JPS60145938A - 光フアイバ被覆用樹脂組成物および被覆光フアイバ - Google Patents
光フアイバ被覆用樹脂組成物および被覆光フアイバInfo
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- JPS60145938A JPS60145938A JP59001830A JP183084A JPS60145938A JP S60145938 A JPS60145938 A JP S60145938A JP 59001830 A JP59001830 A JP 59001830A JP 183084 A JP183084 A JP 183084A JP S60145938 A JPS60145938 A JP S60145938A
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- Japan
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- optical fiber
- resin composition
- coated
- acrylate
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- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は光フアイバ被覆用樹脂組成物およびこ゛れを被
覆した被層光ファイバ、詳しくは水素ガス１の発生しな
い樹脂組成物と被覆ファイバに関するものである。
覆した被層光ファイバ、詳しくは水素ガス１の発生しな
い樹脂組成物と被覆ファイバに関するものである。
従来、一般に光ファイバはその外周にシリコーン、ウレ
タンアクリレート等の熱硬化性樹脂またはナイロン等の
熱可塑性樹脂から成る樹脂組成物が被覆されていた。こ
の種の被覆光ファイバの伝送損失は、その初期において
は極めて優れたものであるが、経時的に長波長域で増加
する欠点があった。この伝送損失の経時的な増加の主な
要因は水素によるものであり、またこの水素の主な発生
源は、被覆層を形成する樹脂組成物にあると考えられて
いる。
タンアクリレート等の熱硬化性樹脂またはナイロン等の
熱可塑性樹脂から成る樹脂組成物が被覆されていた。こ
の種の被覆光ファイバの伝送損失は、その初期において
は極めて優れたものであるが、経時的に長波長域で増加
する欠点があった。この伝送損失の経時的な増加の主な
要因は水素によるものであり、またこの水素の主な発生
源は、被覆層を形成する樹脂組成物にあると考えられて
いる。
たとえば被ＭＩ 材料として最も広く用いられているシ
リコーンを例にとれば、その架橋反応はビニルシラン（
５Ｓｉ−（３Ｈ＝ＯＨ２）とシリリジル基（＝ ＳｉＨ
）との間で生じるが、反応性の点から樹脂組成物はＳｉ
Ｈ基が過剰に含まれている。したがって硬化した被覆層
乙、−は５ｉｌ（基が残存しており、・このＳｉＨは水
やＯＨ−と反応し水素を発生することが知られている。
リコーンを例にとれば、その架橋反応はビニルシラン（
５Ｓｉ−（３Ｈ＝ＯＨ２）とシリリジル基（＝ ＳｉＨ
）との間で生じるが、反応性の点から樹脂組成物はＳｉ
Ｈ基が過剰に含まれている。したがって硬化した被覆層
乙、−は５ｉｌ（基が残存しており、・このＳｉＨは水
やＯＨ−と反応し水素を発生することが知られている。
また、シリコーンの側鎖にあるメチル基は熱酸化分解に
よって容易に水素を発生することが知られている。シリ
コーン以外の被８）用樹脂組成物も水素を含んでいるの
で、これらもシリコーンと同様に水素を発生する。もち
論光ファイバケーブルには、被覆用樹脂組成物のほかに
各種のプラスチック材料、有機材料、金属材料が用いら
れているので、これらも水素の発生源となり得る。
よって容易に水素を発生することが知られている。シリ
コーン以外の被８）用樹脂組成物も水素を含んでいるの
で、これらもシリコーンと同様に水素を発生する。もち
論光ファイバケーブルには、被覆用樹脂組成物のほかに
各種のプラスチック材料、有機材料、金属材料が用いら
れているので、これらも水素の発生源となり得る。
さて、周知のように、水素はプラスチックや石英ガラス
に対する拡散係数が大きいので、通？にの使用条件でも
石英ガラス光ファイバ中に拡散し、光ファイバの主成分
である５ｉ０２やドーパントであるＧｅＯ３などの格子
欠陥、特に酸素欠陥があると、拡散した水素を捕獲しＯ
Ｈ基を形成するので、伝送損失が増加するものと考えら
れている。
に対する拡散係数が大きいので、通？にの使用条件でも
石英ガラス光ファイバ中に拡散し、光ファイバの主成分
である５ｉ０２やドーパントであるＧｅＯ３などの格子
欠陥、特に酸素欠陥があると、拡散した水素を捕獲しＯ
Ｈ基を形成するので、伝送損失が増加するものと考えら
れている。
本発明はこれらの欠点を解決するため、被覆用樹脂組成
物または光ファイバの被覆層に水素痒加°用触媒を含有
させたものであり、その目的は、発生した水素を化学反
応により安定化させることにある。
物または光ファイバの被覆層に水素痒加°用触媒を含有
させたものであり、その目的は、発生した水素を化学反
応により安定化させることにある。
本発明者らは、被覆層または光フアイバケーブル構成材
料から発生した水素を、光ファイバに到達させず、ひい
ては経時的な伝送損失の増加を抑える方法を種々検討し
た結果、水素添加反応を利用することにより、発生する
水素の量が著しく減少することを見出した。
料から発生した水素を、光ファイバに到達させず、ひい
ては経時的な伝送損失の増加を抑える方法を種々検討し
た結果、水素添加反応を利用することにより、発生する
水素の量が著しく減少することを見出した。
水素添加反応とは、水添反応または水素化反応と称され
ることもあり、一般には次式に例として示した触媒１％
ｌ （Ｐｄ 、 Ｐｔ 、 Ｎｉ 、 Ｃｕ ） ｔ７
＞存在下における不飽和化合物等への水素の付加反応で
ある。
ることもあり、一般には次式に例として示した触媒１％
ｌ （Ｐｄ 、 Ｐｔ 、 Ｎｉ 、 Ｃｕ ） ｔ７
＞存在下における不飽和化合物等への水素の付加反応で
ある。
ｃｉ
Ｒ−ＧヨＣＨ＋ Ｈ２→Ｒ−ＯＨ＝ ＧＨ２ｄ
Ｒ−ＯＨ＝ ＯＨ２＋ Ｈ２→Ｒ−０Ｈ２０Ｈ８Ｒつ＋
８Ｈ２υＲ０ Ｕ Ｒ−Ｎｏ□＋８Ｈ２→Ｒ−ＮＨ２＋ ２Ｈ２０さて、被
覆層を形成する樹脂組成物は一般に各種の不飽和結合を
含んでいる。例えば紫外線照射によって硬化する被覆用
樹脂組成物は、一般にアクリレート類が用いられている
ので、光フアイバ存在する。またシリコーンを例にとれ
ば、被鎧用に用いられるシリコーンは、ビニル基（−Ｃ
！Ｈ＝ＣＨ２）とシリリジル基（ミＳｉＨ）との付加反
応で硬化が進むタイプであるので、被覆層うにはビニル
基か残存する。さらにポリブタジェンアクリレートやス
チレン系エラストマを代表するＳＢＳ （スチレン／ブ
タジェン／スチレンブロック共重合体）は、不飽和結合
である１、４−ポリブタジェンがその主な構成成分であ
る。
８Ｈ２υＲ０ Ｕ Ｒ−Ｎｏ□＋８Ｈ２→Ｒ−ＮＨ２＋ ２Ｈ２０さて、被
覆層を形成する樹脂組成物は一般に各種の不飽和結合を
含んでいる。例えば紫外線照射によって硬化する被覆用
樹脂組成物は、一般にアクリレート類が用いられている
ので、光フアイバ存在する。またシリコーンを例にとれ
ば、被鎧用に用いられるシリコーンは、ビニル基（−Ｃ
！Ｈ＝ＣＨ２）とシリリジル基（ミＳｉＨ）との付加反
応で硬化が進むタイプであるので、被覆層うにはビニル
基か残存する。さらにポリブタジェンアクリレートやス
チレン系エラストマを代表するＳＢＳ （スチレン／ブ
タジェン／スチレンブロック共重合体）は、不飽和結合
である１、４−ポリブタジェンがその主な構成成分であ
る。
このように水ｇ−′添加用触媒を含有した破’ＩＪ Ｉ
？・）は、被覆層から発生した水素または外部から侵入
した水素等を化学反応により安定化するので、経時的゛
な伝送損失の増加の極めて少ない高品質な光ファイバを
提供できる。さらにナイロンやポリエチレンのように、
不飽和結合が極めて少ない樹脂組成物において、水素添
加用触媒の効果が認められる。
？・）は、被覆層から発生した水素または外部から侵入
した水素等を化学反応により安定化するので、経時的゛
な伝送損失の増加の極めて少ない高品質な光ファイバを
提供できる。さらにナイロンやポリエチレンのように、
不飽和結合が極めて少ない樹脂組成物において、水素添
加用触媒の効果が認められる。
これは微量の不飽和結合への水素添加反応のほかに、次
のようなことが推定される。すなわち水素添加反応は一
般に接触反応であるので、反応はまず水素が触媒に吸着
するプロセスをとる。したがってこの触媒への物理吸着
により水素が安定化したものと考えることができる。
のようなことが推定される。すなわち水素添加反応は一
般に接触反応であるので、反応はまず水素が触媒に吸着
するプロセスをとる。したがってこの触媒への物理吸着
により水素が安定化したものと考えることができる。
［？Ｊ下、本発明について詳細に説明する。
本発明における石英系光ガラスファイバは、コアおよび
クラッドを備えており、石英ガラス（Ｓ１ｎｓ）を主成
分とする。該光ファイバは、ＶＡＩｊ法、ＭＧＶＤ法、
ＯＶＤ法、ＰＣＶＤ法などの母材製造手段を介して製造
されたプリフォームフッドを紡糸することにより得られ
る。該光ファイバはコアが高屈折率のドープト石英、ク
ラッドが純石英、またはコアが純石英、クラッドが低屈
折率のドープト石英、またはコア（高屈折率）、クラッ
ド（低屈折率）とも、ドープト石英から成る場合な゛ど
各種である。光ファイバのコア、クラッドに相対的な屈
折率差を持たせるドーパントとしては、ＧｅＯ、Ｐ Ｏ
、ＡＩ、０８． Ｂ２Ｏ３，ＦＺどがあり、２ ２５ ほかにもＴｉｅ□、 Ｔａ２Ｏ３，ＳｎＯ２，Ｎｂ２Ｏ
，、ＺｒＯ２゜ｙｂ２ｏ８＋ Ｌａｚｏａ ｌ Ｇａ２
Ｏ３，Ａｇ２Ｏなどが適宜に１月いられる。
クラッドを備えており、石英ガラス（Ｓ１ｎｓ）を主成
分とする。該光ファイバは、ＶＡＩｊ法、ＭＧＶＤ法、
ＯＶＤ法、ＰＣＶＤ法などの母材製造手段を介して製造
されたプリフォームフッドを紡糸することにより得られ
る。該光ファイバはコアが高屈折率のドープト石英、ク
ラッドが純石英、またはコアが純石英、クラッドが低屈
折率のドープト石英、またはコア（高屈折率）、クラッ
ド（低屈折率）とも、ドープト石英から成る場合な゛ど
各種である。光ファイバのコア、クラッドに相対的な屈
折率差を持たせるドーパントとしては、ＧｅＯ、Ｐ Ｏ
、ＡＩ、０８． Ｂ２Ｏ３，ＦＺどがあり、２ ２５ ほかにもＴｉｅ□、 Ｔａ２Ｏ３，ＳｎＯ２，Ｎｂ２Ｏ
，、ＺｒＯ２゜ｙｂ２ｏ８＋ Ｌａｚｏａ ｌ Ｇａ２
Ｏ３，Ａｇ２Ｏなどが適宜に１月いられる。
本発明における水素添加用触媒としては、ニッケル、パ
ラジウム、白金、コバルト、アルミニウム、銅、鉄、銀
、錫、モリブデン、ロジウム、チ′□タン、バナジウム
およびこれらの化合物等があげられる。上記の金属は、
例えばＡｄａｍ ｓ触媒、ラネーニッケルのように活性
化して用いると、より大きな効果が期待できる。また該
化合物またはその形態を例示すると、アルミナでサポー
トされた銅、アルミナでサポートされたニッケル、アル
ミニウム／モリブデン／ニッケル、アルミニウム／ニッ
ケル／チタン合金、アルミニウム／パラジウムスルフィ
ド、アルミニウム／ラネーニッケル合金、コバルト／ア
ルミニウム、コバルト／アミンコンブ゛レックス、コバ
ルトカルボニルコンプレックス、＝＋ ／（ル′ト／鉄
、コバルト／モリブデン、コバルト／モリブデンオキサ
イド、コバルト／ニッケル／チタニア、酸化コバルト／
モリブデンオキサイド、銅／アルミニウム、銅／アルミ
ニウム／ニッケルー゛、銅／６ニツケル合金、銅／パラ
ジウム、銅／亜鉛、銅／酸化亜鉛、銅／酸化亜鉛／ケイ
素、鉄／アルミナ、酸化鉄／ケイ素、鉄／チタン合金、
ニッケル／アルミニウム、ニッケル／アルミニウムフォ
ス７エイト／アルミナ、ニッケル／プラチナ、二１゛′
ツケル／銅、ニッケル／チタン、パラジウム／アｙｖ
ミ＋ 、酸化パラジウム、プラチナ／アルミナ、プラチ
ナ／チタン、プラチナ／酸化プラチナ、等があげられる
。これらのうち、価格、反応性の高さ、入手しやすさ等
から、ニッケル、白金、パヂジウムおよびこれらの化合
物が本発明に適している。
ラジウム、白金、コバルト、アルミニウム、銅、鉄、銀
、錫、モリブデン、ロジウム、チ′□タン、バナジウム
およびこれらの化合物等があげられる。上記の金属は、
例えばＡｄａｍ ｓ触媒、ラネーニッケルのように活性
化して用いると、より大きな効果が期待できる。また該
化合物またはその形態を例示すると、アルミナでサポー
トされた銅、アルミナでサポートされたニッケル、アル
ミニウム／モリブデン／ニッケル、アルミニウム／ニッ
ケル／チタン合金、アルミニウム／パラジウムスルフィ
ド、アルミニウム／ラネーニッケル合金、コバルト／ア
ルミニウム、コバルト／アミンコンブ゛レックス、コバ
ルトカルボニルコンプレックス、＝＋ ／（ル′ト／鉄
、コバルト／モリブデン、コバルト／モリブデンオキサ
イド、コバルト／ニッケル／チタニア、酸化コバルト／
モリブデンオキサイド、銅／アルミニウム、銅／アルミ
ニウム／ニッケルー゛、銅／６ニツケル合金、銅／パラ
ジウム、銅／亜鉛、銅／酸化亜鉛、銅／酸化亜鉛／ケイ
素、鉄／アルミナ、酸化鉄／ケイ素、鉄／チタン合金、
ニッケル／アルミニウム、ニッケル／アルミニウムフォ
ス７エイト／アルミナ、ニッケル／プラチナ、二１゛′
ツケル／銅、ニッケル／チタン、パラジウム／アｙｖ
ミ＋ 、酸化パラジウム、プラチナ／アルミナ、プラチ
ナ／チタン、プラチナ／酸化プラチナ、等があげられる
。これらのうち、価格、反応性の高さ、入手しやすさ等
から、ニッケル、白金、パヂジウムおよびこれらの化合
物が本発明に適している。
本発明における樹脂組成物としては、通常の光フアイバ
被覆用樹脂組成物が適用できる。例えばこれらの主成分
としてエポキシアクリレ−）、つ”″レタンアクリレー
ト、ポリブタジェンアクリレート、シリコーン、シリコ
ーンアクリレート、不１ｕ和ポリエステル、ポリエンチ
オール、エポキシ、等の熱硬化性樹脂組成物、スチレン
系エラストマ、ポリエステル系エラストマ、ポリオレフ
ィン系エラストマ、ウレタン系エラストマ、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリブタジェン、ナイロン、）Ｓ
の熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマがあげられる。ま
た場合によっては、アルミニウム、錫端の金属があげら
れる。樹脂組成物とは、これらの主成分をさすか、また
はこれらの主成分と必要に応じて添加された各種の添加
剤、例えば希釈剤、溶媒、重合開始剤、酸化防止剤、老
化防止剤、紫外線吸収剤、架橋剤、オイル、接着性付与
剤、フィラー等との混合物を言う。本発明におけるウレ
タンアクリレートとは、ウレタン結合を有し、（１に！
化反応がアクリロイル基で進む樹脂をさす。エポキシア
クリレートとは、オキシラン環を有する化合物とアクリ
ル酸もしくはアクリル酸エステルもしくはアクリル酸ハ
ライドの反応生成物、またζ、ｔメキシラン環を有し、
主な架橋反応がアクリロイル基で進む樹脂を言う。本発
明におけるシリコーンとは、ポリジメチルシロキサンま
たはポリメチルフェニルシロキサンと称されるものであ
り、加熱によって硬化するタイプと紫外線によって硬化
するタイプがあるが、架橋に関与する官能基は特に限定
するものではない。シリコーンアクリレートはシリコー
ンの一種と見なすことができるが、反応に関与する主な
官能基がアクリロイル基である樹脂を言う。本発明にお
けるポリブタジェンアクリレートとは、主な骨格が１．
４−ブタジェン結合であり、末端および／または側鎖に
アクリロイル基を持つ樹脂を言う。本発明におけるスチ
レン系エラストマとは、スチレン／ブタジェン／スチレ
ンブロック共重合体（ＳＢＳ）、スチレン／イソプレン
／スチレンブロック共重合体（Ｓ工Ｓ）、スチレン／エ
チレン・ブチレン／スチレンブロック共重合体（ＳＥＢ
Ｓ）の総称であり、これらの詳細な構造等は特に限定す
るものではない。本発明ニおけるぎりエステル系エラス
トマとは、一般°にテレフタル酸系ポリエステルハード
セグメントとポリエーテルソフトセグメントから構成さ
れるマルチブロック共電゛合体を言い、これらのＲ，７
ｉ六、組成等を特に限定するものではない。また本発明
におけるポリエチレンはその製造方法、Ｉｆｌｊ造、特
性等を特に限定するものではない。本発明におりるナイ
ロンとは、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン６１０
、ナイロン１１、ナイ°ロン１２、共ｆ（合ナイロン等
があげられる。
被覆用樹脂組成物が適用できる。例えばこれらの主成分
としてエポキシアクリレ−）、つ”″レタンアクリレー
ト、ポリブタジェンアクリレート、シリコーン、シリコ
ーンアクリレート、不１ｕ和ポリエステル、ポリエンチ
オール、エポキシ、等の熱硬化性樹脂組成物、スチレン
系エラストマ、ポリエステル系エラストマ、ポリオレフ
ィン系エラストマ、ウレタン系エラストマ、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリブタジェン、ナイロン、）Ｓ
の熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマがあげられる。ま
た場合によっては、アルミニウム、錫端の金属があげら
れる。樹脂組成物とは、これらの主成分をさすか、また
はこれらの主成分と必要に応じて添加された各種の添加
剤、例えば希釈剤、溶媒、重合開始剤、酸化防止剤、老
化防止剤、紫外線吸収剤、架橋剤、オイル、接着性付与
剤、フィラー等との混合物を言う。本発明におけるウレ
タンアクリレートとは、ウレタン結合を有し、（１に！
化反応がアクリロイル基で進む樹脂をさす。エポキシア
クリレートとは、オキシラン環を有する化合物とアクリ
ル酸もしくはアクリル酸エステルもしくはアクリル酸ハ
ライドの反応生成物、またζ、ｔメキシラン環を有し、
主な架橋反応がアクリロイル基で進む樹脂を言う。本発
明におけるシリコーンとは、ポリジメチルシロキサンま
たはポリメチルフェニルシロキサンと称されるものであ
り、加熱によって硬化するタイプと紫外線によって硬化
するタイプがあるが、架橋に関与する官能基は特に限定
するものではない。シリコーンアクリレートはシリコー
ンの一種と見なすことができるが、反応に関与する主な
官能基がアクリロイル基である樹脂を言う。本発明にお
けるポリブタジェンアクリレートとは、主な骨格が１．
４−ブタジェン結合であり、末端および／または側鎖に
アクリロイル基を持つ樹脂を言う。本発明におけるスチ
レン系エラストマとは、スチレン／ブタジェン／スチレ
ンブロック共重合体（ＳＢＳ）、スチレン／イソプレン
／スチレンブロック共重合体（Ｓ工Ｓ）、スチレン／エ
チレン・ブチレン／スチレンブロック共重合体（ＳＥＢ
Ｓ）の総称であり、これらの詳細な構造等は特に限定す
るものではない。本発明ニおけるぎりエステル系エラス
トマとは、一般°にテレフタル酸系ポリエステルハード
セグメントとポリエーテルソフトセグメントから構成さ
れるマルチブロック共電゛合体を言い、これらのＲ，７
ｉ六、組成等を特に限定するものではない。また本発明
におけるポリエチレンはその製造方法、Ｉｆｌｊ造、特
性等を特に限定するものではない。本発明におりるナイ
ロンとは、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン６１０
、ナイロン１１、ナイ°ロン１２、共ｆ（合ナイロン等
があげられる。
本発明において樹脂組成物または被覆層に含有゛□され
る水素添加用触媒の量は特に限定するものではないが、
一般には０．０１〜ｌＯ重量％が適している。すなわち
０．０１％以下であると水素の捕捉が不十分であり、ま
た、１０％を越えると、破線用樹脂組成物が所望する特
性と異なる特性をもたらすことがある。
る水素添加用触媒の量は特に限定するものではないが、
一般には０．０１〜ｌＯ重量％が適している。すなわち
０．０１％以下であると水素の捕捉が不十分であり、ま
た、１０％を越えると、破線用樹脂組成物が所望する特
性と異なる特性をもたらすことがある。
一般に光ファイバには１層または複数の被幀層が設けら
れているが、本発明における水素添加用触媒を含有する
被覆層は特に限定するものではなく、第１Ｍもしくは第
２層もしくは第３１ｇＩ−−−ま°たはこれらの各層に
含有される。水素添加用触媒の種類、形状、濃度等を勘
案して、触媒が光ファイバの強度に悪影響を与えるおそ
れがある場合には、第２層以降の被覆層に適用される。
れているが、本発明における水素添加用触媒を含有する
被覆層は特に限定するものではなく、第１Ｍもしくは第
２層もしくは第３１ｇＩ−−−ま°たはこれらの各層に
含有される。水素添加用触媒の種類、形状、濃度等を勘
案して、触媒が光ファイバの強度に悪影響を与えるおそ
れがある場合には、第２層以降の被覆層に適用される。
以下実施例について説明する。
実施例１
１＃４−ポリブタジェンアクリレートを主成分とする樹
脂組成物１００９にパラジウム３りを加えた組成物に、
高圧水銀灯を用い紫外線を照射して硬化物のシートを得
た。該シート１９を空気中２００°Ｃで４時間加熱し、
発生ガスをガスクロマトグラフにより分析したところ、
水素の鑓は０．０００５ ｍｌ／ ９（検出限界）以下
であった。
脂組成物１００９にパラジウム３りを加えた組成物に、
高圧水銀灯を用い紫外線を照射して硬化物のシートを得
た。該シート１９を空気中２００°Ｃで４時間加熱し、
発生ガスをガスクロマトグラフにより分析したところ、
水素の鑓は０．０００５ ｍｌ／ ９（検出限界）以下
であった。
以下実施例２〜６を表１にまとめる。水素ガス”の測定
条件は実施例１と同じである。
条件は実施例１と同じである。
、実施例７
ビニル基（−ＣＨ＝ＣＨ２）とシリリジル基（＝ｓｉＨ
）とで架橋が進むシリコーンに、白金５％を加えた組成
物を加熱硬化して該当するシートを得た。またナイロン
１２に白金１％を加えた組成物をプレス成形し、該当す
るシートを得た。シリコ−） ０．５７とナイロンシー
ト０．５２とを一緒にして実施例１と回り方法により操
作し、分析したところ水素の量は０．０００７ ｔｄ／
りであった。
）とで架橋が進むシリコーンに、白金５％を加えた組成
物を加熱硬化して該当するシートを得た。またナイロン
１２に白金１％を加えた組成物をプレス成形し、該当す
るシートを得た。シリコ−） ０．５７とナイロンシー
ト０．５２とを一緒にして実施例１と回り方法により操
作し、分析したところ水素の量は０．０００７ ｔｄ／
りであった。
比較例１
実施例３において水素添加用触媒を含まないウレタンア
クリレートを用い、実施例１と同じ方法により水素を分
析した。水素の発生量は０．００１８−／９であった。
クリレートを用い、実施例１と同じ方法により水素を分
析した。水素の発生量は０．００１８−／９であった。
比較例２
実施例５において水素添加用触媒を含まないシリコーン
を用い、実施例１と同じ方法により分析した。水素の発
生量は０，０２４ｆｎｔ／ｇであった。
を用い、実施例１と同じ方法により分析した。水素の発
生量は０，０２４ｆｎｔ／ｇであった。
比較例３
水素添加用触媒を含まない点を除いて、実施例、７と同
じ材料を用い、実施例１と同じ方法によりζ発生した水
素を分析したところ０．１７８ ｄ／りであった。
じ材料を用い、実施例１と同じ方法によりζ発生した水
素を分析したところ０．１７８ ｄ／りであった。
実施例８
実施例１に示した材料を被覆した光ファイバを２００℃
で４時間加熱した後の波長１．３９μｍにおける伝送損
失の増加は０．０５ ｄＢ ／ ｈｍ以下であった。
で４時間加熱した後の波長１．３９μｍにおける伝送損
失の増加は０．０５ ｄＢ ／ ｈｍ以下であった。
実施例９
実施例２に示した材料を被覆した光ファイバを２００
’Ｃで４時間加熱した後の波長１，３９ ｆｌｍにおけ
る伝送損失の増加は０．０６ ｄ１３ ／ｌｏｇであっ
た。
’Ｃで４時間加熱した後の波長１，３９ ｆｌｍにおけ
る伝送損失の増加は０．０６ ｄ１３ ／ｌｏｇであっ
た。
実施例１０
実施例７に示したシリコーンを被覆した光フアイバ素線
にさらに実施例７に示したナイロン１２を押出成形によ
り被覆した。該被覆光ファイバを実施例８と同じ方法に
より測定したところ、波長１．３９μｍにおける伝送損
失の増加は０．０７ ｄＢ／ ｂであった。
にさらに実施例７に示したナイロン１２を押出成形によ
り被覆した。該被覆光ファイバを実施例８と同じ方法に
より測定したところ、波長１．３９μｍにおける伝送損
失の増加は０．０７ ｄＢ／ ｂであった。
比較例４
比較例１に示した材料を用い、該当する被覆光ファイバ
を得た。該被覆光ファイバを実施例８と同じ方法により
測定したところ、波長１．３９μｍにおける伝送損失の
増加は１．ｌｄＢ／−であった。
を得た。該被覆光ファイバを実施例８と同じ方法により
測定したところ、波長１．３９μｍにおける伝送損失の
増加は１．ｌｄＢ／−であった。
比較例５
比較例８に示した材料を用いて該当するシリコーン／ナ
イロン被覆ファイバを得た。該被覆光ファイバを実施例
８と同じ方法により測定したところ、波長１．３９μｍ
における伝送損失の増加は１ＯｄＢ／−以上であった。
イロン被覆ファイバを得た。該被覆光ファイバを実施例
８と同じ方法により測定したところ、波長１．３９μｍ
における伝送損失の増加は１ＯｄＢ／−以上であった。
以上説明したように、本発明によれば、水素ガスの発生
を抑えることができるので、経時的な伝送損失の増加の
少ない高品質光ファイバが得られる。
を抑えることができるので、経時的な伝送損失の増加の
少ない高品質光ファイバが得られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 石英系光ガラスファイバの外周にまたは被覆した石
英系光ガラスファイバの外周に被覆する光フアイバ被覆
用樹脂組成物において、水素添加用触媒を含むことを特
徴とする光フアイバ被覆用樹脂組成物。 １ 水素添加用触媒がニッケル、パラジウム、白金およ
びこれらの化合物から選ばれた１種以上であることを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の光フアイバ被覆用
樹脂組成物。 ＆ 樹脂組成物の主成分がウレタンアクリレート・エポ
キシアクリレート、ポリブタジェンアクリレート、シリ
コーン、シリコーンアクリレート、スチレン系エラスト
マ、ポリエステル系エラストマ、ポリエチレン、ナイロ
ンのいずれかであることを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載の光ファイバ被覆用樹脂組成物８表 石英系ガ
ラスから成る光ファイバの外周に１樹脂組成物から成る
１層以上の被覆層が形成された被覆ファイバにおいて、
少なくとも１層以上の被覆層に水素添加用触媒を含むこ
とを特徴とする被覆光ファイバ。 ＆ 水素ｍ 加用触媒がニッケル、パラジウム、白金お
よびこれらの化合物から選ばれた１種以上であることを
特徴とする特許請求の範囲第４項記載の被覆光ファイバ
。 ＆ 樹脂組成物の主成分がウレタンアクリレ−ト、エポ
キシアクリレート、ポリブタジェンアクリレート、シリ
コーン、シリコーンアクリレート、スチレン系エラスト
マ、ポリエステル系エラストマ、ポリエチレン、ナイロ
ンから選ばれた１種以上であることを特徴とする特許請
求の範囲第４項記載の被覆光ファイバ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59001830A JPS60145938A (ja) | 1984-01-11 | 1984-01-11 | 光フアイバ被覆用樹脂組成物および被覆光フアイバ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59001830A JPS60145938A (ja) | 1984-01-11 | 1984-01-11 | 光フアイバ被覆用樹脂組成物および被覆光フアイバ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60145938A true JPS60145938A (ja) | 1985-08-01 |
Family
ID=11512479
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59001830A Pending JPS60145938A (ja) | 1984-01-11 | 1984-01-11 | 光フアイバ被覆用樹脂組成物および被覆光フアイバ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60145938A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01257151A (ja) * | 1988-04-07 | 1989-10-13 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 光通信ガラスファイバ用被覆剤及び光通信ガラスファイバ |
| US5258435A (en) * | 1991-03-13 | 1993-11-02 | Bayer Aktiengesellschaft | Palladium-containing polymer composition and a process for its preparation |
| CN113736114A (zh) * | 2021-06-23 | 2021-12-03 | 江苏怡丽科姆新材料股份有限公司 | 一种耐磨柔性扩散膜及其制备工艺 |
-
1984
- 1984-01-11 JP JP59001830A patent/JPS60145938A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01257151A (ja) * | 1988-04-07 | 1989-10-13 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 光通信ガラスファイバ用被覆剤及び光通信ガラスファイバ |
| US5258435A (en) * | 1991-03-13 | 1993-11-02 | Bayer Aktiengesellschaft | Palladium-containing polymer composition and a process for its preparation |
| CN113736114A (zh) * | 2021-06-23 | 2021-12-03 | 江苏怡丽科姆新材料股份有限公司 | 一种耐磨柔性扩散膜及其制备工艺 |
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