JPS60163230A - フロツピ−デイスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はフロッピーディスクに関し、更に詳しくは温度
膨張変化が均一であり且つ湿度膨張が著しく小さいフロ
ッピーディスクに関する。

従来技術 フロッピーディスクは磁気記録媒体の一つとして、例え
ばワードプロセッサー等のＯＡＩ器の２１１体として用
いられている。近年フロッピーディスクでは高記録密度
を図るために磁性層の薄層化の傾向が顕著であり、磁性
層の厚みが２μｍ以下のものも必要となってきている。

この薄層化による＾記録密度変化は１インチ当りの記録
密度を畠めるとともに記録トラック幅を狭めることによ
っτｊｔ成される。

しかし現在実用化されている基板のポリエステルフィル
ムは通常製膜方向に縦延伸したのち横方向に延伸して製
造されているのでエツジ部と中央部では若干熱膨張係数
が異なる現象がみとめられ、高密度記録化を進める場合
の障害となっている。

これを回避するためにフィルムの中心部のみを基板とし
て使用する場合、生産性が低下し、部どまりの低下が生
じるなどの問題がある。

更にポリエステルフィルム特にポリエチレンテレフタレ
ートフィルムに湿度膨張率が大きいという問題がある。

このため、フロッピーディスクへの環境変化の影響が大
となり、例えば冬季の乾燥期に記録した１〜ラツクの位
置が夏期の高温多湿時ではディスク中心からの距離で数
十μ以上ずれることが度々生じ、１−ラックはずれ等の
誤動作の原因になることからｆ１記録密度化の障害どな
っている。これらの問題は例えばザーボによりトラック
位置を検出り−ることにより解決できるが、これはハー
ドのコストを高める欠点がある。

発明の目的 本弁明の目的は、上述の問題を＠潤し、渇１哀膨張変化
が均一であり且つ湿度膨張が著しく小さいフロッピーデ
ィスクを提供することにある。

発明の椙成 本発明の目的は、基板の両面に磁性層を設けてなるフロ
ッピーディスクにおいて、該基板が、両面の表面粗さＲ
ａが０．２μｍ以下であるアルミ箔の両面に接着層を介
してポリエステルフィルムを積層してなりかつ５５０〜
８００ｋｇ／−の引張り初期Ｘ７ング率を右ケることを
特徴とするフロッピーディスクによって達成される。

本発明における基板はアルミ３）の両面に接着層を介し
てポリエステルフィルムが積層されているものである。

そして前記アルミ箔の両面はその表面粗さＲａが０．２
μｍ以下である必要がある。更にはＲａが０．１μＴｎ
以下であることが好ましい。

アルミ箔の表面粗さＲａが０．２μ７１？、より大にな
るとその影響が接着層やポリニスデルフィルムを介して
磁性層の表面粗さにあられれ、電磁変換特性の低士の原
因になるのぐ好ましくない。またアルミ箔の両面の表面
粗さの違いはより平坦な面のＦ＜　ａを分母にした比で
１．３以内の範囲が好ましい。

例えば一般のアルミ箔の如く光沢面とツＡ７消し面を右
したものではツＶ消し面の表面粗さが上記条件を満足し
ないことが多く、また両者の表面粗さ違いがＲａ比で２
以上になり、フロッピーディスクの両面の電磁変換特性
が異なるようになるので好ましくない。

まだアルミ箔は引張り初期ヤング率が９００〜４０００
に９／ｍｔＡであることが好ましい。これにはアルミ箔
の厚さが５〜３０μ７１１であることが好ましい。

上述の条件を下限ではずれることにより満足しないとき
には基板（積層体）の湿度膨張低下の効果が小さく、ま
た上限ではずれることにより満足しないときには基板が
可撓性を失うようになるので、好ましくない。後者の点
は、従来からハードディスクの基板としてアルミニウム
板が用いられているが、この板は可撓性に乏しくフロッ
ピーディスクとして使用できないとされていることから
も理解できよう。更にアルミ箔が５〜３０μｍｒＬの厚
さにあるときは、それ自体では腰がなく折り曲りやづい
ので単独でフロッピーディスクの基板として用いること
ができない。

本発明で用いるアルミ箔の材質は、アルミＩＩ！度が９
９％以上のものが好ましいが、かならずしもこれに限定
されず亜鉛やクロム等を含むアルミ合金であってもよい
。

原理的には、アルミ箔と代りに銅や鉄等の金属箔を用い
ることは可能であるが、これら金属はその硬度が高いた
めまたは薄い箔の作成が困難であったりしてコストの上
昇やフロッピーディスクの基板としての可撓性が得られ
ず規実的ではない。

本発明における接着層のバインダーとしては、熱可塑性
樹脂、熱硬化性樹脂のいずれのタイプのものでも良く、
例えばエポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、飽和ポ
リエステル樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ブタ
ジェン樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレ
タン樹脂等を挙げることができる。これらは−秤または
二種以１−を用いることができる。これらのうち共重合
飽和ポリ１ステルやポリウレタン樹脂が最も好ましい。

これらバインダーに耐溶剤性を賦与するために、しばし
ば硬化剤が用いられる。この硬化剤としては例えばボイ
ソシアネーｌ〜化合物を好ましく挙げることができる。

前記バインダーを、トルエン、メチルエチルケトン、耐
酸エチル、イソプロパツール、ジアセトンアルコール、
シクロヘキサノン等の如き溶剤で溶解し、得られた塗料
をグラビヤコーター、リバース」−ター、ナイフコータ
ー等によって乾燥時の厚さで０．５〜１０μｎＬになる
ようにアルミ箔上に塗布乾燥し、その上に一般には加熱
加圧下でポリニスデルフィルムをラミネートする。

可撓性を与えるフィルムとしてポリプロピレンフィルム
、セロハンフィルム、ポリアミドフィルム等があるが、
これらは耐薬品性、耐熱性１機械的強度等でポリエステ
ルフィルムに劣り、好ましくない。

本発明におけるポリエステルフィルムは芳香族二塩基酸
またはそのエステル形成誘導体とジオールまたはそのエ
ステル形成＋ｔ：誘導体とから合成される線状飽和ポリ
エステルからなるフィルムである。この線状飽和ポリ１
ステルとしてはポリ■チレンテレフタレート、ポリエチ
レンイソフタレー１〜．ポリブチレンテレフタレート、
ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボギシレート
、ポリ（１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタ
レート）等が好ましく例示でき、これらの共重合体また
はこれらと小割合の他樹脂とのブレンド物なども含まれ
る。上述の線状飽和ポリエステル樹脂を溶融押出し、常
法でフィルム状となし、配向結晶化並びに熱処理結晶化
（ヒートセット）したものが本発明におけるポリエステ
ルフィルムとしく好適である。特にポリエチレンテレフ
タレートフィルムが好ましい。これらフィルムの厚さは
通常１０・・・４０μｍであり、またその表面粗さＲａ
は０．１μｍ以下が望ましい。

本発明における基板、すなわらアルミ箔を中心にその両
面に接着層を介してポリエステルフィルムを積層してな
る基板は、その引張り時の初期ヤング率が５５０〜８０
０に９／ｍｔＡである必要がある。この初期１／ング率
がａｏｏＫｇ／　ｍｔＡより大になると、基板どしての
可Ｊｉｍ性が失われ、いわゆる金属基板ライクになり、
折れ傷が入りやずくなったり、フロッピーディスク用の
磁気ヘッドとのなじみが失われ品質の劣るフロッピーデ
ィスクになるので好ましくない。また初期ヤング率が５
５０Ｋｇ／−より小になると湿度膨張が大きくなるので
好ましくない。

基板の初期髪７ング率はアルミ箔の厚さやポリエステル
フィルムの物性によって変化するが、両者の組合せはポ
リエステルフィルム単独での初Ｉｌ］Ａ７ング率に対し
基板の初１’Ｊ］ヤング率が１．１倍以［になるＪ、う
にり゛ることが好ましい。基４反の（ワさは２５〜１０
０／１ｙｅｔ　、更には４０〜８０μ７１１であること
が好ましい。

本発明にＪ３ケるフロッピーディスクは、−１二連の基
板の両面に磁性層を設けてなるものである。この磁性層
としては金属薄膜型のものでもよく、また塗膜型のもの
でもよい。金属薄膜型の磁性層は例えば鉄、コバルト、
ニッケル、及びこれらの合金及び更に若干リンを含んだ
合金を基板十に真空蒸着スパッター、クラスター、イオ
ン蒸着、化学蒸着、無電解メッキ、電解メッキ法で形成
することによって得られる。

現用では、塗膜型の磁性層が一般であり、かかる磁性層
は、当業界に蓄積された技術によって形成できる。一般
にこの磁性層は有機高分子化合物であるバインダーと磁
性粉および潤滑剤、帯電防止剤、朗磨剤２分散剤等から
できている。そして前記バインダーとしては例えば塩ビ
ー酢ビ共重合体、ボウレタン樹脂、ニトロセルロース、
飽和ポリエステル樹脂等の如き熱可塑性樹脂、或はエボ
１、シ樹脂や、熱可塑性樹脂に例えばポリイソシアネー
１へ化合物の如き架橋剤を加えた熱砂化樹脂、更には熱
、活性光線、電子線等により架橋する多官ロヒアクリレ
ー１−等が用いられる。また磁性粉末どしてはＴ−Ｆｅ
　２０３　、　Ｇｏ　−７−Ｆｅ　２０３　。

Ｃｒ　０２　、　Ｆｅ　、バリウムフェライト等の針状
微粒子が用いられ、潤滑剤としではシリ］−ンオイル、
カーボングラフフィト、各種脂肪酸や脂肪酸エステル等
が、また帯電防止剤としてはカーボンブラック等が、さ
らにまた研磨剤としてはＡρ２０３　、ＣＩ’　２０３
等が主に用いられる。その他に分散剤としてレシチンや
界面活性剤等が用いられる。

このようにして形成した磁性層の上にヘッドとの潤滑を
良くする潤滑剤層や磁気媒体の酸化による変質をさける
防蝕層、また磁性層と基板の間に、接着性や耐久性を改
善する下塗り層を設ＧＪることについては本発明は何ら
制限しない。

フロッピーディスクは、現在、５０〜７５μ？＋’ｉ程
度の厚さの基板の両面に磁性層を設置ｔ　、直径３〜８
インチ程度の円盤状に打扱いたものでワードプロセッサ
ー等のＯＡＩ器の記憶媒体としで用いられる場合が多い
。そして磁気記録の摺き込み、呼び出しはフロッピーデ
ィスクの両面に対置して一定圧力Ｃ接触している磁気ヘ
ッドにより行われる。

本発明のフロッピーディスクは、従来のハードにも用い
得るが、高記録密度用フ［］ツビーディスクどして特に
有用である。何故ならこの磁気記録の書き込み、呼び出
しの機能が環境条（’ｌに左右されず、従来のフロッピ
ーディスクと同様に取扱えるからである。

実施例 次に実施例を掲げて本発明を更に詳述する。なＪ３、実
施例及び比較例にお【）る「部」はすべて「重量部」を
意味する。

実施例１及び比較例１ 両面の表面粗さＲａが０．０４μｍである厚さ１０μＩ
ｎ、のアルミ箔の片面に 飽和ポリエステル（東洋紡績（体製 パイ［１ン２００　）　７０部 イソシアネート架橋剤（日本ポリウレタン（Ｉ［：Ｊ　
ｏ　ネ−ｈ　ｌ−固型分７５’４　ｍ　％　＞　４０部
Ｉ’ｌｌ酸エチル　１３０部 トルエン　１３０部 メヂルエヂルケトン　１３０部 よりなる接る層塗料を乾燥厚さ４μ７ｎになるように塗
布し、１００°Ｃで３分間乾燥し、更に２５μｍの表面
粗ざＲａが０，０６μＩｎであるポリエチレンテレフタ
レートフィルムをラミネートした。更に反対面にも同様
な操作をしｆＩ！ｉ層体の基板とした。

この基板十に Ｔ−Ｆｅ２０３　７０部 ポリウレタンエラストマーと水酸基を 右する塩化ビニール−酢酸ビニル共重 合体からなる磁気記録用バインダー　１７部カーボンブ
ラック　５部 分散剤　２部 高級脂肪酸エステル　３部 ポリイソシアネートからなる架橋剤　２部テトラヒドロ
フラン−シクロへキザノン混合溶剤　１８０部 から成る磁性塗料を、乾燥厚さ２μｍになる様に塗布し
、次いで１２０℃で３分間乾燥し、磁性層を設りた。反
対面にも同じ操作で磁性層を塗設してフロッピーディス
クを得た。

比較のため、片面の表面粗さＩ−？　ａが０．０４μ７
１１で他の面の表面粗さＲａが０．２１μｍｒＬである
両面の表面粗さがひいに異なるアルミ箔を用いる以外は
実施例１ど同様な操作を行って）１１ツピーデイスクを
得た。

これらのフロッピーディスクの電磁特性Ｓ／Ｎ比を第１
表に示す。

第　１　表 上表から明らかなように比較例１のアルミ箔の表面粗さ
Ｒａの人ぎい面は電磁特性が低下している。

実施例２及び比較例２〜４ 実施例１においてアルミ箔として第２表に示ずノ′ルミ
酒を用いる以外は実施例１と同様に行ってノＬ１ツビー
デ２ｒスクを得た。

また比較とし−Ｃ厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタ
シー１〜フイルム単独を基板とした以外は実施例１と全
く同じ方法でフロッピーディスクを得た。

これらのフ［１ツビーデイスクの湿度膨張係数及び角匪
９０度に曲げた時の折れ傷の発生状況、並びに以扱の初
期〜ｌラング率び△α［（温度膨張係数の最大と最小の
差二等方化の目安）を測定した。

その結果を第２表に示す。

第２表 〈以下余白） 第２表から次の点がわかる。

基板の初期ヤング率が８００Ｋｆｉ／ｍＡより大になる
と湿度膨張はほとんどないが可撓性が失われ、損れ傷が
発生しやすく、また基板の初期ヤング率が！ｉ！＋ＯＫ
ｇ／　ｍｒＦｒ　Ｊ、り小になるとその効果が小さく湿
度膨張の低減がほとんどない。一方実施例２の場合は損
れ傷の発生がなく適度な可撓性を有している上に、湿度
膨張の低減の効果が著しい。

実施例３ 実施例１においで接着層塗料を ポリウレタン（日本ウレタン（体製 ニツポラン！ｉ　０３３　固型分４５重足％）１６７部
ポリイソシアネート硬化剤 （実施例１のものと同じ）３３部 酢酸エチル　１５０部 １−ルエン　１５０部 Ｊ：り接着層塗料とする以外は実施例１と全く同じ方法
Ｃフロッピーディスクを得た。このものは湿度膨張係数
が３，５Ｘ　１０″Ｇ／％ＲＨと小さく、又折れ傷の発
生がなかった。

手続補正書 昭和５９年４り少日 特許庁長官殿 １、事件の表示 特願昭　５９　−　１６９４７　号 ２、発明の名称 フロッピーディスク ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 大阪市東区南本町１丁目１１番地 帝　人　株　式　会　社内 四＃ｌｌＦの「発明の詳細な説明」の欄６、補正の内容 （１）　明細ＬＪＲ２ｘＦ１９〜２０行ＫｒｓどｔＬＩ
とあるを「歩留夛」に訂正する。

（２）　同第４頁第１７行に「表面粗さ」とあるを「表
面粗さの」に訂正する。

（３）　同ｔ４５頁２０行に「アルミ箔と」とあるを「
アルミ箔の」に訂正する。

（４）　同第９頁第１４行に「蒸着スノくツタ−、クラ
スター、イオン蒸着」とろろを「蒸着、スパッター、ク
ラスターイオンビーム法」に訂正する。

（５）　同第１０頁第１θ行に「針状機」とあるを「針
状もしくは板状」に訂正する。

以　上

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基板の両面に磁性層を設【ノなるフロッピーディス
   クにおいて、該基板が、両面の表面粗さＲａが０．２μ
   ｍ以上１あるアルミ箔の両面に接着層を介してポリエス
   テルフィルムを積層してなりかつ５５０〜８００ｈ／　
   ＩＩＩＡ（７）引張’）　初ｍ　ｉ’　ン’Ｊ率を右り
   ることを特徴とするフロッピーディスク。 ２、　接着層が飽和ポリゴーステル及び／又はポリウレ
   タンよりなることを特徴とする特許請求の範囲第１項記
   載のフロッピーディスク。 ３、　アルミ箔が９００〜４０００幻／−の引張り初期
   ヤング率を有゛することを特徴とする特許請求の範囲第
   １項記載のフロッピーディスク。