JPS601227A - シロキサン変性ポリアミツク酸の製造方法 - Google Patents
シロキサン変性ポリアミツク酸の製造方法Info
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Landscapes
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はシロキサン変性ポリアミック酸の製造方法に関
する。
する。
一般にポリアミック酸をイミド化することによちて得ら
れるポリイミドは優れた耐熱性を有しているため高温下
で使用するフィルム、電線被覆。
れるポリイミドは優れた耐熱性を有しているため高温下
で使用するフィルム、電線被覆。
接着剤、塗料等の原料として非常に有用である。
従来のポリイミドとしては無水ピロメリット酸等の芳香
族テトラカルボン酸2無水物と芳香族ジアミンとを、極
性溶媒中で反応させて芳香族ポリアミック酸を得2次に
これの溶液を基材に塗布し。
族テトラカルボン酸2無水物と芳香族ジアミンとを、極
性溶媒中で反応させて芳香族ポリアミック酸を得2次に
これの溶液を基材に塗布し。
フィルム状にした後、加熱等の方法によシ脱水閉環して
得られるフィルム状芳香族ポリイミドが知られている。
得られるフィルム状芳香族ポリイミドが知られている。
しかし、従来の芳香族ポリイミドは。
半の前駆体である芳香族ポリアミック酸の安定性が悪く
、室温で放置すると、ポリアミック酸溶液の粘度が低下
し、さらに長期間放置すると一部が脱水閉環してポリイ
ミドとな9.不溶化して白濁を生じるなどの欠点を有し
ている。このため、従来の芳香族ポリアミック酸の溶液
は低温で保存する必要があり、その取扱いには注意を要
するという欠点があった。
、室温で放置すると、ポリアミック酸溶液の粘度が低下
し、さらに長期間放置すると一部が脱水閉環してポリイ
ミドとな9.不溶化して白濁を生じるなどの欠点を有し
ている。このため、従来の芳香族ポリアミック酸の溶液
は低温で保存する必要があり、その取扱いには注意を要
するという欠点があった。
また従来のポリイミドは吸水率が、高いことが知られて
いる。そのため電子材料用部品に使用する場合に電気特
性が低下したり2寸法安定性に欠けるという問題点を有
していた。
いる。そのため電子材料用部品に使用する場合に電気特
性が低下したり2寸法安定性に欠けるという問題点を有
していた。
本発明者らはこれらの欠点を解決すべく鋭意検討した結
果、特定のジアミノシロキサンをジアミンの1成分とし
て2.3.5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸また
はその無水物と反応させることにより得られるポリアミ
ック酸の溶液が室温での保存安定性に優れており、しか
も該ポリアミック酸を脱水閉環して得られるポリイミド
は耐熱性。
果、特定のジアミノシロキサンをジアミンの1成分とし
て2.3.5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸また
はその無水物と反応させることにより得られるポリアミ
ック酸の溶液が室温での保存安定性に優れており、しか
も該ポリアミック酸を脱水閉環して得られるポリイミド
は耐熱性。
機械的特性、電気特性、耐薬品特性等に優れ、さらに吸
水率が低いことを見出し本発明に到達した。
水率が低いことを見出し本発明に到達した。
すなわち本発明は、下記一般式で示されるジアミノシロ
キサン1〜40重量係および該ジアミノシロキサン以外
のジアミン99〜60重量係とからなるジアミン混合物
と2.3.5− )リカルボキシシクロペンチル酢酸ま
たはその無水物とを有機溶媒中で反応させることを特徴
とするシロキサン変性ポリアミック酸の製造方法を提供
するものである。
キサン1〜40重量係および該ジアミノシロキサン以外
のジアミン99〜60重量係とからなるジアミン混合物
と2.3.5− )リカルボキシシクロペンチル酢酸ま
たはその無水物とを有機溶媒中で反応させることを特徴
とするシロキサン変性ポリアミック酸の製造方法を提供
するものである。
t2R2
■
2R2
(R11は2価の炭化水素基、 R12は1価の炭化水
素基であり、nは0〜100の整数を示す)本発明に使
用される2 3.5− ) IJカルボキシシクロペン
チル酢酸(以下TCAと称する)は2例エバジシクロペ
ンタジェンをオゾン分解し、過酸化水素で酸化する方法
(英国特許第87235号。
素基であり、nは0〜100の整数を示す)本発明に使
用される2 3.5− ) IJカルボキシシクロペン
チル酢酸(以下TCAと称する)は2例エバジシクロペ
ンタジェンをオゾン分解し、過酸化水素で酸化する方法
(英国特許第87235号。
J、Org、Chern、、28.2537(1963
))。
))。
またけジシクロペンタジェンを水和して得られるヒドロ
キシジシクロペンタジェンを硝酸酸化する方法(西独特
許第1078120号)などによって製造することがで
き、このTCAを脱水することにより2,3,5.−)
リカルボキシシクロペンチル酢酸無水物(以下TCA−
AHと称する)を製造することができる。
キシジシクロペンタジェンを硝酸酸化する方法(西独特
許第1078120号)などによって製造することがで
き、このTCAを脱水することにより2,3,5.−)
リカルボキシシクロペンチル酢酸無水物(以下TCA−
AHと称する)を製造することができる。
本発明で使用するジアミノシロキサンにおけるR1は二
価の炭化水素基であり脂肪族、脂環族、芳香族の中から
選ばれたものであシ2例えばトリノチレン基、テトラメ
チレン基、ペンタメチレン基。
価の炭化水素基であり脂肪族、脂環族、芳香族の中から
選ばれたものであシ2例えばトリノチレン基、テトラメ
チレン基、ペンタメチレン基。
シクロヘキシレン基、フェニレン基環カ挙ケラレる。ま
たR2は1価の炭化水素基であり脂肪族。
たR2は1価の炭化水素基であり脂肪族。
脂環族、芳香族の中から選ばれたものであシ22例エバ
メチル、エチル基、フェニル基、シクロヘキシル基等を
例示することができる。またnはO〜100であり、n
が100を越えると機械的強度が低下するので好ましく
ない。ジアミノシロキサンの具体例としては。
メチル、エチル基、フェニル基、シクロヘキシル基等を
例示することができる。またnはO〜100であり、n
が100を越えると機械的強度が低下するので好ましく
ない。ジアミノシロキサンの具体例としては。
H3CH3
H2N+CHzt’3Si−0−Si +C’H2−)
3NH□■ H3CH3 CH3C113 H2N−f C1−12+、−8 i −0−S i
−f C1−12九N1−I21 CH2Cl(3 H3CH3 CH3CH3 等を挙げることができる。
3NH□■ H3CH3 CH3C113 H2N−f C1−12+、−8 i −0−S i
−f C1−12九N1−I21 CH2Cl(3 H3CH3 CH3CH3 等を挙げることができる。
該ジアミノシロキサン以外のジアミンは、一般式: l
−12N−R−N1−I2で示される化合物(Rは2価
の芳香族基、脂肪族基または脂環族基を示す)である。
−12N−R−N1−I2で示される化合物(Rは2価
の芳香族基、脂肪族基または脂環族基を示す)である。
上記一般式における好ましいRとしては2例えば。
1
(式中X1.X2.X3およびX4は同一でも異なって
もよ(、−H,−CH5−jたは一0CH3,Yは−C
H2,−C2H4−+−〇−、−8−。
もよ(、−H,−CH5−jたは一0CH3,Yは−C
H2,−C2H4−+−〇−、−8−。
CH3CFa
1]は0または1を示す)で示される芳香族基。
−(CH2)n=(n=2〜20)。
CH3
(”H2)3 C(CH2)3 。
CH3
で示される炭素数2〜20の脂肪族基または脂環族基が
挙げられる。
挙げられる。
本発明において得られるポリアミック酸をイミド化反応
を行うことにより得られるポリイミドの耐熱性をさらに
向上させるためには、Rが芳香族であることが好ましい
。
を行うことにより得られるポリイミドの耐熱性をさらに
向上させるためには、Rが芳香族であることが好ましい
。
上記ジアミンの具体例としては、バラフェニレンジアミ
ン、メタフェニレンジアミン、4.4’−ジノ アミノジフェニルメタン、4.4’−ジアミテジフェニ
ルエタン、ベンジジン、4.4’−ジアミノジフェニル
スルフ(ト+ 4.4’ 7アミノジフエニルスルホン
、4.4’−ジアミノジフェニルエーテル、L5−ジア
ミノナフタレン、3.3’−ジメチル−4,4’−ジア
ミノビフェニル、3.4’−ジアミノベンズアニリド、
3.4’−ジアミノジフェニルエーテル、メタキシリレ
ンジアミン、パラキシレンジアミン、エチレンジアミン
、1,3−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン
、ペンタメチレンジアミン。
ン、メタフェニレンジアミン、4.4’−ジノ アミノジフェニルメタン、4.4’−ジアミテジフェニ
ルエタン、ベンジジン、4.4’−ジアミノジフェニル
スルフ(ト+ 4.4’ 7アミノジフエニルスルホン
、4.4’−ジアミノジフェニルエーテル、L5−ジア
ミノナフタレン、3.3’−ジメチル−4,4’−ジア
ミノビフェニル、3.4’−ジアミノベンズアニリド、
3.4’−ジアミノジフェニルエーテル、メタキシリレ
ンジアミン、パラキシレンジアミン、エチレンジアミン
、1,3−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン
、ペンタメチレンジアミン。
ヘキザメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オ
クタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、4.4
’−ジメチルへブタメチレンジアミン。
クタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、4.4
’−ジメチルへブタメチレンジアミン。
1.4−ジアミノシクロヘキサン、テトラヒドロジシク
ロペンタジエニレンジアミン、ヘキサヒトロー4.7−
メタノインダニレンシメチレンジアミン。
ロペンタジエニレンジアミン、ヘキサヒトロー4.7−
メタノインダニレンシメチレンジアミン。
トリシクロ[6,2,1,02・7〕−ランデシレンジ
メチルジアミン等を挙げることができる。これらは単独
または混合して用いることができる。
メチルジアミン等を挙げることができる。これらは単独
または混合して用いることができる。
該ジアミノシロキサンと該ジアミノシロキサン以外のジ
アミンとの使用割合は1〜40重量%:99〜60重量
係である。該ジアミノシロキサンが1重量係未満では吸
水率を改善できず、40重量%を越えると得られるポリ
アミック酸をイミド化したときに耐熱性および機械的強
度が低下する。
アミンとの使用割合は1〜40重量%:99〜60重量
係である。該ジアミノシロキサンが1重量係未満では吸
水率を改善できず、40重量%を越えると得られるポリ
アミック酸をイミド化したときに耐熱性および機械的強
度が低下する。
本発明に使用する反応溶媒としては、N−メチル−2−
ピロリドン、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−
ジメチルアセトアミド、N、N’−ジメチルスルホオキ
シド等のN−アルキルピロリドン類、N、N−ジアルキ
ルアミド類等の双極子極性溶媒が好ましいが、一般的な
有機溶媒であるアルコール類、フェノール類、ケトン類
、エステル類、ラクトン類、エーテル類、ハロゲン化炭
化水素類、炭化水素類1例えばメチルアルコール。
ピロリドン、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−
ジメチルアセトアミド、N、N’−ジメチルスルホオキ
シド等のN−アルキルピロリドン類、N、N−ジアルキ
ルアミド類等の双極子極性溶媒が好ましいが、一般的な
有機溶媒であるアルコール類、フェノール類、ケトン類
、エステル類、ラクトン類、エーテル類、ハロゲン化炭
化水素類、炭化水素類1例えばメチルアルコール。
エチルアルコール、イングロビルアルコール、エチレン
グリコール、フロピレンゲリコール、L4−ブタンジオ
ール、トリエチレングリコール、エチレンクリコールモ
ノメチルエーテル、フェノール、m−クレゾール、アセ
トン、メチルエチルケトIン、メチルイソブチルケトン
、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブ
チル、シュウ1酸ジエチル、マロン酸ジエチル、γ−ブ
チロラクトン、ジエチルエーテル、エチレングリコール
ジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジクロルメタン、L2−ジ
クロルエタン、■、4−ジクロルブタン、トリクロルエ
タン、クロルベンゼン、0−ジクロルベンゼン、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタン。
グリコール、フロピレンゲリコール、L4−ブタンジオ
ール、トリエチレングリコール、エチレンクリコールモ
ノメチルエーテル、フェノール、m−クレゾール、アセ
トン、メチルエチルケトIン、メチルイソブチルケトン
、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブ
チル、シュウ1酸ジエチル、マロン酸ジエチル、γ−ブ
チロラクトン、ジエチルエーテル、エチレングリコール
ジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジクロルメタン、L2−ジ
クロルエタン、■、4−ジクロルブタン、トリクロルエ
タン、クロルベンゼン、0−ジクロルベンゼン、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタン。
ベンゼン、トルエン、キシレンなども使用スることがで
きる。特に上記極性溶媒と一般的な有機溶媒とを混合し
て用いると高分子量のポリアミック酸を得やすくkる。
きる。特に上記極性溶媒と一般的な有機溶媒とを混合し
て用いると高分子量のポリアミック酸を得やすくkる。
例えばアセトン/ジメチルホルムアミド−7/3(容量
比)程度の溶媒を用いてTCA−AHとジアミンとを反
応させると反応系が均一となり、特に高分子量のポリア
ミック酸が得やすくなる。
比)程度の溶媒を用いてTCA−AHとジアミンとを反
応させると反応系が均一となり、特に高分子量のポリア
ミック酸が得やすくなる。
上記TCA4たはTCA−AHとジアミンとの反応割合
は当モルで行なうのが好ましいが2本発明の目的が達成
される限り若干の過不足があってもよく2例えばTCA
またはTCA−AH−モルに対してジアミン混合物0.
7〜1.3モル程度の割合で反応させることができる。
は当モルで行なうのが好ましいが2本発明の目的が達成
される限り若干の過不足があってもよく2例えばTCA
またはTCA−AH−モルに対してジアミン混合物0.
7〜1.3モル程度の割合で反応させることができる。
またモノアミンやジカルボン酸無水物を添加してポリア
ミック酸の分子量を調整することもできる。
ミック酸の分子量を調整することもできる。
溶媒の使用量は好ましくはTCA4たけ’I’CA・A
Hとジアミン混合物の合計量に対して0.5〜20重量
倍である。
Hとジアミン混合物の合計量に対して0.5〜20重量
倍である。
本発明においてポリアミック酸を製造する際の゛反応温
度は、TCAとTCA−AHのどちらを出発原料にする
かによって異なり、’rCAを原料とする場合には脱水
縮合を行なわせるために2通常。
度は、TCAとTCA−AHのどちらを出発原料にする
かによって異なり、’rCAを原料とする場合には脱水
縮合を行なわせるために2通常。
50〜300℃、好ましくは100〜250’Cで反応
を行なうのが効果的である。一方、TCA・AHを原料
とする場合には付加重合であり、必らずしも高温で反応
させる必要はなく2通常は20〜100℃で反応を行え
ばよい。
を行なうのが効果的である。一方、TCA・AHを原料
とする場合には付加重合であり、必らずしも高温で反応
させる必要はなく2通常は20〜100℃で反応を行え
ばよい。
一般的に’I’CAと’l”CA−A)(とでは、TC
A・AH,%に2無水物を用いることが好ましく。
A・AH,%に2無水物を用いることが好ましく。
有機溶媒に可溶なポリアミック酸の製造が容易になる。
このようにして得られるポリアミック酸の固有粘度ηi
n b (濃度0.5g/100m1.溶媒N。
n b (濃度0.5g/100m1.溶媒N。
N′−ジメチルアセトアミド、測定温度30’C)は好
ましくは0.05dl/g以上、特に好ましくは0.0
5〜20dl/gである。なお固有粘度ηinhは。
ましくは0.05dl/g以上、特に好ましくは0.0
5〜20dl/gである。なお固有粘度ηinhは。
(tはポリマー溶液の流下速度、toはN、N′−ジメ
チルアセトアミドの流下速度である)で表される粘度で
ある。
チルアセトアミドの流下速度である)で表される粘度で
ある。
本発明によシ得られるポリアミック酸は溶媒に溶は易く
、かつアミド結合の一部がイミド化しても溶媒に溶ける
ため、溶液状態で非常に安定である。
、かつアミド結合の一部がイミド化しても溶媒に溶ける
ため、溶液状態で非常に安定である。
得られたポリアミック酸の有機溶媒溶液は、そのまま、
または有機溶媒溶液から常法によりポリアミック酸を回
収し、必要に応じて精製した後。
または有機溶媒溶液から常法によりポリアミック酸を回
収し、必要に応じて精製した後。
再度有機溶媒に溶解し、有機カルボン酸無水物の存在下
に、所望により3級アミンを添加して有機溶媒中で加熱
することによジイミド化反応を行うこともでき、この方
法によって有機溶媒に可溶なポリイミドを容易に製造す
ることができる。この場合の有機溶媒としては、前記と
同様の有機溶媒を例示することができ、ポリアミック酸
の有機溶媒溶液の濃度は好ましくは1〜50重量係、特
に好ましくは1〜30重量係である。またイミド化反応
時に使用される有機カルボン酸無水物の沸点は250℃
以下であることが好捷しい。有機カルボン酸無水物の沸
点が250℃を越えると、フィルム化時に加熱により溶
媒を除去する工程で、有機カルボン酸無水物が同時に除
去されず、フィルム中に残留することになシ、物性等に
悪影響を与える。このよう々有機カルボン酸無水物とし
ては。
に、所望により3級アミンを添加して有機溶媒中で加熱
することによジイミド化反応を行うこともでき、この方
法によって有機溶媒に可溶なポリイミドを容易に製造す
ることができる。この場合の有機溶媒としては、前記と
同様の有機溶媒を例示することができ、ポリアミック酸
の有機溶媒溶液の濃度は好ましくは1〜50重量係、特
に好ましくは1〜30重量係である。またイミド化反応
時に使用される有機カルボン酸無水物の沸点は250℃
以下であることが好捷しい。有機カルボン酸無水物の沸
点が250℃を越えると、フィルム化時に加熱により溶
媒を除去する工程で、有機カルボン酸無水物が同時に除
去されず、フィルム中に残留することになシ、物性等に
悪影響を与える。このよう々有機カルボン酸無水物とし
ては。
例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸。
無水イン酪酸、無水吉草酸等が使用される。これらの有
機カルボン酸の混合酸無水物9例えば酢酸とプロピオン
酸から得られる酸無水物等も使用可能である。有機カル
ボン酸無水物の添加量は、ポリアミック酸の繰返し構造
単位1モル当り0.2〜20倍モルが好ましい。0.2
倍モル未満の場合はイミド化反応の進行が遅くなり、ま
た20倍モルを越えるとポリアミック酸の有機溶媒に対
する溶解度が低下する。さらにイミド化反応を促進させ
るために、所望により触媒として3級アミンを添加する
ことができる。3級アミンは、イミド化反応の促進の他
に、得られるポリイミドの溶液粘度の低下を抑制する効
果も生ずる。3級アミンは。
機カルボン酸の混合酸無水物9例えば酢酸とプロピオン
酸から得られる酸無水物等も使用可能である。有機カル
ボン酸無水物の添加量は、ポリアミック酸の繰返し構造
単位1モル当り0.2〜20倍モルが好ましい。0.2
倍モル未満の場合はイミド化反応の進行が遅くなり、ま
た20倍モルを越えるとポリアミック酸の有機溶媒に対
する溶解度が低下する。さらにイミド化反応を促進させ
るために、所望により触媒として3級アミンを添加する
ことができる。3級アミンは、イミド化反応の促進の他
に、得られるポリイミドの溶液粘度の低下を抑制する効
果も生ずる。3級アミンは。
有機カルボン酸無水物の場合と同様な理由で沸点250
℃以下のものが好ましく9例えばトリエチルアミン、ト
リプロピルアミン、トリブチルアミン等の脂肪族3級ア
ミン、N、N−ジメチルアニリン等の芳香族3Rアミン
、ピリジン、2−メチルビリジン、N−メチルイミダゾ
ール、キノリン等の複素環化合物が挙げられる。3級ア
ミンの添加量は、ポリアミック酸の繰返し構造単位1モ
ル当、920倍モル以下が好ましい。20倍モルを超え
るとポリアミック酸の有機溶媒に対する溶解性が低下す
る傾向にある。イミド化反応の反応温度は、好ましくは
60〜′200℃、特に好ましくは100〜170℃で
ある。60℃未満ではイミド化反応の進行が遅れ、また
200℃を越えるとポリイミドの分子量が大きく低下す
る。有機カルボン酸無水物および3級アミンの添加順序
は、いずれが先でもよく、捷だ両者を混合してから添加
してもよい。
℃以下のものが好ましく9例えばトリエチルアミン、ト
リプロピルアミン、トリブチルアミン等の脂肪族3級ア
ミン、N、N−ジメチルアニリン等の芳香族3Rアミン
、ピリジン、2−メチルビリジン、N−メチルイミダゾ
ール、キノリン等の複素環化合物が挙げられる。3級ア
ミンの添加量は、ポリアミック酸の繰返し構造単位1モ
ル当、920倍モル以下が好ましい。20倍モルを超え
るとポリアミック酸の有機溶媒に対する溶解性が低下す
る傾向にある。イミド化反応の反応温度は、好ましくは
60〜′200℃、特に好ましくは100〜170℃で
ある。60℃未満ではイミド化反応の進行が遅れ、また
200℃を越えるとポリイミドの分子量が大きく低下す
る。有機カルボン酸無水物および3級アミンの添加順序
は、いずれが先でもよく、捷だ両者を混合してから添加
してもよい。
このようにして得られたポリイミドは、ガラス板、金属
板等の基材の上に2反応後のポリイミドの有機溶媒溶液
を流延した後、加熱等の方法によシ有機溶媒、有機カル
ボン酸無水物および3級アミンを除去することによりフ
ィルム化することができる。また反応後のポリイミドの
有機溶媒溶液から、ポリイミドを回収した後、有機溶媒
に再溶解させ9次いで上記方法によりフィルム化するこ
ともできる。この再溶解に用いられる有機溶媒としては
、前記の極性溶媒のほか、ポリイミドを溶解する溶媒2
例えばフェノール、メタクレゾール。
板等の基材の上に2反応後のポリイミドの有機溶媒溶液
を流延した後、加熱等の方法によシ有機溶媒、有機カル
ボン酸無水物および3級アミンを除去することによりフ
ィルム化することができる。また反応後のポリイミドの
有機溶媒溶液から、ポリイミドを回収した後、有機溶媒
に再溶解させ9次いで上記方法によりフィルム化するこ
ともできる。この再溶解に用いられる有機溶媒としては
、前記の極性溶媒のほか、ポリイミドを溶解する溶媒2
例えばフェノール、メタクレゾール。
パラクレゾールまたはこれらを混合したフェノール系溶
媒等が挙げられる0 ポリアミック酸のイミド化方法としては、前記有機溶媒
溶液中で省なう方法以外に、ポリアミック酸溶液を基材
に塗布または含浸させ、溶媒を除去しながらまたは除去
した後、100〜500℃で加熱する方法を例示するこ
とができる。
媒等が挙げられる0 ポリアミック酸のイミド化方法としては、前記有機溶媒
溶液中で省なう方法以外に、ポリアミック酸溶液を基材
に塗布または含浸させ、溶媒を除去しながらまたは除去
した後、100〜500℃で加熱する方法を例示するこ
とができる。
本発明により得られるポリアミック酸には、酸化防止剤
等の安定剤を1例えばポリアミック酸100重量部に対
して0.O1〜5重量部程度力lえてもよく、マた充填
剤などの添加剤を1例えばポリアミック酸100重量部
に対して1〜100重量部程重量先程もよい。
等の安定剤を1例えばポリアミック酸100重量部に対
して0.O1〜5重量部程度力lえてもよく、マた充填
剤などの添加剤を1例えばポリアミック酸100重量部
に対して1〜100重量部程重量先程もよい。
本発明により得られるポリアミック酸を前駆物質とする
ポリイミドは、耐熱性9機械的特性、電気特性、耐薬品
特性等に優れた特性を示し、さらに吸水率が低いという
特徴を有し1例えば高温用フィルム、接着剤、塗料等に
有用であり、具体的にはプリント配線基板、フレキシブ
ル 半導体集積回路素子の表面保護膜または眉間絶縁膜,エ
ナメル電線用被覆材,各種積層板,ガスケット等に有用
である。
ポリイミドは、耐熱性9機械的特性、電気特性、耐薬品
特性等に優れた特性を示し、さらに吸水率が低いという
特徴を有し1例えば高温用フィルム、接着剤、塗料等に
有用であり、具体的にはプリント配線基板、フレキシブ
ル 半導体集積回路素子の表面保護膜または眉間絶縁膜,エ
ナメル電線用被覆材,各種積層板,ガスケット等に有用
である。
以下,本発明を実施例によってさらに詳細に説明するが
,本発明はこれらの実施例によって制限されるものでは
ない。
,本発明はこれらの実施例によって制限されるものでは
ない。
( CH2 )3 NH2 0. 4 7 gとジアミ
ノジフェニルエーテル4.11gを加え,N,N−ジメ
チルホルムアミド(DMF’)46.2gを加えて攪拌
し,次いでTCA−AH4.75gを粉末のまま加えて
室温で24時間反応させた。得られたポリアミック酸の
DMF中30℃のηInhは1. 8 7 dl/ g
であった。得られたポリアミック酸溶液にDMF51.
1gを加えて稀釈した後,攪拌しながら無水酢酸9、4
g,ピリジン10.2gを加えた後,120℃で2時間
反応させた。得られたポリイミドを大量のメタノールに
注いで凝固した。このポリイミドを回収後,80℃で1
2時間真空乾燥を行なった。
ノジフェニルエーテル4.11gを加え,N,N−ジメ
チルホルムアミド(DMF’)46.2gを加えて攪拌
し,次いでTCA−AH4.75gを粉末のまま加えて
室温で24時間反応させた。得られたポリアミック酸の
DMF中30℃のηInhは1. 8 7 dl/ g
であった。得られたポリアミック酸溶液にDMF51.
1gを加えて稀釈した後,攪拌しながら無水酢酸9、4
g,ピリジン10.2gを加えた後,120℃で2時間
反応させた。得られたポリイミドを大量のメタノールに
注いで凝固した。このポリイミドを回収後,80℃で1
2時間真空乾燥を行なった。
このポリイミドのDMF中30℃のηinhは1。29
de/gであった。このポリイミドを再度DM Fに溶
解しガラス板上に流延した後,80℃で1時間乾燥し,
フィルムをはがし取って150℃で24時間真空乾燥し
た。この時の膜厚は約50μm1】であった。このフィ
ルムを一定の面積に切り取り23℃の蒸留水中に10時
間浸漬した後,フィルムを取り出した後,フィルムの両
面をふき取lす,室温で2時間放置後,このフィルムの
重量増加量を測定した。この結果吸水率は2.9%であ
った。このフィルムを100℃で1晩真空乾燥した後,
JISK6911により引張試験を行った結果。
de/gであった。このポリイミドを再度DM Fに溶
解しガラス板上に流延した後,80℃で1時間乾燥し,
フィルムをはがし取って150℃で24時間真空乾燥し
た。この時の膜厚は約50μm1】であった。このフィ
ルムを一定の面積に切り取り23℃の蒸留水中に10時
間浸漬した後,フィルムを取り出した後,フィルムの両
面をふき取lす,室温で2時間放置後,このフィルムの
重量増加量を測定した。この結果吸水率は2.9%であ
った。このフィルムを100℃で1晩真空乾燥した後,
JISK6911により引張試験を行った結果。
引張強度8. 5 Kg/crJ 、伸度25%であっ
た。
た。
実施例2
実施例1におけるジアミノシロキサンを0,97g,ジ
アミノジフェニルエーテルを3.99g使用した以外は
実施例1と同様にして,ηinhが1.48at /
gのポリアミック酸を合成した後,実施例1と同様にイ
ミド化した。ポリイミドのηinhは1、04dl/g
であった。このポリイミドの吸水率は1.8係であった
。
アミノジフェニルエーテルを3.99g使用した以外は
実施例1と同様にして,ηinhが1.48at /
gのポリアミック酸を合成した後,実施例1と同様にイ
ミド化した。ポリイミドのηinhは1、04dl/g
であった。このポリイミドの吸水率は1.8係であった
。
実施例3
実施例1におけるジアミノシロキサンを2.11g、ジ
アミノジフェニルエーテルを3.72g使用した以外は
実施例1と同様にしてηinhが0.95dl/gのポ
リアミック酸を合成した後、実施例1と同様にイミド化
した。ポリイミドのηinhは0.68dl/gであっ
た。このポリイミドの吸水率は1.1%であった。
アミノジフェニルエーテルを3.72g使用した以外は
実施例1と同様にしてηinhが0.95dl/gのポ
リアミック酸を合成した後、実施例1と同様にイミド化
した。ポリイミドのηinhは0.68dl/gであっ
た。このポリイミドの吸水率は1.1%であった。
比較例1
実施例1のジアミン混合物の代りにジアミノジフェニル
エーテル4.23 gを使用した以外は実施例1と同様
にしてηinhが2.34 dl/ gのポリアミック
酸を合成した後、実施例1と同様にイミド化した。ポリ
イミドのηinhは1.26dl/gであった。このポ
リイミドの吸水率は4.2係であった。
エーテル4.23 gを使用した以外は実施例1と同様
にしてηinhが2.34 dl/ gのポリアミック
酸を合成した後、実施例1と同様にイミド化した。ポリ
イミドのηinhは1.26dl/gであった。このポ
リイミドの吸水率は4.2係であった。
特許出願・人
日本合成ゴム株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記一般式で示されるジアミノシロキサン1〜40重量
%と該ジアミノシロキサン以外のジアミン99〜60重
量%とからなるジアミン混合物と2.35− )リカル
ボキシシクロペンチル酢酸またはその無水物とを有機溶
媒中で反応させることを特徴とするシロキサン変性ポリ
アミック酸の製造方法 R2R。 1 R,2R2 (R1は2価の炭化水素基、几2は1価の炭化水素基で
あシ、nは0〜100の整数を示す)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11065683A JPS601227A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | シロキサン変性ポリアミツク酸の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11065683A JPS601227A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | シロキサン変性ポリアミツク酸の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS601227A true JPS601227A (ja) | 1985-01-07 |
| JPH0315661B2 JPH0315661B2 (ja) | 1991-03-01 |
Family
ID=14541175
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11065683A Granted JPS601227A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | シロキサン変性ポリアミツク酸の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS601227A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005330479A (ja) * | 2004-04-22 | 2005-12-02 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 無溶剤型ポリイミドシリコーン系樹脂組成物及びこれを用いた樹脂皮膜 |
| JP2010254947A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-11-11 | Jsr Corp | ポリイミド系材料、フィルム及び組成物、並びにその製造方法 |
-
1983
- 1983-06-20 JP JP11065683A patent/JPS601227A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005330479A (ja) * | 2004-04-22 | 2005-12-02 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 無溶剤型ポリイミドシリコーン系樹脂組成物及びこれを用いた樹脂皮膜 |
| JP2010254947A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-11-11 | Jsr Corp | ポリイミド系材料、フィルム及び組成物、並びにその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0315661B2 (ja) | 1991-03-01 |
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