JPH0372702B2 - - Google Patents
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- JPH0372702B2 JPH0372702B2 JP57119013A JP11901382A JPH0372702B2 JP H0372702 B2 JPH0372702 B2 JP H0372702B2 JP 57119013 A JP57119013 A JP 57119013A JP 11901382 A JP11901382 A JP 11901382A JP H0372702 B2 JPH0372702 B2 JP H0372702B2
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- magnetic field
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- amorphous
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/12—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
- H01F1/14—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
- H01F1/147—Alloys characterised by their composition
- H01F1/153—Amorphous metallic alloys, e.g. glassy metals
- H01F1/15341—Preparation processes therefor
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
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- C21D1/04—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering with simultaneous application of supersonic waves, magnetic or electric fields
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- Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、非晶質磁性合金の熱処理方法、特に
非晶質磁性合金の磁気特性のうち透磁率を改善す
る熱処理方法に関する。
非晶質磁性合金の磁気特性のうち透磁率を改善す
る熱処理方法に関する。
磁気ヘツド等の軟磁性コア材料として要求され
る磁気特性は使用する周波数帯域で透磁率が高い
ことのみならず、飽和磁束密度の高いことや、磁
歪が零に近いことなどがあげられる。このような
要求を満たす非晶質磁性材料としてはCoを主体
とするCo−Fe−Si−Ｂ系非晶質が良く知られて
おり、これらの透磁率はその合金のキユリー温度
以上、結晶化温度に保持した後急冷することで、
さらに改善されることも周知の事実である。一
方、上記の系の非晶質にあつては（Co＋Fe）の
総量を増すことで飽和磁束密度を高めることがで
きるが、第１図に示すように（Co＋Fe）の総量
の増加に伴い、製造されたままの状態での透磁率
は低く、特にオーデイオ用ヘツド等への実用は困
難であり、何らかの透磁率の改善法が必要であつ
た。ところが、この系の結晶化温度TXは（Co＋
Fe）量の増加とともに低下し（Co＋Fe）総量が
約78原子％以上ではキユリー温度TCよりも低く
なり、必然的に上述したキユリー温度TC以上か
らの急冷という熱処理は適用はできなくなる。そ
の結果、上記熱処理によつて透磁率の改善される
組成の飽和磁束密度は約9000ガウス程度が最大で
あり、これでは合金テープ等の高抗磁力記録媒体
の特性を十分に引き出すことは不可能であつた。
る磁気特性は使用する周波数帯域で透磁率が高い
ことのみならず、飽和磁束密度の高いことや、磁
歪が零に近いことなどがあげられる。このような
要求を満たす非晶質磁性材料としてはCoを主体
とするCo−Fe−Si−Ｂ系非晶質が良く知られて
おり、これらの透磁率はその合金のキユリー温度
以上、結晶化温度に保持した後急冷することで、
さらに改善されることも周知の事実である。一
方、上記の系の非晶質にあつては（Co＋Fe）の
総量を増すことで飽和磁束密度を高めることがで
きるが、第１図に示すように（Co＋Fe）の総量
の増加に伴い、製造されたままの状態での透磁率
は低く、特にオーデイオ用ヘツド等への実用は困
難であり、何らかの透磁率の改善法が必要であつ
た。ところが、この系の結晶化温度TXは（Co＋
Fe）量の増加とともに低下し（Co＋Fe）総量が
約78原子％以上ではキユリー温度TCよりも低く
なり、必然的に上述したキユリー温度TC以上か
らの急冷という熱処理は適用はできなくなる。そ
の結果、上記熱処理によつて透磁率の改善される
組成の飽和磁束密度は約9000ガウス程度が最大で
あり、これでは合金テープ等の高抗磁力記録媒体
の特性を十分に引き出すことは不可能であつた。
本発明は、このような実情を考慮してなされた
もので、キユリー温度TCと結晶化温度TXの関係
に束縛されることなく、高い飽和磁束密度を有す
る組成であつてもその透磁率を高め得る熱処理方
法を提供するものである。
もので、キユリー温度TCと結晶化温度TXの関係
に束縛されることなく、高い飽和磁束密度を有す
る組成であつてもその透磁率を高め得る熱処理方
法を提供するものである。
以下、本発明について詳述する。
第１図で既に示したように、Coを主体とする
Co−Fe−Si−Ｂ系非晶質合金にあつては、（Co
＋Fe）量の増加に伴つて透磁率は低下する。一
方、対応する各組成（Fe＋Co）X（Si＋Ｂ）100-Xの
交流Ｂ−Ｈ曲線を第２図に示すが、このＢ−Ｈ曲
線は（Co＋Fe）の量の増加に伴つてその傾きを
増し、非晶質の製造時に誘起される誘導磁気異方
性が（Co＋Fe）量の増加に伴つて増大すること
を示している。この誘導磁気異方性の存在が特に
（Co＋Fe）量の多い組成領域で大きな透磁率の得
られない原因であると考えられる。その誘導磁気
異方性は一旦キユリー温度TC以上に保持し、急
冷することで消失し、透磁率は大幅に改善される
が、TCTXなる組成領域では適用できない。
Co−Fe−Si−Ｂ系非晶質合金にあつては、（Co
＋Fe）量の増加に伴つて透磁率は低下する。一
方、対応する各組成（Fe＋Co）X（Si＋Ｂ）100-Xの
交流Ｂ−Ｈ曲線を第２図に示すが、このＢ−Ｈ曲
線は（Co＋Fe）の量の増加に伴つてその傾きを
増し、非晶質の製造時に誘起される誘導磁気異方
性が（Co＋Fe）量の増加に伴つて増大すること
を示している。この誘導磁気異方性の存在が特に
（Co＋Fe）量の多い組成領域で大きな透磁率の得
られない原因であると考えられる。その誘導磁気
異方性は一旦キユリー温度TC以上に保持し、急
冷することで消失し、透磁率は大幅に改善される
が、TCTXなる組成領域では適用できない。
一方、これらの系の非晶質磁性合金はすべて磁
場中冷却効果を示す。すなわち、磁場中で熱処理
を行なえば印加磁場方向に一軸磁気異方性が新た
に誘起され、製造時に存在していた誘導磁気異方
性は消滅する。この時誘起される誘導磁気異方性
の方向は外部磁場の向きを180°反転させても不変
である。ところが第３図に示すように非晶質磁性
合金薄板１に対して、まずＸ方向に外部磁場Ha
を印加しながらその合金の結晶化温度以下でかつ
キユリー温度以下の温度で熱処理を行い、Ｘ方向
に十分誘導磁気異方性KXを発生せしめた後、Ｘ
方向の磁場を取り去り、改めてＸ方向から正確に
90°離れたＹ方向より外部磁場Haを印加して熱処
理すればＸ方向の誘導磁気異方性KXは消滅しつ
つＹ方向の誘導磁気異方性KYが生成する。透磁
率μと誘導磁気異方性の大きさKuとの間には次
式の関係が成り立つことが認められている。
場中冷却効果を示す。すなわち、磁場中で熱処理
を行なえば印加磁場方向に一軸磁気異方性が新た
に誘起され、製造時に存在していた誘導磁気異方
性は消滅する。この時誘起される誘導磁気異方性
の方向は外部磁場の向きを180°反転させても不変
である。ところが第３図に示すように非晶質磁性
合金薄板１に対して、まずＸ方向に外部磁場Ha
を印加しながらその合金の結晶化温度以下でかつ
キユリー温度以下の温度で熱処理を行い、Ｘ方向
に十分誘導磁気異方性KXを発生せしめた後、Ｘ
方向の磁場を取り去り、改めてＸ方向から正確に
90°離れたＹ方向より外部磁場Haを印加して熱処
理すればＸ方向の誘導磁気異方性KXは消滅しつ
つＹ方向の誘導磁気異方性KYが生成する。透磁
率μと誘導磁気異方性の大きさKuとの間には次
式の関係が成り立つことが認められている。
μ∝１／Ku、又はμ∝１／√ ……(1)
従つて透磁率μを大きくするためには、Kuを
小さくする必要がある。(1)式で示したKuはあく
までもＸ方向の誘導磁気異方性KXとＹ方向の誘
導磁気異方性KYとの差だけて定まる。
小さくする必要がある。(1)式で示したKuはあく
までもＸ方向の誘導磁気異方性KXとＹ方向の誘
導磁気異方性KYとの差だけて定まる。
Ku＝｜KX−KY｜ ……(2)
従つて原理的には第３図に示した誘導磁気異方
性が90°向きを変えながら消滅−生成を行なう過
程にあつては KXKY ……(3) となつた瞬間、Kuは零となり、大きな透磁率μ
が得られることになる。しかし、一旦Ｘ方向に誘
起された誘導磁気異方性に対し、Ｙ方向に１回だ
け外部磁場を印加してKXKYなる条件を実現す
ることは、原理的に可能であつても、工業的に再
現することが困難である。
性が90°向きを変えながら消滅−生成を行なう過
程にあつては KXKY ……(3) となつた瞬間、Kuは零となり、大きな透磁率μ
が得られることになる。しかし、一旦Ｘ方向に誘
起された誘導磁気異方性に対し、Ｙ方向に１回だ
け外部磁場を印加してKXKYなる条件を実現す
ることは、原理的に可能であつても、工業的に再
現することが困難である。
そこで本発明に於ては、非晶質磁性合金薄板に
対して、その磁性合金の結晶化温度以下でかつキ
ユリー温度以下の温度で、薄板の主面内のＸ方向
と之に直交するＹ方向に交互に互に同じ時間ずつ
磁場を印加しながら熱処理する。その結果、第４
図ａ〜ｇに模式的に示すように、時間の経過と共
にＸ方向及びＹ方向に誘導磁気異方性KX及びKY
はほぼ等しい大きさで成長し、製造時に存在して
いた誘導磁気異方性が消滅しつつKXKYなる条
件に到達する。磁場を印加した後、誘導磁気異方
性が生成又は消滅するまでには有限な時間（緩和
時間τ）を伴うものであり、Ｘ方向からＹ方向に
磁場を切り換える速度がτよりも十分速ければ常
にKXKYなる条件が実現されるのである。
対して、その磁性合金の結晶化温度以下でかつキ
ユリー温度以下の温度で、薄板の主面内のＸ方向
と之に直交するＹ方向に交互に互に同じ時間ずつ
磁場を印加しながら熱処理する。その結果、第４
図ａ〜ｇに模式的に示すように、時間の経過と共
にＸ方向及びＹ方向に誘導磁気異方性KX及びKY
はほぼ等しい大きさで成長し、製造時に存在して
いた誘導磁気異方性が消滅しつつKXKYなる条
件に到達する。磁場を印加した後、誘導磁気異方
性が生成又は消滅するまでには有限な時間（緩和
時間τ）を伴うものであり、Ｘ方向からＹ方向に
磁場を切り換える速度がτよりも十分速ければ常
にKXKYなる条件が実現されるのである。
以上が本発明の基礎原理であつて、本質的に重
要なのはＸ方向及びＹ方向に印加される磁場を有
限時間保持しなければならない点である。
要なのはＸ方向及びＹ方向に印加される磁場を有
限時間保持しなければならない点である。
従つて本発明は、非晶質磁性合金板を磁場中で
連続的に回転させ、若しくは連続的に回転する磁
場中で熱処理を行ない、誘導磁気異方性を等方的
に分布せしめる従来方法とは異なるものである。
連続的に回転させ、若しくは連続的に回転する磁
場中で熱処理を行ない、誘導磁気異方性を等方的
に分布せしめる従来方法とは異なるものである。
なお、この従来方法では、合成磁界を少くとも
180度回転させた時には誘導磁気異方性が巨視的
に等方的になるというものであるが、合成磁界が
180度回転すると、誘導磁気異方性の向きは初期
状態と同一になり等方分布は期待できない。
180度回転させた時には誘導磁気異方性が巨視的
に等方的になるというものであるが、合成磁界が
180度回転すると、誘導磁気異方性の向きは初期
状態と同一になり等方分布は期待できない。
しかして本発明は、上述の基礎原理に基づいて
具体的には非晶質磁性合金薄板をその結晶化温度
以下でかつキユリー温度以下の温度に保持し、外
部より正確に90°方向の異なる磁場を交互に印加
し、あるいは一方向の磁場中で上記薄板を正確に
90°だけ間欠的又は連続的に向きを変え（揺動）
させながら熱処理を行うようになす。
具体的には非晶質磁性合金薄板をその結晶化温度
以下でかつキユリー温度以下の温度に保持し、外
部より正確に90°方向の異なる磁場を交互に印加
し、あるいは一方向の磁場中で上記薄板を正確に
90°だけ間欠的又は連続的に向きを変え（揺動）
させながら熱処理を行うようになす。
斯くすれば、製造時に存在していた誘導磁気異
方性が消滅しつつKXKYなる条件に到達するも
のであり、従つて、結晶化温度TXとキユリー温
度TCの関係に束縛されることなく、磁場中冷却
効果を呈する非晶質磁性合金全般に対してその透
磁率を高め、特に飽和磁束密度10000ガウス以上
有する組成にあつても高い透磁率を付与すること
が出来る。
方性が消滅しつつKXKYなる条件に到達するも
のであり、従つて、結晶化温度TXとキユリー温
度TCの関係に束縛されることなく、磁場中冷却
効果を呈する非晶質磁性合金全般に対してその透
磁率を高め、特に飽和磁束密度10000ガウス以上
有する組成にあつても高い透磁率を付与すること
が出来る。
次に本発明の実施例について述べる。
比較例 １
液体急冷によつて作製されたFe5Co75Si4B16な
る組成の非晶質磁性合金リボンから外径10mm、内
径６mmのリング状試料を打抜き、製造されたまま
の状態の10mOeの励磁磁界下の透磁率を測定し
た。透磁率の測定にはマクスウエルブリツジを使
用した。第５図の曲線ａにその各周波数における
透磁率の測定結果を示す。
る組成の非晶質磁性合金リボンから外径10mm、内
径６mmのリング状試料を打抜き、製造されたまま
の状態の10mOeの励磁磁界下の透磁率を測定し
た。透磁率の測定にはマクスウエルブリツジを使
用した。第５図の曲線ａにその各周波数における
透磁率の測定結果を示す。
比較例 ２
比較例１と同一の非晶質磁性合金リボンから一
辺が2.5cmの正方形のシートを切り出し、銅製の
保持具に挾み、このシートに対してシート面と平
行に2.4kOeの一方向の磁場を印加しながら電気
炉中で340℃の温度に保持し、10分間熱処理を行
つた。しかる後、比較例１で述べたと同様なリン
グ状試料を打抜き透磁率を測定した。第５図の曲
線ｂにその各周波数における測定結果を示す。
辺が2.5cmの正方形のシートを切り出し、銅製の
保持具に挾み、このシートに対してシート面と平
行に2.4kOeの一方向の磁場を印加しながら電気
炉中で340℃の温度に保持し、10分間熱処理を行
つた。しかる後、比較例１で述べたと同様なリン
グ状試料を打抜き透磁率を測定した。第５図の曲
線ｂにその各周波数における測定結果を示す。
実施例 １
比較例１と同一の非晶質磁性合金リボンから一
辺が2.5cmの正方形のシートを切り出し、銅製の
保持具に挾んだ。この保持具はロータリーアクチ
ユエータにより正確に90度だけ往復揺動する。０
度位置及び90度位置における停止時間を約0.5秒、
０度位置から90度位置まで揺動に要する時間を約
0.2秒となるように設定した後、電気炉中で加熱
しながらシート面と平行に一方向の磁場を印加し
た。印加磁場は2.4kOe、温度345℃、処理時間を
10分間とした。しかる後、磁場を印加し、かつ揺
動を続けながら室温まで冷却し、比較例１と同様
にリング状試料を打抜き透磁率を測定した。第５
図の曲線ｃにその各周波数における透磁率の測定
結果を示す。
辺が2.5cmの正方形のシートを切り出し、銅製の
保持具に挾んだ。この保持具はロータリーアクチ
ユエータにより正確に90度だけ往復揺動する。０
度位置及び90度位置における停止時間を約0.5秒、
０度位置から90度位置まで揺動に要する時間を約
0.2秒となるように設定した後、電気炉中で加熱
しながらシート面と平行に一方向の磁場を印加し
た。印加磁場は2.4kOe、温度345℃、処理時間を
10分間とした。しかる後、磁場を印加し、かつ揺
動を続けながら室温まで冷却し、比較例１と同様
にリング状試料を打抜き透磁率を測定した。第５
図の曲線ｃにその各周波数における透磁率の測定
結果を示す。
実施例 ２
実施例１で述べた熱処理を行なつたシートに対
して、さらにシート面と垂直に約14kOeの磁場を
印加しながら電気炉中で300℃に保ち、10分間熱
処理を行つた。しかる後、比較例１と同様なリン
グ状試料を打ち抜き、透磁率を測定した。第５図
の曲線ｄにその各周波数における透磁率の測定結
果を示す。
して、さらにシート面と垂直に約14kOeの磁場を
印加しながら電気炉中で300℃に保ち、10分間熱
処理を行つた。しかる後、比較例１と同様なリン
グ状試料を打ち抜き、透磁率を測定した。第５図
の曲線ｄにその各周波数における透磁率の測定結
果を示す。
上記比較例及び実施例から明らかなように印加
磁場の向きを正確に90度切換え、Ｘ方向及びＹ方
向に均等に誘導磁気異方性を生成させることで、
透磁率は大幅に改善される。
磁場の向きを正確に90度切換え、Ｘ方向及びＹ方
向に均等に誘導磁気異方性を生成させることで、
透磁率は大幅に改善される。
本実施例においては345℃の熱処理（面内直交
磁場中熱処理の場合）及び300℃の熱処理（垂直
磁場中熱処理の場合）によつて透磁率の改善が顕
著に認められたが、この効果は誘導磁気異方性の
発生−消滅の機構を有効に活用したものであつ
て、いずれも少くとも200℃以上の温度であれば
磁場中冷却効果を呈する非晶質磁性合金全般に適
用しうるものである。即ち、面内直交磁場中熱処
理の場合の温度は、結晶化温度以下でかつキユリ
ー温度以下、実用上は200℃以上であり、又引き
つづき垂直磁場中熱処理を行う時の温度も結晶化
温度以下でかつキユリー温度以下、実用上は200
℃以上である。いずれも温度と時間を選定すれば
よい。
磁場中熱処理の場合）及び300℃の熱処理（垂直
磁場中熱処理の場合）によつて透磁率の改善が顕
著に認められたが、この効果は誘導磁気異方性の
発生−消滅の機構を有効に活用したものであつ
て、いずれも少くとも200℃以上の温度であれば
磁場中冷却効果を呈する非晶質磁性合金全般に適
用しうるものである。即ち、面内直交磁場中熱処
理の場合の温度は、結晶化温度以下でかつキユリ
ー温度以下、実用上は200℃以上であり、又引き
つづき垂直磁場中熱処理を行う時の温度も結晶化
温度以下でかつキユリー温度以下、実用上は200
℃以上である。いずれも温度と時間を選定すれば
よい。
なお、実施例２では面内直交磁場中熱処理の後
に引きつづき垂直磁場中熱処理を行つたが、その
逆の垂直磁場中熱処理の後に面内直交磁場中熱処
理を行つてもよい。
に引きつづき垂直磁場中熱処理を行つたが、その
逆の垂直磁場中熱処理の後に面内直交磁場中熱処
理を行つてもよい。
上記実施例では、一方向の固定磁場中で非晶質
磁性合金薄板の試料を０度位置と90度位置間で揺
動させて熱処理したが、他の処理方法としては例
えば第６図に示すように互に直交する２つのコイ
ル２及び３内に上記試料１を置き、コイル２及び
３に通電して交互に互に直交する磁場を発生させ
ながら熱処理することもできる。この場合、両コ
イル２及び３への通電は第７図のタイミング波形
４及び５で示す如くなす。但し、t1＝t2≫t3とす
る。
磁性合金薄板の試料を０度位置と90度位置間で揺
動させて熱処理したが、他の処理方法としては例
えば第６図に示すように互に直交する２つのコイ
ル２及び３内に上記試料１を置き、コイル２及び
３に通電して交互に互に直交する磁場を発生させ
ながら熱処理することもできる。この場合、両コ
イル２及び３への通電は第７図のタイミング波形
４及び５で示す如くなす。但し、t1＝t2≫t3とす
る。
又、非晶質磁性合金の長いリボン状試料を連続
処理する場合には、例えば第８図又は第９図及び
第１０図に示す処理方法が考えられる。第８図の
場合は炉中に互に直交する磁場を発生させる２つ
のコイル６及び７を設け、このコイル６及び７内
をリボン状試料１を走行させ、両コイル６及び７
に夫々第７図と同様のタイミング波形４，５によ
る通電を行つて磁場中熱処理を行う。第９図及び
第１０図は炉中に第１のコイル８を巻装したＵ字
状の磁性コア９と、磁性コア９内に位置してこの
磁性コア９による磁場の方向と直交する磁場を発
生させる第２のコイル１０を配し、この磁気コア
９内と共に第２のコイル１０内にリボン状試料を
走行させ、両コイル８，１０に交互に通電しなが
ら熱処理を行う。このような処理方法によればリ
ボン状試料１に対して連続して熱処理が行える。
処理する場合には、例えば第８図又は第９図及び
第１０図に示す処理方法が考えられる。第８図の
場合は炉中に互に直交する磁場を発生させる２つ
のコイル６及び７を設け、このコイル６及び７内
をリボン状試料１を走行させ、両コイル６及び７
に夫々第７図と同様のタイミング波形４，５によ
る通電を行つて磁場中熱処理を行う。第９図及び
第１０図は炉中に第１のコイル８を巻装したＵ字
状の磁性コア９と、磁性コア９内に位置してこの
磁性コア９による磁場の方向と直交する磁場を発
生させる第２のコイル１０を配し、この磁気コア
９内と共に第２のコイル１０内にリボン状試料を
走行させ、両コイル８，１０に交互に通電しなが
ら熱処理を行う。このような処理方法によればリ
ボン状試料１に対して連続して熱処理が行える。
上述せる如く、本発明によれば磁場中冷却効果
を呈する非晶質磁性合金に適用でき、特に飽和磁
束密度10000ガウス以上を有する組成に対しても
高い透磁率を付与できるものである。従つて磁気
ヘツド用等の優れた軟磁性コア材料を提供でき
る。
を呈する非晶質磁性合金に適用でき、特に飽和磁
束密度10000ガウス以上を有する組成に対しても
高い透磁率を付与できるものである。従つて磁気
ヘツド用等の優れた軟磁性コア材料を提供でき
る。
第１図はCo−Fe−Si−Ｂ系非晶質合金におい
てその（Fe＋Co）量に対する透磁率の変化を示
す特性図、第２図は各組成（Fe＋Co）X（Si＋Ｂ）
100-Xの交流Ｂ−Ｈ曲線図、第３図は非晶質磁性
合金に外部磁場を印加したときの誘導磁気異方性
の発生状態を示す図、第４図は本発明の熱処理方
法での時間の経過と共に変る誘導磁気異方性の発
生状態を示す図、第５図は本発明の熱処理方法に
よつて改善された透磁率を示す曲線図、第６図は
本発明の具体的処理方法の一例を示す模式図、第
７図はその両コイルに与える電流のタイミング波
形図、第８図は本発明の具体的処理方法の他の例
を示す模式図、第９図及び第１０図は本発明の具
体的処理方法のさらに他の例を示す模式図及びそ
の断面図である。 １は非晶質磁性合金薄板の試料、２，３，６，
７，９，１０はコイル、KX，KYは誘導磁気異方
性である。
てその（Fe＋Co）量に対する透磁率の変化を示
す特性図、第２図は各組成（Fe＋Co）X（Si＋Ｂ）
100-Xの交流Ｂ−Ｈ曲線図、第３図は非晶質磁性
合金に外部磁場を印加したときの誘導磁気異方性
の発生状態を示す図、第４図は本発明の熱処理方
法での時間の経過と共に変る誘導磁気異方性の発
生状態を示す図、第５図は本発明の熱処理方法に
よつて改善された透磁率を示す曲線図、第６図は
本発明の具体的処理方法の一例を示す模式図、第
７図はその両コイルに与える電流のタイミング波
形図、第８図は本発明の具体的処理方法の他の例
を示す模式図、第９図及び第１０図は本発明の具
体的処理方法のさらに他の例を示す模式図及びそ
の断面図である。 １は非晶質磁性合金薄板の試料、２，３，６，
７，９，１０はコイル、KX，KYは誘導磁気異方
性である。
Claims (1)
- １ 非晶質磁性合金薄板に対して、該磁性合金の
結晶化温度以下でかつキユリー温度以下の温度
で、該薄板の主面内の第１の方向と該第１の方向
と直交する第２の方向に交互に互に同じ時間ずつ
磁場を印加しながら熱処理することを特徴とする
非晶質磁性合金の熱処理方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57119013A JPS599157A (ja) | 1982-07-08 | 1982-07-08 | 非晶質磁性合金の熱処理方法 |
| US06/511,645 US4475962A (en) | 1982-07-08 | 1983-07-07 | Annealing method for amorphous magnetic alloy |
| DE19833324729 DE3324729A1 (de) | 1982-07-08 | 1983-07-08 | Verfahren zur waermebehandlung von amorphen magnetlegierungen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57119013A JPS599157A (ja) | 1982-07-08 | 1982-07-08 | 非晶質磁性合金の熱処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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| JPS599157A JPS599157A (ja) | 1984-01-18 |
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Family
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Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP57119013A Granted JPS599157A (ja) | 1982-07-08 | 1982-07-08 | 非晶質磁性合金の熱処理方法 |
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-
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