JPS6014779B2 - 難燃性樹脂組成物成形体の製造方法 - Google Patents
難燃性樹脂組成物成形体の製造方法Info
- Publication number
- JPS6014779B2 JPS6014779B2 JP16157179A JP16157179A JPS6014779B2 JP S6014779 B2 JPS6014779 B2 JP S6014779B2 JP 16157179 A JP16157179 A JP 16157179A JP 16157179 A JP16157179 A JP 16157179A JP S6014779 B2 JPS6014779 B2 JP S6014779B2
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- JP
- Japan
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- molded article
- resin composition
- weight
- parts
- retardant resin
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- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は特性の向上した難燃性樹脂組成物成形体の製
造方法に関するものである。
造方法に関するものである。
塩化ビニルあるいはクロロプレンゴムなどの塩素含有高
分子物質は非常に優れた難燃性を有していることから、
各種電線ケーブル用の被覆材料、電気部品、パネル材あ
るいはシール材などに多量に用いられて居り、更に近年
防災上の見地からかかる鱗燃化材料の使用が義務づけら
れるなどの諸傾向も見られる状況にある。
分子物質は非常に優れた難燃性を有していることから、
各種電線ケーブル用の被覆材料、電気部品、パネル材あ
るいはシール材などに多量に用いられて居り、更に近年
防災上の見地からかかる鱗燃化材料の使用が義務づけら
れるなどの諸傾向も見られる状況にある。
しかし一方、かかる塩素含有高分子物質は、燃焼時には
多量の塩化水素ガスを放出し、災害発生時に該塩化水素
ガスによる周辺機器の腐蝕など経済的損失のみならず、
最悪の場合には有害な塩化水素ガスによる人身への事故
等の発生の恐れもあるなどの重大な問題があった。
多量の塩化水素ガスを放出し、災害発生時に該塩化水素
ガスによる周辺機器の腐蝕など経済的損失のみならず、
最悪の場合には有害な塩化水素ガスによる人身への事故
等の発生の恐れもあるなどの重大な問題があった。
そこでこのような塩素ガスの発生量をできるだけ少なく
するような手段として、上述した塩素含有高分子による
組成物中に、周期律表第ｎ族金属の酸化物、水酸化物、
または炭酸塩を適宜配合しておきこれにより燃焼時に生
ずる灰分中に塩化水素ガスを捕捉する方法が知られてい
る。
するような手段として、上述した塩素含有高分子による
組成物中に、周期律表第ｎ族金属の酸化物、水酸化物、
または炭酸塩を適宜配合しておきこれにより燃焼時に生
ずる灰分中に塩化水素ガスを捕捉する方法が知られてい
る。
しかしこの場合上記塩化水素ガスの充分量を捕捉するた
めには、上記酸化物、水酸化物または炭酸塩の組成物へ
の配合量を相当に増量しなければならず、かかる物質の
組成物中への混合量の増加は他方で該組成物の機械的性
質や耐水性などを著しく低下させ本来の目的に適合し得
なくなるに至るなどの問題があった。
めには、上記酸化物、水酸化物または炭酸塩の組成物へ
の配合量を相当に増量しなければならず、かかる物質の
組成物中への混合量の増加は他方で該組成物の機械的性
質や耐水性などを著しく低下させ本来の目的に適合し得
なくなるに至るなどの問題があった。
ここに発明者等はかかる問題を鱗決すべ〈鋭意検討を重
ねた結果、上記の如き組成物に対して後に詳しく述べる
アセナフチレン、その機能的誘導体又はハロゲン化ィン
デンなどの物質を適宜混合しておくことが有効であるこ
とを見出しこの発明を完成したのである。
ねた結果、上記の如き組成物に対して後に詳しく述べる
アセナフチレン、その機能的誘導体又はハロゲン化ィン
デンなどの物質を適宜混合しておくことが有効であるこ
とを見出しこの発明を完成したのである。
即ちこの発明は、塩素含有高分子物質１０の重量部に対
し、周期律表第０族金属の酸化物、水酸化物または炭酸
塩のいずれかを少なくとも５の重量部と、一般式、（式
中Ｒは炭素数１〜４のアルキル基、塩素または臭素であ
り、ｍは０〜６の整数である）で表はされるアセナフチ
レンまたはその機能的誘導体、または一般式、（式中×
は塩素または臭素であり、ｎは２〜７の整数である）で
表はされるハロゲン化ィンデンの群から選ばれた１種ま
たは２種以上の物質を少なくとも０．５重量部とを配合
した組成物にて、所望の成形体を賦形した後、得られた
成形体に遊離基発生処理を施すことを特徴とする難燃性
樹脂組成物成形体の製造方法である。
し、周期律表第０族金属の酸化物、水酸化物または炭酸
塩のいずれかを少なくとも５の重量部と、一般式、（式
中Ｒは炭素数１〜４のアルキル基、塩素または臭素であ
り、ｍは０〜６の整数である）で表はされるアセナフチ
レンまたはその機能的誘導体、または一般式、（式中×
は塩素または臭素であり、ｎは２〜７の整数である）で
表はされるハロゲン化ィンデンの群から選ばれた１種ま
たは２種以上の物質を少なくとも０．５重量部とを配合
した組成物にて、所望の成形体を賦形した後、得られた
成形体に遊離基発生処理を施すことを特徴とする難燃性
樹脂組成物成形体の製造方法である。
この発明が上記の問題を解決し得た理由は必らずしもこ
れを詳らかになし得た訳ではないが、前記の酸化物、水
酸化物等を含む組成物中に上記のアセナフチレン、その
機能的誘導体またはハロゲン化ィンデンなどの適量が混
合され、成形体に賦形された後にこの成形体に遊離基発
生処理が施されることにより、該成形体中で混入された
アセナフチレン、その機能的誘導体またはハロゲン化ィ
ンデンがその一部がベースポリマーにグラフト重合して
更に又一部はポリマー同士の架橋に関与して該成形体に
三次元網目状構造を形成することにより特性低下が抑制
され好結果をもたらすものと考えられる。
れを詳らかになし得た訳ではないが、前記の酸化物、水
酸化物等を含む組成物中に上記のアセナフチレン、その
機能的誘導体またはハロゲン化ィンデンなどの適量が混
合され、成形体に賦形された後にこの成形体に遊離基発
生処理が施されることにより、該成形体中で混入された
アセナフチレン、その機能的誘導体またはハロゲン化ィ
ンデンがその一部がベースポリマーにグラフト重合して
更に又一部はポリマー同士の架橋に関与して該成形体に
三次元網目状構造を形成することにより特性低下が抑制
され好結果をもたらすものと考えられる。
この発明で用いられる塩素含有高分子物質としては、塩
化ビニル重合体、後塩素化塩化ビニル重合体、エチレン
−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニルーグラフ
ト塩化ビニル共重合体、エチレンーェチルアクリレート
ーグラフト塩化ビニル共重合体、エチレン‐プロピレン
ーグラフト塩化ビニル共重合体、塩素化ポリエチレン、
塩素化ポリエチレンーグラフト塩化ビニル共重合体、ク
ロロプレンゴム、クロロスルフオン化ポリエチレン等が
ある。
化ビニル重合体、後塩素化塩化ビニル重合体、エチレン
−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニルーグラフ
ト塩化ビニル共重合体、エチレンーェチルアクリレート
ーグラフト塩化ビニル共重合体、エチレン‐プロピレン
ーグラフト塩化ビニル共重合体、塩素化ポリエチレン、
塩素化ポリエチレンーグラフト塩化ビニル共重合体、ク
ロロプレンゴム、クロロスルフオン化ポリエチレン等が
ある。
又周期律表第ｎ族金属の酸化物、水酸化物、炭酸塩とし
ては、酸化カルシウム、水酸化カルシウム、炭酸カルシ
ウム、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、炭酸マ
グネシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムな
どが挙げられるが、一般に樹脂類に対する混和性に優れ
ているなどの理由から特に炭酸カルシウム、炭酸マグネ
シウムが好ましい。そしてその高分子物質１０の重量部
に対する配合量は用いた高分子物質中の塩素含有量にも
よるが少なくとも５の重量部が必要である。次に上記一
般式で示されたアセナフチレンおよびその機能的誘導体
としては、５，６−ジメチルーアセナフチレン、３，５
，６，８ーテトラメチルアセナフチレン、５，６ージヱ
チルアセナフチレン、３，５，６，８ーテトラエチルア
セナフチレン、３，５ージプロピルアセナフチレン、３
，５，６，８ーテトラプロピルアセナフチレン、３，５
−ジブチルアセナフチレン、３，５，６，８ーテトラブ
チルアセナフチレン、１，３，５ートリブロモアセナフ
チレン、３，５，６，８ーテトラブロモアセナフチレン
、１，３，５ートリクロルアセナフチレン、３，５，６
，８−テトラクロルアセナフチレン、３，４，５，６，
７，８−へキサブロモアセナフチレン、３，４，５，６
，７，８−へキサクロルアセナフチレンなどが挙げられ
、又上記一般式によるハロゲン化インデンとしては、４
，５，７，ートリブロモインデン、４，５，７，一トリ
クロルインデン、１，３，４，５，７一ベンタブロモイ
ンデン、１，３，４，５，７一ベンタクロルインデン、
１，１，３，４，５，６，７一ベンタクロルィンデン等
があり、これらの１種又は２種以上選択して配合される
。
ては、酸化カルシウム、水酸化カルシウム、炭酸カルシ
ウム、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、炭酸マ
グネシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムな
どが挙げられるが、一般に樹脂類に対する混和性に優れ
ているなどの理由から特に炭酸カルシウム、炭酸マグネ
シウムが好ましい。そしてその高分子物質１０の重量部
に対する配合量は用いた高分子物質中の塩素含有量にも
よるが少なくとも５の重量部が必要である。次に上記一
般式で示されたアセナフチレンおよびその機能的誘導体
としては、５，６−ジメチルーアセナフチレン、３，５
，６，８ーテトラメチルアセナフチレン、５，６ージヱ
チルアセナフチレン、３，５，６，８ーテトラエチルア
セナフチレン、３，５ージプロピルアセナフチレン、３
，５，６，８ーテトラプロピルアセナフチレン、３，５
−ジブチルアセナフチレン、３，５，６，８ーテトラブ
チルアセナフチレン、１，３，５ートリブロモアセナフ
チレン、３，５，６，８ーテトラブロモアセナフチレン
、１，３，５ートリクロルアセナフチレン、３，５，６
，８−テトラクロルアセナフチレン、３，４，５，６，
７，８−へキサブロモアセナフチレン、３，４，５，６
，７，８−へキサクロルアセナフチレンなどが挙げられ
、又上記一般式によるハロゲン化インデンとしては、４
，５，７，ートリブロモインデン、４，５，７，一トリ
クロルインデン、１，３，４，５，７一ベンタブロモイ
ンデン、１，３，４，５，７一ベンタクロルインデン、
１，１，３，４，５，６，７一ベンタクロルィンデン等
があり、これらの１種又は２種以上選択して配合される
。
そしてその配合量はこの発明の効果を発揮させるために
上記の高分子物質１００重量部に対して少なくとも０．
５重量部の量が必要である。次に以上の如き組成物はこ
れを適当な成形体に成形するのであるが、その成形法と
しては押出形、加圧成形あるいはロール成形など特に限
定なく適用できる。この発明では、得られた成形体に対
して遊離基発生処理を施すのであるが、その手段として
は、組成物中に予めジクミルパーオキサィド、１，３ー
ビス（ｔーブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、
２，５ージメチルー２，５−ジ（ｔーフチルパーオキシ
）へキシン−３，ジーｔ一ブチルパーオキサイド、ｔー
ブチルハイドロパーオキサイド、ジ−イソプロピルベン
ゼンハイドロパーオキサィド、クメンハイドロパーオキ
サィド、等の有機過酸化物の適量を混入させて加熱する
か、あるいは成形体に対して８線、．ｙ線、電子線等の
電離性放射線を照射する等の方法がある。
上記の高分子物質１００重量部に対して少なくとも０．
５重量部の量が必要である。次に以上の如き組成物はこ
れを適当な成形体に成形するのであるが、その成形法と
しては押出形、加圧成形あるいはロール成形など特に限
定なく適用できる。この発明では、得られた成形体に対
して遊離基発生処理を施すのであるが、その手段として
は、組成物中に予めジクミルパーオキサィド、１，３ー
ビス（ｔーブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、
２，５ージメチルー２，５−ジ（ｔーフチルパーオキシ
）へキシン−３，ジーｔ一ブチルパーオキサイド、ｔー
ブチルハイドロパーオキサイド、ジ−イソプロピルベン
ゼンハイドロパーオキサィド、クメンハイドロパーオキ
サィド、等の有機過酸化物の適量を混入させて加熱する
か、あるいは成形体に対して８線、．ｙ線、電子線等の
電離性放射線を照射する等の方法がある。
尚本発明において上記組成物に対しては、使用目的に応
じて補強剤、増量剤、顔料、滑剤、熱、光安定剤などを
特性を低下させない範囲で加えることは勿論差支えない
。
じて補強剤、増量剤、顔料、滑剤、熱、光安定剤などを
特性を低下させない範囲で加えることは勿論差支えない
。
本発明によれば、以上の説明及び後記実施例から明らか
なように、機械的特性の低下を抑えつつ塩化水素ガス発
生量の少ない難燃性樹脂組成物成形体を得ることができ
るものであり、経済的及び安全上の効果が大きく工業的
利用価値は非常に大きい。
なように、機械的特性の低下を抑えつつ塩化水素ガス発
生量の少ない難燃性樹脂組成物成形体を得ることができ
るものであり、経済的及び安全上の効果が大きく工業的
利用価値は非常に大きい。
以下実施例によりこの発明を具体的に説明する。
実施例１〜８及び比較例１〜３
塩化ビニル重合体、炭酸カルシウム及びアセナフチレン
等を表１の組成にて加熱ロルにて良く練和し１側厚のシ
ートにプレス成形した後電子線加速器にて該シートに電
子線を照射した。
等を表１の組成にて加熱ロルにて良く練和し１側厚のシ
ートにプレス成形した後電子線加速器にて該シートに電
子線を照射した。
得られたシートに関して機械特性、耐油性を試験し（Ｊ
ＩＳＫ−２７６３による）、又同時に塩素ガス発生量を
測定し（ＪＣＳＣ第５３号による）結果を同表に示した
。第 １ 表 ＊１ 塩化ピニル重合体：ゼオン１０３ＥＰ ＊２
ＤＯＰ：ジォクチルフタレート＊３ Ｄ．Ｂ．Ｌ。
ＩＳＫ−２７６３による）、又同時に塩素ガス発生量を
測定し（ＪＣＳＣ第５３号による）結果を同表に示した
。第 １ 表 ＊１ 塩化ピニル重合体：ゼオン１０３ＥＰ ＊２
ＤＯＰ：ジォクチルフタレート＊３ Ｄ．Ｂ．Ｌ。
：二塩基性ステァリン酸鉛 ＊４ 炭酸カルシ
ウム：平均粒子径 ０．０５〃＊５ 耐油条件は７０℃
４Ｈｒ油槽Ｋ最債実施例９〜１５及び比較例４〜６ポ
リマーとしてクロロプレンゴムを用い、アセナフチレン
などを表２の組成にて加えて加熱ロールにて良〈練和し
、１６０ｑ０３０分間プレス成形して１帆厚のシートを
得た。
ウム：平均粒子径 ０．０５〃＊５ 耐油条件は７０℃
４Ｈｒ油槽Ｋ最債実施例９〜１５及び比較例４〜６ポ
リマーとしてクロロプレンゴムを用い、アセナフチレン
などを表２の組成にて加えて加熱ロールにて良〈練和し
、１６０ｑ０３０分間プレス成形して１帆厚のシートを
得た。
得られたシートに関して実施例１に準じて電子線を照射
すると共に諸特性を調べ結果を同表に示した。
すると共に諸特性を調べ結果を同表に示した。
第 ２ 表
＊１ 肘油条件は１２０℃ １８Ｈｒ油槽に浸債上記表
の結果によれば、比較例１，３は炭酸カルシウムがない
か又はその量が少なく塩化水素ガス発生が著しく多く、
比較例２，３及び５は炭酸カルシウムの増量によりこれ
が改善されているが機械特性および耐油性が低下してし
まうのに対し実施例ではこのような問題が著しく改善さ
れていることが明らかである。
の結果によれば、比較例１，３は炭酸カルシウムがない
か又はその量が少なく塩化水素ガス発生が著しく多く、
比較例２，３及び５は炭酸カルシウムの増量によりこれ
が改善されているが機械特性および耐油性が低下してし
まうのに対し実施例ではこのような問題が著しく改善さ
れていることが明らかである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 塩素含有高分子物質１００重量部に対し、周期律表
第II金属の酸化物、水酸化物または炭酸塩のいずれかを
少なくとも５０重量部と、一般式▲数式、化学式、表等
があります▼ （式中Ｒは炭素数１〜４のアルキル基、
塩素または臭素であり、ｍは０〜６の整数である）で表
はされるアセナフチレンまたはその機能的誘導体、また
は一般式、▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｘは塩素または臭素であり、ｎは２〜７の整数
である）で表はされるハロゲン化インデンの群から選ば
れた１種または２種以上の物質を少なくとも０．５重量
部とを配合した組成物にて、所望の成形体を賦形した後
、得られた成形体に遊離基発生処理を施すことを特徴と
する難燃性樹脂組成物成形体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16157179A JPS6014779B2 (ja) | 1979-12-14 | 1979-12-14 | 難燃性樹脂組成物成形体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16157179A JPS6014779B2 (ja) | 1979-12-14 | 1979-12-14 | 難燃性樹脂組成物成形体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5684730A JPS5684730A (en) | 1981-07-10 |
| JPS6014779B2 true JPS6014779B2 (ja) | 1985-04-16 |
Family
ID=15737635
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16157179A Expired JPS6014779B2 (ja) | 1979-12-14 | 1979-12-14 | 難燃性樹脂組成物成形体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6014779B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI339776B (en) * | 2004-07-15 | 2011-04-01 | Shinetsu Chemical Co | Photoresist undercoat-forming material and patterning process |
-
1979
- 1979-12-14 JP JP16157179A patent/JPS6014779B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5684730A (en) | 1981-07-10 |
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