JPS60163901A - プラズマ重合処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、プラズマ重合処理方法に関する。

従来、表面親水化処理として、酸素プラズマ中あるいは
空気プラズマ中で基体表面を酸化し、表面を親水化する
方法が知られている。しかしながら、酸素プラズマは次
のような欠点を持っている。すなわち酸素原子や酸素分
子は電子親和力が大きく、プラズマ中で容易に負イオン
になるため自動イオン化（＾ｕｔｏ　１ｏｎｉｚａｔｉ
ｏｎ　）現象が起る。そのため反応容器内のプラズマ状
態は、外部から加えるエネルギー、例えば高周波電力や
マイクロ波電力等によって一義的に決まるわけではなく
、空間的にイオンの疎な所と密な所が生じたり、それら
が振動したりするので、不安定となる。酸素プラズマに
よる表面処理は、このような理由から均一な表面処理が
難しい。また、酸素プラズマ処理によって表面を親水化
しても、親水性が経時変化を起こし、時間とともに親水
性が悪化する欠点がある。さらに、酸素プラズマ処理の
効果は、基体の種類によって違うため、有効な機能を持
たせる基体の種類は限定されるという欠点がある。

−に記プラズマ処理以外の表面親水処理方法として、酸
化性の強い溶液中にポリマーを浸漬したり、ポリマー分
子中に親水性官能基を導入するなどの化学的処理方法、
ポリマーに紫外線を照射して光酸化する方法等が知られ
ている。しかしながら、いずれの方法も親水化処理でき
る基体が限定されたり、親水性が経時変化を起こして劣
化するなどの欠点がある。

本発明は、上記欠点を解決し、プラズマ重合を行い、基
体表面に、優れた親水性を有し、しかもその親水性が経
時変化しない均一な薄膜（以下プラズマ重合体膜と称す
。）を形成する表面処理方法を提供するもので、その要
旨は、下記一般式（Ａ）で示される化合物および二重結
合を含む環状炭化水素化合物から選ばれる１挿具−１−
の化合物と酸素との混合ガスを用いてプラズマ重合を行
い、基体の表面に薄膜を形成することを特徴とするプラ
ズマ重合処理方法（式中、Ｒ，、Ｒ，、Ｒ，およびＲ４
はそれぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基及びプ
ロピル基等のアルキル基及びビニル基、プロペニル基及
びアリル基等のアルケニル基からなる群から選ばれる。

）にある。

上記一般式（Ａ）で示される化合物としては、例えばエ
チレン、プロピレン、２−ブテン、イソブチレン、２−
メチル−２−ブテン、２．ｊ（−ジメチル−２−ブテン
、１−ブテン、３−ヘキセン、２−エチル−１−ブテン
、３−エチル−３−ヘキセン、３．４−ジエチル−３−
ヘキセン、１，３−ブタシー９− エン、Ｉ、３．５−ヘキサトリエン、２−ビニル−１，
３−ブタジェン、３−ビニル−１，３，５−ヘキサトリ
エン、３．４−ジビニル−１，３，５−ヘキサトリエン
、２−ペンテン、２−メチル−１−ブテン、２，３−ジ
メチル−２−ペンテン、３−メチル−３−ヘキセン、３
−エチル−２−ペンテン、３−メチル−４−エチル−３
−ヘキセン、２−メチル−３−エチル−２−ペンテン、
２，３−ジメチル−３−ヘキセン、イソプレン、１．３
−ペンタジェン、３−メチル−１，３−ペンタジェン、
４−メチル−１゜３−ペンタジェン、３．４−メチル−
１，３−ペンタジェン、３−メチル−１，３，５−ヘキ
サトリエン、３−ビニル−１，３−ペンタジェン、３−
メチル−４−ビニル−１，３，５−ヘキサトリエン、３
−ビニル−４−メチル−１，３−ペンタジェン、３゜４
−ジメチル−１，３，５−ヘキサトリエン、１゜３−へ
キサジエン、２−エチル−１，３−ブタジェン、３−エ
チル−１，３−へキサジエン、４−エチル−１，３−へ
キサジエン、３，４−ジエチル−１゜３−へキサジエン
、３−ビニル−１，３−へキサジエン、３−エチル−１
，３，５−へキサトリエン、３−エチル−４−ビニル−
１，３，５−ヘキサトリエン、３，４−ジエチル−１，
３，５−ヘキサトリエン、３−ビニル−４−エチル−１
，３−ヘキサジエン、３−メチル−１，３−へキサジエ
ン、４−メチル−１，３−へキサジエン、３−エチル−
１，３−ペンタジェン、３−エチル−４−メチル−１，
３−ペンタジェン、３，４−ジメチル−１，３−へキサ
ジエン、３−メチル−４−エチル−１，３−へキサジエ
ン、３−エチル−４−メチル−１，３−ヘキサジエン、
３−メチル−４−エチル−１，３，５−ヘキサトリエン
、３−ビニル−４−メチ／Ｌ−１．ｌ−ヘキサジエン、
１，４ペンタジエン等があり、好ましくは、エチレン、
プロピレン、１．３−ブタジェン、■−ブテン、２−ブ
テン、イソブチレンである。

二重結合を含む環状炭化水素としては、例えば、ベンゼ
ン、トルエン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、ク
メン、ブチルベンゼン、キシレン、エチルトルエン、シ
メン、ジエチルベンゼン、トリメチルベンゼン、テトラ
メチルベンゼン、スチレン、メチルスチレン、アリルベ
ンゼン、ジビニルベンゼン、１−フェニル−１，３−ブ
タジェン等の芳香族炭化水素、シクロペンテン、シクロ
ペンタジェン、フルペン、シクロヘキセン、メチルシク
ロヘキセン、シクロヘキサジエン、シクロブテン、シク
ロオクタテトラエン、メンテン、リモネン、ジ−ペンテ
ン、テ４− ルビルン、テルベネン、フエランドレン、シルヘストレ
ン、カレン、ピネン、ボルネン等の脂環式炭化水素があ
げられ、好ましくは、ベンゼン、スチレン、１・Ｊレニ
ン、コーチルーベンゼン、キシレン、エチルトルエン る。

これ等の化合物は、プラズマ反応系においてガス化が可
能なプラズマ重合性物質である。

本発明において、前記一般式（Ａ）で示される化合物お
よび二重結合を含む環状炭化水素化合物から選ばれる１
種以上の化合物と酸素との混合ガスが用いられるが、該
混合ガスに例えばＨ，　、Ｃｏ，Ｃｏ，、Ｈ，Ｏ，Ｎ．
　、アルゴン、ヘリウム、キセノン、ネオン等のガスを
２０モル％以下程度該混合ガスに加えてもよい。

上記一般式（Ａ）で示される化合物及び／または二重結
合を含む環状炭化水素化合物（Ｂ）と酸素の配合比（　
（Ａ）＋　（Ｂ）／酸素、（Ａ）／酸素または（Ｂ）／
酸素）はモル比で通常０．１〜１０、好ましくは０．２
〜６、さらに好ましくは０．２〜４であり、０、１未満
であるとプラズマ重合体膜の生成速度が遅く実用性に乏
しいとともにプラズマ重合体膜の性能の耐久性が悪くな
り、また１０をこえると親水性が不十分であると同時に
不安定である。

上記一般式（Ａ＞で示される化合物を２種に）、上ある
いは二重結合を含む環状炭化水素化合物を２ｆ！以上混
合して混合ガスとする場合、ないしは上記一般式（Ａ）
で示される。化合物と二重結合を含む環状炭化水素化合
物とを混合して混合ガスとする場合、その混合比は特に
制限はない。

本発明に用いられる基体は、固体であれば特に制限はな
い。

例えば材質としては、金属、金属酸化物、天然高分子、
合成樹脂、合成ゴム、ガラス、セラミック等が挙げられ
、具体的には各種材質からなるシャーレ、ボトル等の容
器、レンズ、プリズム等の各種光学部材、アクリル系ポ
リマー、ポリシロキサン系ポリマー等からなるコンタク
トレンズ、半導体等を例示することができる。

さらに、プラズマ処理の条件、例えば反応容器内の真空
度、前記の混合ガスの流量、放電電力等については、通
常のプラズマ重合反応における条件と同様であるが、反
応容器内の真空度は１ミリＴｏｒｒ〜１０　Ｔ　ｏ　ｒ
　ｒ　％前記の混合ガスの流量は、反応容器の容量が５
０ｊ！の場合には標準状態で１分間当り０．１ｃｃ〜１
００　ｃｃが）閃光である。また放電電力は、プラズマ
の電子温度（なお、電子温度は特開昭５４−１３５５７
４号公報記載の方法によって測定される。）が５千〜８
万度となるようにするのが好ましい。５千未満の場合、
プラズマ重合体膜の生成速度が遅いので実用性に乏しく
、８万度をこえると、プラズマ重合体膜の表面の親水性
が場所によって平均−になる。さらに高い耐久性能をプ
ラズマ重合体膜に付与するためには、５千〜６万度が特
に好ましい。プラズマ処理時間は、基体上に形成すべき
プラズマ重合体膜の厚さによって異なる。該プラズマ重
合体膜の厚さは、特に限定するものではないが、通常は
１〜５０００人程度の厚さであればよく、したがってプ
ラズマ処理時間は短くてすみ、例えば数十分間以下であ
る。

上記プラズマ重合処理に用いる装置は、例えば第１図に
示すように、真空ポンプ（図示せず）に接続された反応
容器ｌの一端小径部にコイル２を設けこれに高周波電源
３を接続し、反応容器１内の支持台４上には基体Ｓを保
持し、反応容器１内を真空排気しながら、ガス人口５を
介して反応容器１内に一般式（Ａ）で示される化合物及
び二重結合を含む環状炭化水素化合物から選ばれる１種
以上の化合物と酸素を混合したガスを導入し、前記コイ
ル２に電源３から高周波電圧を印加して反応容器１内に
プラズマ７− を発＆ｐせしめ、このプラズマを前記基体Ｓの外面に作
用せしめてこれに前記化合物と酸素によるプラズマ重合
体膜を形成せしめる。

あるいは第２図に示すように、ヘルジャーにより構成さ
れる反応容器ＩＯ内に互に対向する一対の電極１１．１
１′を設け、その間に成形品となるべき基体Ｓを保持し
、電極１１、］］’間には例えば交流電源１２を接続し
てこれにより電極１１．１１′間にプラズマを発生せし
める。このプラズマを前記基体Ｓの外面に作用せしめて
これに前記化合物と酸素によるプラズマ重合体膜を形成
せしめる。なお１３は排気管、１４．１４′は反応ガス
導入管である。

またプラズマ処理のための装置としては、第１図および
第２図に示したものに限られることなく、例えばプラズ
マ発生のためのエネルギー源が、直流、交流の何れの電
源であってもよい。交流の場合には低周波、高周波、マ
イクロ波の何れの周波数のものであってもよい。ここで
マイクロ波の場合の増幅器とプラズマ系とのカップリン
グ方法はハシゴ型、キャビティー型等のいずれでもよい
。さらにプラズマ発生用電極の型、すなわち誘導型、容
量型等についても、何ら制限されるものではない。

本発明のプラズマ重合処理方法によってえられる一８＝ プラズマ重合体膜（基体の表面）は、以下の利点を有す
る。

０）親水性に優れている。

■　親水性が経時変化しない。

■　油等の汚れが付着しても除去しやすい。

■　細胞等の生体物質に対する適合性が優れ、細胞培養
床としては好適に使用できる。

■　上記の、■および■それぞれの耐久性が優れている
。

実施例１ 第２図に示す反応容器を用い、支持台上にポリスチレン
を基体として保持し、化合物としてエチレンを用い、エ
チレン流量７．５　ｃｃ　（ＳＴＰ　）　／ｍｉｎと酸
素流量］Ｏｃｃ　（ＳＴＰ　）　／　ｍｉｎで混合し、
反応容器内に導入しながら当該容器内を５０ミリＴｏｒ
ｒの真空度に保ち、電極に交流電力］０ＫＨｚを加えて
電子温度２．５　±０．３万度のプラズマを発生せしめ
、１０分間に亘って反応させ、前記基体の表面にプラズ
マ重合体膜を形成した。

ここに、プラズマの電子温度は、加か）された探針（図
示廿１゛）によ／）測定した値である。

−に記プラスマ重合処理によって得られたポリスチレン
の表面の水の接触角を、液滴法によってめた。

また、同一サンプルを用いて、水の接触角についてその
経時変化をめた。結果を表−１に示す。

また、形成されたプラズマ重合体膜の厚さは、前記基体
の横にシリコンウェハーを置き、同時にプラズマ重合処
理を行い、このウェハーをエリプソター■ ター（ＧＡＥＩ？ＴＮＥＴ７　エリプソメータＬ１１７
型）を用いて測定したところ４００±１００人であった
。

比較例１ プラズマ重合処理を行なわないポリスチレンの水の接触
角および接触角の経時変化を測定した。その結果を表−
１に示す。

実施例２ エチレン／酸素の混合比を５にした以外は、実施例１と
同様にプラズマ重合処理を行い、水の接触角および接触
角の経時変化をめた。その結果を表−１に示す。

比較例２ エチレン流量をＯｃｃ　（ＳＴＰ　）　／　ｍｉｎにし
た以外は、実施例１と同様に行い、水の接触角および接
触角の経時変化を測定した。その結果を表＝１に示す。

比較例３ エチレンのみを用い、エチレンｍ（３７，５ｃｃ　（Ｓ
ＴＰ　）／　ｍｉｎとした以外は実施例１と同様の方法
でプラズマ重合を行い、その後、酸素１０ｃｃ　（ＳＴ
Ｐ　）　／　ｍｉｎだけでプラズマ処理を実施例１と同
様の方法で再び行ったポリスチレンの水の接触角および
接触角の経時変化を測定した。その結果を表−１に示す
。

実ＪＪｆε例３ エチレンと酸素の配合比（エチレン／酸素）をモル比で
０．２および基体としてポリプロピレンを用いた以外は
、実施例１と同様にプラズマ重合処理を行い、水の接触
角および接触角の経時変化をめた。

その結果を表−１に示す 実施例４ エチレンと酸素の配合比（エチレン／酸素）をモル比で
４および基体としてステンレス板（ｓｏｓ　３０４　、
）１１− を用いた以外は実施例１と同様にプラズマ重合処理を行
い、水の接触角および接触角の経時変化をめた。その結
果を表−１に示す。

実施例５ 化合物としてプロピレンを用いプロピレンと酸素の配合
比（プロピレン／酸素）をモル比で０．７５にした以外
は実施例１と同様にプラズマ重合処理を行い、水の接触
角および接触角の経時変化をめた。その結果を表−１に
示す。

実施例６ 化合物として１．３−ブタジェンを用い、１．　３ブタ
ジエンと酸素の配合比（１，３−ブタジェン／酸素）を
モル比で０．７５にした以外は、実施例１と同様にプラ
ズマ重合処理を行い、水の接触角および接触角の経時変
化をめた。その結果を表−１に示す。

実施例７ 化合物として１−ブテンを用い、１−ブテンと酸素の配
合比（１−ブテン／酸素）をモル比で０．７５とした以
外は、実施例１と同様にプラズマ重合処理を行い、水の
接触角および接触角の経時変化をめた。

＝１２− その結果を表−１に示す。

実施例８ 化合物としてイソブチレンを用い、イソブチレンと酸素
の配合比（イソブチレン／酸素）をモル比で０．７５と
した以外は、実施例１と同様にプラズマ重合処理を行い
、水の接触角及び接触角の経時変化をめた。その結果を
表−１に示す。

実施例９ 化合物としてベンゼンを用いベンゼンと酸素の配合比（
ベンゼン／酸素）をモル比で０．７５とした以外は、実
施例１と同様にプラズマ重合処理を行い、水の接触角お
よび接触角の経時変化をめた。その結果を表−１に示す
。

実施例１０ 化合物としてスチレンを用い、スチレンと酸素の配合比
（スチレン／酸素）をモル比で０．７５とした以外は、
実施例１と同様にプラズマ重合処理を行い、水の接触角
および接触角の経時変化をめた。その結果を表−１に示
す。

実施例１１ 化合物としてエチレンとヘンゼンをモル比で０．５１０
．５に混合したものを用い、エチレン＋ベンゼン混合モ
ノマーと酸素の配合比（エチレン＋ヘンゼン／酸素）を
モル比で０．７５にした以外は、実施例１と同様にプラ
ズマ重合処理を行い、水の接触角および接触角の経時変
化をめた。その結果を表−１に示す。

表−１ １５一 実施例１２、比較例４ 実施例１と同様の方法でポリスチレン製シャーレ１０個
をプラズマ重合処理した。

上記１０個のシャーレを２４時間空気中に保存した後２
４時間の間高温殺菌処理を施し、別途培養しておいたチ
ャイニーズハムスター肺由来の細胞株■−７９を０．２
５重量％のトリプシン溶液によって遊離の細胞として各
シャーレに植込み、１０重量％牛脂児血清含有のイーグ
ルＭＥＭ培地（日水製薬社Ｍ）を用い、炭酸ガス５体積
％、空気９５体積％の雰囲気のインキュベーター中にお
いて、温度３７℃で細胞培養を行なった。

培養時間が１２０分間に達した時に各シャーレをインキ
ュベーターより取り出して培地を除き、リン酸緩衝生理
食塩水により洗浄した後、プロナーゼＥＤτへ溶液１　
ｍｌを各シャーレに加えることにより、培養床表面に接
着していた細胞を遊離させ血球計算盤を用いて細胞数を
測定した。そして接着していた細胞数の全細胞数に対す
る割合（接着率）をめた。結果を第２表に示す。またプ
ラズマ重合体膜形成処理を施さないほかは本実施例と同
様に行なった比較例４による結果を第２表に示す。

１６− 表−２ ト １≠ １比 実施例１３、比較例５ ポリメチルメタクリレートから、切削加工して得たコン
タクトレンズ５０枚および厚さ０．４鰭、直径１３１１
のスライス板を実施例１と同様の方法でプラズマ重合処
理した。

プラズマ重合処理レンズ各１０枚およびスライス板を以
下の６項目につき試験した。結果を表−３に示した。

（１）　油等の汚れの除去性：乾燥したコンタクトレン
ズを５秒間、水に浸漬した後、コンタクトレンズにコー
ルドクリームを塗布し、そのコンタクトレンズを親指と
人指し指の間にはさみ、水で洗浄した後、空気中に取り
出し、水滴付着状態を観察した。この結果、油分がなく
、水によく濡れるものを○、油分が残り水をはじくもの
を×とした。

（２）親水性：乾燥したコンタクトレンズを５秒間、水
に浸漬した後、空気中に取り出し、コンタクトレンズの
水滴付着状態を観察した。この結果、レンズ表面全体が
水でよく濡れるものを○、レンズ表面が水をはじくもの
を×とした。

（３）装着時の視界の良好性：コンタクトレンズを装着
したとき視界が悪（なるかどうか評価し、視界が良好な
ものを○、くもるものを×とした。

（４）装着時の眼球上での動き性：コンタクトレンズを
装着したとき、まばたきによって動くかどうかを評価し
、適度に動くものを○、動きにくいものを×とした。

（５）表面の耐久性：コンタクトレンズを親指と人指し
指の間にはさみ、水中で２０００回摩擦した後、空気中
に取り出し、コンタクトレンズの水滴付着状態を観察し
た。この結果、レンズ表面全体が水でよく濡れるものを
○、レンズ表面が水をはじくものを×とした。

（６）接触角の経時変化ニスライス板を用いて、水の接
触角の経時変化を処理物を空気中に放置したものについ
て測定した。また、プラズマ重合処理を施さないほかは
本実施例と同様に試験した結果を比較例５として表−３
に示した。

実施例１４、比較例６ アクリル酸３００ｍβ、ｎ−ブチルメタクリレート２８
０ｍ　（（、エチレングリコールジメタクリレート３０
ｍ１、ヘンジイン６■からなる混合物を重合させ、切削
加工してコンタクトレンズ形状とし、ｎ−ブチルアルコ
ール中でエステル化反応して軟質化させたコンタクトレ
ンズ５０枚を、実施例１と同様の方法でプラズマ重合処
理した。

プラズマ重合処理レンズ各１０枚を実施例１３と同様に
試験した。

結果を表−３に示した。

また、プラズマ重合処理を施さないほかは、本実施例と
同様に試験した結果を、比較例６として表−３に示した
。

１９− 表−３

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は、本発明のプラズマ重合処理方法
に用いる装置の例を示し、第１図は放電管型、第２図は
ペルジャー型を示す。 ２０− １・・・反応容器、　２・・・コイル、手続補正書（自
船 特許庁長官　志　賀　学　殿 １、事件の表示 昭和５９年特許願第１９１９８号 ２、発明の名称 プラズマ重合処理方法 ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 名称　（４１７）日本合成ゴム株式会社４、代理人　〒
１０７ 住所　東京都港区赤坂３丁目２番３号 （ほか２名） ５、補正の対象 明細書の「特許請求の範囲」および「発明の詳細な説明
」の各欄。 ６、補正の内容　別紙のとおり 補正の内容 （１）明細書の特許請求の範囲を別紙の通り訂正する。 （２）明細書第１頁下から第２行「基体」を「光学部材
またはコンタクトレンズ（以下、基体と称す）」と訂正
する。 （３）同書第２頁第１３行〜第１５行「さらに、−一−
−−−＝欠点がある。」を削除する。 （４）同書同頁下から第３行「親木化−−−一−限定化
されたり、」を削除する。 （５）同書同頁下から第２行「劣化するなどの」を「劣
化するという」と訂正する。 （６）同書第７頁第８行〜第１６行「本発明に一−−−
−ことができる。」を下記の通り訂正する。 記 本発明に用いられる基体は、例えば材質としては、合成
樹脂、ガラス等が挙げられ、具体的には各種材質からな
るレンズ、プリズム等の各種光学部材、アクリル系ポリ
マー、ポリシロキサン系ポリマー等からなるコンタクト
レンズである。 （７）同書第１０頁第６行〜第９行「■細胞環−−−−
−−優れている。」を下記の通り訂正する。 記 ■上記■及び■それぞれの耐久性が優れている。 （８）同書同頁第１１行〜第１２行「ポリスチレン」を
「ポリスチレン製光学部材（レンズ）と訂正する。 （９）同書箱１１真東４行〜第５行、第１４行および第
１２頁第１０行「ポリスチレン」を「ポリスチレン製光
学部材（レンズ）」と訂正する。 （１０）同書第１２頁第１４行〜第１５行「０．２およ
び基体としてポリプロピレンを用いた以外は、」を「０
．２にした以外は、」と訂正する。 （１１）同書箱１２頁末行〜第１３頁第１行「４および
一−−−−−−用いた以外は」を「４にした以外は」と
訂正する。 （１２）同書箱１７頁全文を削除する。 （１３）同書第１８頁表−２全部を削除する。 （１４）同書同頁第６行「実施例１３、比較例５」を「
実施例１２、比較例４」と訂正する。 （１５）同書同頁第１２行「表−３」を「表−２」と訂
正する。 （１６）同書第２０頁第４行「比較例５として表−３に
示した。」を［比較例４として表−２に示した。」と訂
正する。 （１７）同書同頁第５行「実施例１４、比較例６」を「
実施例１３、比較例５」と訂正する。 （１８）同書同頁第１３行「実施例１３」を１実施例１
２」と訂正する。 （１９）同書同頁第１５行「表−３」を「表−２」と訂
正する。 （２０）同署同真東１７行「比較例６として表−３」を
１比較例５として表−２」と訂正する。 （２１）同書第２１頁第１行「表−３」を１表−２」と
訂正す３− （２２）同書同頁第２行「実施例１３」を「実施例１２
Ｊ、ｒ比較例５」を「比較例４」、「実施例１４」を「
実施例１３」。 「比較例６」を「比較例５」と訂正する。 （２３）同書同頁第１７行の次に下記を加入する。 実施例１４ ポリメチルメタクリレートから切削加工して得たコンタ
クトレンズ５０枚および厚さ０．４Ｎ■、直径１３ａの
スライス板を支持台上に保持し、化合物として１゜３−
ブタジェンを用い、１．３−ブタジェンと酸素の配合比
（１，３−ブタジェン／酸素）を０．７５　（モル比）
で混合し、実施例１と同様にプラズマ重合処理した。こ
のプラズマ重合処理レンズ各１０枚を実施例１２と同様
に試験した。その結果を表−３に示した。 ４− 表−３ 特許請求の範囲 下記一般式で示される化合物及び二重結合を含む環状炭
化水素化合物から選ばれる１種以上の化合物と酸素との
混合ガスを用いてプラズマ重合を行い、光学部材または
コンクタトレンズの表面に薄膜を形成することを特徴と
するプラズマ重合処理方法。 （式中、Ｒ＋　、Ｒ−、Ｆ２ａおよびＲ４はそれぞれ独
立に水素原子、アルキル基およびアルケニル基からなる
群から選ばれる。） ９−

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 下記一般式で示される化合物及び二重結合を含む環状炭
   化水素化合物から選ばれる１種以上の化合物と酸素との
   混合ガスを用いてプラズマ重合を行い、基体の表面に薄
   膜を形成することを特徴とするプラズマ重合処理方法。 （式中、Ｒ，、Ｒ，、ＲｓおよびＲ４はそれぞれ独立に
   水素原子、アルキル基およびアルケニル基からなる群か
   ら選ばれる。）