JPS596360A - 非晶質磁性合金の熱処理方法 - Google Patents
非晶質磁性合金の熱処理方法Info
- Publication number
- JPS596360A JPS596360A JP57115864A JP11586482A JPS596360A JP S596360 A JPS596360 A JP S596360A JP 57115864 A JP57115864 A JP 57115864A JP 11586482 A JP11586482 A JP 11586482A JP S596360 A JPS596360 A JP S596360A
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- heat treatment
- magnetic
- thin strip
- alloy
- magnetic field
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- Heat Treatment Of Nonferrous Metals Or Alloys (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、非晶質磁性合金の熱処理方法に係り、特に高
い透磁率の非晶質磁性合金を大量および／または連続的
に容易に製造することができる非晶質磁性合金の熱処理
方法に関するものである。
い透磁率の非晶質磁性合金を大量および／または連続的
に容易に製造することができる非晶質磁性合金の熱処理
方法に関するものである。
超急冷法、スパッタ及びメッキ法で製造された非晶質磁
性材料は、製造されたままの状態では透磁率（μ′）が
通常低い値を示すので軟磁性材料として直接利用するこ
とが不可能である。磁歪零材の組成において非晶質磁性
材の透磁率を決定しているのは、製造中に誘導される異
方性、つまり誘導磁気異方性がある。この誘導磁気異方
性が磁場中の熱処理により自由に制御できるという事実
に基づき、先に本発明者らは非晶質磁性合金薄板上の任
意の直交座標軸においてＫｉｘ ： Ｋｉｙ （Ｋｆｘ
： ｘ方向の誘導磁気異方性、 Ｋｉ７ ： ｙ方向
の誘導磁気異方性）の条件を満足する磁場中熱処理を施
した時、著しい透磁率の改善が得られることを提案した
。しかし、かかる本発明者らの提案では、原理の呈示は
しても実用上、大量および／または連続的に処理するこ
とに難点があった。
性材料は、製造されたままの状態では透磁率（μ′）が
通常低い値を示すので軟磁性材料として直接利用するこ
とが不可能である。磁歪零材の組成において非晶質磁性
材の透磁率を決定しているのは、製造中に誘導される異
方性、つまり誘導磁気異方性がある。この誘導磁気異方
性が磁場中の熱処理により自由に制御できるという事実
に基づき、先に本発明者らは非晶質磁性合金薄板上の任
意の直交座標軸においてＫｉｘ ： Ｋｉｙ （Ｋｆｘ
： ｘ方向の誘導磁気異方性、 Ｋｉ７ ： ｙ方向
の誘導磁気異方性）の条件を満足する磁場中熱処理を施
した時、著しい透磁率の改善が得られることを提案した
。しかし、かかる本発明者らの提案では、原理の呈示は
しても実用上、大量および／または連続的に処理するこ
とに難点があった。
本発明は、このよ５な実情に鑑みてなされたものであり
、誘導磁気異方性の等方的条件を満たし、かつ大量およ
び／または連続的に熱処理を可能にした非晶質磁性合金
の熱処理方法を提供するものである。
、誘導磁気異方性の等方的条件を満たし、かつ大量およ
び／または連続的に熱処理を可能にした非晶質磁性合金
の熱処理方法を提供するものである。
本発明においては、非晶質磁性合金薄帯に対して、この
合金のキュリ一温度以下でかつ結晶化温度以下で非晶質
磁性合金薄帯の主面内の第１の方向に誘導磁気異方性を
発生させるに充分な磁場を印加して熱処理し、上記合金
のキュリ一温度以下でかつ結晶化温度以下で非晶質磁性
合金薄帯の主面内で第１の方向に対して直交する第２の
方向ＶＣ。
合金のキュリ一温度以下でかつ結晶化温度以下で非晶質
磁性合金薄帯の主面内の第１の方向に誘導磁気異方性を
発生させるに充分な磁場を印加して熱処理し、上記合金
のキュリ一温度以下でかつ結晶化温度以下で非晶質磁性
合金薄帯の主面内で第１の方向に対して直交する第２の
方向ＶＣ。
その第１の方向の誘導磁気異方性と第２の方向の誘導磁
気異方性が等しくなるに充分な磁界を印加して熱処理す
ることを特徴とするものである。これによって、誘導磁
気異方性の等方的条件を満たし、大量および／または連
続的に非晶質磁性合金を熱処理することができる。
気異方性が等しくなるに充分な磁界を印加して熱処理す
ることを特徴とするものである。これによって、誘導磁
気異方性の等方的条件を満たし、大量および／または連
続的に非晶質磁性合金を熱処理することができる。
以下、図面を用いて本発明による非晶質磁性合金の熱処
理方法の例を詳述する。
理方法の例を詳述する。
第１図は本発明の一例を示す。本例においては非晶質磁
性合金薄帯（１）を筒状に巻き、これに例えばソレノイ
ドコイル（２）を施してこの合金のキュリ一温度以下で
かつ結晶化温度以下の温度で、筒状の円周方向即ち薄帯
（１）の長手方向に磁場Ｈ１を印加して熱処理し、薄帯
（１）の主面内の長手方向に誘導磁気異方性Ｋｌ／Ｑを
発生させる。次に同じ前状態の薄帯（１）にこの合金の
キュリ一温度以下でかつ結晶化温度以下の温度で、薄帯
（１）の幅方向に外部磁場Ｈ２を印加して熱処理し、薄
帯（１）の主面内でその長手方向と直交する幅方向に誘
導磁気異方性ＫＬＱを発生させ、Ｋｔｔｇ ＝ Ｋｌｇ
の条件を満足する時間で熱処理を終える。すなわち、こ
の場合磁場Ｈ２を印加すると磁場Ｈ１で発生したに／／
ｌが減少しつつ之と直交するＫｌが増大するのでＫｎＱ
＝ Ｋｌｇとなる時点で熱処理を終える。
性合金薄帯（１）を筒状に巻き、これに例えばソレノイ
ドコイル（２）を施してこの合金のキュリ一温度以下で
かつ結晶化温度以下の温度で、筒状の円周方向即ち薄帯
（１）の長手方向に磁場Ｈ１を印加して熱処理し、薄帯
（１）の主面内の長手方向に誘導磁気異方性Ｋｌ／Ｑを
発生させる。次に同じ前状態の薄帯（１）にこの合金の
キュリ一温度以下でかつ結晶化温度以下の温度で、薄帯
（１）の幅方向に外部磁場Ｈ２を印加して熱処理し、薄
帯（１）の主面内でその長手方向と直交する幅方向に誘
導磁気異方性ＫＬＱを発生させ、Ｋｔｔｇ ＝ Ｋｌｇ
の条件を満足する時間で熱処理を終える。すなわち、こ
の場合磁場Ｈ２を印加すると磁場Ｈ１で発生したに／／
ｌが減少しつつ之と直交するＫｌが増大するのでＫｎＱ
＝ Ｋｌｇとなる時点で熱処理を終える。
この方法によれば、大量に非晶質磁性合金に対する熱処
理が可能になる。特にこの方法はトランス用コア向けに
適している。この方法では筒状に巻いた状態で磁場中熱
処理を施すので熱処理後の非晶質磁性合金薄帯（１）が
そり曲がる慣れがある。
理が可能になる。特にこの方法はトランス用コア向けに
適している。この方法では筒状に巻いた状態で磁場中熱
処理を施すので熱処理後の非晶質磁性合金薄帯（１）が
そり曲がる慣れがある。
第２図は本発明の他の例である。本例は非晶質磁性合金
薄帯（１）を平板の状態で一方に移送し、その移送途上
の第１の位置において例えばソレノイドコイル（２）を
用いて該合金のキュリ一温度以下でかつ結晶化温度以下
の温度で薄帯（１）の長手方向に磁場Ｈ１を印加して熱
処理し、薄帯（１）の主面内の朱子方向に誘導磁気異方
性に／／Ｑを発生させる。次に移送途上の第２の位置に
おいて、同様に合金のキュリ一温度以下でかつ結晶化温
度以下の温度で。
薄帯（１）を平板の状態で一方に移送し、その移送途上
の第１の位置において例えばソレノイドコイル（２）を
用いて該合金のキュリ一温度以下でかつ結晶化温度以下
の温度で薄帯（１）の長手方向に磁場Ｈ１を印加して熱
処理し、薄帯（１）の主面内の朱子方向に誘導磁気異方
性に／／Ｑを発生させる。次に移送途上の第２の位置に
おいて、同様に合金のキュリ一温度以下でかつ結晶化温
度以下の温度で。
薄帯（１）の幅方向に外部磁場Ｈ２を印加して熱処理し
、薄帯（１）の主面内で長手方向と直交する幅方向に誘
導磁気異方性に１ｇを発生させ、 Ｋｔｔｉ ＝ Ｋ旦
の条件を満足する時間で熱処理を終える。
、薄帯（１）の主面内で長手方向と直交する幅方向に誘
導磁気異方性に１ｇを発生させ、 Ｋｔｔｉ ＝ Ｋ旦
の条件を満足する時間で熱処理を終える。
この方法によれば、非晶質磁性合金薄帯（１）が平板の
状態で磁場中熱処理されるので熱処理後の薄帯（１）の
そり曲りを防ぎ、しかも大量かつ連続的に非晶質磁性合
金の熱処理を可能にする。従ってこの方法で熱処理され
た非晶質磁性合金薄帯はそり曲りがなく平板状に得られ
るので、爾後の打抜き、エツチング等の加工性がよく、
例えば磁気ヘッド等の軟磁性コア材用に適するものであ
る。
状態で磁場中熱処理されるので熱処理後の薄帯（１）の
そり曲りを防ぎ、しかも大量かつ連続的に非晶質磁性合
金の熱処理を可能にする。従ってこの方法で熱処理され
た非晶質磁性合金薄帯はそり曲りがなく平板状に得られ
るので、爾後の打抜き、エツチング等の加工性がよく、
例えば磁気ヘッド等の軟磁性コア材用に適するものであ
る。
尚、第１図及び第２図において磁場Ｈ１及びＨ２を印加
する順序は問わない。つまり、上例では磁場Ｈ１を先に
し磁場Ｈ２を後に印加したが、逆の磁場Ｈ２を先にし磁
場Ｈ，ｘ、 ｕ、に印加してもよい。いずれの順序にお
いてもＨｌ、Ｈ２の磁場中熱処理においてＫｔｔｇ ’
、 Ｋｉｇの条件を満足させることで本発明は達成され
る。従って本質的には磁場は交流、直流を間はない。
する順序は問わない。つまり、上例では磁場Ｈ１を先に
し磁場Ｈ２を後に印加したが、逆の磁場Ｈ２を先にし磁
場Ｈ，ｘ、 ｕ、に印加してもよい。いずれの順序にお
いてもＨｌ、Ｈ２の磁場中熱処理においてＫｔｔｇ ’
、 Ｋｉｇの条件を満足させることで本発明は達成され
る。従って本質的には磁場は交流、直流を間はない。
また、上例では薄帯（１）の主面上において、その長手
方向と之に直交する幅方向に夫々磁場Ｈ１及びＨ２を印
加したが、その他主面内における任意の直交座標軸にお
いて互に直交する方向に磁場Ｈ１及びＨ２を印加しても
よい。
方向と之に直交する幅方向に夫々磁場Ｈ１及びＨ２を印
加したが、その他主面内における任意の直交座標軸にお
いて互に直交する方向に磁場Ｈ１及びＨ２を印加しても
よい。
また、第１図及び第２図ではすべて炉中で熱処理が行な
われる。
われる。
更に１図示せざるも、例えば第２図の例においてさらに
薄帯（１）の移送途上の第３の位置において薄帯（１）
の板面に対して垂直方向に外部磁場Ｈ３を印加して該合
金のキュリ一温度以下でかつ結晶化温度以下の温度で
熱処理し、３次元的に誘導磁気異方性を略等しくするよ
うになすことも可能である。このときはさらに高周波領
域の透磁率向上が期待できる。
薄帯（１）の移送途上の第３の位置において薄帯（１）
の板面に対して垂直方向に外部磁場Ｈ３を印加して該合
金のキュリ一温度以下でかつ結晶化温度以下の温度で
熱処理し、３次元的に誘導磁気異方性を略等しくするよ
うになすことも可能である。このときはさらに高周波領
域の透磁率向上が期待できる。
次に本発明の実施例を述べる。
実施例（１）
試料はＦｅ５Ｃｏ７５Ｓｉ４Ｂ１６ （結晶化温度４２
０’Ｃ，−＋ユリ一温度５７０℃）で厚み約２０μｍ、
長さ約ｉｏｍの非晶質磁性合金薄帯を使用し、これを筒
状に巻き、第１図に示す熱処理法を用い℃最初に熱処理
温度Ｔａ ＝ ３６０℃、時間ｆａ ＝ ３０ｍ１ｎ、
磁場Ｈ２＝＝２．４ ＫＯｅで誘導磁気異方性を与えた
。然る後、熱処理温度Ｔａ ＝ ３００’Ｃ１時間ｔａ
＝ １０ｍ１ｎ 、磁場Ｈ１＝ ３００ｅの条件で熱処
理を行った。表１に、その結果を示す。透磁率の測定磁
界は１０ｍ０ｅである。
０’Ｃ，−＋ユリ一温度５７０℃）で厚み約２０μｍ、
長さ約ｉｏｍの非晶質磁性合金薄帯を使用し、これを筒
状に巻き、第１図に示す熱処理法を用い℃最初に熱処理
温度Ｔａ ＝ ３６０℃、時間ｆａ ＝ ３０ｍ１ｎ、
磁場Ｈ２＝＝２．４ ＫＯｅで誘導磁気異方性を与えた
。然る後、熱処理温度Ｔａ ＝ ３００’Ｃ１時間ｔａ
＝ １０ｍ１ｎ 、磁場Ｈ１＝ ３００ｅの条件で熱処
理を行った。表１に、その結果を示す。透磁率の測定磁
界は１０ｍ０ｅである。
表 １
実施例（２）
実施例（１）と同じ試料を用い％第２図の熱処理法（磁
場を印加する順序は逆）により最初の第１の位置で熱処
理温度Ｔａ ＝ ３６０℃、時間ｔａ ＝３Ｑｍｌｎ
Ｓ磁場Ｈ２−２，４ＫＯｅで誘導磁気異方性を与え１次
の位置で熱処理温度Ｔａ ＝ ３００℃、時間ｔａ ＝
１０ｍ１ｎ 。
場を印加する順序は逆）により最初の第１の位置で熱処
理温度Ｔａ ＝ ３６０℃、時間ｔａ ＝３Ｑｍｌｎ
Ｓ磁場Ｈ２−２，４ＫＯｅで誘導磁気異方性を与え１次
の位置で熱処理温度Ｔａ ＝ ３００℃、時間ｔａ ＝
１０ｍ１ｎ 。
磁場Ｈ１−３００ｅの条件で熱処理を行った。この結果
は上記表１と同じであった。
は上記表１と同じであった。
上述せる如く、本発明によれば非晶質磁性合金に対して
誘導磁気異方性の等方的条件を満たし。
誘導磁気異方性の等方的条件を満たし。
かつ大量または／および連続的な熱処理が可能となるも
ので、従って軟磁性材料として使用し得る高い透磁率の
非晶質磁性合金の量産化を可能にするものである。
ので、従って軟磁性材料として使用し得る高い透磁率の
非晶質磁性合金の量産化を可能にするものである。
第１図及び第２図は夫々本発明における熱処理工程の例
を示す概略図である。 （１）は非晶質磁性合金薄帯、（２）はソレノイドコイ
ル、（Ｈｌ ） （Ｈ２）は印加磁界である。 第１頁の続き ０発 明 者 林和彦 横浜市保土ケ谷区藤塚町１７４番 地ソニー株式会社中央研究所内
を示す概略図である。 （１）は非晶質磁性合金薄帯、（２）はソレノイドコイ
ル、（Ｈｌ ） （Ｈ２）は印加磁界である。 第１頁の続き ０発 明 者 林和彦 横浜市保土ケ谷区藤塚町１７４番 地ソニー株式会社中央研究所内
Claims (1)
- 非晶質磁性合金薄帯に対して、該合金のキュリ一温度以
下でかつ結晶化温度以下で該薄帯の主面内の第１の方向
に誘導磁気異方性を発生させるに充分な磁場を印加して
熱処理し、該合金のキュリ一温度以下でかつ結晶化温度
以下で該薄帯の主面内で上記第１の方向に対して直交す
る第２の方向に、該第１の方向の誘導磁気異方性と該第
２の方向の誘導磁気異方性が等しくなるに充分な磁界を
印加して熱処理することを特徴とする非晶質磁性合金の
熱処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57115864A JPS596360A (ja) | 1982-07-02 | 1982-07-02 | 非晶質磁性合金の熱処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57115864A JPS596360A (ja) | 1982-07-02 | 1982-07-02 | 非晶質磁性合金の熱処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS596360A true JPS596360A (ja) | 1984-01-13 |
| JPH0375624B2 JPH0375624B2 (ja) | 1991-12-02 |
Family
ID=14673033
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57115864A Granted JPS596360A (ja) | 1982-07-02 | 1982-07-02 | 非晶質磁性合金の熱処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS596360A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01172513A (ja) * | 1987-12-26 | 1989-07-07 | Tokin Corp | 非晶質合金薄帯巻磁心の熱処理方法とその装置 |
| US4928382A (en) * | 1985-08-23 | 1990-05-29 | Hitachi Maxell, Ltd. | Method of the production of a magnetic head |
| US5676767A (en) * | 1994-06-30 | 1997-10-14 | Sensormatic Electronics Corporation | Continuous process and reel-to-reel transport apparatus for transverse magnetic field annealing of amorphous material used in an EAS marker |
| US5684459A (en) * | 1995-10-02 | 1997-11-04 | Sensormatic Electronics Corporation | Curvature-reduction annealing of amorphous metal alloy ribbon |
| US5786762A (en) * | 1994-06-30 | 1998-07-28 | Sensormatic Electronics Corporation | Magnetostrictive element for use in a magnetomechanical surveillance system |
| WO2015190528A1 (ja) * | 2014-06-10 | 2015-12-17 | 日立金属株式会社 | Ｆｅ基ナノ結晶合金コア、及びＦｅ基ナノ結晶合金コアの製造方法 |
| CN106575567A (zh) * | 2014-07-28 | 2017-04-19 | 日立金属株式会社 | 变流器用芯及其制造方法以及具备该芯的装置 |
-
1982
- 1982-07-02 JP JP57115864A patent/JPS596360A/ja active Granted
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4928382A (en) * | 1985-08-23 | 1990-05-29 | Hitachi Maxell, Ltd. | Method of the production of a magnetic head |
| JPH01172513A (ja) * | 1987-12-26 | 1989-07-07 | Tokin Corp | 非晶質合金薄帯巻磁心の熱処理方法とその装置 |
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| AU704801B2 (en) * | 1995-04-12 | 1999-05-06 | Sensormatic Electronics, LLC | Continuous process and reel-to-reel transport apparatus for transverse magnetic field annealing of amorphous material used in an EAS marker |
| US5684459A (en) * | 1995-10-02 | 1997-11-04 | Sensormatic Electronics Corporation | Curvature-reduction annealing of amorphous metal alloy ribbon |
| WO2015190528A1 (ja) * | 2014-06-10 | 2015-12-17 | 日立金属株式会社 | Ｆｅ基ナノ結晶合金コア、及びＦｅ基ナノ結晶合金コアの製造方法 |
| CN106170837A (zh) * | 2014-06-10 | 2016-11-30 | 日立金属株式会社 | Fe基纳米晶合金磁芯和Fe基纳米晶合金磁芯的制造方法 |
| JPWO2015190528A1 (ja) * | 2014-06-10 | 2017-04-20 | 日立金属株式会社 | Ｆｅ基ナノ結晶合金コア、及びＦｅ基ナノ結晶合金コアの製造方法 |
| CN106575567A (zh) * | 2014-07-28 | 2017-04-19 | 日立金属株式会社 | 变流器用芯及其制造方法以及具备该芯的装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0375624B2 (ja) | 1991-12-02 |
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