JPS6016563U - 半導体集積回路装置 - Google Patents
半導体集積回路装置Info
- Publication number
- JPS6016563U JPS6016563U JP8508084U JP8508084U JPS6016563U JP S6016563 U JPS6016563 U JP S6016563U JP 8508084 U JP8508084 U JP 8508084U JP 8508084 U JP8508084 U JP 8508084U JP S6016563 U JPS6016563 U JP S6016563U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- region
- type
- conductivity type
- semiconductor layer
- integrated circuit
- Prior art date
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- Pending
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- Bipolar Transistors (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図は従来の利手導体集積回路に於ける、NPN型接
合トランジスタの概略断面図、第2図は従来の縦型N−
チャンネル接合型電界効果トランジスタの概略断面図、
第3図は本考案の原理を示す半導体装置の概略断面図、
第4図は本考案の一実施例による半導体装置の概略断面
図、第5図は本考案の他の実施例による半導体装置の概
略断面図、第6図は第4図で示した半導体装置の等価回
路図、第7図は第5図で示した半導体装置の等価回路図
である。 1 ;P型シリコン基板(サブストレート)、2;N型
高濃度不純物理込層、3;N型エピタキシアル層、4−
1 ;p型絶縁分離拡散領域、4−2 ;p型絶縁分離
拡散領域(埋込ボロン層がある場合)、4−3;P型ゲ
ート引出し用拡散領域、5;P型ベース領域(NPN型
接合トランジスタ)、5−2 ;p型−゛上側ゲート領
域(5と同時拡散)6;N型−エミッタ領域、7;N型
−コレクタ電極引出用拡散領域(6、と同時拡散)、8
;N型−低比抵抗 サブストレート (ドレイン)又は
(ソース)、9−1;N型−ソース領域(エピタキシア
ル)、9−2;N型−ドレイン領域(//) 、9−3
;N型−チャンネル領域(〃)、10:P型−ゲート領
域、11;N型−ソースまたはドレイン電極引出し用高
濃度不純 、物拡散領域、12−1.P型−絶縁分離用
一理込拡散領域、12−2;P型−ゲート用−埋込拡散
領域、13;N型−ドレイン又はソース電極引牛用し用
高濃度不純物拡散領域。
合トランジスタの概略断面図、第2図は従来の縦型N−
チャンネル接合型電界効果トランジスタの概略断面図、
第3図は本考案の原理を示す半導体装置の概略断面図、
第4図は本考案の一実施例による半導体装置の概略断面
図、第5図は本考案の他の実施例による半導体装置の概
略断面図、第6図は第4図で示した半導体装置の等価回
路図、第7図は第5図で示した半導体装置の等価回路図
である。 1 ;P型シリコン基板(サブストレート)、2;N型
高濃度不純物理込層、3;N型エピタキシアル層、4−
1 ;p型絶縁分離拡散領域、4−2 ;p型絶縁分離
拡散領域(埋込ボロン層がある場合)、4−3;P型ゲ
ート引出し用拡散領域、5;P型ベース領域(NPN型
接合トランジスタ)、5−2 ;p型−゛上側ゲート領
域(5と同時拡散)6;N型−エミッタ領域、7;N型
−コレクタ電極引出用拡散領域(6、と同時拡散)、8
;N型−低比抵抗 サブストレート (ドレイン)又は
(ソース)、9−1;N型−ソース領域(エピタキシア
ル)、9−2;N型−ドレイン領域(//) 、9−3
;N型−チャンネル領域(〃)、10:P型−ゲート領
域、11;N型−ソースまたはドレイン電極引出し用高
濃度不純 、物拡散領域、12−1.P型−絶縁分離用
一理込拡散領域、12−2;P型−ゲート用−埋込拡散
領域、13;N型−ドレイン又はソース電極引牛用し用
高濃度不純物拡散領域。
Claims (1)
- 一導電型の半導体基板と、この基板上に形成された反対
導電型の半導体層と、この半導体層を複数の島領域に分
離する分離領域と、一つの島領域内に形成され、この島
領域を第1の領域部分、第2の領域部分およびこれら第
1、第2の領域部分を連結しチャンネル領域として働く
第3の領域部分に分離する前記−導電型のゲート領域と
、前記第1領域部分をコレクタ領域としてこの中に形成
されたベース領域と、このベース領域内に形成されたエ
ミッタ領域とを有し、前記第1の領域部分、前記第2の
領域部分、前記ゲート領域、前記ベース領域および前記
エミッタ領域の夫々に電極が設けられ、これら電極は前
記半導体層の同一平面上に形成されていることを特徴と
する半導体集積回路装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8508084U JPS6016563U (ja) | 1984-06-07 | 1984-06-07 | 半導体集積回路装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8508084U JPS6016563U (ja) | 1984-06-07 | 1984-06-07 | 半導体集積回路装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6016563U true JPS6016563U (ja) | 1985-02-04 |
Family
ID=30215044
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8508084U Pending JPS6016563U (ja) | 1984-06-07 | 1984-06-07 | 半導体集積回路装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6016563U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017092472A (ja) * | 2015-11-10 | 2017-05-25 | アナログ デバイシス グローバル | Fet−バイポーラトランジスタの組み合わせ、およびこのようなfet−バイポーラトランジスタの組み合わせを備えたスイッチ |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4826081A (ja) * | 1971-08-06 | 1973-04-05 | ||
| JPS493312A (ja) * | 1972-05-01 | 1974-01-12 |
-
1984
- 1984-06-07 JP JP8508084U patent/JPS6016563U/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4826081A (ja) * | 1971-08-06 | 1973-04-05 | ||
| JPS493312A (ja) * | 1972-05-01 | 1974-01-12 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017092472A (ja) * | 2015-11-10 | 2017-05-25 | アナログ デバイシス グローバル | Fet−バイポーラトランジスタの組み合わせ、およびこのようなfet−バイポーラトランジスタの組み合わせを備えたスイッチ |
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