JPS5995197A - 湿し水不要平版印刷版 - Google Patents
湿し水不要平版印刷版Info
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- JPS5995197A JPS5995197A JP57204533A JP20453382A JPS5995197A JP S5995197 A JPS5995197 A JP S5995197A JP 57204533 A JP57204533 A JP 57204533A JP 20453382 A JP20453382 A JP 20453382A JP S5995197 A JPS5995197 A JP S5995197A
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- Japan
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- printing plate
- plate
- layer
- organic substance
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0752—Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
- B41N1/12—Printing plates or foils; Materials therefor non-metallic other than stone, e.g. printing plates or foils comprising inorganic materials in an organic matrix
- B41N1/14—Lithographic printing foils
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明斂↓シリコーンコム層を非画線部とする湿し水不
要平版印刷版に関するものであり、特に該印刷版に分子
ｉ １００以」二の有機物を含有する層を塗設すること
により、インキ着肉の持続性良好な湿し水不要平版印刷
版に関する。
要平版印刷版に関するものであり、特に該印刷版に分子
ｉ １００以」二の有機物を含有する層を塗設すること
により、インキ着肉の持続性良好な湿し水不要平版印刷
版に関する。
基体に裏打ちされたシリコーンコム層を非画線部とする
湿し水不要平版印刷版としては７例えば（Ａ） 特開
昭５０−５０１０２号、特開昭５５−５９４６６号、特
公昭４６．−ｊ６０４４号 などに示されるように、基
板上に画像形成性物質層（感光層）を設け。
湿し水不要平版印刷版としては７例えば（Ａ） 特開
昭５０−５０１０２号、特開昭５５−５９４６６号、特
公昭４６．−ｊ６０４４号 などに示されるように、基
板上に画像形成性物質層（感光層）を設け。
その上に７リコ一ン層を設けるもの（シリコーン上層型
） 、 （Ｂ） 特公昭４４−２６０４２号、特公昭
４７−２３６１号、特開昭４９−８２４０２号、特開昭
５０−１６３０５号などのように、基体に裏打ちされた
シリコーンコム層の上に画像形成物質層（感光層）を設
けるもの（シリコーン下層型）。
） 、 （Ｂ） 特公昭４４−２６０４２号、特公昭
４７−２３６１号、特開昭４９−８２４０２号、特開昭
５０−１６３０５号などのように、基体に裏打ちされた
シリコーンコム層の上に画像形成物質層（感光層）を設
けるもの（シリコーン下層型）。
（Ｃ） 特開昭４９−６８８０３号、特公昭４９−３
９２００号などのように基体に裏杓ちされたシリコーン
ゴム層自体が感光性を付与されており０画像形成にあず
かるもの（シリコーン一層型）、などが提案されている
。
９２００号などのように基体に裏杓ちされたシリコーン
ゴム層自体が感光性を付与されており０画像形成にあず
かるもの（シリコーン一層型）、などが提案されている
。
これらの印刷原版は公知の方法により製版されシリコー
ンコム層を非画線部（インギ反撥性部）とする印刷版が
得られる。ところがこれらの印刷版の画線部（インキ受
容部）には、非画線部を形成するシリコーンゴム層から
のしみ出しによるか。
ンコム層を非画線部（インギ反撥性部）とする印刷版が
得られる。ところがこれらの印刷版の画線部（インキ受
容部）には、非画線部を形成するシリコーンゴム層から
のしみ出しによるか。
丑だは印刷版製造時に画線部を形成する部分に移動した
と思われるシリコーン性の物質が存在する場合があシ、
このシリコーン性の物質は印刷版を長期間保存した場合
に、より顕著に現われる。
と思われるシリコーン性の物質が存在する場合があシ、
このシリコーン性の物質は印刷版を長期間保存した場合
に、より顕著に現われる。
このためノリコーンゴム層を非画線部とする湿し水不要
平版印刷版を用いて印刷をする場合、特に製版後、長期
間保存した印刷版を用いるような場合、その画線部（イ
ンキ受容部）にシリコーン性の物質が存在して、インキ
の着肉性が不良となり、良好な印刷物が得られないとい
う問題点があった。
平版印刷版を用いて印刷をする場合、特に製版後、長期
間保存した印刷版を用いるような場合、その画線部（イ
ンキ受容部）にシリコーン性の物質が存在して、インキ
の着肉性が不良となり、良好な印刷物が得られないとい
う問題点があった。
本発明者らは前記の問題点を解決し、良好なインキ着肉
性が持続するような湿し水不要平版印刷版を得るために
鋭意検討した結果、以下に述べる本発明に到達した。
性が持続するような湿し水不要平版印刷版を得るために
鋭意検討した結果、以下に述べる本発明に到達した。
すなわち本発明は、基体に裏打ちされたシリコーンゴム
層を非画線部とする湿し水不要平版印刷版の版面に１分
子量１００以上で、かつ沸点が２００℃以上の有機物を
含有する層を塗設したことを特徴とする湿し水不要平版
印刷版である。
層を非画線部とする湿し水不要平版印刷版の版面に１分
子量１００以上で、かつ沸点が２００℃以上の有機物を
含有する層を塗設したことを特徴とする湿し水不要平版
印刷版である。
本発明の湿し水不要平版印刷版の基体としては。
厚さが約１０μ〜２ ｍｒｎ 、好ましくは約５０μ〜
４００μの紙、プラスチックフィルムもＬ＜ｕシート、
ゴムなどの弾性体シート−、アル好などの金属板、それ
らに種々の表面処理を施しだもの、などが適しているが
、シリンダー状の基体を用いてもよい。
４００μの紙、プラスチックフィルムもＬ＜ｕシート、
ゴムなどの弾性体シート−、アル好などの金属板、それ
らに種々の表面処理を施しだもの、などが適しているが
、シリンダー状の基体を用いてもよい。
本発明の湿し水不要平版印刷版に用いられるシリコーン
性ノ・層（・↓、約０．５〜１００μ、好ましくは約０
５〜１０７ｔの）「ノみを有し１次のようなくり返し単
位を有する分子量数千〜数十万の線状有機ボリンロキナ
ンを主成分とするものである。
性ノ・層（・↓、約０．５〜１００μ、好ましくは約０
５〜１０７ｔの）「ノみを有し１次のようなくり返し単
位を有する分子量数千〜数十万の線状有機ボリンロキナ
ンを主成分とするものである。
ここでｎは１以上の整数、Ｒは炭素数１〜１０のアルキ
ル基、アルケニル基あるいはフェニル基である。
ル基、アルケニル基あるいはフェニル基である。
この線状有機ポリンロキサンには通常架橋剤が添加され
る。架橋剤としては、いわゆる室温（低温）硬化型のノ
リコーンゴムに使われるものとして、アセトキンシラン
、ケ！・オキシムシラン、アルコキンンラン、アεノシ
ラン、アミトンランなどがあ、す１通ｒ７＋（＋％！状
有機ポリシロキサンとし−Ｃ末端が水酸基であるものと
くみ合わせて、各々脱酢酸型、脱オキシム型、脱アルコ
ール型、親アミン型。脱アミド型のノリコーンゴムとな
る。
る。架橋剤としては、いわゆる室温（低温）硬化型のノ
リコーンゴムに使われるものとして、アセトキンシラン
、ケ！・オキシムシラン、アルコキンンラン、アεノシ
ラン、アミトンランなどがあ、す１通ｒ７＋（＋％！状
有機ポリシロキサンとし−Ｃ末端が水酸基であるものと
くみ合わせて、各々脱酢酸型、脱オキシム型、脱アルコ
ール型、親アミン型。脱アミド型のノリコーンゴムとな
る。
また、これらは感光性を付力されたシリコーンゴム層で
あってもよい。
あってもよい。
本発明の有機物を含有する層としては次のような有機物
そのものあるいは他の化合物との混合物がある厚みを有
して塗設される層状物である。
そのものあるいは他の化合物との混合物がある厚みを有
して塗設される層状物である。
有機物としては分子量が１００以上で、好ましくは１０
３〜１０６ の分子量を有する高分子物質または重合体
である。また有機物の沸点は２００℃以上であることが
必要で、好ましくは３００ ℃以上である。沸点が１０
０℃未満の有機物では層を形成しても蒸発によって層が
消失する可能性が大きく１本発明の所期の目的を達成す
ることができない。また１重合体のように、明確な沸点
を有さないものでも、少なくとも２００℃未満の沸点を
持たなければ使用できる。有機化合物の例としては（メ
タ）アクリル酸系ポリマ、ポリスチレン、スチレン・ブ
タジェンポリマ、エチレン・酢酸ビニルコポリマー、環
化ゴム、変性フェノール樹脂、ロジンニスデル、マレイ
ン酸変性樹脂等の重合体あるいはワックス、ニー、・二
油等の高分子化合物が挙げられ好ましく使用できる。
３〜１０６ の分子量を有する高分子物質または重合体
である。また有機物の沸点は２００℃以上であることが
必要で、好ましくは３００ ℃以上である。沸点が１０
０℃未満の有機物では層を形成しても蒸発によって層が
消失する可能性が大きく１本発明の所期の目的を達成す
ることができない。また１重合体のように、明確な沸点
を有さないものでも、少なくとも２００℃未満の沸点を
持たなければ使用できる。有機化合物の例としては（メ
タ）アクリル酸系ポリマ、ポリスチレン、スチレン・ブ
タジェンポリマ、エチレン・酢酸ビニルコポリマー、環
化ゴム、変性フェノール樹脂、ロジンニスデル、マレイ
ン酸変性樹脂等の重合体あるいはワックス、ニー、・二
油等の高分子化合物が挙げられ好ましく使用できる。
また本発明の有機物を含有する層を塗設する方法は、前
記の有機物を含有する層の成分を適当な溶剤で希釈した
ものを湿し水不要平版印刷版の版面に塗布すればよい。
記の有機物を含有する層の成分を適当な溶剤で希釈した
ものを湿し水不要平版印刷版の版面に塗布すればよい。
塗布する方法としては有機物を含有する層の成分を溶解
もしくは分散せしめた溶液をパーニーター、グ：ｙビア
０−ルコーター、リバースロールコータ−、スリットダ
イコーターなどの連続コーターを用いて版面に塗設して
もよいし、前記溶液に版を浸漬してもよいし、溶液をし
み込ませたウェス等で版面をぬぐうだけでもよい。また
該層を塗設した後、必要に応じて版面を乾燥してもよい
。
もしくは分散せしめた溶液をパーニーター、グ：ｙビア
０−ルコーター、リバースロールコータ−、スリットダ
イコーターなどの連続コーターを用いて版面に塗設して
もよいし、前記溶液に版を浸漬してもよいし、溶液をし
み込ませたウェス等で版面をぬぐうだけでもよい。また
該層を塗設した後、必要に応じて版面を乾燥してもよい
。
希釈する溶剤訳しては、エステル類、アルコール類、エ
ーテル類、ケトン類、炭化水素系溶剤。
ーテル類、ケトン類、炭化水素系溶剤。
水などが、単独もしくは混合物として用いられる。
本発明においては上述のように有機化合物を版面に塗設
することが必須であり、たとえば有機物からなるフィル
ムを版面にラミネートする方法は微細な画線部を完全に
覆うことが困難であるため本発明においては不適である
。つまり９本発明の塗設とはラミネート、積層等は含ま
ないものである。
することが必須であり、たとえば有機物からなるフィル
ムを版面にラミネートする方法は微細な画線部を完全に
覆うことが困難であるため本発明においては不適である
。つまり９本発明の塗設とはラミネート、積層等は含ま
ないものである。
次に本発明を実施例によって具体的に説明するが３本発
明はこれらの例によって何ら限定さｉするものではない
。
明はこれらの例によって何ら限定さｉするものではない
。
実施例１
市販の水なし平版（東し■製）を画像露光し。
専用の自動現像機で現像した刷版を現像直後および室温
で２ケ月保存したものについて、そのベタ部表面のシリ
コン量をＥＳＣＡ （国際電機槽）で測定したところ第
１表のように刷版を保存すると画線部表面のシリコン量
が増加することがわかった。
で２ケ月保存したものについて、そのベタ部表面のシリ
コン量をＥＳＣＡ （国際電機槽）で測定したところ第
１表のように刷版を保存すると画線部表面のシリコン量
が増加することがわかった。
第１表
一方この版を用いてダヴイツドソンデュアリス７００型
印刷機で印刷したところ、現像直後の版に比べて２り月
保存したものは、インキの着肉性が低下しているのが認
められた。
印刷機で印刷したところ、現像直後の版に比べて２り月
保存したものは、インキの着肉性が低下しているのが認
められた。
続いて前記の印刷版に下記の組成の溶液をコーチ・イン
クした場＆について、同様にＥＳＣＡ測定を行なったと
ころ、第２表のとおシであった。
クした場＆について、同様にＥＳＣＡ測定を行なったと
ころ、第２表のとおシであった。
第２表
この版を用いて印刷したところ１両者のインキ着肉性に
差は認められず１両者とも良好であった。
差は認められず１両者とも良好であった。
実施例２
市販の水なし平版（東し■製）に画像露光を施し、専用
の自動現像機で現像処理を行ない、湿し水不要平版印刷
版を得た。続いて市販の１号アマニ油をアイソパーＥ（
エッソ化学製）／インプロパ７−ル（９０／１０）の混
合溶液に２重量％溶かし、たものをバットに用意し、前
記印刷版を浸漬した。続いて印刷版を引き上げ、市販の
−・ンドゴムローラーで版面の溶液をスクイーズし風乾
した。
の自動現像機で現像処理を行ない、湿し水不要平版印刷
版を得た。続いて市販の１号アマニ油をアイソパーＥ（
エッソ化学製）／インプロパ７−ル（９０／１０）の混
合溶液に２重量％溶かし、たものをバットに用意し、前
記印刷版を浸漬した。続いて印刷版を引き上げ、市販の
−・ンドゴムローラーで版面の溶液をスクイーズし風乾
した。
このようにして得た印刷版を４０℃、８０％ＲＨの雰囲
気で２週間保存して印刷を行なったところ。
気で２週間保存して印刷を行なったところ。
良好なインキ着肉性を示した。
一方、現像後、何らの処理も施さずに、４０℃。
８Ｑ％ＲＨの雰囲気で２週間保存した印刷版は１画像部
のインキメ“′１肉（’Ｉが著しく低下していた。
のインキメ“′１肉（’Ｉが著しく低下していた。
特許出願人 東 し 株 式 会 社手 続 補
正 書 昭和 年 月 日 ５ Ｂ、 Ｇ・１゜ 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 １ 事件の表示 昭和５７年特許願第２０４５ろろ号 ２、発明の名称 湿し水不要平版印刷版 ６ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都中央区日本橋室町２丁目２番地５ 補
正により増加する発明の数 Ｄ（１）第６頁第４行 「使用できる。」の後に次の文を挿入する。
正 書 昭和 年 月 日 ５ Ｂ、 Ｇ・１゜ 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 １ 事件の表示 昭和５７年特許願第２０４５ろろ号 ２、発明の名称 湿し水不要平版印刷版 ６ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都中央区日本橋室町２丁目２番地５ 補
正により増加する発明の数 Ｄ（１）第６頁第４行 「使用できる。」の後に次の文を挿入する。
［捷だ有機化合物が水溶性もしくは親水性のものであっ
てもよい。これらの例としては、ポリビニルアルコール
、アラビアゴム、カルボキシメ・チルセルロース、ホリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ナイ
ロン、ホリエステルなどの親水性ポリマ、（メタ）アク
リル酸、アクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアクリルア
ミド、（メタ）アクリル酸エステル類など公知のモノマ
類の重合体およびそれらの共重合体、その他各種ラテッ
クス、各種界面活性剤、有機酸類などが挙げられる。」
（２）第６頁第１０〜１１行 「パーニークー」を「バーコーター」ト補正スる。
てもよい。これらの例としては、ポリビニルアルコール
、アラビアゴム、カルボキシメ・チルセルロース、ホリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ナイ
ロン、ホリエステルなどの親水性ポリマ、（メタ）アク
リル酸、アクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアクリルア
ミド、（メタ）アクリル酸エステル類など公知のモノマ
類の重合体およびそれらの共重合体、その他各種ラテッ
クス、各種界面活性剤、有機酸類などが挙げられる。」
（２）第６頁第１０〜１１行 「パーニークー」を「バーコーター」ト補正スる。
（３）第７頁第１４行
「シリコン」を「シリコーン」ど補正する。
（４）第１０頁第４行
「低下していた。」の後へ行を変えて次の文を挿入する
。
。
［実施例ろ
市販の水なし平版（東しく株）製）を常法により製版し
、湿し水不要平版印刷版を得た。次にポリビニルピロリ
ドンをｔ−プクノール／エチルシクロヘギザン（５０１
５０）の混合液に２重量幅溶かしたものをウェスに十分
浸み込ませ、前記印刷版に塗布し、風乾した。
、湿し水不要平版印刷版を得た。次にポリビニルピロリ
ドンをｔ−プクノール／エチルシクロヘギザン（５０１
５０）の混合液に２重量幅溶かしたものをウェスに十分
浸み込ませ、前記印刷版に塗布し、風乾した。
このようにして得た印刷版を５０°Ｃで５日間保存して
印刷したところ、良好なインキ着肉性を示した。
印刷したところ、良好なインキ着肉性を示した。
一方、製版後、何らの処理も施さずに同様の条件で保存
した印刷版のインキ着肉性は低下していた。
した印刷版のインキ着肉性は低下していた。
実施例４
市販の水なし平版（東しく株）製）を常法により製版し
、湿し水不要平版印刷版を得た。次に下記のね１成の溶
液に、前記印刷版を浸漬後、ゴムローラーで版面の溶液
を絞り、風乾した。
、湿し水不要平版印刷版を得た。次に下記のね１成の溶
液に、前記印刷版を浸漬後、ゴムローラーで版面の溶液
を絞り、風乾した。
このようにして得た印刷版を５０°Ｃで５日間保存して
印刷したところ、良好々インキ着肉性を示した。」
印刷したところ、良好々インキ着肉性を示した。」
Claims (1)
- 基体に裏１−」ちきれたシリコーンコム層を非画線部と
する湿し水不要平版印刷版の版面に１分子量が１００以
上で、かつ沸点が２００℃以上の有機物を＼含有する層
を塗設したことを特徴とする湿し水不要平版印刷版。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57204533A JPS5995197A (ja) | 1982-11-24 | 1982-11-24 | 湿し水不要平版印刷版 |
| US06/553,765 US4568629A (en) | 1982-11-24 | 1983-11-21 | Dry planographic plate with silicon rubber layer and organic polymer overlayer |
| EP83307163A EP0112653B1 (en) | 1982-11-24 | 1983-11-23 | Dry planographic plate |
| DE8383307163T DE3377816D1 (en) | 1982-11-24 | 1983-11-23 | Dry planographic plate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57204533A JPS5995197A (ja) | 1982-11-24 | 1982-11-24 | 湿し水不要平版印刷版 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5995197A true JPS5995197A (ja) | 1984-06-01 |
| JPH0311459B2 JPH0311459B2 (ja) | 1991-02-18 |
Family
ID=16492112
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57204533A Granted JPS5995197A (ja) | 1982-11-24 | 1982-11-24 | 湿し水不要平版印刷版 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4568629A (ja) |
| EP (1) | EP0112653B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5995197A (ja) |
| DE (1) | DE3377816D1 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4769308A (en) * | 1985-11-11 | 1988-09-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Dry presensitized plate with photosensitive layer containing organotin |
| FR2732126B1 (fr) * | 1995-03-20 | 1997-06-13 | Nouel Jean Marie | Plaques destinees a l'impression en offset sec et procede pour leur preparation |
| CN1093801C (zh) * | 1995-11-08 | 2002-11-06 | 东丽株式会社 | 直接成像型无水平版印刷版原版 |
| US6068138A (en) * | 1998-09-01 | 2000-05-30 | 3M Innovative Properties Company | Dispenser for a stack of sheets |
| USD425737S (en) * | 1998-09-01 | 2000-05-30 | 3M Innovative Properties Company | Dispenser for a stack of sheets |
| US20040225079A1 (en) * | 2003-05-05 | 2004-11-11 | Analytical Services And Materials Inc. | Erosion-resistant silicone coatings |
| US7033673B2 (en) * | 2003-07-25 | 2006-04-25 | Analytical Services & Materials, Inc. | Erosion-resistant silicone coatings for protection of fluid-handling parts |
| US10321560B2 (en) | 2015-11-12 | 2019-06-11 | Multek Technologies Limited | Dummy core plus plating resist restrict resin process and structure |
| US9999134B2 (en) | 2016-03-14 | 2018-06-12 | Multek Technologies Limited | Self-decap cavity fabrication process and structure |
| US10064292B2 (en) * | 2016-03-21 | 2018-08-28 | Multek Technologies Limited | Recessed cavity in printed circuit board protected by LPI |
| US11224117B1 (en) | 2018-07-05 | 2022-01-11 | Flex Ltd. | Heat transfer in the printed circuit board of an SMPS by an integrated heat exchanger |
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|---|---|---|---|---|
| JPS49120701A (ja) * | 1973-03-27 | 1974-11-19 | ||
| JPS52134502A (en) * | 1976-05-03 | 1977-11-10 | Hoechst Co American | Finishing emulsion for lithographic printing plate |
Family Cites Families (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US3728123A (en) * | 1969-11-14 | 1973-04-17 | Scott Paper Co | Plate for dry planography |
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