁性コア（９）による磁場の方向と直交する磁場を
発生させる第２のコイルθＱを配し、この磁気コア（９
）内と共に第２のコイル（１０内にＩＪ ｚン状試料を
走行させ、両コイル（８）１α１に交互に通電しなから
熱処理を行う。このような処理方法によればＩＪ 、ｌ
？ン状試料（１）に対して連続して熱処理が行える。
薄板の試料を０変位置と９０度変位置で揺動させて熱処
理したが、他の処理方法としては例えば第６図に示すよ
うに互に直交する２つのコイル（２）及び（３）内に上
記試料（１）を置き、コイル（２）及び（３）に通電１
〜て交互に互に直交する磁場を発生させながら熱処理す
ることもできる。この場合、両コイル（２）及び（３）
への通電は第７図のタイミング波形（４）及び（５）で
示す如くなす。但し、１１＝１２＞１３とするＯ 又、非晶質磁性合金の長いリボン状試料を連続処理する
場合には、例えば第８図又１”！：第９図及び第１０図
に示す処理方法が考えられる。第８図の場合は炉中に互
に直交する磁場を発生させる２つのコイル（６）及び（
７）を設け、このコイル（６）及び（７）内をＩＪ 、
ｌ？ン状試料（１）を走行させ、両コイル（６）及び（
７）に夫々第７図と同様のタイミング波形（４） 、
（５）による通電を行って磁場中熱処理を行う。第９図
及び第１０図は炉中に第１のコイル（８）を巻装したＵ
字状の磁性コア（９）と、磁性コア（９）内に位置して
この磁性コア（９）による磁場の方向と直交する磁場を
発生させる第２のコイルθＱを配し、この磁気コア（９
）内と共に第２のコイル（１０内にＩＪ ｚン状試料を
走行させ、両コイル（８）１α１に交互に通電しなから
熱処理を行う。このような処理方法によればＩＪ 、ｌ
？ン状試料（１）に対して連続して熱処理が行える。
上述せる如く、本発明によれば磁場中冷却効果磁率を付
方できるものである。従って磁気ヘッド用等の優れた軟
磁性コア材料を提供できる。
方できるものである。従って磁気ヘッド用等の優れた軟
磁性コア材料を提供できる。
第１図はＣｏ−Ｆｅ−８ｔ−Ｂ系非晶質合金においてそ
の（Ｆｅ＋Ｃｏ）量に対する透磁率の変化を示す特性図
、第２図は各組成（Ｆｅ ＋ Ｃｏ ）ｘ （８１４−
Ｂ ） １００−、の交流Ｂ−）を曲線図、第３図は非
晶質磁性合金に外部磁場を印加したときの誘導磁気異方
性の発生状態を示す図、第４図は本発明の熱処理方法で
の時間の経過と共に変る誘導磁気異方性の発生状態を示
す図、第５図は本発明の熱処理方法によって改善された
透磁率を示す曲線図、第６図は本発明の具体的処理方法
の一例を示す模式図、第７図はその両コイルに与える電
流のタイミング波形図、第８図は本発明の具体的処理方
法の他の例を示す模式図、第９図及び第１０図は本発明
の具体的処理方法のさらに他の例を示す模式図及びその
断面図である。 （１）は非晶質磁性合金薄板の試料、（２） 、 （３
） 、 （６） 。 （７） 、 （９） 、 （Ｉｎはコイル、Ｋｘ 、
ＫＹは誘導磁気異方性である。 第１図 前置−ｔＸ （厘１％） 第２図 ×＝ 第３１ 第９図 第６図 ｆ 第７図 第１頁の続き 質発 明 者 保田井和秀 横浜市保土ケ谷区藤塚町１７４番 地ソニー株式会社中央研究所内 盆発 明 者 林和彦 横浜市保土ケ谷区藤塚町１７４番 地ソニー株式会社中央研究所内
の（Ｆｅ＋Ｃｏ）量に対する透磁率の変化を示す特性図
、第２図は各組成（Ｆｅ ＋ Ｃｏ ）ｘ （８１４−
Ｂ ） １００−、の交流Ｂ−）を曲線図、第３図は非
晶質磁性合金に外部磁場を印加したときの誘導磁気異方
性の発生状態を示す図、第４図は本発明の熱処理方法で
の時間の経過と共に変る誘導磁気異方性の発生状態を示
す図、第５図は本発明の熱処理方法によって改善された
透磁率を示す曲線図、第６図は本発明の具体的処理方法
の一例を示す模式図、第７図はその両コイルに与える電
流のタイミング波形図、第８図は本発明の具体的処理方
法の他の例を示す模式図、第９図及び第１０図は本発明
の具体的処理方法のさらに他の例を示す模式図及びその
断面図である。 （１）は非晶質磁性合金薄板の試料、（２） 、 （３
） 、 （６） 。 （７） 、 （９） 、 （Ｉｎはコイル、Ｋｘ 、
ＫＹは誘導磁気異方性である。 第１図 前置−ｔＸ （厘１％） 第２図 ×＝ 第３１ 第９図 第６図 ｆ 第７図 第１頁の続き 質発 明 者 保田井和秀 横浜市保土ケ谷区藤塚町１７４番 地ソニー株式会社中央研究所内 盆発 明 者 林和彦 横浜市保土ケ谷区藤塚町１７４番 地ソニー株式会社中央研究所内
Claims (1)
- 非晶質磁性合金薄板に対して、該磁性合金の結晶化温度
以下でかつキュリ一温度以下の温度で、該薄板の主面内
の第１の方向と該第１の方向と直交する第２の方向に交
互に互に同じ時間ずつ磁場を印加しなから熱処理するこ
とを特徴とする非晶質磁性合金の熱処理方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57119013A JPS599157A (ja) | 1982-07-08 | 1982-07-08 | 非晶質磁性合金の熱処理方法 |
| US06/511,645 US4475962A (en) | 1982-07-08 | 1983-07-07 | Annealing method for amorphous magnetic alloy |
| DE19833324729 DE3324729A1 (de) | 1982-07-08 | 1983-07-08 | Verfahren zur waermebehandlung von amorphen magnetlegierungen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57119013A JPS599157A (ja) | 1982-07-08 | 1982-07-08 | 非晶質磁性合金の熱処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS599157A true JPS599157A (ja) | 1984-01-18 |
| JPH0372702B2 JPH0372702B2 (ja) | 1991-11-19 |
Family
ID=14750825
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57119013A Granted JPS599157A (ja) | 1982-07-08 | 1982-07-08 | 非晶質磁性合金の熱処理方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4475962A (ja) |
| JP (1) | JPS599157A (ja) |
| DE (1) | DE3324729A1 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61131213A (ja) * | 1984-11-27 | 1986-06-18 | エヌ・ベー・フイリツプス・フルーイランペンフアブリケン | 磁気ヘツド |
| JPS6246408A (ja) * | 1985-08-23 | 1987-02-28 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気ヘツドの製造方法 |
| JPS63255370A (ja) * | 1987-04-13 | 1988-10-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 非晶質軟磁性材料の熱処理方法 |
| CN111876580A (zh) * | 2016-02-09 | 2020-11-03 | 株式会社东北磁材研究所 | 非晶态合金薄带的层叠体的热处理装置 |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4732641A (en) * | 1985-07-01 | 1988-03-22 | Dennison Manufacturing Co. | Method for rotational decoration of articles |
| EP0429022B1 (en) * | 1989-11-17 | 1994-10-26 | Hitachi Metals, Ltd. | Magnetic alloy with ulrafine crystal grains and method of producing same |
| US5676767A (en) * | 1994-06-30 | 1997-10-14 | Sensormatic Electronics Corporation | Continuous process and reel-to-reel transport apparatus for transverse magnetic field annealing of amorphous material used in an EAS marker |
| US5786762A (en) * | 1994-06-30 | 1998-07-28 | Sensormatic Electronics Corporation | Magnetostrictive element for use in a magnetomechanical surveillance system |
| US5671524A (en) * | 1994-09-19 | 1997-09-30 | Electric Power Research Institute, Inc. | Magnetic annealing of amorphous alloy for motor stators |
| US5684459A (en) * | 1995-10-02 | 1997-11-04 | Sensormatic Electronics Corporation | Curvature-reduction annealing of amorphous metal alloy ribbon |
| US5949334A (en) * | 1995-10-02 | 1999-09-07 | Sensormatic Electronics Corporation | Magnetostrictive element having optimized bias-field-dependent resonant frequency characteristic |
| DE19653428C1 (de) * | 1996-12-20 | 1998-03-26 | Vacuumschmelze Gmbh | Verfahren zum Herstellen von Bandkernbändern sowie induktives Bauelement mit Bandkern |
| US6217672B1 (en) | 1997-09-24 | 2001-04-17 | Yide Zhang | Magnetic annealing of magnetic alloys in a dynamic magnetic field |
| DE10134056B8 (de) | 2001-07-13 | 2014-05-28 | Vacuumschmelze Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung von nanokristallinen Magnetkernen sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
| DE102005034486A1 (de) | 2005-07-20 | 2007-02-01 | Vacuumschmelze Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung eines weichmagnetischen Kerns für Generatoren sowie Generator mit einem derartigen Kern |
| ATE418625T1 (de) | 2006-10-30 | 2009-01-15 | Vacuumschmelze Gmbh & Co Kg | Weichmagnetische legierung auf eisen-kobalt-basis sowie verfahren zu deren herstellung |
| US8012270B2 (en) | 2007-07-27 | 2011-09-06 | Vacuumschmelze Gmbh & Co. Kg | Soft magnetic iron/cobalt/chromium-based alloy and process for manufacturing it |
| US9057115B2 (en) | 2007-07-27 | 2015-06-16 | Vacuumschmelze Gmbh & Co. Kg | Soft magnetic iron-cobalt-based alloy and process for manufacturing it |
| US9147409B1 (en) | 2014-05-30 | 2015-09-29 | Seagate Technology Llc | Magnetic sensor annealing using a rocking field |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4116728B1 (en) * | 1976-09-02 | 1994-05-03 | Gen Electric | Treatment of amorphous magnetic alloys to produce a wide range of magnetic properties |
| US4268325A (en) * | 1979-01-22 | 1981-05-19 | Allied Chemical Corporation | Magnetic glassy metal alloy sheets with improved soft magnetic properties |
| JPS55161057A (en) * | 1979-06-04 | 1980-12-15 | Sony Corp | Manufacture of high permeability amorphous alloy |
| JPS565962A (en) * | 1979-06-27 | 1981-01-22 | Sony Corp | Manufacture of amorphous magnetic alloy |
| DE3033258A1 (de) * | 1979-09-05 | 1981-03-19 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kadoma, Osaka | Verfahren zur waermebehandlung amorpher legierungsschichten |
| JPS5638808A (en) * | 1979-09-05 | 1981-04-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Heat treatment for amorphous magnetic alloy in magnetic field |
| JPS5644746A (en) * | 1979-09-20 | 1981-04-24 | Tdk Corp | Amorphous magnetic alloy material for magnetic core for accelerating or controlling charged particle and its manufacture |
| JPS5669360A (en) * | 1979-11-12 | 1981-06-10 | Tdk Corp | Amorphous magnetic alloy material and its manufacture |
| JPS5779157A (en) * | 1980-10-31 | 1982-05-18 | Sony Corp | Manufacture of amorphous magnetic alloy |
| JPS57114646A (en) * | 1981-01-07 | 1982-07-16 | Hitachi Ltd | Heat treatment of amorphous magnetic alloy |
-
1982
- 1982-07-08 JP JP57119013A patent/JPS599157A/ja active Granted
-
1983
- 1983-07-07 US US06/511,645 patent/US4475962A/en not_active Expired - Lifetime
- 1983-07-08 DE DE19833324729 patent/DE3324729A1/de active Granted
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61131213A (ja) * | 1984-11-27 | 1986-06-18 | エヌ・ベー・フイリツプス・フルーイランペンフアブリケン | 磁気ヘツド |
| JPS6246408A (ja) * | 1985-08-23 | 1987-02-28 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気ヘツドの製造方法 |
| JPS63255370A (ja) * | 1987-04-13 | 1988-10-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 非晶質軟磁性材料の熱処理方法 |
| CN111876580A (zh) * | 2016-02-09 | 2020-11-03 | 株式会社东北磁材研究所 | 非晶态合金薄带的层叠体的热处理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3324729C2 (ja) | 1991-01-31 |
| DE3324729A1 (de) | 1984-01-12 |
| US4475962A (en) | 1984-10-09 |
| JPH0372702B2 (ja) | 1991-11-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS599157A (ja) | 非晶質磁性合金の熱処理方法 | |
| US2900282A (en) | Method of treating magnetic material and resulting articles | |
| JPH0127125B2 (ja) | ||
| US5032947A (en) | Method of improving magnetic devices by applying AC or pulsed current | |
| Arai et al. | Ribbon-form silicon-iron alloy containing around 6.5 percent silicon | |
| US4183999A (en) | Garnet single crystal film for magnetic bubble domain devices | |
| JPS6133058B2 (ja) | ||
| CN100449030C (zh) | 具有线性BH回线的非晶形Fe基金属合金 | |
| Shiiki et al. | Magnetic properties, aging effects and application potential for magnetic heads of Co‐Fe‐Si‐B amorphous alloys | |
| JPS596360A (ja) | 非晶質磁性合金の熱処理方法 | |
| JPS5935431B2 (ja) | 非晶質合金の熱処理法 | |
| JPS59170248A (ja) | 非晶質合金の熱処理方法 | |
| JPS6246408A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| Flanders et al. | Magnetic properties of amorphous magnetic alloys | |
| JPS6123646B2 (en) | Preparation of tape wound core | |
| JPS61199614A (ja) | 軟磁性非晶質薄膜体 | |
| Bates et al. | The adiabatic temperature changes accompanying the magnetization of cobalt in low and moderate fields | |
| JPS59211530A (ja) | 交流損失の小さいＦｅ−Ｃｏ−Ｓｉ−Ｂ系非晶質合金薄帯の製造方法 | |
| JPS59107501A (ja) | 温度センサ− | |
| JPH0151540B2 (ja) | ||
| SU1744766A1 (ru) | Способ изготовлени ленточных магнитопроводов | |
| JPS5935432B2 (ja) | 非晶質磁性体の熱処理法 | |
| JPS6151028B2 (ja) | ||
| JPH01172513A (ja) | 非晶質合金薄帯巻磁心の熱処理方法とその装置 | |
| JP3324304B2 (ja) | 静磁波素子用磁性ガーネット単結晶膜の処理方法およびその処理手段を備えた磁性ガーネット単結晶膜の製造装置 |