JPS5993084A - 3−非置換−3−セフエム誘導体,その製造法およびそれからなる抗菌剤 - Google Patents

3−非置換−3−セフエム誘導体,その製造法およびそれからなる抗菌剤

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JPS5993084A
JPS5993084A JP20186882A JP20186882A JPS5993084A JP S5993084 A JPS5993084 A JP S5993084A JP 20186882 A JP20186882 A JP 20186882A JP 20186882 A JP20186882 A JP 20186882A JP S5993084 A JPS5993084 A JP S5993084A
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JP
Japan
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acid
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JP20186882A
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English (en)
Inventor
Hironori Ikuta
博憲 生田
Hiroshi Yamauchi
博 山内
Yoshimasa Machida
町田 善正
Seiichiro Nomoto
野本 誠一郎
Shigeto Negi
茂人 根木
Isao Sugiyama
功 杉山
Isao Saito
勲 斉藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eisai Co Ltd
Original Assignee
Eisai Co Ltd
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  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は一般式 〔式中、R7は水素r=p =r・またはメトキシ基、
)で、は水素原子または水酸基を示す〕で表わされる新
規な3−非置換−3−セフェム誘尋体またはその非毒1
′1゛塩、その製造法、およびそれからなる抗菌剤に凹
するものである。 従来、グラl、陽性菌にλ゛1し有効な七フェム系化合
物は数多(知られているが、緑M!菌(ソニートモナス
・アエルギノーザ)に刻して十分有効なセフ。 ノ、系化合物は未だ開発されておらず、その開発が望ま
れている。 本発明は、その緑膿菌をはじめとするクラム陰性菌に有
効な化合物の提供をI」的とするものである。 本発明化合物は例えば次に示す方法により製造すること
ができる。 −1−記−・般式中のR4およびR2は前記の定義に同
じ。 八はカルボン酸保護基、Bはアミノ保護基を示ず。 Aおよび+3はセファロスポリン誘導体の合成あるいは
ペブヂ1′合成に一般1”J +(l用いられる保護基
を使用することができる。例えは、Aとしてジフェニル
メチル基、2.2.2−トリクロルエチル基。 P−−ニトロベンジル基、ピバロイルメキシメチル基。 フユナシル基、Bとして(4−メトキシフェニル)メチ
ルオキンカルポニル基、t−ブトキシカルボニル基、(
4−ニトロフェニル)メチルオキシカルボニル基、クロ
ロアセチル基などがあげられる。 一般式[111の化合物と一般式〔■〕の化合物の反応
は通常のアミド化反応によって行なうことができる。例
えば、不活性溶媒中、 2− 工)キシ−1(2H)−
キノリンカルボン酸、クロル炭酸エチルなどの縮合剤の
右巴在下に反応を行なうことができる。 一般式(IV、Iの化合物から一般式[V)の化合物へ
の反応は特開昭48−85595号、特開昭48−62
791弓などの公知の方法を用いることができる。 一般式11■]または一般式〔■〕の化合物からの保護
尤A、Bの脱離は、それぞれ用いた保WFt J、tの
押力1に応じ、酸あるいは接触還元等の公知の方法によ
り行なうことができる。保護基A、Bを同時に脱保勲基
できるよう保護基A、Bを選択することが望ましい。例
えば、保護基Aとしてジフェニルメヂルノ1(、保護基
BとしC(4−メトキシフェニル)メチルオキシカルボ
ニル基を選択すれば、トリフルA口酢酸を加えることに
より一度に両方の保護基を脱離することができる。 一般式1−Vl:lの化合物またはその塩と一般式〔■
〕の化合物またはその反応性誘導体との反応は通常のア
ミド化反応において用いられる方法を採用することがで
きる。すなわち、カルボン酸である一般式〔■〕の化合
物を用いる場合には1例えば。 N、N′−ジシクロヘキシルノJルポジイミド、亜リン
酸1・IJ フルキルエステル、ポリリン酸エステル。 オキシ塩化リン、オキャリルクロライド、2−エトキシ
−1(2H)−キノリンカルボン酸、クロル炭酸エチル
などの縮合剤の存在下に反応を行なうことが望ましい。 また、一般式〔■1]の化合物の反応性誘導体を用いる
場合1反応性誘昇体としては。 酸塩化物、酸臭化物なとの酸ノ\ロゲン化物、対称酸無
水物、混合酸無水物、活性エステル、活性酸アミドがあ
げられる。 」二記一般式[VI]の化合物またはその塩と一般式(
Vrllの化合物またはその反応性誘導体との反応は、
不活性溶媒中、シリル化剤の存在下または非存在下に一
50℃〜50℃の温度で行なうことができる。不活性溶
媒としては、アセトン、テトラヒドロフラン、N、N−
ジメヂルアセトアミド、ジメチルポルムアミド、ジオギ
づン、ジクロルメタン。 酢酸エチルあるいはこれらの混合溶媒があげられる。シ
リル化剤としては、N、0−ビス(トリメチルシリル)
アセトアミド、ヘキザメチルジシラザン。 N−トリメデルシリルア七ドアミドなどがあげられる。 本発明の一般式CI)の化合物の非毒性塩としては、ナ
トリウム塩、カリウム塩、カルシラノ・塩。 アンモニウム塩、トリエチルアミン酸、ジンクロヘキン
ルアミン塩、プロ力イン塩などがあげられる。これらの
塩は、−・般式[I]の化合物より通常の造塩反応によ
り得ることができる。 本発明化合物は緑膿菌をはじめとするグラノ、陰性菌に
χ・tL、、 Tj効C1()る。また、7β−(1)
−2−(6,7−ジヒトロギノクロモンー3−)Jルボ
・vナミド)−2−(4−ヒトr−1片ジフェニル)ア
セトアミド長−3−セファ−1、−4−カルボン酸およ
び7β−[1)−2−(6,7−ジヒドロキシクロモン
−3−カルボキリ゛ミド)−2−(4−ヒドロキシフェ
ニル)アセトアミ ド]−7α−メトキシ−3−セフェ
ム−4−カルボン酸においては、その急性毒性値口、I
)、。 (マウス、経11)Jは4 g7に、以上と毒性は低い
。 本発明化合物を抗菌剤として使用する際の投−ケ:Jf
)は、一般的に2〜300mg/kg/II、好ましく
は10〜100m(7//ag/[1である。本薬剤は
散剤、カプセル剤。 ♀゛、を剤、ソ
【1ツブ剤などのかたちて経目的に、あ
るい1コ注川剤、平削などのかたちで外杆1−1的に投
l−jされる。 これらの製剤は、薬学的に許容されるキ量・IJ Y−
を用い、常法により製造することができる。 次に実施例を示し9本発明をさらに詳しく説明する。 実施例1 7β−しD−2−(6,7−ジヒ1−ロギシクロモンー
3−カルボキサミド)−2−(4−ヒドロキシフェニル
)アセトアミド〕−3−セファ、ノ、−4−カルボン酸 a)  7β−(1)−2−(4−メ14シフェニ#)
 メfルオキシ力ルポニルアミノ−2−(4−ヒドロキ
シフェニル)アセトアミド〕−3−セフェl、−4−カ
ルボン酸ジフェニルメチルニスデル7β−フェニルア十
トアミF −3−七フL、z、−4−カルボン酸ジフゴ
、ニルメチルニスデル242 mgをジクロルメタン1
13meに溶解した。溶液を一35゛Cに冷却後、ピリ
ジン1.60μ4ついで五塩化リン4]、6Nを加え、
21!i間撹拌した。溶液の温度を室温まで戻しで10
分間1’+’t、拌した後、再び一35’Cに冷却し。 メタノール10mgを加えた。同温度で15分間、つい
で室温Fて80分間撹拌した。反応液に水50m1を加
え、撹拌下に飽和炭酸水素す) IJウム水溶液を滴下
して水層を中性にした。ついで酢酸エチル50m1を加
え、有機層を分取した。これを飽和食塩水15m1で2
回洗浄し、乾燥後、溶媒を留去し、゛lβ−アミノー3
−セフェl、−4−カルボン酸ジフェニルメずルエステ
ルを得り。 一1二記の7β−アミノ−3−セフェノ・−4−カルボ
ン酸ジフェニルメチルニスデルをテトラヒドロフラン3
mlに溶解し、これにI)−2−(4−メトキシフェニ
ル)メトキシカルボニルアミノ−2−ツボ。 ニル酢酸140rng、 2−エトキシ−1(210−
キノリンカルボン酸1.05mgのテトラヒドロフラン
2ml溶液を加え、−夜撹拌した。反応液に酢酸エチル
25meを加え、(・N塩酸10m/!(3回)1飽和
食塩水IQml(1回)、飽和炭酸水素すトリウノ、水
溶?Iし10+117’(5回)。 飽和食塩水1(1m/! (21rjl)で順次洗浄し
、乾燥後。 溶媒を留去した。残渣にクロロポルム3mlを加えて結
晶化し、溶媒を留去した。残渣にエチルエーテル10m
/!を加えて固化し、結晶を?TS取した。これをエチ
ルエーテルで洗浄後、乾燥してl−1曲物171m、q
を得た。 赤外線吸収スペクトル(cm’、ヌジ・)−ル):33
30、1770.1,705.1660.1,635.
1605.1510.1,395゜1.245.1,1
65.11l1 00Nスペクトル(δ、DMSO−d、):3.57(
211,br、s)、 3.74(3H,s)、 4.
97(2H,s)。 5.01  (LIT、d、J=511z)、   5
.30 (IH,d、J=8Hz)。 5.82 (lil、 d、d、 J=5i1z、 8
l−Iz) 、  6.6〜6.8 (31−I、 m
) 。 6.92(’]、H,s)、  6.92(2H,d、
J=8Hz)。 7.1〜7.7 (14,11m) 、  7.76 
(IH,br、d、 J=81−1z) 。 9.14 (IH,br、d、 J=8Hz) 、 9
.39 (IH,、5)b)  7β−[’I)−2−
(6,7−ンヒl’ロキシクロモン−3−カルポキザミ
ド) −2−(4−ヒドロ片ジフェニル)アセトアミド
〕−3−セフエノ、−4−カルボン酸 」1記a)で?IIた化合物100m(7[7二7−ル
0.8meを加えで懸濁した。これに、水冷下、トリフ
ルオI」酢酸0.8+・reを加え2時間同温度で撹拌
した。溶媒全留去し、残渣をエチルニーデルで洗い7β
−41,)−2−アミノ−2−(4−ヒドロキシフェニ
ルニル)アセトアミド]−3−七フエ、z、−4−カル
ボン酸トリフルオロ酢酸塩を得た。 」1記の7β−43)−2−アミノ−2−(4−ヒドロ
キシフェニル)アセトアミド〕−3−セフエノ、−4−
hルボン酸トリフルオロ酢酸塩に酢酸エチル5ml!+
 N、0−  ビス(トリメチルシリル)ア±ドアミド
100μ4を)Riえ、室温で30分間撹拌した。これ
に、水冷下、6.7−シヒドロキシクロモンー3−ノJ
ルボニルクロライト28mQを加え、同温度で1時間撹
拌した。室温に戻し酢酸エチル30me、メタノール3
me、水10+n1!を加えて分液し、 n’+酸エチ
ェチル層った。飽和食塩水】Omlで2回洗い、乾燥後
、溶媒を留去した。残渣に1デルエーテルを加えて固化
し、結晶を11取した。これをエチルエーテルで洗い乾
燥して];1的物61.5mgを得た。 赤外線吸収スペクトル(cm l、ヌ7ヨール)=17
60、1650.1600.1505NMRスペt))
 ル(6,DMSO−d、):3.50 (211,b
r、s)、 4.98 (Nl、 d、 J=5Hz)
 。 5.6〜5.9 (2H,m )、 6.44 (II
I、 br、s) 。 6.73 (211,d、 J=8.51(z) 、 
7.00 (IH,s) 。 7.26 (214,d、 J=8.5Hz)、 7.
43 CIH,s) 。 8.85(IH,s)、 9.36(1■I、d、  
J=8)(z)。 10.26 (IH,d、 、J=811y、)実施例
2 7β−[J)−2−(6,7−シヒドロキシクロモン=
3−ノノルポキザミド)−2−(4−ヒドロキシフェニ
ル)アセトアミド’)、−7α−メトキシ−3−セフr
−Jt−4−カル;j;ン酸 a)  7β−CI)−2−(4−メトキシフェニル)
メチル副キシカルボニルアミノ−2−(4−ヒドロキシ
フェニル)アセトアミド〕−7α−7トキシー3−−−
セフエト−4〜カルボン酸シフ、ニルメチルエ ス チ
ル 実施例1のa)で得た化合物136 m、gをデトラヒ
ドロフラン4mlに溶解し、−78℃に冷却下、リヂウ
ノ、メトキザイトーメタノール溶液(リチウムメトキザ
イド’16mgをメタノール1.mlに溶解して調製)
400μ4を加え、同温度で5分間扛を拌した。ついで
t−フトキンクロライ1−−テトラヒ1−ロフラン溶1
’lk (t−ブトキシクロライド]007+/をテト
ラヒドロフラン0.9+ngに溶解して調製)2121
tlJを加え。 −70Tl;て20分間撹拌後、蟻酸1007+〆を加
え室温に戻した。反応液にNi酸エチル2Qmiを加え
、飽和食1δ、X水5m/!て4回洗った。溶液を乾燥
した後、溶媒4留去した。残渣をシリカゲルのカラl、
クロマトクラフィー(j8媒: 2.5%アセトン/ク
ロロポル11)で精製し、1−1約物2Jmgを得た。 1))7β−(■)−2−(6,7−ジヒト酊ギシクロ
モノ−3−)Jルポキノザミ ド)−2−(4−−ヒド
ロ1ンフエニル)アセトアミ1り、1l−7α−メトキ
シ−3−セフェム−4−カルボン酸 −[、記a)で得た化合物21mgを7−ソー ル(1
,5m/;に懸濁し、水冷下、トリフルオロ酢酸0.5
mlを加え同温度で2時間撹拌した。溶媒を留去し、残
ン−iをエチルエ−カルl mlで2回洗浄し、7β−
[■〕−2−アミノー2− (4−ヒト゛ロキンフー丁
、ニル)アセトアミド〕−7α−7トキンー3−セフェ
ム−4−カルボン酸トリフルオロ酢酸塩を得た。 」−記7β−CD−2−アミノ−2−(4−ヒトl’?
=1−ジフェニル)アセトアミド] −7tX−メトキ
シ−3−セフェj、−4−カルボン酸トリフルオロ酢酸
塩に酢酸エチル5ml、N、O−ヒス(トリメチルシリ
ル)アセトアミド50μlを加えて溶解した。この溶液
に、氷冷t:゛、a、t−ジヒドロキシクL了モンツク
−カルボニルクロンイド7mgを加え、同7Aλ度で1
時間撹拌した。反応液を5℃で一夜放i?’?シた後。 室温に戻し、酢酸エチル]Qml、水5m/’を加えて
分液した。有1幾層を分取し水5mlで2回洗い、乾燥
した。溶媒を留去し、残渣にエチルエーテルJ u+(
を加えて同化し、目的物14rrLgを得た。 赤タ1線吸収スペクトル(cm’、ヌジョール):17
60、1650.1600.151ONMRスペクトル
(δ、DMSO−d、):6.95 (11(、s )
 、 7.28 (2H,d、 J=8Hz) 、 7
.30 (IH,s)。 8.83 (LIT、 s)、 9.30 (11(、
s)、 10.30 (IH,d、 J=7Hz)特許
出願人 ニーーVイオ上式4そ1土 第1頁の続き 0発 明 者 斉藤勲 茨城県新治郡桜村下広岡670−6

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)−・n′Z式 1式中、R,Ll水素Jj;ミ子またにtメ]・キシ基
    、 R,tJ水素原子または水酸基を示すノで表わされ
    る3−J1置換−3−+フ1.ノ・誘専体およびその非
    毒性塩+2)−−一ノ1゛り式 (R1は水素原子また(Jメトキシ基、 R,は水素原
    子または水酸基を示丈〕で表わされる化合物またはでノ
    (わされる化合物またはその反応fl:誘導体を反応さ
    せることを111′徴とするへ一般式1式中、Iり、お
    上びR7は前記の定義に同じ〕で表わされる化合物また
    はその非毒性塩の製造方法+3)−一般式 (式中、■り、は水素原子またはメトキシ基、lり、は
    水素原子または水酸基を示すJで表わされる化合物また
    はその非毒性塩からなる抗菌剤
JP20186882A 1982-11-19 1982-11-19 3−非置換−3−セフエム誘導体,その製造法およびそれからなる抗菌剤 Pending JPS5993084A (ja)

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