JPS60106824A - エポキシ樹脂組成物 - Google Patents
エポキシ樹脂組成物Info
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Landscapes
- Epoxy Resins (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は本質的にハロゲン基を含有しない高純度のポリ
グリシツール化ポリフェノール型エポキシ樹脂を用いた
組成物に関するものである。
グリシツール化ポリフェノール型エポキシ樹脂を用いた
組成物に関するものである。
従来は、ポリグリシシールエーテル化ポリフェノール型
のエポキシ樹脂に於いては、多核’k 価フェノール類
とエピハロヒドリンとの反応によって製造している限シ
は必然的に微量ではあるが加水分解性乃至非加水分解性
ハロゲン基を副反応によシ生成し樹脂中に微歇含まれる
ことになシ、特にチップの表面の一部に直接接触し、被
覆・接合している場合にはこれが苛酷な使用条件下での
エレクトロニクス部品の性能劣化の主原因となることが
大きな欠点の1つであった。一旦副生じたハロゲン基は
樹脂自体の一部分を形成しているので、抽出、水洗、ア
ルカリ水洗滌、分子蒸溜等の通常の精製方法では十分に
除去することは本質的に不可能であり、その工l/クト
ロニクス分野に於ける高信願性部品への応用に於いて重
大な障害となpつつあった。
のエポキシ樹脂に於いては、多核’k 価フェノール類
とエピハロヒドリンとの反応によって製造している限シ
は必然的に微量ではあるが加水分解性乃至非加水分解性
ハロゲン基を副反応によシ生成し樹脂中に微歇含まれる
ことになシ、特にチップの表面の一部に直接接触し、被
覆・接合している場合にはこれが苛酷な使用条件下での
エレクトロニクス部品の性能劣化の主原因となることが
大きな欠点の1つであった。一旦副生じたハロゲン基は
樹脂自体の一部分を形成しているので、抽出、水洗、ア
ルカリ水洗滌、分子蒸溜等の通常の精製方法では十分に
除去することは本質的に不可能であり、その工l/クト
ロニクス分野に於ける高信願性部品への応用に於いて重
大な障害となpつつあった。
また、チップの大fT1生産と共に、これを用いた半導
体製品が大幅に値下シし、その量産に於ける作業性の向
上並びにコストダウンが重要な問題となって来た。中で
も、チップマウント用装信、の自動化、高速化が)1へ
み、これに適合する一液性チツブマウント用1?14脂
組成物としての特性が多項目にわたって望まれている。
体製品が大幅に値下シし、その量産に於ける作業性の向
上並びにコストダウンが重要な問題となって来た。中で
も、チップマウント用装信、の自動化、高速化が)1へ
み、これに適合する一液性チツブマウント用1?14脂
組成物としての特性が多項目にわたって望まれている。
即ち、マウント強度、熱放散性、導電性(または電気絶
縁性)、作業性(ディスベンザ−による定量注入性、更
に進んでスクリーン印刷性、スタンピング性などの自動
化、高速化に適応出来ること)、硬化性、ボイド、信頼
性(耐湿通電テストによる不良のないこと、即ち硬化レ
ジンよりの発生ガスによるチップの4′41性の変動、
・・レジン、アルカリメタル等のイオン性不純物による
チップ面上のアルミ配線の腐食などのないこと)ワイヤ
ー、・藩いこと)ペレットクラック(リードフレーJ・
との熱膨張の差による応力発生に対するバッファー性の
よいこと)などであるが、中でも作業性及び信頼性への
1JiWがきびしくなりつつある。
縁性)、作業性(ディスベンザ−による定量注入性、更
に進んでスクリーン印刷性、スタンピング性などの自動
化、高速化に適応出来ること)、硬化性、ボイド、信頼
性(耐湿通電テストによる不良のないこと、即ち硬化レ
ジンよりの発生ガスによるチップの4′41性の変動、
・・レジン、アルカリメタル等のイオン性不純物による
チップ面上のアルミ配線の腐食などのないこと)ワイヤ
ー、・藩いこと)ペレットクラック(リードフレーJ・
との熱膨張の差による応力発生に対するバッファー性の
よいこと)などであるが、中でも作業性及び信頼性への
1JiWがきびしくなりつつある。
市に信頼性に関しては、チップマウント用樹脂組成物に
於て従来ではプレッシャークツカーデス)(40hr)
で硬化物よシのクロル−1オンの溶出が数百ppmの水
準のものであったが、これが数千1)pm s好壕しく
け10 ppm以下という極めて高い水準のものにする
ことが強く望まれるようになって来た。丑ブこチップオ
ンボード用のドロッピング用レジンについても、その要
望の程度はや\異シ若干緩やかな面もあるが、#1ソ同
様な意味で樹脂の高純度化に対する要望は大きい。今後
の方向としても量産化、低コスト化の面よシチップの加
工工程に樹脂素材別がセラミック系や金属系材料などに
かわって広く用いられる傾向にあシ、本発明の樹脂組成
物はこれらの分野ですぐれた特性を発揮し、その用途の
拡大が期待される。
於て従来ではプレッシャークツカーデス)(40hr)
で硬化物よシのクロル−1オンの溶出が数百ppmの水
準のものであったが、これが数千1)pm s好壕しく
け10 ppm以下という極めて高い水準のものにする
ことが強く望まれるようになって来た。丑ブこチップオ
ンボード用のドロッピング用レジンについても、その要
望の程度はや\異シ若干緩やかな面もあるが、#1ソ同
様な意味で樹脂の高純度化に対する要望は大きい。今後
の方向としても量産化、低コスト化の面よシチップの加
工工程に樹脂素材別がセラミック系や金属系材料などに
かわって広く用いられる傾向にあシ、本発明の樹脂組成
物はこれらの分野ですぐれた特性を発揮し、その用途の
拡大が期待される。
る本質的にハロゲン基を含まないエポキシ樹脂を用いる
ことにより、従来品に比し格段に信頼性に於てすぐれた
エレクトロニクス用エポキシ樹脂組成物が得られること
を見出し本発明をなすに至った。
ことにより、従来品に比し格段に信頼性に於てすぐれた
エレクトロニクス用エポキシ樹脂組成物が得られること
を見出し本発明をなすに至った。
即ち本発明は多核多価フェノール類のポリグリシシール
エーテルタイプのエポキシ樹脂、架橋剤、硬化促進剤、
充填材及び各種の添加剤よシなυ、少くとも半>i、体
素子の表面の一部に直接に接触し被覆・接合する状態で
用いられる液状ないし固形の樹脂組成物であって、該エ
ポキシ樹脂は未反応のフェノール性OH基を予めマスキ
ング剤によってマスクすることにより0.2ケ/分子以
下に減少せしめたポリアリルエーテル化多核多価フェノ
ール類の有機過酸酸化により得られる本質的にノ・レジ
ン基を含まない多官能のものであることを特徴とするも
のである。
エーテルタイプのエポキシ樹脂、架橋剤、硬化促進剤、
充填材及び各種の添加剤よシなυ、少くとも半>i、体
素子の表面の一部に直接に接触し被覆・接合する状態で
用いられる液状ないし固形の樹脂組成物であって、該エ
ポキシ樹脂は未反応のフェノール性OH基を予めマスキ
ング剤によってマスクすることにより0.2ケ/分子以
下に減少せしめたポリアリルエーテル化多核多価フェノ
ール類の有機過酸酸化により得られる本質的にノ・レジ
ン基を含まない多官能のものであることを特徴とするも
のである。
更に本発明は上記のように本質的に有機ノ・レジン基を
含まない高純度の低粘度、多官能性のエボオンボード用
ドロッピング樹脂などに用いられる組成物を得んとする
ものである。更にまた本発明は上記のように本質的に有
機ノ・レジン基を含まない高純度の固形エポキシ樹脂に
、適宜、架橋剤、硬化促進剤、充填剤及び各種の絵加剤
を配合するものでおシ、チップ封止剤トランスファー成
型拐料として有用な組成物をも得んとするものである。
含まない高純度の低粘度、多官能性のエボオンボード用
ドロッピング樹脂などに用いられる組成物を得んとする
ものである。更にまた本発明は上記のように本質的に有
機ノ・レジン基を含まない高純度の固形エポキシ樹脂に
、適宜、架橋剤、硬化促進剤、充填剤及び各種の絵加剤
を配合するものでおシ、チップ封止剤トランスファー成
型拐料として有用な組成物をも得んとするものである。
典型的な例を上り゛ると、先ず心電性のチップマウント
用樹脂組成物としては、上記の液状エポキシ樹脂に対し
て硬化剤としでジシアンジアミドのような潜伏性のもの
を、硬化促進剤としては第3級アミンの塩のような潜伏
性のものを、充填剤としては銀粉のような専電住金属粉
を、その他粘度調整のため高沸点(好71シ<は250
℃以上/1気圧)、低粘度(1()ボ・fズ以下/室温
)の溶媒(好ましくは反応性希釈剤)を含むものである
。上記組成物に於て、充填剤とし一〇銀粉の代シにシリ
カ微粉末のような無機系フ、fラーを用いると電気絶縁
性のチップマウント用樹脂組成物が得られる。更に、に
、架橋剤として酸無水物のように低粘バ[液状(室温ま
たけ100℃以下の温度で溶融させた時)のもの、硬化
促進剤として第3級アミンの塩及び/または有機金属化
合物のような潜伏性のもの、充填剤としてシリカ微粉の
ような無機系のものを適宜配合することによシ得られる
。更に、チップ封止用トランスファー成型材料としての
組成物は、上記の高純度・多官能の固形樹脂に、架橋剤
としてノボラック、硬化促進剤としては第3級アミンの
塩、充填剤としては溶融シリカ微粉末、流れ調整剤とし
てコロイダルシリカ、シリコーン系離型剤を適宜配合す
ることによシ得られる。これらの樹脂組成物は何れも本
発明の特別に高純度のエポキシ樹脂を用いているので、
従来品に比し、長時間のプレッシャークツカーテストに
よる溶出クロルイオン量などのイオン性不純物は本質的
に存在せず、従って高温下長時間使用してもチップの性
能を劣下させることが極めて少なく、著しく高信頼性の
ものであるのが大きな利点である。従って本発明に用い
るエポキシ樹脂は、多核多価フェノール1oyj−’+
7アリル化物を有機過酸でエポキシ化することによル得
られる本質的に不純物としてのクロル基を含まないもの
である。しかし仁のようなエポキシ樹脂の製造方法には
次のような問題点がある。
用樹脂組成物としては、上記の液状エポキシ樹脂に対し
て硬化剤としでジシアンジアミドのような潜伏性のもの
を、硬化促進剤としては第3級アミンの塩のような潜伏
性のものを、充填剤としては銀粉のような専電住金属粉
を、その他粘度調整のため高沸点(好71シ<は250
℃以上/1気圧)、低粘度(1()ボ・fズ以下/室温
)の溶媒(好ましくは反応性希釈剤)を含むものである
。上記組成物に於て、充填剤とし一〇銀粉の代シにシリ
カ微粉末のような無機系フ、fラーを用いると電気絶縁
性のチップマウント用樹脂組成物が得られる。更に、に
、架橋剤として酸無水物のように低粘バ[液状(室温ま
たけ100℃以下の温度で溶融させた時)のもの、硬化
促進剤として第3級アミンの塩及び/または有機金属化
合物のような潜伏性のもの、充填剤としてシリカ微粉の
ような無機系のものを適宜配合することによシ得られる
。更に、チップ封止用トランスファー成型材料としての
組成物は、上記の高純度・多官能の固形樹脂に、架橋剤
としてノボラック、硬化促進剤としては第3級アミンの
塩、充填剤としては溶融シリカ微粉末、流れ調整剤とし
てコロイダルシリカ、シリコーン系離型剤を適宜配合す
ることによシ得られる。これらの樹脂組成物は何れも本
発明の特別に高純度のエポキシ樹脂を用いているので、
従来品に比し、長時間のプレッシャークツカーテストに
よる溶出クロルイオン量などのイオン性不純物は本質的
に存在せず、従って高温下長時間使用してもチップの性
能を劣下させることが極めて少なく、著しく高信頼性の
ものであるのが大きな利点である。従って本発明に用い
るエポキシ樹脂は、多核多価フェノール1oyj−’+
7アリル化物を有機過酸でエポキシ化することによル得
られる本質的に不純物としてのクロル基を含まないもの
である。しかし仁のようなエポキシ樹脂の製造方法には
次のような問題点がある。
ポリフェノールをハロゲン化アリルを用いて苛性アルカ
リ共存下に反応させることによシ、そのポリアリルエー
テル化が行われるのでおるが、この反応に於いてフェノ
ール性OH基がアリル化されると同時に、フェノール核
(On基のオルソまたはパラ位)にもアリル基が導入さ
れる。そのためハロゲン化アリル及び苛性アルカリをフ
ェノール性Off基に対して大過剰に用いてもフェノー
ル性011基が未反応のit残存し易く、反応条件に応
じて10〜60チ(モル)も残ることになる。このよう
に大量のフェノール性OH基が未反応のまま残存してい
るポリアリルニーデル化ポリフェノールを過酢酸などの
有機過酸によってアリル基のエポキシ化を行おうとする
と、有機過酸の消費量に対する工策としてはアリルエー
テル化と併行して異った型式の反応に」、り残存するフ
ェノール性OH基を予めマスクしておくことが有効であ
る。フェノール性0H基を残存しないように好ましくは
0.3%(重量、以下同じ)以下になるようにマスクし
たポリアリルエーテル化ポリフェノールは、イj機過f
f2によジェポキシ化を行う際、その変換効率がすぐれ
ている上、得られたエポキシ樹脂の性能も従来のエビハ
ロヒドリンによるエポキシ化方法により得られた樹脂に
比し、優るとも劣らないものであった。
リ共存下に反応させることによシ、そのポリアリルエー
テル化が行われるのでおるが、この反応に於いてフェノ
ール性OH基がアリル化されると同時に、フェノール核
(On基のオルソまたはパラ位)にもアリル基が導入さ
れる。そのためハロゲン化アリル及び苛性アルカリをフ
ェノール性Off基に対して大過剰に用いてもフェノー
ル性011基が未反応のit残存し易く、反応条件に応
じて10〜60チ(モル)も残ることになる。このよう
に大量のフェノール性OH基が未反応のまま残存してい
るポリアリルニーデル化ポリフェノールを過酢酸などの
有機過酸によってアリル基のエポキシ化を行おうとする
と、有機過酸の消費量に対する工策としてはアリルエー
テル化と併行して異った型式の反応に」、り残存するフ
ェノール性OH基を予めマスクしておくことが有効であ
る。フェノール性0H基を残存しないように好ましくは
0.3%(重量、以下同じ)以下になるようにマスクし
たポリアリルエーテル化ポリフェノールは、イj機過f
f2によジェポキシ化を行う際、その変換効率がすぐれ
ている上、得られたエポキシ樹脂の性能も従来のエビハ
ロヒドリンによるエポキシ化方法により得られた樹脂に
比し、優るとも劣らないものであった。
本発明に用いるポリフェノールとは、次のような化合物
の群よシ選ばれた少くとも1種のものであり、分子当り
平均2:0以上のフェノール性OH基を有するものであ
る。
の群よシ選ばれた少くとも1種のものであり、分子当り
平均2:0以上のフェノール性OH基を有するものであ
る。
(1)ビスフェノール類
ビスフェノールA1ビスフエノールF1ジヒドロキシジ
フエニルエーテル、ジヒドロキシジフェニルスルホンな
ど。
フエニルエーテル、ジヒドロキシジフェニルスルホンな
ど。
(2)ノボラック類
どのフェノール類とアルデヒド類、ケトン類などのカル
ボニル化合物類との酸性下の縮合反応により得られるも
のであり、数平均縮合度で3核休乃至20核休程度のも
のである。
ボニル化合物類との酸性下の縮合反応により得られるも
のであり、数平均縮合度で3核休乃至20核休程度のも
のである。
・マーであシ、数平均重合度で4乃至50程度のもので
ある。本発明に用いるポリアリル化ポリフェノールとi
ll:、Hgポリフェノール類をフェノール性OH基に
対して大、i!剰のハロゲン化アリルを苛性アルカリの
存在下で反応さぜることによって得られるものである。
ある。本発明に用いるポリアリル化ポリフェノールとi
ll:、Hgポリフェノール類をフェノール性OH基に
対して大、i!剰のハロゲン化アリルを苛性アルカリの
存在下で反応さぜることによって得られるものである。
本発明のポリフェノールのポリアリルエーテル化の反応
は何れの方法によってもよいが、代表的な方法は次のよ
うである。
は何れの方法によってもよいが、代表的な方法は次のよ
うである。
■ポリフェノールのフェノール性OH基に対し当モル乃
至大過剰(モル)の苛性アルカリを反応させて一旦アル
カリ塩となし、次にアルカリと略々等モルのハロゲン化
アリルを滴下し反応させる方法。
至大過剰(モル)の苛性アルカリを反応させて一旦アル
カリ塩となし、次にアルカリと略々等モルのハロゲン化
アリルを滴下し反応させる方法。
■ポリフェノールのフェノール性OHiに対し当モル乃
至大過!11 (モル)の塩化アリルを加えて均一溶液
となし、次いで塩化アリルと等モルの苛性アルカリ溶液
を滴下し反応させる方法。
至大過!11 (モル)の塩化アリルを加えて均一溶液
となし、次いで塩化アリルと等モルの苛性アルカリ溶液
を滴下し反応させる方法。
■ポリフェノールの溶液に、フェノール性OH基させる
方法。
方法。
この場合溶剤としては、水を用いてもよいが、アリル基
の核への導入をさけてなるべくアリルエーテル基の割合
を多くするためには、適当な溶媒を併用して出来るだけ
水の少ない系、要すれば系の水を可及的に除去しつつ反
応させることが望ましい。
の核への導入をさけてなるべくアリルエーテル基の割合
を多くするためには、適当な溶媒を併用して出来るだけ
水の少ない系、要すれば系の水を可及的に除去しつつ反
応させることが望ましい。
用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパ
ツール、フタノール、ペンタノール、ヘキサノール等の
低級アルコール類、及びこれら低級アルコール類の各種
エーテル類、各種エステル類、及びベンゼン、トルエン
、キシレン、シクロヘキサン等の環状炭化水素類などが
適当である。
ツール、フタノール、ペンタノール、ヘキサノール等の
低級アルコール類、及びこれら低級アルコール類の各種
エーテル類、各種エステル類、及びベンゼン、トルエン
、キシレン、シクロヘキサン等の環状炭化水素類などが
適当である。
フェノール性OH基とハロゲン化アリルとのモル比は1
.0乃至1.6が適当である。苛性アルカリはハロゲン
化アリルとモル比で略々1:1で用いるのが適当である
。
.0乃至1.6が適当である。苛性アルカリはハロゲン
化アリルとモル比で略々1:1で用いるのが適当である
。
上記の方法によシ得られたポリアリル化ポリフェノール
は、フェニル接当シアリル基が0.7以上、全にエーテ
ル化出来ないことでhF)、通當フェノール性OHの残
存率は10〜60チ(モル)でめる。
は、フェニル接当シアリル基が0.7以上、全にエーテ
ル化出来ないことでhF)、通當フェノール性OHの残
存率は10〜60チ(モル)でめる。
本発明に於いては、jlにハロゲン化アリルのみで処理
したのでeまフェノール性OII基がこのように比較的
多量に残存し、次の有機過酸によるエポキシ化の工程の
効率を著しく低下させるので、エポキシ化の前に、マス
キング剤との反応によシこれをマスクして減少させよう
とするものである。
したのでeまフェノール性OII基がこのように比較的
多量に残存し、次の有機過酸によるエポキシ化の工程の
効率を著しく低下させるので、エポキシ化の前に、マス
キング剤との反応によシこれをマスクして減少させよう
とするものである。
本発明に用いるマスキング剤としては、フェノール性O
H基と容易に反応するものであれば何れも同様に用いる
ことが出来、るが、特に反応副生物を発生することなく
、これと重付加するものが好ましい。
H基と容易に反応するものであれば何れも同様に用いる
ことが出来、るが、特に反応副生物を発生することなく
、これと重付加するものが好ましい。
本発明に用いるマスキング剤としては次のようなものが
ある。
ある。
(1) ;4キシラン環を少くとも1ヶ含む低分子化合
物 (a)エチレンオキザイド、プロピレンオキザイド、ブ
タジエンジエボキサイドなどのアルキレン゛−・ グリ
シドール、アリルグリシシールエーテル、フェニルグリ
シシールニーデル、クレジールグリシジールエーテル、
ブチルグリシシールエーテル、ジグリシジールエーテル
、エチレングリコールジグリシジールエーテルなど、グ
リシシールアセテート、グリシシールアクリレート、グ
リシシールメタクリレート、ジグリシジールアジベート
など。
物 (a)エチレンオキザイド、プロピレンオキザイド、ブ
タジエンジエボキサイドなどのアルキレン゛−・ グリ
シドール、アリルグリシシールエーテル、フェニルグリ
シシールニーデル、クレジールグリシジールエーテル、
ブチルグリシシールエーテル、ジグリシジールエーテル
、エチレングリコールジグリシジールエーテルなど、グ
リシシールアセテート、グリシシールアクリレート、グ
リシシールメタクリレート、ジグリシジールアジベート
など。
(2)インシアネート基を少くとも1ヶ含む低分子化合
物 ブチルイソシアナート、フェニルインシアナート、トリ
ルイソシアナート、トリレンジイソシアナ〜ト、ブチレ
ンジイソシアナートなど。
物 ブチルイソシアナート、フェニルインシアナート、トリ
ルイソシアナート、トリレンジイソシアナ〜ト、ブチレ
ンジイソシアナートなど。
(3)その他
無水酢酸等酸無水物類、γブチロラクトン等のラクトン
類など。
類など。
以上のうち(1)、(2)が特に好ましい。
オキシラン化合物でマスクする場合には少量の苛性アル
カリが存在しているとその触媒作用にょ反応によりイン
シアナートが消費されるので望ましくない。
カリが存在しているとその触媒作用にょ反応によりイン
シアナートが消費されるので望ましくない。
本発明に於いて、上記のポリアリルエーテル化ポリフェ
ノールの残存するフェノール性011基を上記のマスキ
ング剤を用いてマスクする方法は次の通シである。
ノールの残存するフェノール性011基を上記のマスキ
ング剤を用いてマスクする方法は次の通シである。
■上記の方法で得られたポリアリル化ポリフェノールを
一旦精製して後、マスキング剤を添加反応させ、吸すh
は再び精製する方法。
一旦精製して後、マスキング剤を添加反応させ、吸すh
は再び精製する方法。
■上記のポリフェノールのポリアリル化反応工程に続け
て、マスキング剤を添加反応させて後に精製する方法。
て、マスキング剤を添加反応させて後に精製する方法。
■の方法は倒れのマスキング剤でも適用可能である。こ
の場合マスキング剤としてオキシラン化合物やインシア
ネート化合物を用りると、縮合に伴う反応副生物がない
ので再び精製する必要がないので有利である。
の場合マスキング剤としてオキシラン化合物やインシア
ネート化合物を用りると、縮合に伴う反応副生物がない
ので再び精製する必要がないので有利である。
■の方法はマスキング剤としてオキシラン化合物を用い
る場合には栄件を適当に選べば重刑に適によるアリル化
の反応条件とオキシラン化合物によるマスキングの反応
条件とが類似しているのに対し、他のものによるマスキ
ングの反応条件は異ることが多いからである。何れの場
合にも溶剤使用が必要なときは、マスキング剤とは反応
しない不活性なものを用いることが必要である。また、
要すればフェノール性0)1基とマスキング剤との反応
を促進する触媒を用いてもよい。フェノール性OH基と
マスキング剤とのそル比は略々1:1であることか好ま
しい。
る場合には栄件を適当に選べば重刑に適によるアリル化
の反応条件とオキシラン化合物によるマスキングの反応
条件とが類似しているのに対し、他のものによるマスキ
ングの反応条件は異ることが多いからである。何れの場
合にも溶剤使用が必要なときは、マスキング剤とは反応
しない不活性なものを用いることが必要である。また、
要すればフェノール性0)1基とマスキング剤との反応
を促進する触媒を用いてもよい。フェノール性OH基と
マスキング剤とのそル比は略々1:1であることか好ま
しい。
本発明に於けるポリアリルエルチル化ポリフェノールの
精製);J: 、■反応系の中オロ、■反応副生物とし
てのNnetlに13rなどのアルカリハライドを濾過
、水洗などによp除去すること、及び■溶剤、水、未反
応ハ虹1ゲン化アリル等の減圧除去である。
精製);J: 、■反応系の中オロ、■反応副生物とし
てのNnetlに13rなどのアルカリハライドを濾過
、水洗などによp除去すること、及び■溶剤、水、未反
応ハ虹1ゲン化アリル等の減圧除去である。
本発明に於けるポリアリルエーテル化ポリフェノールの
有機過酸によるエポキシ化の反応は、未反応のフグ7−
ル性011基が十分にマスクされていル(7)で、常法
によシ効率よく行うことが可能である。
有機過酸によるエポキシ化の反応は、未反応のフグ7−
ル性011基が十分にマスクされていル(7)で、常法
によシ効率よく行うことが可能である。
即ち本発明のマスキングによジフェノール性OH基の残
存率を5q6(モル)以下、好ましくは1%(モル)以
下にするならば、アリル基1モルに対する有機過酸の消
費量を1,2乃至2.0モルとすることにより、エポキ
シ基への変換の効率をもとのアリル基に対してtl、7
0%(モル)以上、有機過酸消費開に対しては50%(
モル)以上にすることが可能である。これらの値はマス
キングしない場合に比し何すしも大幅に向上しており、
生産コストの面でも、柄脂の性能の面でも極めて有利で
ある。
存率を5q6(モル)以下、好ましくは1%(モル)以
下にするならば、アリル基1モルに対する有機過酸の消
費量を1,2乃至2.0モルとすることにより、エポキ
シ基への変換の効率をもとのアリル基に対してtl、7
0%(モル)以上、有機過酸消費開に対しては50%(
モル)以上にすることが可能である。これらの値はマス
キングしない場合に比し何すしも大幅に向上しており、
生産コストの面でも、柄脂の性能の面でも極めて有利で
ある。
なお、有機過酸の分解によシ副生ずる有機酸は、生成し
たエポキシ基と反応する可能性があるので、反応は可及
的低温、短時間に行うこと、反応後出来るだけ速やかに
系外へ除去すること及び生成したエポキシ樹脂中に微量
でも残存しないように精製することが必要である。
たエポキシ基と反応する可能性があるので、反応は可及
的低温、短時間に行うこと、反応後出来るだけ速やかに
系外へ除去すること及び生成したエポキシ樹脂中に微量
でも残存しないように精製することが必要である。
本発明に用いるエポキシ樹脂は、その合成経路に於いて
必然的にハロゲン基を樹脂の一部分として生成する主反
応及び副反応は全く存在しない。
必然的にハロゲン基を樹脂の一部分として生成する主反
応及び副反応は全く存在しない。
従って主原料及び副原料を十分に吟味し、不純物の混入
をさけることにより、木質的にハロゲン基を含まないポ
リグリシシールエーテル化ポリフェノール型エポキシ樹
脂である。
をさけることにより、木質的にハロゲン基を含まないポ
リグリシシールエーテル化ポリフェノール型エポキシ樹
脂である。
即ち、従来の合成経路では如何に精製をくりかえしても
到底得られなかった全ハロゲン量として10 ppm以
下のものが得られるわけであり、本発明の目的のために
はこのような水準に達するまで樹脂の精製を行うことが
必要である。更に、本発明の1」的に対し7でt」2次
のような各種のイオン性の不純物イ〔可及的に含んでい
ないことが必扱でちる。
到底得られなかった全ハロゲン量として10 ppm以
下のものが得られるわけであり、本発明の目的のために
はこのような水準に達するまで樹脂の精製を行うことが
必要である。更に、本発明の1」的に対し7でt」2次
のような各種のイオン性の不純物イ〔可及的に含んでい
ないことが必扱でちる。
(1)陽イ、dン:I、i 1−1Na−’−1K[、
Ca−1−+、Mg++、Sb S Fe 1 Fe
1 (2月く;5イ刊ン ド、Ct−1Br−1NO3−木
兄IIJの方法により得られたエポキシFl脂に含寸れ
るこれらの・イメン性不#’ll物は、総、f、1とし
で1101)p以トであることが必太であり、上記の精
製操作により十分到、I−h−月能である。
Ca−1−+、Mg++、Sb S Fe 1 Fe
1 (2月く;5イ刊ン ド、Ct−1Br−1NO3−木
兄IIJの方法により得られたエポキシFl脂に含寸れ
るこれらの・イメン性不#’ll物は、総、f、1とし
で1101)p以トであることが必太であり、上記の精
製操作により十分到、I−h−月能である。
本発明の組成物に用いる架橋剤としては潜伏性であると
とJ〜、液状樹脂の粘度を殆んど上列させないものであ
2)ことがr<: ’t:しい。そのためには、一般に
ジシアンジアミlが適当である。まだ酸無水物も用途に
、し−1でF、L有効である。
とJ〜、液状樹脂の粘度を殆んど上列させないものであ
2)ことがr<: ’t:しい。そのためには、一般に
ジシアンジアミlが適当である。まだ酸無水物も用途に
、し−1でF、L有効である。
本発明の、f111ル+11%+に、用いる硬化促進剤
としては架橋剤同様i:”I仏性のものが好ましい。そ
のためには、一般に第3に’3’fミンの塩及び/′寸
たけ有機金属化合物が有効である3、 本発明に用いろ充1合剤としてtL1用途に応じて導’
il、 (4の金七・(微粉末すたれ非”l; fit
性の無c’七粉末を適宜用途に応じて使い分ける必要が
ある。
としては架橋剤同様i:”I仏性のものが好ましい。そ
のためには、一般に第3に’3’fミンの塩及び/′寸
たけ有機金属化合物が有効である3、 本発明に用いろ充1合剤としてtL1用途に応じて導’
il、 (4の金七・(微粉末すたれ非”l; fit
性の無c’七粉末を適宜用途に応じて使い分ける必要が
ある。
導電性全屈粉末としては、銀粉が最も一般的であシ、非
導電性粉末としては、シリカ倣粉末が最も一般的である
。架橋剤、硬化促進剤、充す1剤1゜何れも本質的にク
ロル基を含まないもので、しかも十分に洗許されていて
、−r−aン性不純物をも含まないことが好ましい。各
tIlj添加剤と【、では粘度調整のための反応性希釈
剤、充」l\剤/′樹脂の親和性向上のだめのカップリ
ング剤、消?〔!1剤、)γを色剤などである。反応性
希釈剤としてtよ高沸点、低粘度のモノまたはジェポキ
シ化合物が好t Lい。特にチップマウント用樹脂組成
物の揚台、350℃またはそれ以上の高温で数十秒以内
に硬化さぜることか必要であり、そのだめには少くとも
常用下の沸点250℃以上、好まり、 < tよ300
℃以上のものであることが必要である。粘度も冷温で1
0ボイズ以下であることが望ましい。従って脂肪族系の
01□〜24の1〜2塩基酸、1〜2価アルコール、1
〜2級アミンなどをグリシシール化し、たものが望まし
い。(まだ一旦アリル化してから有機過酸でエポキシ化
したものの方が更に好ましい。)本発明に用いる反応性
希釈剤としては、本発明のエポキシ何1fftのように
本質的に有機のクロル基を含有しないものが好゛ましい
。しかし通常のエピクロルヒドリン企用いてエポキシ化
したものでおっでもイ)釉の41′i和方法を適宜適用
して全クロルと【7て100(11111111,1上
1’l’、 ’u ’!f: L、 <は600 pp
m以下にしたもので+1・・ろことが必要である。また
、グリシジールエ−−−フールの場合には長鎖脂肪酸の
低級アルキルニスノールとグリシドールトノゴ、ステル
交換により−(’i:# j+ :+17)ものtel
、木質的にクロル基を不絹l物と17−C介4ブ・・い
ので望ましい。カップリング剤として番)1、ツリー1
−7糸のもの、チタネート系のもの等適1r[用いCも
よい。また、シリコーン系なとの消f(jL剤イC用い
てもよい。上記の:Cボキシ樹脂に上111部胃11(
配置’ ?+’l YC適宜配合することにより得られ
たエレクト[]、−クス用+14脂絹成物tよ、従来品
に比し、作芋1′1の面でも、信頼性の面でも画期的に
イマれたものでオ)す、エレクトロニクス業界に於ける
永イトのKQ +174台・グ・たすものである。
導電性粉末としては、シリカ倣粉末が最も一般的である
。架橋剤、硬化促進剤、充す1剤1゜何れも本質的にク
ロル基を含まないもので、しかも十分に洗許されていて
、−r−aン性不純物をも含まないことが好ましい。各
tIlj添加剤と【、では粘度調整のための反応性希釈
剤、充」l\剤/′樹脂の親和性向上のだめのカップリ
ング剤、消?〔!1剤、)γを色剤などである。反応性
希釈剤としてtよ高沸点、低粘度のモノまたはジェポキ
シ化合物が好t Lい。特にチップマウント用樹脂組成
物の揚台、350℃またはそれ以上の高温で数十秒以内
に硬化さぜることか必要であり、そのだめには少くとも
常用下の沸点250℃以上、好まり、 < tよ300
℃以上のものであることが必要である。粘度も冷温で1
0ボイズ以下であることが望ましい。従って脂肪族系の
01□〜24の1〜2塩基酸、1〜2価アルコール、1
〜2級アミンなどをグリシシール化し、たものが望まし
い。(まだ一旦アリル化してから有機過酸でエポキシ化
したものの方が更に好ましい。)本発明に用いる反応性
希釈剤としては、本発明のエポキシ何1fftのように
本質的に有機のクロル基を含有しないものが好゛ましい
。しかし通常のエピクロルヒドリン企用いてエポキシ化
したものでおっでもイ)釉の41′i和方法を適宜適用
して全クロルと【7て100(11111111,1上
1’l’、 ’u ’!f: L、 <は600 pp
m以下にしたもので+1・・ろことが必要である。また
、グリシジールエ−−−フールの場合には長鎖脂肪酸の
低級アルキルニスノールとグリシドールトノゴ、ステル
交換により−(’i:# j+ :+17)ものtel
、木質的にクロル基を不絹l物と17−C介4ブ・・い
ので望ましい。カップリング剤として番)1、ツリー1
−7糸のもの、チタネート系のもの等適1r[用いCも
よい。また、シリコーン系なとの消f(jL剤イC用い
てもよい。上記の:Cボキシ樹脂に上111部胃11(
配置’ ?+’l YC適宜配合することにより得られ
たエレクト[]、−クス用+14脂絹成物tよ、従来品
に比し、作芋1′1の面でも、信頼性の面でも画期的に
イマれたものでオ)す、エレクトロニクス業界に於ける
永イトのKQ +174台・グ・たすものである。
以下実施例につき説明する。
実施例1
フェノールとポルムアルデヒドとの蓚酸を触媒とする縮
合反応により得られたノボラック(数平均分子量310
、フリーフエノーノt0.15%(魚骨%)100部(
lj ji、l:、以下同じ)をメタノール300部に
溶解し、これに苛性ソーダ40部のl/1(型光゛比)
の水溶液を加え、室温で30分間攪拌し均一溶液とする
。
合反応により得られたノボラック(数平均分子量310
、フリーフエノーノt0.15%(魚骨%)100部(
lj ji、l:、以下同じ)をメタノール300部に
溶解し、これに苛性ソーダ40部のl/1(型光゛比)
の水溶液を加え、室温で30分間攪拌し均一溶液とする
。
次に40℃で柑拌しつつアリルクロライド80部を6時
間にわたって滴下する。更にアリルグリシシールエーテ
ル35部を加えて、史に60〜80℃で6時間反応させ
る。反応終了後、減圧下、水、メタノール、未反応アリ
ルクロライド、アリルグリシシールエーテルを留去する
。次いでベンゼン300cc’ffi加えて溶解し、析
出した沈澱を沖過する。更に水洗をくりかえして、Na
→−1Ct−1の合計で10 ppm以下になる壕で精
製するC。
間にわたって滴下する。更にアリルグリシシールエーテ
ル35部を加えて、史に60〜80℃で6時間反応させ
る。反応終了後、減圧下、水、メタノール、未反応アリ
ルクロライド、アリルグリシシールエーテルを留去する
。次いでベンゼン300cc’ffi加えて溶解し、析
出した沈澱を沖過する。更に水洗をくりかえして、Na
→−1Ct−1の合計で10 ppm以下になる壕で精
製するC。
次に5℃以下に保持しつつ過酢酸156部の1/1(重
量比)のベンゼン溶液を5時間にわたつて逐次添加(7
、]曽拌′ト汐応さぜる。反応終了後20℃以斗に(!
r’rl+シ=−>っ、くりかλ−し水洗して酢酸を除
去する。
量比)のベンゼン溶液を5時間にわたつて逐次添加(7
、]曽拌′ト汐応さぜる。反応終了後20℃以斗に(!
r’rl+シ=−>っ、くりかλ−し水洗して酢酸を除
去する。
次に減産1・て゛、水、溶剤を完全に留去する。イ!)
られプし1〜ボ八シ471.11旨の11Y造シ」、次
のj山シである。
られプし1〜ボ八シ471.11旨の11Y造シ」、次
のj山シである。
エボギシジ−5/1分イ当り°321
アリルカー、/ # 、’ 0.58
7、/−ル4′:011)山/” : 0.’ 2 0
全クロノ【・11t : 8 ppm Cl” : 2 ppm NFL(1)゛2叶nl 粘度 、53ボイズ/’ 50 ℃ 火線1”112 実i1iイFll J −’[F イ1) C)ノした
−ホーY シ□ 趙J Jl旨 70 部、 (μ粉
末400部、CI4の員夕1’i 1.lt1肪酸のグ
リシシールエステル(/I゛〃ロルLl: : ] O
ppm ) 2 (1部、ジシ゛アンジアミド微粉末4
5部、1,8ジアザビシクロ(5,4,0’)ウンデセ
ン=7のレゾルシン、jl+A、 0.5 i%、弗素
レジン早消泡削Oo1部を加えて掴+P、 、’1:→
でγ1?。
全クロノ【・11t : 8 ppm Cl” : 2 ppm NFL(1)゛2叶nl 粘度 、53ボイズ/’ 50 ℃ 火線1”112 実i1iイFll J −’[F イ1) C)ノした
−ホーY シ□ 趙J Jl旨 70 部、 (μ粉
末400部、CI4の員夕1’i 1.lt1肪酸のグ
リシシールエステル(/I゛〃ロルLl: : ] O
ppm ) 2 (1部、ジシ゛アンジアミド微粉末4
5部、1,8ジアザビシクロ(5,4,0’)ウンデセ
ン=7のレゾルシン、jl+A、 0.5 i%、弗素
レジン早消泡削Oo1部を加えて掴+P、 、’1:→
でγ1?。
絆し、M r!にコ1本ロールを通し、て均一なベース
ト状マウント用樹脂組成物を得た。得られたペースト状
組成物はリードフレーム上に、スクリーン印刷またはス
タンピングにより定−1?l的に定位置に自動的に塗布
され長時間の連続作「6が可能である。
ト状マウント用樹脂組成物を得た。得られたペースト状
組成物はリードフレーム上に、スクリーン印刷またはス
タンピングにより定−1?l的に定位置に自動的に塗布
され長時間の連続作「6が可能である。
次に、その上にチップが自動的にマウントされ、核マウ
ント用樹脂組成物の硬化は350℃の熱板上20秒で完
了した。マウント用1h↑脂としての各種の性能は第1
表の通りである。
ント用樹脂組成物の硬化は350℃の熱板上20秒で完
了した。マウント用1h↑脂としての各種の性能は第1
表の通りである。
比較例1
実施例1と同じノボ2ツクを用い、そのフェノール性O
H基と等モルの苛性ソーダと大過u’lJのエピクロル
ヒドリンとを反応させる常法に従ってエポキシ(+74
脂を得る。エポキシ樹脂の性能tよ次のようである。
H基と等モルの苛性ソーダと大過u’lJのエピクロル
ヒドリンとを反応させる常法に従ってエポキシ(+74
脂を得る。エポキシ樹脂の性能tよ次のようである。
エポキシ基/1分子当り: 3.0 (1アリル基/
〃:0.00 〕Sノール性OI(基/ # :0.05全クロル基
: 2000 ppm Cl0: 2 ppm Nap): 2 ppin 粘度 :60ボイズ/ 50 ℃ 比較例2 Jl;軟((+11でイiトられたエポキシ樹脂を用い
る以外はすべで1−1′が11例2と全く同様にして均
一なベース) ご1人j7 ’+’ii: (’b 7
− lり= !> 71・Jn ’II刀W 系1t
)RQ勿を得た。。
〃:0.00 〕Sノール性OI(基/ # :0.05全クロル基
: 2000 ppm Cl0: 2 ppm Nap): 2 ppin 粘度 :60ボイズ/ 50 ℃ 比較例2 Jl;軟((+11でイiトられたエポキシ樹脂を用い
る以外はすべで1−1′が11例2と全く同様にして均
一なベース) ご1人j7 ’+’ii: (’b 7
− lり= !> 71・Jn ’II刀W 系1t
)RQ勿を得た。。
得らItたべ−ニー1・状π[1成物は実施例2とln
J様に操作してチ・・・ゾ?r)リー ドフレーム上に
マウントする。
J様に操作してチ・・・ゾ?r)リー ドフレーム上に
マウントする。
マウント用回)11「としての性能は第1表の通りであ
る。
る。
実施例3
エポキシ樹脂として実施例1のエポキシ樹脂70部、反
応性希釈剤としてC14の長鎖脂肪酸のグリンジールエ
ステル(全クロル基: 10 ppm) 20部、硬化
剤としてジシアンジアミド40部、硬化促進剤としてト
リー2(ジメチルアミノメチル)フェノールのレゾルシ
ン塩03部、弗素レジン系消泡剤001部をtj+、l
拌し、均一な分散液とする。
応性希釈剤としてC14の長鎖脂肪酸のグリンジールエ
ステル(全クロル基: 10 ppm) 20部、硬化
剤としてジシアンジアミド40部、硬化促進剤としてト
リー2(ジメチルアミノメチル)フェノールのレゾルシ
ン塩03部、弗素レジン系消泡剤001部をtj+、l
拌し、均一な分散液とする。
更に結晶性シリカ微粉末(粒径871):90係以t−
)100部を加え、抽潰機で混糺し、最後に三本ロール
を通して均一々ペースト状マウント用(☆1脂組成物を
得る。樹脂組成物はり一1アレーン、上にスクリーン印
刷またはスクンピングにより定聞−的に自動的に定位値
に塗布され、この上にチップをマウントする。樹脂′の
硬化i、1: 35 (1℃のホットプレート上または
200℃のオーブン中で行う。
)100部を加え、抽潰機で混糺し、最後に三本ロール
を通して均一々ペースト状マウント用(☆1脂組成物を
得る。樹脂組成物はり一1アレーン、上にスクリーン印
刷またはスクンピングにより定聞−的に自動的に定位値
に塗布され、この上にチップをマウントする。樹脂′の
硬化i、1: 35 (1℃のホットプレート上または
200℃のオーブン中で行う。
マウント用樹Ill¥組成物としての性能に′i、第2
表の通りである。
表の通りである。
比較例3
比較例1でイ(トらitたエポキシ樹脂を用いる以外は
すべてニー族IHI 3と全く同様にして均一なペース
ト状絶縁イグ1チップマウント樹脂組成物を実施例3と
同様にし−r9ブーソゲをリードフレーム上にマウント
する。マウン)・用レジン組成物としての性能はWJ2
衣の3ttIす(,へる3、 実施例4 0−クレゾールとホルムアルデヒドとの蓚酸を触媒とす
る縮合反応によシ得られたノボラック(数平均分子i:
620、フリーフェノール0.10%)110部をメタ
ノール300部に溶解し、これに苛性ソーダ40部の1
/1(重量比)の水溶液を加え、室温で30分間攪拌し
均一溶液とする。
すべてニー族IHI 3と全く同様にして均一なペース
ト状絶縁イグ1チップマウント樹脂組成物を実施例3と
同様にし−r9ブーソゲをリードフレーム上にマウント
する。マウン)・用レジン組成物としての性能はWJ2
衣の3ttIす(,へる3、 実施例4 0−クレゾールとホルムアルデヒドとの蓚酸を触媒とす
る縮合反応によシ得られたノボラック(数平均分子i:
620、フリーフェノール0.10%)110部をメタ
ノール300部に溶解し、これに苛性ソーダ40部の1
/1(重量比)の水溶液を加え、室温で30分間攪拌し
均一溶液とする。
次に60℃で攪拌しつつアリルクロライド80部を3時
間にわたって滴下する。更にグリシドール10部を加え
て、更に60〜80℃2時間反応させる。反応終了後、
減圧下、水、メタノール、未反応アリルクロライド、グ
リ・シドールを留去する。
間にわたって滴下する。更にグリシドール10部を加え
て、更に60〜80℃2時間反応させる。反応終了後、
減圧下、水、メタノール、未反応アリルクロライド、グ
リ・シドールを留去する。
次いでベンゼン300 ccを加えて溶解し、析出した
沈澱を濾過する。更に水洗をくシかえし、Na+、Ct
−の合計が10 ppm以下となるまで行う。次に5℃
以下に保持しつつ過酢酸155部の1/1(重量比)の
ベンゼン溶液を6時間にわたって逐次添加し、攪拌下で
反応させる。反応後くりかえし洗滌して酢酸を除去する
。次に減圧下で、水、溶剤を完全に留去する。得られた
エポキシ樹脂は次のようである。
沈澱を濾過する。更に水洗をくシかえし、Na+、Ct
−の合計が10 ppm以下となるまで行う。次に5℃
以下に保持しつつ過酢酸155部の1/1(重量比)の
ベンゼン溶液を6時間にわたって逐次添加し、攪拌下で
反応させる。反応後くりかえし洗滌して酢酸を除去する
。次に減圧下で、水、溶剤を完全に留去する。得られた
エポキシ樹脂は次のようである。
エポキシ基/1分子当シ:5.8
アリル基/ # :0.8
フェノーノn生O1l基/#:0.15全クロル量 :
8 ppm (、le : 2 ppm Na■ : 1 ppm 軟化点 :60℃ 実施例5 実施例4でイ:1られたエポキシ樹脂60部にフェノー
ノCノボラック(数平均分子量:510、フリーフェノ
ール0.3チ)40部、2エチル4メチルイミダゾール
のレゾルシン塩0.5部、シリコーン系離型剤001部
及び溶融シリカ微粉末300部をヘンシ1ルミキーリ゛
−で混練し、次いで二本ロールで80℃で混紡して均一
になし、更に微粉砕し−C成型材料とする3、得られた
成型拐料はトランスファーマシンによp170℃5分の
成形ザイクルでチップの側止を行う。得られたチップ封
止用樹脂成型11料としての性能は第3表の通りである
。
8 ppm (、le : 2 ppm Na■ : 1 ppm 軟化点 :60℃ 実施例5 実施例4でイ:1られたエポキシ樹脂60部にフェノー
ノCノボラック(数平均分子量:510、フリーフェノ
ール0.3チ)40部、2エチル4メチルイミダゾール
のレゾルシン塩0.5部、シリコーン系離型剤001部
及び溶融シリカ微粉末300部をヘンシ1ルミキーリ゛
−で混練し、次いで二本ロールで80℃で混紡して均一
になし、更に微粉砕し−C成型材料とする3、得られた
成型拐料はトランスファーマシンによp170℃5分の
成形ザイクルでチップの側止を行う。得られたチップ封
止用樹脂成型11料としての性能は第3表の通りである
。
比較例4
実IIq例4と同じノボラックを用い、そのフェノール
性OH基と等モルの苛性ソーダと大過剰のエピクロルヒ
ドリンとを反応させる常法に従ってエポキシ樹脂を得る
。得られたエポキシ樹脂の性能は次のようである。
性OH基と等モルの苛性ソーダと大過剰のエピクロルヒ
ドリンとを反応させる常法に従ってエポキシ樹脂を得る
。得られたエポキシ樹脂の性能は次のようである。
エポキシ基/1分子当り:5.2
アリル基/ :0.0
フェノール性O1l基/#:0.05
全クロル%: :1500ppm
C7(7′: 2 ppm
Na” : 2 ppm
軟化点 二65℃
比較例5
比較例4で得られたエポキシ+ffJ脂を用いる以外は
すべて実施例2と全く同様にして微粉末状の成型材料を
得る。得られた成型拐料は実施例5と同様に操作してチ
ップを樹脂封止する。チップ制止用成形利料としての性
能は第3表のiflりである。
すべて実施例2と全く同様にして微粉末状の成型材料を
得る。得られた成型拐料は実施例5と同様に操作してチ
ップを樹脂封止する。チップ制止用成形利料としての性
能は第3表のiflりである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)多核多価フェノール類のポリグリシシールエーテ
ルタイプのエポキシ樹脂、架橋剤、硬化促進剤、充填羽
及び各種の添加剤よシなシ、少くとも半導体素子(以下
「チップ」と云う)の表面の一部に直接に接触し、被覆
・接合する状態で用いられる液状乃至固形の樹脂組成物
であって、該エポキシ樹脂は未反応のフェノール性OH
基を予めマスキング剤によってマスクすることによシ減
少させたポリアリルエーテル化多核多価フェノールM(
7)有機過酸酸化によシ得られる本質的にノ・ロゲン基
を含まない多官能のものであることを特徴とするエポキ
シ樹脂組成物 (2)エポキシ樹脂は液状のもの、架橋剤はジシアンジ
アミド、硬化促進剤は第3級アミンの塩、充填剤は銀粉
、添加剤は高沸点、低粘度の反応性希釈剤であり、液状
の導電性のチップマウントに用いられる特許請求の範囲
第(1)項記載の組成物(3)エポキシ樹脂は液状のも
の、架橋剤はジシアンジアミド、硬化促進剤は第3級ア
ミンの塩、充填材はシリカ微粉末を一成分とする無機系
のもの、添加剤は低粘度、高沸点の反応性希釈剤でアシ
、液状の非導電性のチップマウントに用いられる特許請
求の範囲第(1)項記載の組成物 (4)エポキシ樹脂は固形のもの、架橋剤はノボラック
、硬化促進剤は第3級アミンの塩、充填剤はシリカ微粉
末を一成分とする無機系のものであシ、固形のトランス
ファー成型用チップ封止拐料として用いられる特許請求
の範囲第(1)項記載の組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21244183A JPS60106824A (ja) | 1983-11-14 | 1983-11-14 | エポキシ樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21244183A JPS60106824A (ja) | 1983-11-14 | 1983-11-14 | エポキシ樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60106824A true JPS60106824A (ja) | 1985-06-12 |
Family
ID=16622656
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21244183A Pending JPS60106824A (ja) | 1983-11-14 | 1983-11-14 | エポキシ樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60106824A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02173057A (ja) * | 1988-12-27 | 1990-07-04 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 半導体封止用樹脂組成物 |
| US5041507A (en) * | 1985-11-26 | 1991-08-20 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Thermosetting resin composition composed of a polymaleimide compound, a phenolic novolac resin and an epoxy resin |
| WO2008028827A3 (de) * | 2006-09-07 | 2008-04-24 | Siemens Ag | Basismaterial für fotostrukturierbare resists und dielektrika |
-
1983
- 1983-11-14 JP JP21244183A patent/JPS60106824A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5041507A (en) * | 1985-11-26 | 1991-08-20 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Thermosetting resin composition composed of a polymaleimide compound, a phenolic novolac resin and an epoxy resin |
| US5300592A (en) * | 1985-11-26 | 1994-04-05 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Thermosetting resin composition and a composite material comprising cured product and said resin composition and its matrix |
| JPH02173057A (ja) * | 1988-12-27 | 1990-07-04 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 半導体封止用樹脂組成物 |
| WO2008028827A3 (de) * | 2006-09-07 | 2008-04-24 | Siemens Ag | Basismaterial für fotostrukturierbare resists und dielektrika |
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