JPS60103345A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

感光性樹脂組成物

Info

Publication number
JPS60103345A
JPS60103345A JP21226083A JP21226083A JPS60103345A JP S60103345 A JPS60103345 A JP S60103345A JP 21226083 A JP21226083 A JP 21226083A JP 21226083 A JP21226083 A JP 21226083A JP S60103345 A JPS60103345 A JP S60103345A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compound
photosensitive resin
resin composition
epoxy
ethyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP21226083A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0332780B2 (ja
Inventor
Kunio Yanagisawa
柳沢 邦夫
Yasuhiko Araki
泰彦 荒木
Hajime Shiyouhi
初 松扉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sekisui Chemical Co Ltd filed Critical Sekisui Chemical Co Ltd
Priority to JP21226083A priority Critical patent/JPS60103345A/ja
Publication of JPS60103345A publication Critical patent/JPS60103345A/ja
Publication of JPH0332780B2 publication Critical patent/JPH0332780B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
(技術分野) 本発明は光重合可#!、々画像形成用感光性樹脂組成物
妃関する。 (従来技術) 従来より、高分子材料からなるバインダー、光重合性モ
ノマー及び光重合増感剤などからなる樹脂組成物を基板
上に塗布あるいは被覆させ、陰画等を通して紫外線のよ
うな活性光を照射し、光の当った部分を重合あるいけ架
橋させて溶剤に対し不溶化させ、光が当たらない部分を
溶出させることにより、上記画像を基板上に現像できる
ことが知られて卦り、印刷版材やプリント配線板の製造
に利用されている。 しかし、l’、、iL!、のrfl成物でけ得られる画
像被膜は耐溶^り性、)iil薬品性、耐熱性およびP
、械的強度が不充i)′Ciらり、保訳被H5’tとし
ての使用範囲けIC艮られている。 例えば、こノ1らの被llqは中性、弱酸性溶液には耐
えるが、強酸性、アルカ−り溶液にけ酎えられず、従っ
て、エッグーング、めっき等の処即液のM jrfが制
限される。又、トルエン、トリクレン、メチルニブルケ
トン等の有機溶剤には弱く、耐熱性や17”% IIQ
的強度が不充分なため、永久的な保prg 17!I 
1:’、T V:jr L jJない、。 又、永久的な(’+! 設被IIAを形成する目的で、
従来エボ・Vシ化合物11びその硬化剤を含む系が提案
されているが、これらは室温可使時間が短かく、硬化に
晶泥1売時間介・要し基板に反りを生じさせたり、金1
1rIIl’r食を、11町こしたりする。 1、!公fit 52−43092号公報、特公昭52
−4309141公卸、特公痒!56−3539号公報
などCit、永久的な保護被膜を形成する目的で、Jl
、屯合体パ、Cングーの中に酸成分を含有させて硬化を
促y(tさせようとしているが、通常の条件では硬化が
不充分であり、はんだ耐熱性、耐溶剤性、耐アルカリ性
に引く、更(C冷RA繰返し特性も充分とけ云え−ない
。 (発明の目的) 本発明は上記従来の欠点をfl?消して、tri” R
安定性に富み、短時間の加熱で充分硬化させることがで
き、永久的な保護被膜を形成させる((適した感光性桝
脂組成物を提供することを目的とrるう (発明の要旨) 本発明の要旨は、 (a) 末端エチレン苓を実質的妬少なくとも2個有す
る光重合可能な不飽和化合物、 (b) 光重合増感剤、 (c) 下記−醍式で表わせる化合物及びエポキシ八を
含有する重合性化合物を1を分として重合し、て得られ
る線状高分子化合物、 (Jは4(−;<、、メグ・ル、エチル、〕−ロゲンか
ら選ぼれA基、R2、R11、R4け脂肪族炭化水朱ま
たけ万石/、!、l+冒1′、水墨で酸素、硫黄、窒詣
を含むことができ7.)よりなる。又はこれらを主成分
とすることを特徴ノ:J−る感y6性祠脂In戊杓に存
する。 (発1ヂ1の(y、1マ、) 末完Illに1.−りる不飽和化合物(a)は、末端エ
チレンJ、Qを実ダ′(的に少なくとも2個有する。大
質的に少なくノーも2個占は、系内忙末端エチレン基を
1個しか11だない化合物、末端エチレン八を3 (1
−41ソ、1−持っている化合物があってもよく、全1
Fと11.て゛r均的に木114エチレン基が1化合杓
当りに少なくとも2個有していることを意味する。 不例fn化合物(、)としては、多価アルコールのアク
リルl’1lf−7−7,チルもしく itメタクリル
酸エステルがli)?Nであり、呉体的如はトリエチレ
ングリコール、t]ラエチレンクリコール、エチレング
リコール、ブ1ゴビレングリコール、トリメチロールプ
r1パン、ペンクエリスリトール、ネオペンデルグリコ
ール等のアクリル酸もしくけメグクリル酸エステルが挙
げられる。この成分の使用措は感光性捌脂絹成物中10
〜90重Q%であり、好ましくけ15〜60重量%であ
る。 本発明における増感剤(b) it、活性光の照射によ
りOft記不飽和化合物の重合を開始−するものであり
、場合によっては主たる増F3剤と、主たる増感剤の使
用を増大する従たる増μ削を211合わせて用いること
がある。 該増感剤(1,)は、従来から用いられる増感剤を使用
しうるが、内でもフェニルケトン系の増感剤が好適であ
り、具体的
【ては、ベンゾフェノン、P、P−ビス(ジ
メチルアミノ)ベンゾフェノン〈以下ミヒラーケトンと
称する〉などのP −アミノフェニルケトン、ベンゾイ
ン、ベンゾインメグ・ルエーテル、ペンゾインエチルエ
ーテル、ベンゾインブチルニーチル、ベンゾインイソプ
ロピルエーテル、ベンジル−アンスラキノン、2−1チ
ル−アンスラキノン、2−エチル/ンヌラキノン、2−
t−ブチル−アンスラキノン、2−アミノアンスラキノ
ン等が挙げられる。 1−1:・1.の119トシt1す(h)II、同様の
作用を行なうもので、活i’L it、 ノ((+4 
+ly 11,6、d+ ’M−i ルモF) ’k 
#t1合わセテ、重合開萌約牢をi、に善させ、音光時
間をより短縮さ(±ることがC八る。特に、ベンゾフェ
ノンとミトラー)1 lンの屏1合物などが好適である
。この我り)のf史用QI=i、に&光性樹脂組成物中
001〜]、 51Rill”35 ”rニオ)す、好
ましく t−10,1〜10重量9に′・r)′1n 次1・(−1木’il llI] K v、−p)る線
状高分子化合物(c) li、エポキシJ1にを含有す
る1(合性化合物(c−1)λ と、一般式(1) r 72わせる化合物(c −1;
 )とを舌合しでj()らノ1.るものである。 エポキシJ1(・をni有する重合性化合物(c−1)
とV」、p、ll (はグリシジルアクリレート、グリ
シジルアクリレートや、これらから得られる重合性」リ
ボマーが挙げられる。 従来、永久的保護被膜を形成する目的でエポキシ化合物
を用いた感光性祠脂組成物では、エポキシ化合物の?I
Y在硬化削として三7)化ホウ素モノエチルアミン、三
フッ化ホク禦ベンジルアミン惜体、四フッ化ホク素酸塩
、アジピン酸、ミド等があるが、室温可使時間が短か過
ぎて、保存が不可能である。 室温可使時間の長い潜在硬化Allとして、P 、 P
’−ジアミノジフェニルメタン、P、P′−ジアミノジ
フェニルスルホンlti、2−エチル4−エチルイミグ
ーゾール等も見い出されているが、硬化に高温、長時間
を要するため、裁板に反りを生じたり、加工時間が長び
いてIT t L <ない。 又、上記の従来の潜在硬化剤でt−1、金属表面の茫仮
に拡散していき、精密電気回路の電気的性質に悪影響を
及はすことがあり、プリント配線板の製造には向いてな
かった。 そこで、本発明者が鋭意研究の結果、上記の技術的課題
を解決する目的で、」二に説明したエポキシ基を含有す
る重合性化合物(c−1)と、下記一般式(I)で表わ
せる化合物(c−2)とを重合して得られる、線状高分
子化合物(c)が見い出され/こ4)である。 化合物(c−21:j:、下記一般式で表わされる。 (R1+づ水宰、メチル、エチル、〕・ロゲンから選1
・」゛れZ)糸、R2、Ra 、R4目脂肪族炭化水素
またt−1芳751メメ1.ミ!化水)′で酸素、硫黄
、窒素を含むことがでパノ、) 該化合物(c−2)において、R2、R3、R4け炭素
数81ス下の脂肪M’= /、Y化水素が硬化性及び耐
熱性が例れで外り、中1(水酸基やエーテル結合を含ん
でもよい。四に、R2、R3,R4には炭素−炭素の二
重結合を含んでいることが最4である。 こ)1らのl事由(・+ IIll ?Ik ′てはな
し)が、ブリードアクト【7て基板表1f10(悪影響
を与えないことや、活11°光照91により重合系に取
りこまれることにより、ff1il溶^11性τ・耐酸
、耐アルカリ性が改善されると、(+1わねる。。 yボー1ジノ、(全含有する重合性化合物(c−1)i
j70重量%以下の割合、一般式(i)で表わせる化合
物(c −2)は15重Q%以Fの割合で共重合され分
子量10〜30万になされる。尚、−上記以外の重合性
化合物を共重合して、線状高分子化合物(c)を得ても
よ−。 一般式(I)で表わされる化音物(c−2)としては、
1.1−ジメチル−1−(2−ヒドロキシ−3−ブトキ
シプロピル)アミン−メタクリルイミド、1,1−ジメ
チル−(2−ヒドロキシ−3−アリルオキシプロピル)
アミン−メタクリ・レイミ ド、1.1−ジメチール−
1−(2−ヒドロキシ−3アクリロイルオキシプロピル
)アミンーメタクリルイミド、1.J−ジメヂルー1−
(2−ヒドロキシ−3−メタクリロイルオキシプロピル
)アミンーメククリルイミF等が挙げられる。 線状高分子化合11′?1(c)の使用量け、組成物中
に10〜90重量%の範囲で使用され、(ffましくけ
30〜60重量%。 尚、上記線状高分子化合物(c)に加えて、従来のFP
= )(、性1・l !!!−+川戊物で用いられるエ
ポキシ樹脂やエポキシ+、1を持つオリゴマーを個用す
ることがpf適でIする1、これらの添加成分の種類及
び殴により、本川1iv、物の柔軟性を適度に調査でき
、爪板への・lit IIE ′X/、):t 、+’
、<空ラミネート性が改豫され、門凸ノ、−面をイI 
J−/’l哉板K 11.形成される永久的なrag 
F被1F、°(が” < ’+4’! Wし、1ilr
密回路などの叩め込み性が1“J−(な〕)。又、ノ、
(板を11んだ浴に漬けた1′5合にも、′、を泡の発
生による浮き、FJt”・((がなくなる。史シr、エ
ボキシオ付脂、オリゴマーの種類、儲により、イ11!
化し/こ保護被膜の柔軟性を制御でき、冷711% /
’☆I反し特1′Fが著しく同士する。 添加六iするエポキシ(電゛4川11 エポキシ基を持
つオリゴマーとして岱げらり、4具体的にはエポキシイ
ア、I III?プレポリマーであるエピコート828
、エビコー11.011. ’1、エピコート1004
、エピコート1007(いずれも商品名、シェル社製)
アラルゲイト■シ゛CN−1280,アラルゲイトEC
N−1273(いずれも商品名、ヂパガイギー?l専す
) MFが挙げられる。これらのエポキシ++を脂プレ
ポリマー等の使用量は5〜80重仄%、好ましくけ5〜
50重量%の範囲である。 本発明の感光性樹脂m酸物は以上の必須成分あるいけ選
択成分に加えて、種々の目的のだめに更忙副次的な成分
を含有ぜし、めることか可能である。即ち貯蔵安定性改
善のだめの熱重合禁止前、被膜特叶改善のだめの可W3
.別、密ff i!に良Δす、染料、顔料、その他の充
jf%剤等である。 1(+FJ]の作用) 本発明の感光性樹脂組成物は、通常のll光性樗脂と同
様に感光性を有し、活性光の照射により光重合を起こし
、又、80℃以下では熱的に充分安定であり、常法によ
り永久的な保護被膜を形成しうる。 即ち、本発明の感光性樹脂組成物を通常d3〜60重敬
%の濃度になるように、メチルエチルケトン、トルエン
、メチルセロソルダ、クロロホルム等の有機溶剤に溶解
させて、液をF@整し、下記(1)あるいけ(2)の方
法で保訳すべき基板上に感光層を形成させる。 (1) 感’;t、 l’l叫′・1脂組成物を溶解し
た液をノ&板上に塗布し乾燥tム、。 (2) 感〉に性U!脂組成物を溶解しだ液をポリニゲ
1/ンテレ7クレート等のフィルムに塗布し軟・億す−
る。flられだフィルムを熱ロールを用いてJ、V板に
貼合わせる。この場合、フィル!・の!β)1′:r 
bτ保直フィルムを重ねて保(f tろこともある。 感光層を1ド成しlr−’、(Jliに対し、ネガマス
クを通1、、 f紫外線などの活性光を叩射し、F<丸
部を光重合、架)・1に、しhイ?II化させる。次い
で、】、1゜1−トリク[1ルエクン等を用いて、未円
光部を溶出1.−r、 lす(((yをfj hう。こ
うして、得られた像的な保護、?l’l 11;111
辿常のエツチング、めっき等の1も四穴性!x+ 4−
のだめの耐食■かとなるが、更W1150“(゛程1’
rで数分〜1時間の短時間の加熱硬化K I′I)、1
[11熱性及び機械的強度に但れた永久的保!l”:9
11・°1となろ。本発明にかいてHl一般式(Jl)
 −r )’、+rわする化1合物(c−2)のイ的き
により、れ1(:高分子化合物(c)のエポキシ基ある
いけ選択的に加えられたエポキシ樹脂プレポリマーが、
おだやかな加熱条件で速セかに硬化し、しかも加熱に至
る迄の可使時間が充分長い七ころに一つの特徴がある。 保1■笈はトルエン等の芳香族炭化水素、メチルエチル
ケトン等のケトン溶剤、二塩化メチレン等のノ・ロゲン
化炭化水素系の溶剤に侵されず、又、強ij5、アルカ
リ水溶液にも充分耐える。従って、81んだ耐熱性Kf
5れたソルダーレジスト等の永久的な保護被膜として使
用し得る。尚、加熱硬化に先立って、紫外線などを1〜
3J/cr!の強さで後露光することにより、(φれた
強度を有する保護被膜を形成することもできる。更に、
来光111 Ef!、尤性栖脂絹酸物は、感光性、化学
的物理的強度優れているから、感光性接着剤、感光性塗
n、プラスチックは重量部を意味する。 〈実施例1〉 メチルメククリレート/グリシジル/ククリレ−ト/ア
ミンイ ミ ドア 共重合fト(60対35対5 ) 
(Rr w ?24万) 60部ベンクエリスリトール
トリアクリレート 30部ペンシフ1.ノン 3部 ミヒラーケトン 0.5部 P−メトへ°シフηノール 0.5部 メグルf−fルケトン 200部 Xアミンイミド;1.1−ジメチル−1−(2−にド「
1マ:、 、−3−ブトキシプロピル)アミンーメタク
リルイミド −1−ik!配合で11tた用光性慴脂組成物を25ノ
Lmの厚みの+lrリエチレンテレフクレートーヒに塗
布乾燥し、50ノ”Hの厚みのに包光層を形成した。1
n浄処理した41 +1< l !7− ’、’!S 
n−ルを用いて加圧積層したっそ17て才がフックを通
して高圧水銀灯から1o。 フy+J/n1C7)紫外kr−を歴射17た。ポリエ
チレンテレ7タレー 1フイルムを剥離し、1,1,1
.−)リクロ[7エ!インを90秒間スプレーして未露
光部を溶出し1す、(91を行なった。次いで、150
″Cで10分1.す1熱机叩を行なった所、ネガマスク
に相応する精密な(φを有する保譲被膜が得られた。 この保護波膜はメチルエチルケトン、アセトン、クロロ
ホルム、トリクレン、メタノール、10%硫酸水溶液、
トルエン、−キシレンにそれぞれ1日間浸漬しても何の
変化もなく、更に、70℃でP II 12の水酸化ナ
トリクム水溶液(て1「1間浸漬しても、何ら異常が昭
められなかった。 又、60分間隔で一65℃と125℃の冷却加熱を10
0回繰返し、更に260〜270℃のけんだ洛に2時間
浸漬しても変化がなかった。 更に1この基板は70℃で1ケ月放置しても表面にブリ
ードアウトは見られノ°、金nの呵食もなかった。尚、
ポリエチレンテレ7クレートフイルム上に形成したEネ
光層は40℃で6ケn保存しても使用Vc検支えなかつ
たつ以−にのことから、得られた保護被膜け、エツチン
グ、めっき、強アルカリ性無電解めっき用レジストとし
ても、はんだ耐熱性が要求されるソルグーレジストトし
ても充分に使用できることが分かった。 〈実施例2〉 ″ノテト1;(例1に1.・けるJl<重合体の代り(
τ、プヂルメタクリルレート/グリシジルメタクリレー
ト/アミンイミ+=〔=i、i 〜ジメグ・ルー1−(
2−ヒドロ′Y−シー3−アクリロイルオキシプロピル
)アミン−メタクリルイミド〕共重合体(40ム)50
対10 ) (P、I v−19万)を用いた以外v1
全て:に、 I、il、例1と同じようにして感光層を
調整したつ 得らJまた1°11筺波膜は、50%硫酸水溶液に耐え
る以外が111iJ溶剤性を1実施例1と同等であり、
冷熱ぞ′?it< L 7゛スト150270〜280
 ’Cのけんだ洛葭2り)間耐えると七がでへた。更に
、こσ)ノ1’i II<ロア0°C′r′2ケ月放置
し−Cも表面ブり一ドアク1.11見らノLr%に&光
層の40″C保存性も実11!+i 1ull lと同
等(“あり、ツルグーレジストや各M +/レジスト1
.てC−p川できることが確認された。 <、1て施例3〉 :j(1,4,(<112の組成、物に、更にエポキシ
r・(脂プレポリマー(アラルゲイトECN−1280
)を20部加え、同(吊に感光層をVA整した。 hり光層の40℃保存性V16ケ月以」二と良bfであ
り、形成された保護波膜の耐溶剤性、耐熱性11″実施
例2と同等であり、150回の冷熱繰返しにも耐えると
七が(K 4された。又、J〜板へのラミネートは常圧
、100℃でも細部迄充分に埋め込みされており、この
而での++It善もちった。 く比較例〉 メチルアクリレート/グリシジルヌククリレート共重合
体(60対40)(Mw=20万)60部 ペンクエリスリトールトリアクリレ−1・ 30部ベン
ゾフェノン 3部 ミヒラーケトン Q、 5部 P−メトギシフェノール 0.5部 メヂルエチルケトン 200部 及び、エポキシ硬化7111としてジシアンジアミド2
部を添加し、1l施例1と同様のテストを行った。感光
性の40℃保存性は1 、i、 ff1lで硬化が始ま
り可使時開が短かいこ′とが′rlJ明した。 又、露光、現像した後、150℃、10分の加凸でt」
、/rs 4)な保Ill!波11りが停られず、耐溶
^り件、耐熱・i′iとも、′ζJij )コl 1〜
3のテストに耐えられ々か−)l>、 Q 次イア゛、I 5 f+ ’(’、2時F、1加ris
 Lだものけ各種(T轍溶t’+l目こ1r’< t 
o分の耐イ°Lがあったが、冷r〜にπ返17テストー
C1・15リイクル以内にり2ンクを生じカニ。 (シマ1目[1の・二)+’lり 以1−の(^に、インrXIUI琲光性t・−1脂組成
物1fよ、貯蔵′)〈定件い′傳11、硬化の1・情け
IL較αノ低温で短時間に76分に:1・<心がイ【行
し、しかも耐溶剤性、阿アtv 力!J li:、+’
il W’+ I’1−h: I’l−好す保P 袷1
15% ヲ形p L 5ろ。 特a’r lit )”it人 (パ1水化学工”l! I上式8比 代1、ニイ11t 沼 屑 利

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 (a)末端エチレン基を実質的に少なくとも2個
    有する光重合可能な不飽和化合物、 (b)光重合増感剤 (c)下記の一般式で表わせる化合物及びエポキシ基を
    含(Tする重合性化合物を成分として重合1.2てl!
    LられるIQ状嵩高分子化合物(Ru、を水素、エチル
    、エチル、〕・ロゲンから選げノする周、R2、R,、
    R4は脂肪IIA炭化水素または芳香族(H!化水素C
    酸1・=、硫黄、窒素を含むことがで^る)上りなる。 又はこれらを主成分とするこ吉をl145徴とする感光
    性樹脂組成物。 2、−6°J′〒(:(1)の化合物のJ%R3、R4
    が、炭素数1゜〜6の脂肪族炭化水素であって酸素を含
    むことができるものである@1項記載の感光性樹脂組成
    物。 3、一般式(I)の化合物のR2、R3、R4が、〃L
    素素炭炭素二重結合を有するものである第2項記載の感
    光性樹脂組成物。
JP21226083A 1983-11-10 1983-11-10 感光性樹脂組成物 Granted JPS60103345A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21226083A JPS60103345A (ja) 1983-11-10 1983-11-10 感光性樹脂組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21226083A JPS60103345A (ja) 1983-11-10 1983-11-10 感光性樹脂組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60103345A true JPS60103345A (ja) 1985-06-07
JPH0332780B2 JPH0332780B2 (ja) 1991-05-14

Family

ID=16619627

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21226083A Granted JPS60103345A (ja) 1983-11-10 1983-11-10 感光性樹脂組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60103345A (ja)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS509035A (ja) * 1973-05-31 1975-01-30
JPS5243092A (en) * 1975-10-01 1977-04-04 Hitachi Ltd Nuclear reactor
JPS5550050A (en) * 1978-10-07 1980-04-11 Daikin Ind Ltd Blend composition for coclosslinking of new fluoroelastomer

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS509035A (ja) * 1973-05-31 1975-01-30
JPS5243092A (en) * 1975-10-01 1977-04-04 Hitachi Ltd Nuclear reactor
JPS5550050A (en) * 1978-10-07 1980-04-11 Daikin Ind Ltd Blend composition for coclosslinking of new fluoroelastomer

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0332780B2 (ja) 1991-05-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3989610A (en) Photosensitive epoxy-acrylate resin compositions
US6228560B1 (en) Photosensitive resin composition and photosensitive element using the same
KR880002535B1 (ko) 조사 중합성 혼합물 및 이로부터 제조한 광중합성 복사재료
TWI620018B (zh) 鹼顯影型之熱硬化性樹脂組成物、印刷配線板
DE2520775B2 (de) Photopolymerisierbares Gemisch
US7910631B2 (en) Photosensitive resin composition and flexible printed wiring circuit board having insulative cover layer formed of photosensitive resin composition
US4272607A (en) Photosensitive resin composition
JPS60186834A (ja) 水現像可能な感光性樹脂版材
JPS624719A (ja) 活性エネルギ−線硬化型樹脂組成物
JP3736654B2 (ja) 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
JPH01105240A (ja) 感光性樹脂組成物および感光性エレメント
JPH01126362A (ja) 画像形成用エポキシ樹脂組成物
JP3859934B2 (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法
JPS60103346A (ja) 感光性樹脂組成物
JPS60115626A (ja) 感光性樹脂組成物
JPS6125139A (ja) 感光性樹脂組成物
JPS6125736B2 (ja)
JP2020013107A (ja) 感光性樹脂組成物
JP2772227B2 (ja) プリント配線板
JPH0332780B2 (ja)
JPH0528827B2 (ja)
JPS6091352A (ja) 感光性樹脂組成物
JPH0327106B2 (ja)
JPH0216565A (ja) 感光性樹脂組成物
JPH02103225A (ja) 活性エネルギー線硬化型樹脂組成物