JPS60111322A - 金属薄膜型磁気記録媒体 - Google Patents
金属薄膜型磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS60111322A JPS60111322A JP58218931A JP21893183A JPS60111322A JP S60111322 A JPS60111322 A JP S60111322A JP 58218931 A JP58218931 A JP 58218931A JP 21893183 A JP21893183 A JP 21893183A JP S60111322 A JPS60111322 A JP S60111322A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic recording
- thin film
- metal thin
- recording media
- film magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高密度磁気記録再生に利用される金属薄膜型磁
気記録媒体に関する。
気記録媒体に関する。
従来例の構成とその問題点
ビデオ記録、コンピュータデータ記録などに用いる磁気
記録媒体においては記録容量の大容爪化、機器の小型化
を達成するため記録密度の向上が強く望まれていること
は良く知られている。
記録媒体においては記録容量の大容爪化、機器の小型化
を達成するため記録密度の向上が強く望まれていること
は良く知られている。
そのため各方面で磁気記録媒体の改良が続けられている
が、磁気記録再生は媒体と磁気ヘッドの相互作用に基本
があり、原理的に高密度記録に適した媒体であるのは勿
論であるが、実用信頼性の確保できるものでなければな
らない。
が、磁気記録再生は媒体と磁気ヘッドの相互作用に基本
があり、原理的に高密度記録に適した媒体であるのは勿
論であるが、実用信頼性の確保できるものでなければな
らない。
」−記事情に鑑み、現在提案されているＣ、ｏ −Ｎｉ
−０系の面内磁化膜、Ｇｏ−Ｏｒ糸の垂直磁化膜に代表
される強磁性金属薄膜を磁気記録層とする金属薄膜型磁
気記録媒体は、最短記録波長が０．５μｍにまで短波長
化可能であることが確かめられ、有望視されているもの
の、くり返し使用時、強磁性金属薄膜に亀裂が入り、信
号対雑音化（以下Ｓ ／ Ｎで示す）が増加する欠点が
あり、磁気記録層表面に滑剤を塗布し、滑性を付与する
ことで、応力分散によシ、亀裂の発生を抑える試みがあ
るが不十分であるし、強磁性金属薄膜と高分子基板との
間の付着強度が重要な因子となっているとの考え方に基
ずく高分子基板の前処理等も検削されているもののこれ
も不十分であり、例えば、回転−＼リカルヌキャンの磁
気ヘッドによる記録再生では、テープ走行系を工夫し、
テープに与える張力の大きさ、変動を小さくしても、１
００回以上Ｓ ／ Ｎを手ｊＦ持できる構成のものＵ見
出せないのが実状である。
−０系の面内磁化膜、Ｇｏ−Ｏｒ糸の垂直磁化膜に代表
される強磁性金属薄膜を磁気記録層とする金属薄膜型磁
気記録媒体は、最短記録波長が０．５μｍにまで短波長
化可能であることが確かめられ、有望視されているもの
の、くり返し使用時、強磁性金属薄膜に亀裂が入り、信
号対雑音化（以下Ｓ ／ Ｎで示す）が増加する欠点が
あり、磁気記録層表面に滑剤を塗布し、滑性を付与する
ことで、応力分散によシ、亀裂の発生を抑える試みがあ
るが不十分であるし、強磁性金属薄膜と高分子基板との
間の付着強度が重要な因子となっているとの考え方に基
ずく高分子基板の前処理等も検削されているもののこれ
も不十分であり、例えば、回転−＼リカルヌキャンの磁
気ヘッドによる記録再生では、テープ走行系を工夫し、
テープに与える張力の大きさ、変動を小さくしても、１
００回以上Ｓ ／ Ｎを手ｊＦ持できる構成のものＵ見
出せないのが実状である。
発明の目的
本発明は強磁性金属薄膜を磁気記録層とし、くシ返し使
用でＳ ／ Ｎの安定な金属薄膜型磁気記録媒体を提供
することを目的とする。
用でＳ ／ Ｎの安定な金属薄膜型磁気記録媒体を提供
することを目的とする。
発明の構成
本発明の金属薄膜型磁気記録媒体は高分子基板の厚み方
向に列する圧縮弾性率が４．０ＯＫ９／−以上であるこ
とを特徴とするもので、くシ返し記録再生を行っても亀
裂は発生しないか発生しても殆んどＳ ／ Ｈの低下な
しに使用できる媒体が得られるものである。
向に列する圧縮弾性率が４．０ＯＫ９／−以上であるこ
とを特徴とするもので、くシ返し記録再生を行っても亀
裂は発生しないか発生しても殆んどＳ ／ Ｈの低下な
しに使用できる媒体が得られるものである。
実施例の説明
以下本発明について図面を参照しながら説明する。第１
図は本発明の金属薄膜型磁気記録媒体の拡大断面図で、
第１図に於て１は強磁性金属薄膜からなる磁気記録層で
、２は高分子基板で、３は滑剤塗布層である。ここで強
磁性金属簿膜１としては、Ｇｏ 、 Ｆｅ 、 Ｎｉ
、 Ｇｏ −Ｆｅ 、 Ｇｏ −Ｎｉ 、 Ｇｏ −Ｂ
。
図は本発明の金属薄膜型磁気記録媒体の拡大断面図で、
第１図に於て１は強磁性金属薄膜からなる磁気記録層で
、２は高分子基板で、３は滑剤塗布層である。ここで強
磁性金属簿膜１としては、Ｇｏ 、 Ｆｅ 、 Ｎｉ
、 Ｇｏ −Ｆｅ 、 Ｇｏ −Ｎｉ 、 Ｇｏ −Ｂ
。
Ｃｏ −Ｃｕ 、 Ｇｏ−Ｇｅ 、 Ｃｏ −Ｍｎ 、
ＧＯ−’ Ｍｇ 、 Ｇｏ −Ｍｏ 。
ＧＯ−’ Ｍｇ 、 Ｇｏ −Ｍｏ 。
Ｇｏ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｒｕ、Ｇｏ−Ｒｈ、Ｃｏ−８ｉ、Ｇ
ｏ−８ｍ。
ｏ−８ｍ。
Ｇｏ−Ｇ４．Ｃｏ−Ｔａ、Ｇｏ−Ｖ、Ｇｏ−Ｗ、Ｇｏ−
Ｙ。
Ｙ。
００− Ｚｎ 、 Ｇｏ −Ｏｒ 、 Ｇｏ −Ｔｉ、
、 Ｇｏ −Ｃｅ 、 Ｇｏ −Ｎｉ−Ｏｒ 、 Ｇ
ｏ−Ｎｉ −Ｍｇ 等及びそれらの部分酸化膜、部分窒
化膜などが挙けられる。
、 Ｇｏ −Ｃｅ 、 Ｇｏ −Ｎｉ−Ｏｒ 、 Ｇ
ｏ−Ｎｉ −Ｍｇ 等及びそれらの部分酸化膜、部分窒
化膜などが挙けられる。
前記薄膜の製法としては、無″醒解メッキ、イオンビー
ムデポジション、イオンプレーティンク。
ムデポジション、イオンプレーティンク。
スパンクリング、電子ビーム蒸着等公知の薄膜化技術か
ら適宜選択できる。
ら適宜選択できる。
高分子基板２としては、ポリエチレンテレフタシーｌ−
等のボリエヌテ／Ｉ／類、ポリプロピレン等のポリオレ
フィン類、セルロースジアセテート、二１゛ロセルロー
ス等のセルローヌ銹導体、ポリヵーボネー１−、ポリ塩
化ビニル、ポリアミド、ポリイミド等が挙げられ、下塗
り層を有する場合は、それを含めて高分子基板２とみな
して考えるものとする。滑剤塗布層３は、脂肪酸、金属
石けん、脂肪酸アミ゛ド、鉱油、動植物油、高級アルコ
ール。
等のボリエヌテ／Ｉ／類、ポリプロピレン等のポリオレ
フィン類、セルロースジアセテート、二１゛ロセルロー
ス等のセルローヌ銹導体、ポリヵーボネー１−、ポリ塩
化ビニル、ポリアミド、ポリイミド等が挙げられ、下塗
り層を有する場合は、それを含めて高分子基板２とみな
して考えるものとする。滑剤塗布層３は、脂肪酸、金属
石けん、脂肪酸アミ゛ド、鉱油、動植物油、高級アルコ
ール。
シリコーンオイル、フルオロカーボン１Ｋ４ｆｘトヲ溶
剤に溶かして塗布乾燥して得るが、乾式法にて得たもの
である。
剤に溶かして塗布乾燥して得るが、乾式法にて得たもの
である。
本発明の要旨とするところは、前記基板の構成要件が従
来全く着目されなかった基板の厚み方向の機械特性にイ
間限を加えるもので、具体的には、厚み方向の圧縮弾性
率を４００ Ｋｇ ／ ２以」二にすることで後述する
ように、走行系での異常な応力集中でも亀裂が発生しな
いが、例え発生してもｓ／Ｎが低下する程の永久変形に
ならないものである。
来全く着目されなかった基板の厚み方向の機械特性にイ
間限を加えるもので、具体的には、厚み方向の圧縮弾性
率を４００ Ｋｇ ／ ２以」二にすることで後述する
ように、走行系での異常な応力集中でも亀裂が発生しな
いが、例え発生してもｓ／Ｎが低下する程の永久変形に
ならないものである。
臨界値が４００ Ｋｇ 、／、７にあることについては
、必ずしも明確でけ々いが、前提となるのは、短波長記
録のために、磁気記録層表面は、平均粗さで０．０５μ
ｍ以下で好んで使われるため、 テープの走行系に特別
の配慮がされ、シリンダ、ポスト。
、必ずしも明確でけ々いが、前提となるのは、短波長記
録のために、磁気記録層表面は、平均粗さで０．０５μ
ｍ以下で好んで使われるため、 テープの走行系に特別
の配慮がされ、シリンダ、ポスト。
ピンチローラ、ガイドピン等の表面仕上げも１８以下で
用いられることがら、これらの組み合わせで総合的に決
るもので、定常走行時のテープ張力は高々４０ノ（テー
プ幅８ｍに列して）までの範囲で使用することと基板厚
みは２ｏμｍ以下で使われることが前提である。
用いられることがら、これらの組み合わせで総合的に決
るもので、定常走行時のテープ張力は高々４０ノ（テー
プ幅８ｍに列して）までの範囲で使用することと基板厚
みは２ｏμｍ以下で使われることが前提である。
尚数多くの実験結果が示しているのは、４００に９ｉ−
から３００Ｋｇ／、ｊの範囲では、強磁性金属薄膜の条
件によってＳ ／ Ｎの劣化するものとしないものとが
現れる港移領域となるので、４００Ｋｇ ７’、、４以
下を使用するのが好ましい。
から３００Ｋｇ／、ｊの範囲では、強磁性金属薄膜の条
件によってＳ ／ Ｎの劣化するものとしないものとが
現れる港移領域となるので、４００Ｋｇ ７’、、４以
下を使用するのが好ましい。
尚基板の条件で厚み方向に４００ Ｋｇ ／ １以上の
圧縮弾性率を有するものを選択するには、拐質を選ぶか
、同一材質でも製膜時の特に熱管理条件を選ぶことで実
施できるものである。
圧縮弾性率を有するものを選択するには、拐質を選ぶか
、同一材質でも製膜時の特に熱管理条件を選ぶことで実
施できるものである。
〔実施例−１〕
厚み１５μｍのポリエーテルケトンスルフォンフィルム
を厚み方向の圧縮弾性率を３水準選んで、その基板上に
Ｇｏ−Ｎｉ（Ｎｉ２０重量％）ｏ、１２人ｍをＩ Ｘ
１０”” Ｔｏｒｒの酸素雰囲気で０．２μｍ ／ ｍ
ｉｎの速度で最小入射角４３度で蒸着した。
を厚み方向の圧縮弾性率を３水準選んで、その基板上に
Ｇｏ−Ｎｉ（Ｎｉ２０重量％）ｏ、１２人ｍをＩ Ｘ
１０”” Ｔｏｒｒの酸素雰囲気で０．２μｍ ／ ｍ
ｉｎの速度で最小入射角４３度で蒸着した。
この上にミリスチン酸を１８０ ｐｐｍ溶解したメチル
エチルケトン 布し、ｓ ｍｂ幅の磁気テープを得だ。
エチルケトン 布し、ｓ ｍｂ幅の磁気テープを得だ。
このテープをギャップ長ｏ，２５μｍのアモルフ１ヌヘ
ッドを塔さいした直径４０ｍ．の回転シリン夕に沿わせ
て移動する走行系をもった試験用のビデオテープレコー
ダにかけて（張力２５）とした）くり返し使用してＳ／
Ｎの変化を調べた。Ｓ ／ Ｎは記録波畏０．６６μｍ
の値で第１回目の記録再生時の値をｏ［ｄＢ：］ とし
た。その結果を表１に示した。
ッドを塔さいした直径４０ｍ．の回転シリン夕に沿わせ
て移動する走行系をもった試験用のビデオテープレコー
ダにかけて（張力２５）とした）くり返し使用してＳ／
Ｎの変化を調べた。Ｓ ／ Ｎは記録波畏０．６６μｍ
の値で第１回目の記録再生時の値をｏ［ｄＢ：］ とし
た。その結果を表１に示した。
以 下 余 白
〔実施例−２〕
厚み９μｍのポリアミドイミドフィルムを基板とし、厚
み方向の圧縮弾性率の異なるものに、８０％Ｎ１のＮ’
ｉ −Ｆｅ合金を０．３μｍ、２０％ｃｒのＣ０−Ｃｒ
合金を０．１μｍをＡｒ分圧１×１０″′２Ｔｏｒｒ中
で１３．５６ Ｍｌｌｚのグロー放電を利用したヌパッ
タリング法によ、！ｌｌｌ積層し、実施例−１と同様に
垂直記録用の８肌幅のテープを作成し、ギャップ長０・
３μｍのフェライトヘッドによりＳ／／Ｎ の変化を調
べた結果を表２に示す。
み方向の圧縮弾性率の異なるものに、８０％Ｎ１のＮ’
ｉ −Ｆｅ合金を０．３μｍ、２０％ｃｒのＣ０−Ｃｒ
合金を０．１μｍをＡｒ分圧１×１０″′２Ｔｏｒｒ中
で１３．５６ Ｍｌｌｚのグロー放電を利用したヌパッ
タリング法によ、！ｌｌｌ積層し、実施例−１と同様に
垂直記録用の８肌幅のテープを作成し、ギャップ長０・
３μｍのフェライトヘッドによりＳ／／Ｎ の変化を調
べた結果を表２に示す。
以 下 余 白
両実施例に共通して言えることは基板によらず厚み方向
の圧縮弾性率が４００Ｋｑ、’／−以上であれば環境に
よることなく、多数のくシ返し使用後もＳ／Ｎは殆んど
変化しない点で、これは第２図に亀裂の入るメカニズム
を模式的に示したように、例えはボスト４の異常突起６
（又はかみ込んだ、硬いゴミ、磁性粉などの場合も同様
である。）に起因した変形が基板の厚み方向に（矢印Ａ
で示したように）伝播し、強磁性金属薄膜を破かいし、
亀裂６を生じることが殆んどないか、あっても変形ｍが
小さくＳ／Ｈに影響しないのである。この亀裂に特徴的
なのは、放射状の亀裂、又は放射状と同心状に近い亀裂
の混在で、この種の亀裂が著しくノイズを銹発するため
に、これを防ぐ本発明の構成はくり返し使用下にＳ／Ｎ
を安定化した磁気記録媒体を得る上で極めて有効である
。
の圧縮弾性率が４００Ｋｑ、’／−以上であれば環境に
よることなく、多数のくシ返し使用後もＳ／Ｎは殆んど
変化しない点で、これは第２図に亀裂の入るメカニズム
を模式的に示したように、例えはボスト４の異常突起６
（又はかみ込んだ、硬いゴミ、磁性粉などの場合も同様
である。）に起因した変形が基板の厚み方向に（矢印Ａ
で示したように）伝播し、強磁性金属薄膜を破かいし、
亀裂６を生じることが殆んどないか、あっても変形ｍが
小さくＳ／Ｈに影響しないのである。この亀裂に特徴的
なのは、放射状の亀裂、又は放射状と同心状に近い亀裂
の混在で、この種の亀裂が著しくノイズを銹発するため
に、これを防ぐ本発明の構成はくり返し使用下にＳ／Ｎ
を安定化した磁気記録媒体を得る上で極めて有効である
。
発明の効果
本発明は、高分子基板の厚み方向の圧縮弾性率が４００
Ｋｑ／−以上の基板上に強磁性金属薄膜を配することで
、テープレコーダでくシ返し使用した時に亀裂が発生し
てＳ／Ｎを低下させることを実用レベルで防止できるも
ので、短波長記録用の媒体として実用価値は大き−い。
Ｋｑ／−以上の基板上に強磁性金属薄膜を配することで
、テープレコーダでくシ返し使用した時に亀裂が発生し
てＳ／Ｎを低下させることを実用レベルで防止できるも
ので、短波長記録用の媒体として実用価値は大き−い。
第１図は本発明の金属薄膜型磁気記録媒体の拡大断面図
、第２図は本発明の磁気記録媒体の作用効果を説明する
だめの図である。 １・・・・・強磁性金属薄膜、２・・・・・高分子基板
、６・・・・・・亀裂部。
、第２図は本発明の磁気記録媒体の作用効果を説明する
だめの図である。 １・・・・・強磁性金属薄膜、２・・・・・高分子基板
、６・・・・・・亀裂部。
Claims (1)
- 高分子基板」−に強磁性金属薄膜からなる磁気記録層を
配して成る磁気記録媒体に於て、前記高分子基板の厚み
方向に対する圧縮弾性率が４００Ｋｙ／−以上であるこ
とを特徴とする金属薄膜型磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58218931A JPS60111322A (ja) | 1983-11-21 | 1983-11-21 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58218931A JPS60111322A (ja) | 1983-11-21 | 1983-11-21 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60111322A true JPS60111322A (ja) | 1985-06-17 |
| JPH0475573B2 JPH0475573B2 (ja) | 1992-12-01 |
Family
ID=16727562
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58218931A Granted JPS60111322A (ja) | 1983-11-21 | 1983-11-21 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60111322A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5863615A (en) * | 1995-10-31 | 1999-01-26 | Yazaki Corporation | Plating jig and plating method using the plating jig |
| US6310284B1 (en) | 1996-05-07 | 2001-10-30 | Yazaki Corporation | Shield-plated corrugated tube |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5610455A (en) * | 1979-07-09 | 1981-02-02 | Toray Industries | Polyester film |
| JPS5868225A (ja) * | 1981-10-13 | 1983-04-23 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体 |
| JPS58168655A (ja) * | 1982-03-30 | 1983-10-05 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体 |
-
1983
- 1983-11-21 JP JP58218931A patent/JPS60111322A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5610455A (en) * | 1979-07-09 | 1981-02-02 | Toray Industries | Polyester film |
| JPS5868225A (ja) * | 1981-10-13 | 1983-04-23 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体 |
| JPS58168655A (ja) * | 1982-03-30 | 1983-10-05 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5863615A (en) * | 1995-10-31 | 1999-01-26 | Yazaki Corporation | Plating jig and plating method using the plating jig |
| US6310284B1 (en) | 1996-05-07 | 2001-10-30 | Yazaki Corporation | Shield-plated corrugated tube |
| US6689281B2 (en) | 1996-05-07 | 2004-02-10 | Yazaki Corporation | Shield-plated corrugated tube |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0475573B2 (ja) | 1992-12-01 |
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