JPS60168574U - 酸化珪素被膜の製造装置 - Google Patents

酸化珪素被膜の製造装置

Info

Publication number
JPS60168574U
JPS60168574U JP5580684U JP5580684U JPS60168574U JP S60168574 U JPS60168574 U JP S60168574U JP 5580684 U JP5580684 U JP 5580684U JP 5580684 U JP5580684 U JP 5580684U JP S60168574 U JPS60168574 U JP S60168574U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
section
silicon oxide
treatment
liquid
processing liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP5580684U
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6231186Y2 (ja
Inventor
永山 裕嗣
本多 久男
平芳 晃
大原 憲一
秀夫 河原
拓司 合田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Sheet Glass Co Ltd
Original Assignee
Nippon Sheet Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Sheet Glass Co Ltd filed Critical Nippon Sheet Glass Co Ltd
Priority to JP5580684U priority Critical patent/JPS60168574U/ja
Publication of JPS60168574U publication Critical patent/JPS60168574U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPS6231186Y2 publication Critical patent/JPS6231186Y2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は実施例に用いた酸化珪素被膜の製造装置の構成
を示す模式図である。 1・・・処理構、2・・・基材、3・・・浸漬部、4・
・・整流板、5・・・整流部、6・・・処理液調整部、
7・・・送水管、8・・・送水ポンプ、9・・・処理液
ろ過フィルター、10・・・恒温槽、11・・・処理液
調整装置。

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. (1)基材を珪弗化水素酸の酸化珪素飽和水溶液(以後
    処理液と呼ぶ)の入った処理槽に浸漬して基材表面に酸
    化珪素被膜を形成する酸化珪素被膜の製造装置において
    、処理槽1が基材2に浸漬するための浸漬部3、浸漬部
    3に流れ込む処理液の流れを整えるための浸漬部3に連
    なって設けられた整流部5、および浸漬部3から流れ出
    た処理液を調整するために浸漬部3に連なって設けられ
    た処理液調整部6からなり、浸漬部3と整流部5との境
    界に設けられた整流板4、処理液調整部6中の処理液を
    整流部5へ送るための送水管7、送水管7の途中にそれ
    ぞれ設けられた送水ポンプ8および処理液は過フィルタ
    ー、および処理液調整部6に設けられたホウ酸水溶液を
    処理液に添加するための処理液調整装置11を有するこ
    とを特徴とする酸化珪素被膜の製造装置。
  2. (2)該処理槽1が処理槽中の処理液を恒温に保つため
    の加熱および/または冷却手段を有する恒温槽10内に
    設けられている実用新案登録請求の範囲第1項記載の酸
    化珪素被膜の製造装置。
JP5580684U 1984-04-16 1984-04-16 酸化珪素被膜の製造装置 Granted JPS60168574U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5580684U JPS60168574U (ja) 1984-04-16 1984-04-16 酸化珪素被膜の製造装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5580684U JPS60168574U (ja) 1984-04-16 1984-04-16 酸化珪素被膜の製造装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60168574U true JPS60168574U (ja) 1985-11-08
JPS6231186Y2 JPS6231186Y2 (ja) 1987-08-10

Family

ID=30578826

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5580684U Granted JPS60168574U (ja) 1984-04-16 1984-04-16 酸化珪素被膜の製造装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60168574U (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008149299A (ja) * 2006-12-20 2008-07-03 Amatei Inc 釘の着色塗装装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008149299A (ja) * 2006-12-20 2008-07-03 Amatei Inc 釘の着色塗装装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6231186Y2 (ja) 1987-08-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS60168574U (ja) 酸化珪素被膜の製造装置
JPS63102738U (ja)
JPS6082148U (ja) 浴槽水加熱装置
JPS61117249U (ja)
JPS5984839U (ja) 半導体製造装置
JPS60116892U (ja) 滅菌・殺菌装置
JPS58183474U (ja) 凝縮器の散水装置
JPH0725569Y2 (ja) 吸収冷凍機の再生器
JPH0173372U (ja)
JPS5838300U (ja) 消泡装置
JPS5887336U (ja) 蝕刻装置
JPH0241070U (ja)
JPS5989535U (ja) 半導体ウエハの洗浄装置
JPS59171781U (ja) 水面転写装置
JPS617030U (ja) 半導体製造装置
JPS6022833U (ja) 半導体製造装置
JPS58174121U (ja) 温浴装置
JPS6012285B2 (ja) 硫化カドミウム析出膜の製造法
JPS59103759U (ja) 外面粉体エポキシ樹脂被覆鋼管の下地処理装置
JPS60121642U (ja) 半導体装置の配線形成用エツチング装置
JPS6063936U (ja) 半導体ウエハ−の水洗装置
JPS60107950U (ja) 感光膜コ−テイング装置
JPS58426U (ja) ダイシング装置
JPS60117865U (ja) 短尺リ−ドフレ−ムの連続電解処理装置
JPS5961897U (ja) 逆浸透水処理装置