JPS60165742A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPS60165742A
JPS60165742A JP59020002A JP2000284A JPS60165742A JP S60165742 A JPS60165742 A JP S60165742A JP 59020002 A JP59020002 A JP 59020002A JP 2000284 A JP2000284 A JP 2000284A JP S60165742 A JPS60165742 A JP S60165742A
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JP
Japan
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dam
base
resin
pellet
semiconductor device
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Pending
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JP59020002A
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English (en)
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Junichi Suzuki
順一 鈴木
Atsushi Honda
厚 本多
Takashi Miwa
孝志 三輪
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Hitachi Ltd
Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
Original Assignee
Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd
Hitachi Ltd
Hitachi Ome Electronic Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、半導体装置に適用して有効な技術に関するも
のであり、特に、封止部材で封止する半導体装置に適用
して有効な技術に関するものである。
〔背景技術〕
封止部材(以下、レジンという)で封止する半導体装置
(以下、封止型半導体!JJ[という)の−例として、
第1図の一部切欠き平面図および第1図のI−1切断線
における断面図である第2図に示す構造のものが考えら
れ、る。すなわち1、配線パターンI A l)<施さ
れ、かつ、それとボンディングワイヤ2を介して電気的
に接続された半導体素子(以下、ペレットという)3が
装着された基板(以下、ベースという)lと、ペレット
3およびボンディングワイヤ2を封止する1ノジン4を
保持するために、ペレット3の部分を囲むように配線パ
ターン1Aを介し、てベースl上に設けられたダム5と
、そのダム5を収納するためにザグリによってキャビテ
ィ部6を構成し・、ベース1の端部周辺において接合し
て設けられたキャップ7とによって構成している。そし
てベースlとダム5およびベースlとキャップ7は有機
物系等の接着剤によって、配線パターンIAにより生じ
る段差部を埋込み、かつ、気密性を保持するように接合
している。
本発明者は、かかる技術における封止型半導体装口の;
ノジンポソ子イングー■−程において、レジン4がレジ
ンポツティング後の搬送時のゆれ等によllダム5を越
えてしまい、所定の1ノジン4鼠より減少し、ペレット
3およびボンディングワイヤ2がキャビティ部6内に機
部に存在する空気と接触するため、それらが腐食し、半
導体装置の信頼性を低下させるという問題点を発見した
また、前記レジン4のダム5越えによりキャップ7の取
り付は不良が発生するという問題点を発見した。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、封止型半導体装置において、レジンボ
ッティング工程時等における1ノジンのダム越えを防止
することが可能な技術を提供することにある。
本発明の他の目的は、超音波ボンディングが可能であり
、かつ、レジンポツティング工程時等におけるレジンの
ダム越えを防止することが可能な技術を提供することに
ある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述及び添付図面によって明ら3− かになるであろう。
「発明の(11(要〕 本願に1昌)で開示される発明のうち、代表的なものの
概要を簡mに説明すれば、下記のとおりである。
すなわち、封止型半導体装置において、ベーストにIノ
ジンの流出を防止するために設けられたダムの内側に、
段差又は傾斜を形成することにより、超音波ボンディン
グが可能であり、かつ、レジンポツティング工程時等に
おけるレジンのダム越えを防止し、その半導体装置の信
頼性の向上とレジンボッティング工程時における歩留を
向上するものである。
〔実施例〕
以下、本発明の構成について、実施例とともに説明する
第3図は、本発明の詳細な説明するための封1に型半導
体装置の一部明欠き平面図、第4図は、第3図のII 
−m切断線における断面図である。
なよ?、実施例を示す全図において、同一機能を L 有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は省
略する。
第3図及び第4図において、lOはベースであり、例え
ば、ガラスエポキシ樹脂、セラミック等の材料からなっ
ている。IOAはベースlOの表面に設けられた配線パ
ターンであり、後述するペレットと封止型半導体装置の
外部装置とを電気的に接続するためのものである。この
配線パターン10Aは、例えば、50乃至100[zt
rn]程度の膜厚で蒸着形成し導電性材料を用いればよ
い。
または、導電性材料をtitに付着して形成してもよい
。11は銀ろう等の接着部材11Aを介してベースlO
の中央部に設けられたペレットである。
11Bはボンディングワイヤであり、アルミニウムCA
Q)又はアルミニウム合金を用いればよい。
このボンディングワイヤIIBは、配線パターン10A
の所定部分とペレット11の所定部分とを電気的に接続
するものである。12はダムであり、ペレット11部お
よびボンディングワイヤ1113部を囲むように、配線
パターンIOAを介してベースlOの表面に有機物系等
の接着剤13によって気密に接着されている。このダム
12の内側は、第5図に示すように、段差12Aを付け
である。
また、第6図に示すように、傾斜面12Bを付けてもよ
い。該ダム12の高さは、アルミニウムのボンディング
ワイヤIIBの供給経路が超音波ボンディングするため
のウェッジllCの被供給穴に挿入する角度で制限され
るため、所定の高さより高くすることができない。そこ
で、ダム12の囲む面積を拡大してダム12の高さを高
くすることにより後述するレジンのダム越えを防止する
ことはできるが、レジンを多く使用することになる。
そこで、前述のように、ダム12の内側を段差12A又
は傾斜面12Bにすることによってレジンを節約するこ
とができる。また、前記段差12Aの高さ、又は傾斜面
12Bの傾きは、前記ボンディングワイヤ11 Bの経
路によって制限される。
また、レジンのダム越えの防止によって後述するキャッ
プ付は不良を防止することができる。
14はベースlO及びダム12によって構成されるキャ
ビティ内に注入されたゲル状シリコン樹脂等のであり、
前述のようにダム12とベースIOとは接着剤13によ
って気密性が保持されているので、その里が変動するこ
とがない。また、熱サイクルによりボンディングワイヤ
と剥離することがなく、アルミニウムワイヤの腐食を防
止する。
すなわち、その歩留は向−ヒされ、信頼性の高い封止型
半導体装置を得ることができる。15はキャップであり
、ダム12を収納するためにザグリによってキャビティ
部15Aを構成し、ベースlOの端部周辺において有機
物系接着剤13によって接合されている。
〔効果〕
封止型半導体装置において、ダムの内側を所定の高さの
段差又は傾斜面にすることにより、超音波ボンディング
が可能で、かつ、レジンのダム越えを防止することがで
きる。
この結果、次のような効果を得ることができる。
(1)レジンボッティング工程の歩留が向−ヒする。
(2)レジンの節約ができる。
(3)キャップ取り付は不良の防止ができる。
(4)信頼性が向上する。
以」二、本発明を実施例にもとづき具体的に説明したが
、本発明は前記実施例に限定されるものでなく、その要
旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうま
でもない、
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は1本発明の詳細な説明するための封
止型半導体装置を示す図であり、第1図は、その一部切
欠き平面図、第2図は第1図のI−1切断線における断
面図、 第:3図は、本発明の一実施例を説明するための’J’
l +I−型半導体装置の一部切欠き平面図、第4図は
、第3図のIII −III gJ断線における断面図
、 第5図及び第6図は、本発明のダムの実施例を示す図で
ある。 図中、1()・・・ベース、IOA・・・配線パターン
。 11・・・ペレット、IIA・・・接着部材、IIB・
・・ボンディングワイヤ、12・・・ダム、12A・・
・ダ7− ムの内側段差、12B・・・ダムの内側傾斜面、13・
・・接着剤、14・・・ゲル状シリコン樹脂等、15・
・・キャップ、15A・・・キャビティ部、である。 8− 第 1 図 第 2 図 第 3 図 第 4 図 □6 第 5 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ■、基板]二にダムを設置し、半導体素子とボンディン
    グワイヤを封止部材で封止した半導体装置において、前
    記ダムの内側を所定の段差又は傾斜面にしたことを特徴
    とする半導体装置。 2、ボンディングワイヤをアルミニウム又はアルミニウ
    ム合金で形成したことを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載の半導体装置。
JP59020002A 1984-02-08 1984-02-08 半導体装置 Pending JPS60165742A (ja)

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JP59020002A JPS60165742A (ja) 1984-02-08 1984-02-08 半導体装置

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JP59020002A JPS60165742A (ja) 1984-02-08 1984-02-08 半導体装置

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JPS60165742A true JPS60165742A (ja) 1985-08-28

Family

ID=12014934

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59020002A Pending JPS60165742A (ja) 1984-02-08 1984-02-08 半導体装置

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JP (1) JPS60165742A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0372640A (ja) * 1989-08-11 1991-03-27 Fujitsu Ltd 半導体装置
US5834830A (en) * 1995-12-18 1998-11-10 Lg Semicon Co., Ltd. LOC (lead on chip) package and fabricating method thereof
WO2005001929A1 (de) * 2003-06-30 2005-01-06 Robert Bosch Gmbh Baueinheit mit einem wannenartigen gehäuseteil und mit einem darin befindlichen vergusswerkstoff

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0372640A (ja) * 1989-08-11 1991-03-27 Fujitsu Ltd 半導体装置
US5834830A (en) * 1995-12-18 1998-11-10 Lg Semicon Co., Ltd. LOC (lead on chip) package and fabricating method thereof
WO2005001929A1 (de) * 2003-06-30 2005-01-06 Robert Bosch Gmbh Baueinheit mit einem wannenartigen gehäuseteil und mit einem darin befindlichen vergusswerkstoff

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