JPS5998294A - 半導体工場などにおける警報および制御装置 - Google Patents
半導体工場などにおける警報および制御装置Info
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- JPS5998294A JPS5998294A JP20688982A JP20688982A JPS5998294A JP S5998294 A JPS5998294 A JP S5998294A JP 20688982 A JP20688982 A JP 20688982A JP 20688982 A JP20688982 A JP 20688982A JP S5998294 A JPS5998294 A JP S5998294A
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- fire
- detector
- control device
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- G—PHYSICS
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- G08B—SIGNALLING SYSTEMS, e.g. PERSONAL CALLING SYSTEMS; ORDER TELEGRAPHS; ALARM SYSTEMS
- G08B17/00—Fire alarms; Alarms responsive to explosion
- G08B17/10—Actuation by presence of smoke or gases, e.g. automatic alarm devices for analysing flowing fluid materials by the use of optical means
- G08B17/117—Actuation by presence of smoke or gases, e.g. automatic alarm devices for analysing flowing fluid materials by the use of optical means by using a detection device for specific gases, e.g. combustion products, produced by the fire
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、超ＬＳＩ工場などにおける製造工程におり
て発生する処理ガスの漏洩ある論は火災発生を検出し、
消火装置などの防災装置および製造工程を適切に制御す
る半導体工場などにおける警報および制御装置に関する
ものである。
て発生する処理ガスの漏洩ある論は火災発生を検出し、
消火装置などの防災装置および製造工程を適切に制御す
る半導体工場などにおける警報および制御装置に関する
ものである。
近牟大きな飛躍を遂げてしる超ＬＳＩなどの半導体工場
では・、シリコンウェハに絶縁膜ヲ設ける際、七Ｊシラ
ンガス ！−塘矢モ信→→を使用するが、
このような処理ガスは有害であるとともにその濃度が２
〜５−以上になると空気中の酸素と反応し着炎燃焼して
危険であり、ある超ＬＳＩ工場でこれらガスが原因と思
われる火災が発生し、ただ−の損害を被むった。
では・、シリコンウェハに絶縁膜ヲ設ける際、七Ｊシラ
ンガス ！−塘矢モ信→→を使用するが、
このような処理ガスは有害であるとともにその濃度が２
〜５−以上になると空気中の酸素と反応し着炎燃焼して
危険であり、ある超ＬＳＩ工場でこれらガスが原因と思
われる火災が発生し、ただ−の損害を被むった。
この発明は以上の点にかんがみ、漏洩した処理ガスが空
気中の酸素と反応し燃焼し燃焼生成物を発生してｂる状
態を直ちに検出し、事前にヒ ある因は火災の初期段階において適切に制御が行なうこ
とができる半導体工場などの警報および制御装置を提供
するものである。
気中の酸素と反応し燃焼し燃焼生成物を発生してｂる状
態を直ちに検出し、事前にヒ ある因は火災の初期段階において適切に制御が行なうこ
とができる半導体工場などの警報および制御装置を提供
するものである。
以下この発明の一実施例を半導体ウェハに絶縁膜を形成
させる際に使用されるＣＶＤ装置（Ｃｈｅｍｉｃａｌ
Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ） ｂよびその周
辺装置に用いた場合につｂて、図面により説明する０ 第１図にｂｕて、１はシランガスボンベ、２はアンモニ
アガスボンベ、３はこれらボンベを収納する格納箱、６
は配管４．５を通じてシランガスとアンモニアガスを供
給し半導体ウェハに絶縁膜を形成させる窒化膜形成装置
（ＣＶＤ）、８は装置６から配管７を通じて流出される
未反応のシランガスに酸紫ヲ供給し強制的に酸化反応さ
せる、すなわち燃焼処理する除害装置、１０は除害装置
８より排気ダクト１１へ放出されるガスの状旭を監視す
るために配管９間に投げられた検出箱、１２は形成装置
６内を真空にする真空ポンプ、１３は室内の空気を排気
する排気口、Ｊ４は格納箱３と排気ダクト１１とを結ぶ
配管１５中に設けられたダンパである。また格納箱３と
検出箱１０とには、シランガ、スなどの処理ガスが漏洩
し空気中の酸素と反応し燃焼したことにより生ずる燃焼
生成物を検出する火災感知器ＤｉとＤ２とが設けられる
。この場合燃焼生成物を検出する火災感知器として光電
式煙感知器とイオン化式煙感知器が使用できるが、縦軸
にそれぞれの感知器の出力、横軸にシランガスの燃焼生
成物の濃度が示された＠３図の特性曲線図によれば、ｈ
光電式煙感知器ａよりもイオン化式煙感知器すの方がシ
ランガスの燃焼生成物に対し高感度でより早期にその発
生が検出できる。さらに上記感知器Ｄ１．Ｄ２は２ｇ２
図に示すよりに、格納箱３内に設はられた火災感知器Ｄ
ｉは直接、また検出箱１０に設けられた火災感知器Ｄ２
はインパーク１を介してＯＲ回路ＯＲに接続複台、その
出力は火災警報あるｂは消火装置などの防災装置あ；ミ
ー半導体製造工程を適切に制御する図示されな−継電装
置に接続されみ。
させる際に使用されるＣＶＤ装置（Ｃｈｅｍｉｃａｌ
Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ） ｂよびその周
辺装置に用いた場合につｂて、図面により説明する０ 第１図にｂｕて、１はシランガスボンベ、２はアンモニ
アガスボンベ、３はこれらボンベを収納する格納箱、６
は配管４．５を通じてシランガスとアンモニアガスを供
給し半導体ウェハに絶縁膜を形成させる窒化膜形成装置
（ＣＶＤ）、８は装置６から配管７を通じて流出される
未反応のシランガスに酸紫ヲ供給し強制的に酸化反応さ
せる、すなわち燃焼処理する除害装置、１０は除害装置
８より排気ダクト１１へ放出されるガスの状旭を監視す
るために配管９間に投げられた検出箱、１２は形成装置
６内を真空にする真空ポンプ、１３は室内の空気を排気
する排気口、Ｊ４は格納箱３と排気ダクト１１とを結ぶ
配管１５中に設けられたダンパである。また格納箱３と
検出箱１０とには、シランガ、スなどの処理ガスが漏洩
し空気中の酸素と反応し燃焼したことにより生ずる燃焼
生成物を検出する火災感知器ＤｉとＤ２とが設けられる
。この場合燃焼生成物を検出する火災感知器として光電
式煙感知器とイオン化式煙感知器が使用できるが、縦軸
にそれぞれの感知器の出力、横軸にシランガスの燃焼生
成物の濃度が示された＠３図の特性曲線図によれば、ｈ
光電式煙感知器ａよりもイオン化式煙感知器すの方がシ
ランガスの燃焼生成物に対し高感度でより早期にその発
生が検出できる。さらに上記感知器Ｄ１．Ｄ２は２ｇ２
図に示すよりに、格納箱３内に設はられた火災感知器Ｄ
ｉは直接、また検出箱１０に設けられた火災感知器Ｄ２
はインパーク１を介してＯＲ回路ＯＲに接続複台、その
出力は火災警報あるｂは消火装置などの防災装置あ；ミ
ー半導体製造工程を適切に制御する図示されな−継電装
置に接続されみ。
次に上記製砂の作用について説明する。窒化膜
膜形成装置６は、この内に半導体ウエノ１金入れ、真空
ポンプ１２により真空にしｔ後、シランガスボンベ１と
アンモニアガスボンベ２ トｔ１４ｆｉシランガスとア
ンモニアガスとを装置６に供給し半導体ウエノ・に必要
な窒化膜、すなわち絶縁膜を生成づせる。まブヒ未反応
ガスを含んだ処理後のガスは除害装置８において強制的
に酸化反応されて安全なものとして配管９を通じて排気
ダクト１１より排出される〇 一方このような状態に卦（Δて、シランガスボンベ１よ
りシランガスが空気中の酸素と反応し燃焼すると、その
燃焼生成物により火災感知器Ｄ１が動作し、ＯＲ回路Ｏ
Ｒを介して図示されない火災警報や消火装置などの防災
装置あるｂはダンパ１４の開度を全開とし漏洩したガス
をタリト１１に放出−ト、ろ方どこの表１造工程を市Ｉ
Ｊ御する継電装、置？動作させる。捷７ビ検出箱１０に
おりては、１余害装置８が正常して市ｈ〜して偽る間は
、配管９と介して・焼却され′ｆｃ燃焼生成物カニ配管
９を通じて排気ダ、クト１１へ排出さ′ＦＩ−るので、
火災感知器ｏ２は・インＡ−４１の作用（（よりＯＲ回
路ＯＲ不一動作させなり０ところ７５（除害装置８が故
障し未処理の天まのシランン・ブス力玉放出されると、
火災感知器Ｔｌ ２がインノく一タ■の作用によりＯＲ
回路ＯＲ金動作させ９．ＯＲ回路ＯＲを通じて図示され
′＆ｂ火災彌；報−セ消火装置などの防災装置ある（５
）は製造工程を制御する継電装置を動作させｂｏ この発明は以上のように半導体製造工程など、シランガ
スなどの有毒で司燃焼性の処理ガスを使用するｉ）所に
、このガスの燃焼による燃焼生成物を検出１ヒ乙火災感
知器を設はるようにしたので、事前にある論は火災の初
期段階において適切な制御が行なうことがでｉ！る半潜
・体工場などにおける訃報および制御装置が得られる効
果がある。 −
ポンプ１２により真空にしｔ後、シランガスボンベ１と
アンモニアガスボンベ２ トｔ１４ｆｉシランガスとア
ンモニアガスとを装置６に供給し半導体ウエノ・に必要
な窒化膜、すなわち絶縁膜を生成づせる。まブヒ未反応
ガスを含んだ処理後のガスは除害装置８において強制的
に酸化反応されて安全なものとして配管９を通じて排気
ダクト１１より排出される〇 一方このような状態に卦（Δて、シランガスボンベ１よ
りシランガスが空気中の酸素と反応し燃焼すると、その
燃焼生成物により火災感知器Ｄ１が動作し、ＯＲ回路Ｏ
Ｒを介して図示されない火災警報や消火装置などの防災
装置あるｂはダンパ１４の開度を全開とし漏洩したガス
をタリト１１に放出−ト、ろ方どこの表１造工程を市Ｉ
Ｊ御する継電装、置？動作させる。捷７ビ検出箱１０に
おりては、１余害装置８が正常して市ｈ〜して偽る間は
、配管９と介して・焼却され′ｆｃ燃焼生成物カニ配管
９を通じて排気ダ、クト１１へ排出さ′ＦＩ−るので、
火災感知器ｏ２は・インＡ−４１の作用（（よりＯＲ回
路ＯＲ不一動作させなり０ところ７５（除害装置８が故
障し未処理の天まのシランン・ブス力玉放出されると、
火災感知器Ｔｌ ２がインノく一タ■の作用によりＯＲ
回路ＯＲ金動作させ９．ＯＲ回路ＯＲを通じて図示され
′＆ｂ火災彌；報−セ消火装置などの防災装置ある（５
）は製造工程を制御する継電装置を動作させｂｏ この発明は以上のように半導体製造工程など、シランガ
スなどの有毒で司燃焼性の処理ガスを使用するｉ）所に
、このガスの燃焼による燃焼生成物を検出１ヒ乙火災感
知器を設はるようにしたので、事前にある論は火災の初
期段階において適切な制御が行なうことがでｉ！る半潜
・体工場などにおける訃報および制御装置が得られる効
果がある。 −
瀉１図はこの発明の一実施例の概略図、鳩２図はその回
路図、第３図は光電式煙感知器とイオン化式煙感知器と
の嚇性曲線図である。 １・・・シランガスボンベ、３・・・格ｋｑ箱、６−・
・窒化膜形成装置、８・・・除害装置、１０−・・検出
箱、１１・・・排気ダクト、１）１９Ｄ２・・・燃焼生
成物を検出する火災感知器。 トンシ′１１ｉ山（人ｆ」１″、、美１２ら災−１′、
業株式会比第１図 １ 第２図 第３図 濃度
路図、第３図は光電式煙感知器とイオン化式煙感知器と
の嚇性曲線図である。 １・・・シランガスボンベ、３・・・格ｋｑ箱、６−・
・窒化膜形成装置、８・・・除害装置、１０−・・検出
箱、１１・・・排気ダクト、１）１９Ｄ２・・・燃焼生
成物を検出する火災感知器。 トンシ′１１ｉ山（人ｆ」１″、、美１２ら災−１′、
業株式会比第１図 １ 第２図 第３図 濃度
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、半導体製造工程など、シランガスなどの有毒で可燃
性の処理ガスを使用する箇所に、該処理ガスが漏洩し空
気中の酸素と反応し燃焼することにより生ずる燃焼生成
物を検出する火災感知器を設け、この感知器の出力変化
により警報を発するとともに消火装置などの防災装置お
よび半導体製造工程などを制御することを特徴とする半
導体工場などにおける警報および制御装置。 ２、除害装置の２次側に、出力側にインバータを備えた
火災感知器が設はられた特許請求の範囲第１項記載の半
導体工場などにおける警報および制御装置。 ３、火災感知器が処理ガスボンベを収納した格納箱に設
けられた特許請求の範囲第１項記載の半導体工場などに
おける警報および制御装置。 ４、火災感知器が、イオン化我煙感知器である特許請求
の範囲第１項な”ｔ、第３項のｂずれかに記載された半
導体工場などにおける警報および制御装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20688982A JPS5998294A (ja) | 1982-11-27 | 1982-11-27 | 半導体工場などにおける警報および制御装置 |
| DE8383111571T DE3381098D1 (de) | 1982-11-27 | 1983-11-19 | Alarm- und steuerungssystem einer herstellungsanlage fuer halbleiter. |
| EP19830111571 EP0112491B1 (en) | 1982-11-27 | 1983-11-19 | Alarm and control system for semiconductor manufacturing plants |
| ES527815A ES8505124A1 (es) | 1982-11-27 | 1983-11-25 | Sistema de alarma y control para plantas de fabricacion de semiconductores |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20688982A JPS5998294A (ja) | 1982-11-27 | 1982-11-27 | 半導体工場などにおける警報および制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5998294A true JPS5998294A (ja) | 1984-06-06 |
Family
ID=16530723
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20688982A Pending JPS5998294A (ja) | 1982-11-27 | 1982-11-27 | 半導体工場などにおける警報および制御装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0112491B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5998294A (ja) |
| DE (1) | DE3381098D1 (ja) |
| ES (1) | ES8505124A1 (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5323195A (en) * | 1976-08-16 | 1978-03-03 | Otsuka Kagaku Yakuhin | Method of treating flame resistance for inflammable organic material and flame resisting composition |
| JPS5721350A (en) * | 1980-05-28 | 1982-02-04 | Naarden International Nv | Perfume composition and use |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2226813A5 (en) * | 1973-04-04 | 1974-11-15 | Cifal | Inflammable product fire prevention system - has IR radiation detector injecting cooling fluid and operating alarm |
| US4069018A (en) * | 1976-09-28 | 1978-01-17 | Weyerhaeuser Company | Explosive gas monitoring method and apparatus |
| US4267889A (en) * | 1978-12-27 | 1981-05-19 | Williams Robert M | Explosion suppression system for fire or explosion susceptible enclosure |
-
1982
- 1982-11-27 JP JP20688982A patent/JPS5998294A/ja active Pending
-
1983
- 1983-11-19 DE DE8383111571T patent/DE3381098D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1983-11-19 EP EP19830111571 patent/EP0112491B1/en not_active Expired
- 1983-11-25 ES ES527815A patent/ES8505124A1/es not_active Expired
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5323195A (en) * | 1976-08-16 | 1978-03-03 | Otsuka Kagaku Yakuhin | Method of treating flame resistance for inflammable organic material and flame resisting composition |
| JPS5721350A (en) * | 1980-05-28 | 1982-02-04 | Naarden International Nv | Perfume composition and use |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3381098D1 (de) | 1990-02-15 |
| ES527815A0 (es) | 1985-04-16 |
| ES8505124A1 (es) | 1985-04-16 |
| EP0112491A3 (en) | 1987-09-16 |
| EP0112491A2 (en) | 1984-07-04 |
| EP0112491B1 (en) | 1990-01-10 |
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