JPS60120896A - 14−置換カルバモイル−14−デ(ヒドロキシメチル)−マイカミノシルタイロノライド誘導体およびその製法 - Google Patents

14−置換カルバモイル−14−デ(ヒドロキシメチル)−マイカミノシルタイロノライド誘導体およびその製法

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JPS60120896A
JPS60120896A JP58228256A JP22825683A JPS60120896A JP S60120896 A JPS60120896 A JP S60120896A JP 58228256 A JP58228256 A JP 58228256A JP 22825683 A JP22825683 A JP 22825683A JP S60120896 A JPS60120896 A JP S60120896A
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達郎 藤原
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秀之 渡辺
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    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
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    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、新規な14−1凌挨カルバモイル−14−f
’(ヒドロキシメチル)−マイヵミノシルタイロノライ
ド誘導体およびその製法に蘭する。さらに詳しくは、本
発明は、式 (式中、Rけ水素原子または水酸基、RI は置換基を
有してbてもよい炭化水素残基、複累壌式:i1:lた
け複素環式基−低級アルキル基、R2け水素原子または
低級アルキル基を示【2、またR8およびR2ri隣接
する窒素原子と共に複′#墳を形成してもよ−)で表わ
される化合物またはその塩である。
また本発明は、式 (式中、R3は水素原子または−OR,基、R4は水酸
基の保護基、R5およびR6は各々低級アルキル基を示
すか、または−緒にて低級アルキレン基を示す)で表わ
される化合物を式 (式中、R1およびR2は前記と同じ意味を有する)で
表わされろアミンでアミド化【1、次いで水H%9丼の
保憧基の脱離化および脱アセタール化することを%徴と
する式[1〕で表わされる化合物またはその塩の製造法
も伝言される。
上記の塙としては医薬上許容できる省である。
このような適当な塩と1.では、塩酸、硫酸、リン酸な
どの無機酸との塩、酢け、プロピオン酸、噛石嘴、クエ
ン酸、コハク酸、リンゴ酸、アスパラギン酸、グルタミ
ン酸などの有pIkr浚との塩が包含される。その池の
非拗性頃も包含される。
上記の新規化合物〔l〕蝶、ダラム陽性菌に対(−て既
知のタイロシンよりも強い抗菌活性を有し、経口用剤と
してのみならず、注射剤と(2ても臨床上優れた治り効
果の期待される抗菌剤として非常に有用である。また#
*中感染治療剤、悪果予防あるいは生育促進のための飼
料添加剤としても有用である。
本発明[係る化合物の命名に鳴っては、式で表わこれる
化合物、即ちRが水酸基である場合には、O−マイカミ
ノシルタイ日ノライド(〇−mycarninosyl
tylonol ide[Tetrahedron L
etter8゜4737〜4740 (1970) ]
、Rが水素原子である場合には、4′−デオキシ−〇−
マイカミノジルクイロバイドCJ、AntibM%mm
、34 (10) 、l 374−1376 (198
1):]に基いて行う。
本発明で使用される出発物質(6)ld、式(式中、R
3、RいR6およびR6は前記と同じ意味を有する)で
表わされる化合物の一〇HOを−000)1に酸化する
ことによO得られる。
前記中間体〔5〕は、化合物〔2〕をその2位および4
′位の水酸基または7位の水酸基を適当な保#基で保靜
し、そのアルデヒド?iアセタール化により4tM護【
7た式 (式中、fL3、R,、R,およびR6は前記と同じ意
味を有する)で表わされる化合物の−CH、OHを−C
I(OKβ変化することにより得られる。
上記方法において、先にそのアルデヒド基金アセタール
化VCより保霞し、次−八でその水IfI/に基の保1
隻共を保〜して4よい。
上mlの水、12幕の保護基と1−ては、アセチル、プ
ロピオニル、ブチリルなどの低級アルカノイル基、クロ
ロアセチル、ジク目ロアセチル、トリクロロアセチル、
トリフルオロアセチルなどの/Sロゲン化アセチル基な
どが挙けられるが、時にアセチル基が好ま1−い。上記
アセチル病の導入は、上記化合物〔2〕に不活性有機溶
媒、例えばジクロロメタン、クロロホルム、アセトンな
どの有機溶媒中無水酢酸を反応させることにより行われ
る。反応は室温で光分に進行する。反応経過はシリカゲ
ルなどの薄層クロマトグラフィー(TLC) 、11%
速液体クロマトグラフィー(t(PLO)などにより追
跡でをるので、前記化合物〔2〕の消失を侍って、適宜
反応を終了すればよめ。反応液から得られた式 (式中、R8およびR4け前記と同じ意味を有する)で
表わされる化合*Jを採取するには、反応液ニ水ヲ加工
、pi(8〜9.5のアルカリ性下、非親水性有機溶媒
、例えばクロロホルム、ジクロロエタン、メチルイソブ
チルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどで抽出するこ
とにより行われる。さらに精!J8!を必要とする場合
には、シリカゲル、活性アルミナ、吸着樹脂がどの吸着
剤を用いて、適当な溶媒、例えばベンゼン−アセトン系
直好、クロロホルム−メタノール系溶媒などでM出する
カラムクロマトグラフィーにより梢佼することかで^る
。上記化合物〔3〕の製造の一例と1−では、#間昭5
7−5000号公報、特開昭58−140(1−96号
公報、t#願昭57−78895号明細書、%軸昭57
−78897号明細臀などに記載されている。
上記のアセタール化は、化合+m C:(:] k公知
のアセタール化法により行われる。例えばトリフルオロ
酢酸、トリクロロ酢d、p−トルエンスルホン酸などの
酸の存在下、メタノール、エタノールなどの低級アルコ
ール、エチレングリコール、プロピレングリコールなど
の低級グリコールを反応させることにより行われる。得
られたアセタール〔4〕を反応液から分離、精製するに
は、前記の化合物〔3〕を分離、精製する方法と同様に
して行うことかで^る。上記アセタール〔4〕の製造の
一例と1.ては、特開昭57−28100号公報、#願
昭57−78897号明Mal賽などに記載されている
°γアセタール4〕の−CH201−■の−CH0への
酸化反応は、ジクロロメタン、ベンゼン、トルエンの如
き不活性有機溶媒中(CH3)25とN−クロロスクシ
ンイミドとの反応生+>z = rcアセタール〔4〕
全反応させるか、ヘキサメチルホスホルアミドの如き有
機溶媒中(CI■3) 2SOとp−)ルエンスルホニ
ルクロライド、p−)ルエンスルホンCa S 水物゛
またはメタンスルホン酸無水1勿との反応生成物にアセ
タール〔4〕を反応させるか、あるいはアセタール〔4
〕と(C1(3) 2SOと号トリフルオロ酢酸のイf
在FN、N’−ジシクロへキシルカルボジイミド(1)
 CC)を反応させ、1合られたスルホキソニウム塩ヲ
トリエチルアきン、アンモニアのメρきアルカリで処理
することにより行われる。
得られた中間物質〔5〕を反応液から分離、精製するに
は、前記の化合物〔3〕を分離、f#製する方法と同様
にして行うことができる。
中間物ノW〔5〕の−Cf(0を−c o o ti 
vc酸化[、て出発物質〔6〕を得るには、アセトンの
如き不活性肩機溶媒中亜塩素酸アルカリ、例えばNa0
C/2咽化により行われる。上記反応uTLC。
)(PLCなどにより追跡で六るので、中間物’iff
〔5〕の消失を待って適宜反応全終了すればよい。
上記反応液から出発物質〔6〕を得るには、反応液をア
ルカリ水溶液、例えばアンモニア水でpH5〜7に調節
し、非親水性有機溶媒、例えばクロロホルムで抽出し、
溶媒7に留去することにより行われる。
次に、出@物・崎r6〕のカルボキシル基金アミド化す
るのであるが、公知のアミド化法により行われる。特に
好ましいアミド化法としては、混合酸無水物法が挙げら
れる。例えば出発物質〔6〕を不活性有機溶媒中、第3
級有機アミンの仔任)、クロルギ酸エチルの如きクロル
ギ酸エステルを反応させ、次Aで式 %式%(7) (式中、R1およびR2け前記と同じ意味を有する)で
表わされるアミンを反応させればよい。
上記アミン〔7〕としては、公知の一級M機アミンが挙
げられる。例えばアルキルアミン、アルケニルアミン、
シクロアルキルアミン、アリールアミン、アラルキルア
ミンが:4けられる。これら炭化水嵩残基は適当な1a
換基例えば、低級アルコキシ鳩、低級アルコキシカルボ
ニル基なトelaiまたけ2棹以上でlit僕されてh
てもよい。また複素槙式店を有するアミン、複素環式基
−低級アルキルアミンも挙げられる。また上記−級アミ
ンにN−低級アルキル基を有する二級アミンも挙げられ
る。さらに異11i′i原子、例えば室床原子、酸素原
子または健黄原子を環内に有していてもよい3〜8員の
環状アミンも挙げられる。
上記のアミド化反応は室温で充分進行し、TLC,HP
LCなどにより追跡できるので、反応生成物、即ち式 (7J゛中、R+ 、R2、R3、R4、R5およびR
6は前記と同じ意味を有する)で表わされる化合物が最
大に生成されるのを待って適宜反応を終了すればよい。
反応油から化合物〔8〕を分・帷、精硬するには、前記
の化合物〔3〕を分m、s製する方法と同m ic t
、−て行うことができる。
次に化合物〔8〕の水酸基の保護基、特にアセチル−4
2脱離化するのであるが、書水していてもよい低級アル
コール中で加熱処理することにより行われる。低級アル
コールとしてはメタノール、エタノールなどが挙げられ
ろが、特にメタノールが好ましb0上記の反応はTLC
,t(PLOなどにより追跡で肯るので、化合物〔8〕
の消失を待って適宜反応を終了すj、ばよい。
脱アセタール化は・ツ性水で加水分解することにより行
われる。この脱アセタール化は前記の水酸基の保護基の
脱離化する工程の前に行゛つてもよい。
反応液から目的物〔1′3を採瑣するには、アルカリ水
溶液、例えばアンモニア水でpI(9〜IOに調節11
、非麹、水性有機溶媒、例えばクロロホルムで抽出j、
1、溶媒を留去することにより行なわれる。
さらに槍縛を必要とす乙場合には、公知のマクロライド
禾抗生゛吻質を分離、精製する手段、例えばシリカケル
、粘性アルミナ、吸着樹脂などの吸着剤を用いるクロマ
トグラフィーの手段により行すうことができる。
次に、本発明の目的化合物〔l〕の微生物生育最少阻止
磯度(IV I C’)を測定し、た結果は、第1表の
通りである。尚、表中の記号は次のt、味を有する。
A;14−ブチルカルバモイル−14−f(ヒドロキシ
メチル)−〇−マイカミノシルクイロノライド(R1;
ブチル、R,=H,R=Ot(である目的化合物〔l〕
) B;14−ベンジルカルバモイル−14−テ(ヒドロキ
シメチル−〇−マイカきノシルタイロノライド(R1;
ベンジル、R,=)(、R=OHである目的化合物〔l
〕) C:14−(N−メチル−ベンジルカルバモイル)−t
4−デ<ヒドロキシメチル)−〇−マイカミノシルクイ
ロノライド(R3=ベンジル、R2=メチル、R=OH
である目的化合物〔l〕)*:マクロライド耐性A群菌
(エリスロマイシン、オレアンドマイシン、16員壌マ
クロライド糸抗生物質耐件轍者分離株) 次に、参考例および実施例を挙げて本発明の製造例を具
体的に説明する。尚、参考例および実施例中のR/値は
、特記【1.ない限り次の担体および展開溶媒を用する
TLCにより測定し7たものである。
担体;メルク社’M D C−F’ertigplat
ten kieslgel 60F25. 、 Art
 5715展開溶媒; a;ベンゼン−アセトン(a : l)b;ベンゼン−
アセトン(5: l) c;クロロホルム−メタノール−鏝アンモニア水(10
0:10:1) d;クロロホルム−メタノール(3: 1)参考例 l ?、4′−ジーO−アセチルー〇−マイカミノシルクイ
ロノライド ジメチルアセタールz、4′−ジー0−ア
セチル−0−マイカミノシルクイロノライド4.23.
9をメタノール27m1に溶かし、これに水冷下トリフ
ルオロ酢酸B mtを加えた後、室温で2時間撹拌した
。反応液を7チアンモニア水に注ぎ、クロロホルムで抽
出した。クロロホルム層を水洗【5、ワットマンl P
SF紙に通し、た後、減圧乾固して泡状固体の7,4/
−ジー0−アセチル−0−マイカミノシルクイロノライ
ド ジメチルアセタール3.96 gを得た。
T L C: R/a = 0.35、R/b = 0
.15参考例 2 2/ 、 4/−ジーO−アセチルー23−デジヒドロ
−0−マイカミノシルクイロノライド ジメチルアセタ
ール 乾燥ジクロロメタン40m1KN−クロロスクシンイミ
ド1.37.9を溶かし2、これに水冷下ジメチルスル
フィド1.03m1を手早く加えると白色沈澱が生じた
。この反応混合物を一25℃に冷却下、アルゴンガス気
流下z、4′−ジー0−アセチル−0−マイカミノシル
クイロノライド ジメチルアセタール5.0.9の乾燥
ジクロロメタン(lod)溶液flO分間で加え、湿気
を所って一25℃で2時間撹拌した。この反応液にトリ
エチルアミンQ、24m1!を含む塩化メチレン溶液2
 mlを加え、5分間撹拌した。得られた反応液を室温
に戻【2、水50m1を加えた後、分液り、た。ジクロ
ロメタン層をワットマンi p s tp紙に通した後
、減IE[ifした。残簀をシリカゲル(メルク社# 
、 Art 7734 )tooIIのカラムにチャー
ジ踵ベンゼンーア七トン(12: l l)で溶出する
カラムクロマトグラフィーを行った。R/a = 0.
53付近のフラクションを集め、減llE濃縮して表題
の化合1勿2.6gを(8,、3H、l2−CH,) 
% 2.06(s、、 6 H。
0COCH,X 2)、2.35 (s、、 61(、
−N(CH3) 2 )、3.22 (s、、 3 H
、OCH,)、3.29(s、、 3 H。
QCHa ) 、4.39 (d、−I H、H1’)
、4.50(d、d、、 1 t−t、 t(−20>
、4.77(t、、 L H、H−4’)、4.91 
(d、d、、 l H、l(−2’)、5.25 (d
、t、。
1)(、r(−15)、5.82 (d、、 l i(
、l(−13)、6.37(d、、 11(、H−10
)、7.29(d、、 l )I IH−tt)、9.
69 (d、、 l f(、CHO、J = 2.7 
)Mass (CI、イソブタン) ;726 (Ml
(”、#Ii常に小さい)、694 (M)l”−32
)、676.664.662 (694−32)、25
8.216.156、29 参考例 3 2/ 、 4/−ジニO−アセチルー14−カルボキシ
−14−デ<ヒドロキシメチル)−0−マイカミノシル
クイロノライド ジメチルアセタール 2/ 、 、i/−ジー0−アセチル−23−デジヒド
ロ−0−マイカミノシルクイロノライド ジメチルアセ
タール2.6gをアセトン36F11に溶かし、これに
0.3Mスルファミノ酸水溶液17.9m/および0.
2 M亜塩素酸ナトリウム水浴液19.3 mJを加え
、室温で30分間撹拌[、た。反応液を布アンモニア水
でpH5〜6とし2、りaaホルムl 00 mlで2
IC11抽出した。抽出液を無水値酸マグネシウムで乾
燥醍、減圧乾固して表題の化合物2.5gを得た。
TLC;R/a=0 、Rfd = 0.66”+3f
()、2.06、 2.07 (各 1. 3 H、0
COC)(II入2.38 (s、、 6 H、N (
CH3)2 )、3.22 (8−。
3 H、0Cf(3)、3.29(a、、3 t(,0
CH3)、4.40(d、、I H、)I −1’)、
4.51 (br、t、、I H。
H−20)、4.79(t、、l H、H−4’)、4
.93 (d。
−1の、7.27(d、、I H、H−11)Mass
(CI、イソブタン’) ;666 (M)(−Co2
−32)、634 (666−32)、258.2 1
 6.1 56.29 霊施例 1 14−ブチルカルバモイル−t 4−テ<ヒドロキ・ン
メチ・ル)−0−マイカミノシルクイロノライド i、4′−ジー0−アセチル−23−デジヒドロ−0−
マイカミノシルクイロンライド200tn9ft乾燥ジ
クロロメタン2 mlに溶かし、これにトリエチルアミ
ン95 ttlを加えた後、0℃に冷却下、クロルギ醸
エチル49μlを加え、0℃で30分間撹拌した。次い
でこの反応液にブチルアミン0.27m1を加えた後、
室温で1時間撹拌した。反応液にクロロホルム20m/
を加え、希塩酸、水、希アンモニア水の順で洗浄し、た
。クロロホルム層をワットマンIPSF獣に通し、た後
、減圧濃縮した。残渣ヲシリカゲル(メルク社製、 A
rt 9385)5gにチャージ15、ベンゼン−アセ
トン(6:l〜4:l)で溶出されるフラクションを集
め、減圧濃縮した。残渣をメタノール5 mlに浴かし
、55℃で一夜加熱して脱アセチル化した。メタノール
全減圧留去し1、残、杏をアセトニトリル−水−トリフ
ルオロ+6”酸(3a 2 : 0−1v/v) 5 
mlに溶かし、室温+1時間撹拌り、て脱アセタール化
した。反応液を水10m1にあけ、希アンモニア水でp
H9とし、クロロホルム2 Q rnlで2回抽出した
。クロロホルム層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減
圧乾固(、て目的物761112を得た。
Mass (CI 、イソブタン);667 (MH”
)、649.192.174.133 t、、 3 H、−NH(Cf(、) 3CH8)、1
.83(s、、 3 H。
12−CH5)、2.50 (s、 、 6 H、−N
(CH3) 、)、4.25(d、、1 f(、H−1
’)、 5.29 (d、t、、l H。
H−15) 、 5.71 (t、、L H、NH)、
5.95 (d、。
it(、I(−13)、6.32 (d、、l i(、
H−10)、7.30(d、、I H、H−11)、9
.69 (s、、I H。
CHO) 実施例 2 14−ベンジルカルバモイル−14−デ(ヒドロキシメ
チル−〇−マイカミノシルクイロノライド 実施例1におhて、ブチルアミン0.27m1の代りに
ぺ/ジルアミン0.3ml′f−用いて表踊の目的物を
得た。収1t85.6ノダ Mass(CI、イソブタン);701(Ml−1+)
、683.493.475.192.174.133P
MR(CD(J、、100MH2)δ ; 1.80 
(s、。
ρpm 3f(、l2−CH,)、2.51 (s、、 6 k
l 、 −N(CHl)、I)、4.24(d、、 L
 l(、L(−1’) 、4.44(d、、 21(。
−CHlN1(−) 、5.29 (d、t、、 l 
H、H−15)、5.95 (d、、 l H、H−1
3)、6.00 (br、t、、tH。
NH)、6.30 (d、、l H、H−10)、7.
1〜7.4(6H,H−11,フェニルのプロトン) 
、9.68(s、、I H、CHO) 実施例 3 14−(N−メチルーベンジルカルパモ4ル)−14−
デ(ヒドロキシメチル)−0−マイカミノシルクイロノ
ライド 実施例1において、ブチルアミン0.27m1の代りv
CN−メチル−ベンジルアミン0.35 ml k 用
It>て表題の目的物を得た。収着6o、5雫Mass
 (CI !イソブタン) ; 715 (MH+)、
697.507.192.190,1746 )I 、
 −N(C)(3)2’)、2.85.3.01 (各
11..3 H。
−coyC!!J)、4.25 (br、、 d、、 
I H、H−10,4,47,4,59(谷br、s、
、 2 H、−CH2N CHm )、□1 5.5 (m、、 l f(、f(−15) 、5.9
2 (br、、d、。
11(,1(−13)、6.29.6.35 (各br
、d、、 I H#1(−10)、7.0〜7.4 (
6H,H−11、フェニルのプロトン) 、9.70 
(s、、 L H、CHO)実施例 4 14−ジエチルカルバモイル−14−デ(ヒドロキシメ
チル)−0−マイカミノシルクイロノライド 実施例1において、ブチルアミン0.27m1の代りに
ジエチルアミン0.28m1を用いて表題の目的物を得
た。収j#53In9 Mass (CL イソブタン) ;667 (Mf(
+)、649.476.192.190.174.15
6、32 IR(KBr) ; l 640 t:tn −” (
−C0NH−)4.25 (d、、 l H、H−1’
) 、5.47 (d、t、、IH。
H−15)、5.91 (d、、 I H、H−13)
、6.35 (d、、 I H、i(−10)、7.3
3 (d、、 I H、d −11)、9.70(s、
、 L H、CHO) 実施例 5 14−ジメチルカルバモイル−14−デCヒドロキシメ
チル)−0−マイカミノシルクイロノライド 実施例1vCおいて、ブチルアミン0.27m1の代り
にジメチルアミン塩酸塩223Wu?とトリエチルアミ
ン0.38 dをジクロロメタン4 mlに@解した溶
液を用りて表題の目的物を傅た。収j#49〜Mass
 (CI 、インブタy) ; 639 (MH+)、
621.192.190.174、!32(s、、 3
 H、l2−CH,)、2.51 (s、、 6 H。
1(−15)、5.94 (d、、 L H、H−13
)、6.36 (d、、 I H、H−10)、7.3
2(d、、 L H、f(−11)、9.70(s、、
 l H、Cf(0)特許出願人 東洋醸造株式会社 代表者洲田哲男 手続補正書(自発) / 事件の表示 昭和5g年特許願第2.2g25乙号 28 発明の名称 /≠−置換カルバモイルー/ψ−デ(ヒ1−゛ロキシメ
チル) −マイカミノシルクイロノライド誘導体および
その製法 3 補正をする者 事件との関係 特許出願人 t 補正命令の日付 自 発 よ 補正の対象 明細書第12頁第1g行の 「存在F」を 「存在下」と訂正する・ 同第72頁最下行〜第73頁第1行の 「アルカリ」を 「塩基」と訂正する。
同第1q頁第乙行の r Kiesl Jを 「Kiesel Jと訂正する。
同第27頁第6行の 「/2://」を 「/2二/」と訂正する。
同第27頁第72行の 1”−CONH−Jを 「−CON−Jと訂正する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (式中、Rは水素原子または水酸基、R1は1a換基を
    有していてもよい炭化水素残基、り素環式基または嶺素
    壌式基−低級アルキル基、R2は水素原子または低級ア
    ルキル基を示し、またR1およびR2は隣接する窒素原
    子と共に僧素墳を形成してもよい)で表わされる化合物
    またはその塩。 CI(3 (式中、R3は水素原子または−OR,基、R1は水酸
    基の保、4基、R5およびR6は各々低級アルキル基を
    示すか、または−緒にて低級アルキレン基を示す)で六
    わされる化合物を式 (式中、1(1は置換基金有してbてもよ込炭化水素残
    基、嶺素壌式基または複素環式基−低級アルキル基、R
    2は水素原子または低級アルキル基を示し、lたR6お
    よびR2は隣接する窒素原子と共に複素、*f影形成て
    もよh)で表わされるアミンでアミド化し、次すで水酸
    基の保禮基の脱離化および脱アセタール化することを特
    徴とする式(式中、Rけ水麦轍子または水酸基を示し、
    R。 およびR2け前記と同じ意味を有する)で表わされる化
    合物またはその塩の製造法。 3)、水酸基の保#基が低級アルカノイルJ&またId
    ハロゲン化アセチル基である特許請求の範囲第2項1r
    !載の製造法。 4)、低級アルカノイル基がアセチル基である特許請求
    の範囲第3項記載の製造法。 5)、アミド化を混合酸無水物法により行う特許請求の
    範囲第2項記載のal造法。 6)、水酸基の保護基の脱離化を含水していてもよ込低
    級アルコール中で加熱処理1.て行う特許請求の範囲第
    2項記載の製造法。 7)、脱アセタール化を酸性水で加水分解することによ
    り行う特許請求の範囲第2項記載の製造法。
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