JPS60145531A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS60145531A JPS60145531A JP123084A JP123084A JPS60145531A JP S60145531 A JPS60145531 A JP S60145531A JP 123084 A JP123084 A JP 123084A JP 123084 A JP123084 A JP 123084A JP S60145531 A JPS60145531 A JP S60145531A
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- Japan
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- ferromagnetic material
- ferromagnetic
- substrate
- cylindrical
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は強磁性金属薄1模層を記録層とする磁気記録
媒体の製造方法に関し、その目的とするところは可及的
に均一な厚みの強磁性金属薄膜層を有する前記の磁気記
録媒体の製造方法を提供することにある。
媒体の製造方法に関し、その目的とするところは可及的
に均一な厚みの強磁性金属薄膜層を有する前記の磁気記
録媒体の製造方法を提供することにある。
強磁性金属薄膜層を記録層とする磁気記録媒体は、通常
、ポリエステルフィルムなどの基板を、真空槽内に取り
つけた円筒状キャンの周側面に沿って移動させ、この基
板に強磁性材を真空蒸着することによってつくられてお
り、磁気特性にぼれた前記の磁気記録媒体を製造する場
合には、円筒状キャンと強磁性相蒸発源との間に防着板
を設&Jて強磁性材の蒸気流を一部遮Llji調整し、
基板に対して斜め方向に差し向けたりすることか行われ
ている。
、ポリエステルフィルムなどの基板を、真空槽内に取り
つけた円筒状キャンの周側面に沿って移動させ、この基
板に強磁性材を真空蒸着することによってつくられてお
り、磁気特性にぼれた前記の磁気記録媒体を製造する場
合には、円筒状キャンと強磁性相蒸発源との間に防着板
を設&Jて強磁性材の蒸気流を一部遮Llji調整し、
基板に対して斜め方向に差し向けたりすることか行われ
ている。
ところが、従来から斜め入射蒸着等を行うため、円筒状
キャンと強磁性材蒸発源との間に設りられている防着板
は、銅あるいはステンレス製で内部に冷却水を流通さ・
Uたものか用いられ、真空蒸着時の非常な高温によって
溶けたりしないように20℃前後の室温以下に水冷し゛
C使用されているため、強磁性材蒸発源からの非常に温
度の高い強磁性材の蒸気流がこの防着板によって一部遮
…i a整されると、防着板に蒸気流の一部が付着して
空隙の多い多孔質の付着物が形成され、長時間遮断調整
が行われると、防着板に付着したこの多孔質の強磁性材
からなる付着物により防着板の先端が膨出して強磁性材
の蒸気流の基板に対する入射角度の制限範囲が変化し、
基板」二に形成される強磁性金属薄膜層の層厚が均一に
ならず、磁気特性も均一なものがiMられないという欠
点があった。
キャンと強磁性材蒸発源との間に設りられている防着板
は、銅あるいはステンレス製で内部に冷却水を流通さ・
Uたものか用いられ、真空蒸着時の非常な高温によって
溶けたりしないように20℃前後の室温以下に水冷し゛
C使用されているため、強磁性材蒸発源からの非常に温
度の高い強磁性材の蒸気流がこの防着板によって一部遮
…i a整されると、防着板に蒸気流の一部が付着して
空隙の多い多孔質の付着物が形成され、長時間遮断調整
が行われると、防着板に付着したこの多孔質の強磁性材
からなる付着物により防着板の先端が膨出して強磁性材
の蒸気流の基板に対する入射角度の制限範囲が変化し、
基板」二に形成される強磁性金属薄膜層の層厚が均一に
ならず、磁気特性も均一なものがiMられないという欠
点があった。
この発明はかかる欠点を解消するため種々検問を行った
結果なされたもので、真空槽内の円筒状キャンと強磁性
材蒸発源との間に配設する防着板としζ、内部に熱オイ
ルを流通させて200〜500°Cの温度に加熱制御で
きるようにした防着板を使用し、この加熱制御された防
着板により、強磁性材蒸発源から円筒状キャンの周側面
に沿って移動する基板に差し向けられる蒸気流を一部遮
断調整することによって、防着板に何着する強磁性材か
らなるイ1着着物内空隙ができて多孔質になるのを良好
に防止し、防着板先端の膨出を良好に抑制して、所期の
目的を達成したものである。
結果なされたもので、真空槽内の円筒状キャンと強磁性
材蒸発源との間に配設する防着板としζ、内部に熱オイ
ルを流通させて200〜500°Cの温度に加熱制御で
きるようにした防着板を使用し、この加熱制御された防
着板により、強磁性材蒸発源から円筒状キャンの周側面
に沿って移動する基板に差し向けられる蒸気流を一部遮
断調整することによって、防着板に何着する強磁性材か
らなるイ1着着物内空隙ができて多孔質になるのを良好
に防止し、防着板先端の膨出を良好に抑制して、所期の
目的を達成したものである。
この発明によれば、防着板の内部に熱オイルを流通させ
て200〜500°Cの温度に防着板を加熱制御してい
るため、強磁性材蒸発源から円筒状キャンの周側面に沿
って移動する基板に差しii農ノられる非當に高温の蒸
気流がこの防着板に遮…1されると、強磁性材が防着板
に緻密に付着してイ」着物内にほとんど空隙が生ぜず、
従って、強磁性+Jの蒸気流がこの防着板によって長時
間遮断調整されても、蒸気流の一部が防着板に(NJ着
して防着板の先端が膨出し、強磁性材の蒸気流の基板に
対する入射角度の制限範囲か変化するということもなく
、基板上に形成される強磁性金属薄膜層は層厚の均一な
ものが(↓Iられ、磁気特性か均一な強磁代金17i薄
股層が形成される。
て200〜500°Cの温度に防着板を加熱制御してい
るため、強磁性材蒸発源から円筒状キャンの周側面に沿
って移動する基板に差しii農ノられる非當に高温の蒸
気流がこの防着板に遮…1されると、強磁性材が防着板
に緻密に付着してイ」着物内にほとんど空隙が生ぜず、
従って、強磁性+Jの蒸気流がこの防着板によって長時
間遮断調整されても、蒸気流の一部が防着板に(NJ着
して防着板の先端が膨出し、強磁性材の蒸気流の基板に
対する入射角度の制限範囲か変化するということもなく
、基板上に形成される強磁性金属薄膜層は層厚の均一な
ものが(↓Iられ、磁気特性か均一な強磁代金17i薄
股層が形成される。
以下、図面を参照しながらこの発明について説明する。
第1図は真空蒸着装置の断面図をボしたものであり、■
は真空槽でこの真空槽lの内部は排気系2により排気さ
れて真空に保持される。3は真空槽1の中央fllsに
配設された円筒状キャンであり、ポリエステルフィルム
等の基板4は原反ロール5よりこの円筒状キャン3の周
側面に沿って移動し、巻き取りロール6に巻き取られる
。この間円筒状キャン3の周側面に沿って移動する基板
4に対向して真空槽lの下底に配設された強磁性+A蒸
発?yA7で強磁性材8が加熱蒸発され、蒸気流Aが基
板4に差し向けられるが、この蒸気流Aは真空槽1内に
加熱制御されて配設された防着板9によって一部遮断調
整され、基板4に対して斜め入射蒸着が行われる。
は真空槽でこの真空槽lの内部は排気系2により排気さ
れて真空に保持される。3は真空槽1の中央fllsに
配設された円筒状キャンであり、ポリエステルフィルム
等の基板4は原反ロール5よりこの円筒状キャン3の周
側面に沿って移動し、巻き取りロール6に巻き取られる
。この間円筒状キャン3の周側面に沿って移動する基板
4に対向して真空槽lの下底に配設された強磁性+A蒸
発?yA7で強磁性材8が加熱蒸発され、蒸気流Aが基
板4に差し向けられるが、この蒸気流Aは真空槽1内に
加熱制御されて配設された防着板9によって一部遮断調
整され、基板4に対して斜め入射蒸着が行われる。
ここで、真空槽1内の円1θ1状キャン3と強磁性材蒸
発源7との間に配設された防着板9は、内部に加熱され
た熱オイルが流通されており、この熱オイルによって防
着板9の温度は200〜500℃の範囲内で適宜の温度
に調整され、保持される。ijLって強磁性材蒸発源7
で加熱蒸発された強磁性(1の蒸気流Aは、このように
加熱制御された防着板9により一部遮断1!a整されて
斜め入射蒸着が行われ、このような加熱された防着板9
には強磁性」4がm密に何着して付着物内に空隙が生じ
ることもないため、防着板9の先端が膨出するというこ
ともな(、その結果蒸気流Aの基板4に対する入射角度
は変化せず、基板4上には均一なliみの強磁性金属薄
膜層が良好に形成され、磁気特性か均一で良好な磁気記
録媒体がiVられる。このような防着板9の熱オイルに
よる温度調整は、200°Cより低いと強磁性1Aの蒸
気流へを一部遮断調整する際、防着板9にイ」着する強
磁性材からなるイ]着着物内空隙が生じて多孔質になる
のを良好に抑制できず、500℃よりin」いと円筒状
キャン3の周側面に沿っ゛C移動するNtklk4上に
形成される強磁性金属薄膜層に輻射熱が作用して悪影響
を及はずため、200〜500°Cの範囲内で行うのが
好ましい。また防着板9の材質は銅、ステンレ等の金属
製ものが好ましく使用される。
発源7との間に配設された防着板9は、内部に加熱され
た熱オイルが流通されており、この熱オイルによって防
着板9の温度は200〜500℃の範囲内で適宜の温度
に調整され、保持される。ijLって強磁性材蒸発源7
で加熱蒸発された強磁性(1の蒸気流Aは、このように
加熱制御された防着板9により一部遮断1!a整されて
斜め入射蒸着が行われ、このような加熱された防着板9
には強磁性」4がm密に何着して付着物内に空隙が生じ
ることもないため、防着板9の先端が膨出するというこ
ともな(、その結果蒸気流Aの基板4に対する入射角度
は変化せず、基板4上には均一なliみの強磁性金属薄
膜層が良好に形成され、磁気特性か均一で良好な磁気記
録媒体がiVられる。このような防着板9の熱オイルに
よる温度調整は、200°Cより低いと強磁性1Aの蒸
気流へを一部遮断調整する際、防着板9にイ」着する強
磁性材からなるイ]着着物内空隙が生じて多孔質になる
のを良好に抑制できず、500℃よりin」いと円筒状
キャン3の周側面に沿っ゛C移動するNtklk4上に
形成される強磁性金属薄膜層に輻射熱が作用して悪影響
を及はずため、200〜500°Cの範囲内で行うのが
好ましい。また防着板9の材質は銅、ステンレ等の金属
製ものが好ましく使用される。
第2図は、この発明の防着板の他の使用例を示したもの
で、この第2図に示1゛真空蒸着装置は円筒状キャン3
と強磁性4A蒸発源7との間に左右一対の防着板91お
よび92を配設し、強磁性4.t F+発源を円筒状キ
ャン3の真下に配設した以外は、第1図に示す真空蒸着
装置と全(同じで、防着板91および92が内部に流通
させた4;1)オイルによリ200〜500℃の範囲内
のl温度で温度調整が行われることも同じである。この
第2図に示すように、真空蒸着装置に配設される防着板
は必ずしも斜め入射蒸着を行う場合のみ配設されて使用
されるものではなく、第2図に示すような真空蒸着を行
う場合にも使用され、この場合も前記第1図に示す真空
蒸着装置の場合と同様な効果が14られる。
で、この第2図に示1゛真空蒸着装置は円筒状キャン3
と強磁性4A蒸発源7との間に左右一対の防着板91お
よび92を配設し、強磁性4.t F+発源を円筒状キ
ャン3の真下に配設した以外は、第1図に示す真空蒸着
装置と全(同じで、防着板91および92が内部に流通
させた4;1)オイルによリ200〜500℃の範囲内
のl温度で温度調整が行われることも同じである。この
第2図に示すように、真空蒸着装置に配設される防着板
は必ずしも斜め入射蒸着を行う場合のみ配設されて使用
されるものではなく、第2図に示すような真空蒸着を行
う場合にも使用され、この場合も前記第1図に示す真空
蒸着装置の場合と同様な効果が14られる。
基板としては、ポリエステル、ポリイミド”、ポリアミ
ド等一般に使用されている高分子成形物からなるプラス
チックフィルムおよび銅などの非磁性金属が使用され、
また、強磁性金属薄膜層を形成する強磁性相としては、
コバルト、ニッケル、鉄などの金属単体の他、これらの
合金あるいは酸化物、およびCo−P、Co−Ni −
Pなど一般に使用される強磁性相がいずれも使用される
。
ド等一般に使用されている高分子成形物からなるプラス
チックフィルムおよび銅などの非磁性金属が使用され、
また、強磁性金属薄膜層を形成する強磁性相としては、
コバルト、ニッケル、鉄などの金属単体の他、これらの
合金あるいは酸化物、およびCo−P、Co−Ni −
Pなど一般に使用される強磁性相がいずれも使用される
。
次に、この発明の実施例について説明する。
実施例1
第1図に示すような真空蒸着装置を使用し、厚さが10
μ厚のポリエステルベースフィルム4を、原反ロール5
から円筒状キャン3の周側面に沿って移動させ、巻き取
りロール6に巻き取るようにセットするとともに、強磁
性材蒸発源7にコバルト8をセソトシた。次いで排気糸
2て真空槽1内を約5×10″5トールにまで真空排気
し、銅製の防着板9の温度を300℃にll整して強磁
性材蒸発源7内のコバルト8を加熱蒸発させ、ポリエス
テルベースフィルム4の走行速度10 rn / se
cで真空蒸着を行い、ポリエステルヘ−スフイルム4上
にコバルトからなる強磁性金属薄膜層を形成した。しか
る後、所定のIIJに裁断して磁気テープをつくった。
μ厚のポリエステルベースフィルム4を、原反ロール5
から円筒状キャン3の周側面に沿って移動させ、巻き取
りロール6に巻き取るようにセットするとともに、強磁
性材蒸発源7にコバルト8をセソトシた。次いで排気糸
2て真空槽1内を約5×10″5トールにまで真空排気
し、銅製の防着板9の温度を300℃にll整して強磁
性材蒸発源7内のコバルト8を加熱蒸発させ、ポリエス
テルベースフィルム4の走行速度10 rn / se
cで真空蒸着を行い、ポリエステルヘ−スフイルム4上
にコバルトからなる強磁性金属薄膜層を形成した。しか
る後、所定のIIJに裁断して磁気テープをつくった。
実施例2
実施例1において、防着U9.9の温度を200℃に調
整した以外は実施例1と同様にして磁気テープをつくっ
た。
整した以外は実施例1と同様にして磁気テープをつくっ
た。
実施例3
実施例1において、防着板9の温度を500°Cに調整
した以外は実施例1と同様にして磁気テープをつくった
。
した以外は実施例1と同様にして磁気テープをつくった
。
比較例I
実施例1において、防着板9に代えて従来の水冷式防着
板を使用し、防着板の温度を20℃に調整した以外は実
施例1と同様にして磁気テープをつ く っ ノこ。
板を使用し、防着板の温度を20℃に調整した以外は実
施例1と同様にして磁気テープをつ く っ ノこ。
各実施例および比較例で得られた磁気テープについて、
真空蒸着開始時から2500 mの走行長さに旦って強
磁性金属薄11Q屓の厚みを測定した。
真空蒸着開始時から2500 mの走行長さに旦って強
磁性金属薄11Q屓の厚みを測定した。
第3図はその結果をグラフで表したものでグラフΔは実
施例1で得られたω磁気テープ、グラフBは実施例2で
得られた磁気テープ、グラフCは実施例3で得られた磁
気テープ、グラフDは比較例1でiνIられた磁気テー
プをボす。これらのグラフから明らかなように比較例1
で得られた磁気テープ(グラフD)は走行長さが長くな
るにfjLって強磁性金属薄膜層の厚みが次第に薄くな
るが、実施例1〜3で(qられた磁気テープ(グラフA
、B、C)は強磁性金属薄膜j−の厚みかほとんど変わ
らないかあるいは若干薄くなる程度であり、このことか
らこの発明の製造方法によれば、防着板に付着される強
磁性相からなる付着物内に空隙がほとんど生ぜず、空孔
の生起が抑制される結果、均一な厚みの強磁性金属薄膜
層を有する磁気記録媒体が得られるのがわかる。
施例1で得られたω磁気テープ、グラフBは実施例2で
得られた磁気テープ、グラフCは実施例3で得られた磁
気テープ、グラフDは比較例1でiνIられた磁気テー
プをボす。これらのグラフから明らかなように比較例1
で得られた磁気テープ(グラフD)は走行長さが長くな
るにfjLって強磁性金属薄膜層の厚みが次第に薄くな
るが、実施例1〜3で(qられた磁気テープ(グラフA
、B、C)は強磁性金属薄膜j−の厚みかほとんど変わ
らないかあるいは若干薄くなる程度であり、このことか
らこの発明の製造方法によれば、防着板に付着される強
磁性相からなる付着物内に空隙がほとんど生ぜず、空孔
の生起が抑制される結果、均一な厚みの強磁性金属薄膜
層を有する磁気記録媒体が得られるのがわかる。
第1図はこの発明の製造方法を実施するために使用する
真空蒸着装置の1例を示す概略断面図、第2図は同真空
蒸着装置のその他の例をボず概略断面図、第3図はこの
発明の製造方法によっζ得られた磁気記録媒体の強磁性
金1、・J會j17股層の層厚と走行長さとの関係図で
ある。 ■・・・真空槽、3・・・円筒状キャン4・・・基板、
7・・・強磁性材蒸発源、 8・・・強磁性4A、9,
91.92・・・防着板、A・・・蒸気流 特許出願人 目立マクセル株式会社 代理人 高岡−春(−、+7.”!−”′”″、−、′
、’1 、ン−1 魯゛豐−i1 第 1 図 第2図
真空蒸着装置の1例を示す概略断面図、第2図は同真空
蒸着装置のその他の例をボず概略断面図、第3図はこの
発明の製造方法によっζ得られた磁気記録媒体の強磁性
金1、・J會j17股層の層厚と走行長さとの関係図で
ある。 ■・・・真空槽、3・・・円筒状キャン4・・・基板、
7・・・強磁性材蒸発源、 8・・・強磁性4A、9,
91.92・・・防着板、A・・・蒸気流 特許出願人 目立マクセル株式会社 代理人 高岡−春(−、+7.”!−”′”″、−、′
、’1 、ン−1 魯゛豐−i1 第 1 図 第2図
Claims (1)
- 1、真空槽内に、円筒状キャンとこの円筒状キャンに対
向する強磁性材蒸発源とを配設してなる真空蒸着装置に
おいて、円筒状キャンと強磁性材蒸発源との間に200
〜500℃の温度に加熱制御した防着板を配設し、この
防着板により、強磁性材蒸発源から円筒状キャンの周側
面に沿って移動する基板に差しlii農すられる強磁性
月の蒸気流を一部遮断調整して差し向け、基板上に強磁
性金属薄膜層を形成することを特徴とする磁気記録媒体
の製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP123084A JPS60145531A (ja) | 1984-01-06 | 1984-01-06 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP123084A JPS60145531A (ja) | 1984-01-06 | 1984-01-06 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60145531A true JPS60145531A (ja) | 1985-08-01 |
Family
ID=11495665
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP123084A Pending JPS60145531A (ja) | 1984-01-06 | 1984-01-06 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60145531A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5601652A (en) * | 1989-08-03 | 1997-02-11 | United Technologies Corporation | Apparatus for applying ceramic coatings |
| WO2015025782A1 (ja) * | 2013-08-21 | 2015-02-26 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリアーフィルムの製造装置及びガスバリアーフィルムの製造方法 |
-
1984
- 1984-01-06 JP JP123084A patent/JPS60145531A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5601652A (en) * | 1989-08-03 | 1997-02-11 | United Technologies Corporation | Apparatus for applying ceramic coatings |
| WO2015025782A1 (ja) * | 2013-08-21 | 2015-02-26 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリアーフィルムの製造装置及びガスバリアーフィルムの製造方法 |
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