JPS60182015A - 垂直磁気記録媒体 - Google Patents
垂直磁気記録媒体Info
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- JPS60182015A JPS60182015A JP3659484A JP3659484A JPS60182015A JP S60182015 A JPS60182015 A JP S60182015A JP 3659484 A JP3659484 A JP 3659484A JP 3659484 A JP3659484 A JP 3659484A JP S60182015 A JPS60182015 A JP S60182015A
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
３．１ 発明の技術分野
本発明は、Ａｔ又はその合金の陽極酸化皮膜に生成りる
微細孔（以ト、ボアという。）中に強磁性体を充填して
得られる垂直磁気記録異体に関するものである。 ３．２ 技術の背に１ 磁気記録媒体にディジタル信号を記録づる方式には、磁
性層表面に対して水平方向に磁化さＵる面内記録方式と
、磁性層表面に対して垂直、づなわら、厚さ方向に磁化
させる垂直記録方式とがある。従来は面内記録方式が用
いられてきたが、近年の記録の高密度化、人容吊化に伴
ない、高記録密度性に優れる垂直磁気記録媒体が８−目
され、各所で実用化・最適化の（ｌｌ＋究・開発が進め
られている。 ３．３ 従来技術の問題点 Δを又はイの合金を酸又はアルカリ浴中で陽極酸化づる
と、表面に酸化Ａｔ皮膜かできる。 その皮膜には表面に対して垂直な軸を右づるボアが形成
される。これを強磁性金属塩イＡンを含む溶液中Ｕ″電
解行なうことにより、ボア中に強磁性体を充填させるこ
とができる。口のようにして得られた磁性膜は、膜表面
に対し−Ｃ垂直な磁化容易方向を右し、また、膜作成条
件に上り、磁気特性を広範囲に変化させることができる
。従つＣ，陽極酸化処理により生成されたボア中に強Ｉ
硅性イホを充填したちのは垂直磁気記録媒１本として使
用づることか可能Ｃある。 」−記の原理を用いてｌａ気ディスク１９の磁気記録媒
体を作成づる場合、従来は、基板として、△を合金を用
いるのが一般的であったが、Ａｔ合金を基数として用い
る場合は、その合金に含まれる金属間化合物、非金属介
在物などの不純物や、ビンボールなどの表面欠陥などの
！こめに、ボアの径−Ｘ’）長軸方向、又は分布率など
について均一な陽極酸化皮膜が得られない。さらに、そ
のような皮膜に強磁性体を充填して、垂直１８気記録媒
体とした場合は、前記表面欠陥部が記録信号のドロップ
アウトや磁気ヘッドのクラッシュ等の原因になる。など
の欠点があった。 金属間化合物や非金属介在物の混入は、Δを含金を作る
時の原料の純度を上げていっても、溶解、ｖｉ造、圧延
などの諸工程を通る際に、ある程度導入されるのは避け
られないものである。 従って、均一な磁性膜を得るという観魚からは、基板と
して１ｌｌｉＡ／−を使用づることか望ましい。しかし
、一方、純Ａｔ は、機械的強度が弱く、加工性も良く
ないため、回転磁気ディスクなどのように薄板に形成す
る場合は、表面を鏡面に加工Ｊるのは難しい。そうする
と、純Ａｔも、回転磁気ディスクの基板として使用する
のは不適当である。 ３．４ 本光明の目的 本発明は、上記の点に鑑み、回転磁気ディスクを製作Ｊ
る場合の所要の１層成的強度及び加工性を備え、なｄ３
かつ、均一な磁気膜を有しつる垂直磁気記録媒体を提供
りることを目的と覆る。 ３．５ 本発明の構成及び゛効果 本発明は上記目的を達成りるため、Ａｔ合金板の上に、
蒸着、イオレブレーｉイング、スパッタリング等の気相
成ｄにより高純度Ａｌｔ＜を形成しく、見積を（＾１成
したもの−Ｃある。 このにうな４１４成とづることにより、この基板で磁気
ディスクを製作Ｊる場合は、Ａｔ合金板は機械的強度が
大きく、かつ、加工性が良いので、所定の加工粘度がｊ
ｑられる。また、陽極酸化処理をりる場合は、高純ゴ腹
△を肱に対して処理がされるから、不純物や表面欠陥な
どの影響を受
微細孔（以ト、ボアという。）中に強磁性体を充填して
得られる垂直磁気記録異体に関するものである。 ３．２ 技術の背に１ 磁気記録媒体にディジタル信号を記録づる方式には、磁
性層表面に対して水平方向に磁化さＵる面内記録方式と
、磁性層表面に対して垂直、づなわら、厚さ方向に磁化
させる垂直記録方式とがある。従来は面内記録方式が用
いられてきたが、近年の記録の高密度化、人容吊化に伴
ない、高記録密度性に優れる垂直磁気記録媒体が８−目
され、各所で実用化・最適化の（ｌｌ＋究・開発が進め
られている。 ３．３ 従来技術の問題点 Δを又はイの合金を酸又はアルカリ浴中で陽極酸化づる
と、表面に酸化Ａｔ皮膜かできる。 その皮膜には表面に対して垂直な軸を右づるボアが形成
される。これを強磁性金属塩イＡンを含む溶液中Ｕ″電
解行なうことにより、ボア中に強磁性体を充填させるこ
とができる。口のようにして得られた磁性膜は、膜表面
に対し−Ｃ垂直な磁化容易方向を右し、また、膜作成条
件に上り、磁気特性を広範囲に変化させることができる
。従つＣ，陽極酸化処理により生成されたボア中に強Ｉ
硅性イホを充填したちのは垂直磁気記録媒１本として使
用づることか可能Ｃある。 」−記の原理を用いてｌａ気ディスク１９の磁気記録媒
体を作成づる場合、従来は、基板として、△を合金を用
いるのが一般的であったが、Ａｔ合金を基数として用い
る場合は、その合金に含まれる金属間化合物、非金属介
在物などの不純物や、ビンボールなどの表面欠陥などの
！こめに、ボアの径−Ｘ’）長軸方向、又は分布率など
について均一な陽極酸化皮膜が得られない。さらに、そ
のような皮膜に強磁性体を充填して、垂直１８気記録媒
体とした場合は、前記表面欠陥部が記録信号のドロップ
アウトや磁気ヘッドのクラッシュ等の原因になる。など
の欠点があった。 金属間化合物や非金属介在物の混入は、Δを含金を作る
時の原料の純度を上げていっても、溶解、ｖｉ造、圧延
などの諸工程を通る際に、ある程度導入されるのは避け
られないものである。 従って、均一な磁性膜を得るという観魚からは、基板と
して１ｌｌｉＡ／−を使用づることか望ましい。しかし
、一方、純Ａｔ は、機械的強度が弱く、加工性も良く
ないため、回転磁気ディスクなどのように薄板に形成す
る場合は、表面を鏡面に加工Ｊるのは難しい。そうする
と、純Ａｔも、回転磁気ディスクの基板として使用する
のは不適当である。 ３．４ 本光明の目的 本発明は、上記の点に鑑み、回転磁気ディスクを製作Ｊ
る場合の所要の１層成的強度及び加工性を備え、なｄ３
かつ、均一な磁気膜を有しつる垂直磁気記録媒体を提供
りることを目的と覆る。 ３．５ 本発明の構成及び゛効果 本発明は上記目的を達成りるため、Ａｔ合金板の上に、
蒸着、イオレブレーｉイング、スパッタリング等の気相
成ｄにより高純度Ａｌｔ＜を形成しく、見積を（＾１成
したもの−Ｃある。 このにうな４１４成とづることにより、この基板で磁気
ディスクを製作Ｊる場合は、Ａｔ合金板は機械的強度が
大きく、かつ、加工性が良いので、所定の加工粘度がｊ
ｑられる。また、陽極酸化処理をりる場合は、高純ゴ腹
△を肱に対して処理がされるから、不純物や表面欠陥な
どの影響を受
【）ない、均一な陽極酸化皮膜が得られる
。 従って、このようなり＃３極酸化皮膜を右づ−る基板に
磁性体充填処理を覆れば、記録信号のドロツブアラ１−
や磁気ヘッドのクラッシュなどを起さない、信頼度と安
全性の高い垂直１８気記録媒体を得ることができる。 ３．６ 本発明の実施例 次に、本発明のいくつかの実施例について説明づ−る。 実施例１ 現イ「、一般に磁気ディスクの基板として用いられてい
るＡｔ合金Δ△５０ＢＧをタイＸ７モンド旋盤にＣｖＬ
面什」二げを１１ない、その表面に純ｌｆｆ９９．９９
９％の高純度Ａｔを原料として電子ビーム蒸着を行ない
、１９さ５μｍの純Ａｔ層を形成した。その後、３ｗｔ
（手早）％シコウ酸浴にて２０℃、ＤＣ４０Ｖの条イ１
で陽極酸化処理を行ない、厚さ４μｍの陽極酸化皮膜を
（ｑだ。 次いｒ、３０℃の５ｗｔ％スルファミン酸とＩＩＮ％リ
ン酸の混浴中に２０分間浸漬してボアを拡大した後、５
ｗｔ％第一硫酸鉄アン［ニウムと３Ｗ【％ホウ酸溶液中
で交流電解を行ない、ボア中に鉄を析出させた。その後
、表面を約２μｍ研磨してから顕微鏡にて表ｍｊを観察
し、欠陥部の大きさと数を調べた。表ｗ１面積１ｍ＋８
２について調べた結果を表１に示す。比較のため、蒸着
を行なわなかった同月１．１（ＡＡ５０８Ｇ）を同様に
処理した時の欠陥を調べた結果を表１に（７１記する。 実施例２ 実施例１の蒸着の代わりに、同じく純度９９゜９９９％
の高純度Ａｔをターグツ１へとしＣマグネｌ−ロン・ス
パッタリング法にＪ、すＪ’７さ５μｍの膜を形成した
。他の処理は実施例１と同じである。欠陥部を数えた結
果を表１に承り。 実施例３ 実施例１の蒸着の代わりにイオン・ブレーティング法に
より、同じく高純度△を膜を５μｍ形成した。 他の処理は実施例１と同じである。欠陥の数を表１に承
り。 表１ ３．７ 実施態様の説明 上述のように、Ａｔ 合金板上に純Ａｔ層を形成りるこ
とにより、垂直磁気記録媒体の欠陥の数を著しく減少さ
せることができる。 本発明者は、垂直磁気記録媒体として良好な磁気特性を
得るために気相成長したＡｔ ｍｔＡに関】る詳細な実
験を行なった結果、Δノ 合金阜仮に形成する高純度Ａ
ｔ膜の特性としＣ１電気１１（抗率ρが２．７〜３．２
μＱｃｒｎのしのが良好な磁気特性が１！７られること
がわかった。 実験は、純Δを膜形成時の真空度、固成ＪＸｉｍ度、基
板温度などの諸条イ′１を変化さけてＬ＋なったが、真
空度の高いほど、電気抵抗率が低くなり、また、Ｉ１９
成艮速度が人ぎいはと、電気抵抗率が低くなる。しかし
、塁４に温度を変え（ｔ）、電気１１（ｌｉ“し率に変
化）よなかった。 上記の諸条イ′［を変えで作成したり仮を、いり゛れも
同条件で陽極酸化処’ｌ１ｌｌ、ボア拡大処理、磁性体
析出処理を行なつＵ （！’？られｌこ磁性膜の（６気
特性を測定した。 この結果、１１６１面に垂直り向の保磁力１１ｃ （±
〉は、股作成条イ９（に依存ｌｉす゛、（Ｊぽ一定のｌ
１１１が１°Ｉられるか、飽和磁束密度１３ｓは純Δｌ
の電気抵抗率に大きく依存りることが判った。この結果
を第１図に示す。同図にＬｉ２い（、実線、鎖線、及び
一点鎖線はそれぞれＷ着払（Ｊよる皮膜、イＡンゾレー
ディング法による皮膜、及びスパッタリング法にＪ、る
皮膜の測定結果を示づ。 垂直（丑気記録媒体どして使用覆る場合、Ｂ ｓは大き
い方がＴＩ′ｉ生信号の信号雑音比が良くなり、記録密
度が向上Ｊるため、Δを合金基板上に形成づる純△を股
とし℃は、電気抵抗率ρが２゜７〜３．２μΩａｍの範
囲にあるものが適当であることが、この測定結果から判
る。
。 従って、このようなり＃３極酸化皮膜を右づ−る基板に
磁性体充填処理を覆れば、記録信号のドロツブアラ１−
や磁気ヘッドのクラッシュなどを起さない、信頼度と安
全性の高い垂直１８気記録媒体を得ることができる。 ３．６ 本発明の実施例 次に、本発明のいくつかの実施例について説明づ−る。 実施例１ 現イ「、一般に磁気ディスクの基板として用いられてい
るＡｔ合金Δ△５０ＢＧをタイＸ７モンド旋盤にＣｖＬ
面什」二げを１１ない、その表面に純ｌｆｆ９９．９９
９％の高純度Ａｔを原料として電子ビーム蒸着を行ない
、１９さ５μｍの純Ａｔ層を形成した。その後、３ｗｔ
（手早）％シコウ酸浴にて２０℃、ＤＣ４０Ｖの条イ１
で陽極酸化処理を行ない、厚さ４μｍの陽極酸化皮膜を
（ｑだ。 次いｒ、３０℃の５ｗｔ％スルファミン酸とＩＩＮ％リ
ン酸の混浴中に２０分間浸漬してボアを拡大した後、５
ｗｔ％第一硫酸鉄アン［ニウムと３Ｗ【％ホウ酸溶液中
で交流電解を行ない、ボア中に鉄を析出させた。その後
、表面を約２μｍ研磨してから顕微鏡にて表ｍｊを観察
し、欠陥部の大きさと数を調べた。表ｗ１面積１ｍ＋８
２について調べた結果を表１に示す。比較のため、蒸着
を行なわなかった同月１．１（ＡＡ５０８Ｇ）を同様に
処理した時の欠陥を調べた結果を表１に（７１記する。 実施例２ 実施例１の蒸着の代わりに、同じく純度９９゜９９９％
の高純度Ａｔをターグツ１へとしＣマグネｌ−ロン・ス
パッタリング法にＪ、すＪ’７さ５μｍの膜を形成した
。他の処理は実施例１と同じである。欠陥部を数えた結
果を表１に承り。 実施例３ 実施例１の蒸着の代わりにイオン・ブレーティング法に
より、同じく高純度△を膜を５μｍ形成した。 他の処理は実施例１と同じである。欠陥の数を表１に承
り。 表１ ３．７ 実施態様の説明 上述のように、Ａｔ 合金板上に純Ａｔ層を形成りるこ
とにより、垂直磁気記録媒体の欠陥の数を著しく減少さ
せることができる。 本発明者は、垂直磁気記録媒体として良好な磁気特性を
得るために気相成長したＡｔ ｍｔＡに関】る詳細な実
験を行なった結果、Δノ 合金阜仮に形成する高純度Ａ
ｔ膜の特性としＣ１電気１１（抗率ρが２．７〜３．２
μＱｃｒｎのしのが良好な磁気特性が１！７られること
がわかった。 実験は、純Δを膜形成時の真空度、固成ＪＸｉｍ度、基
板温度などの諸条イ′１を変化さけてＬ＋なったが、真
空度の高いほど、電気抵抗率が低くなり、また、Ｉ１９
成艮速度が人ぎいはと、電気抵抗率が低くなる。しかし
、塁４に温度を変え（ｔ）、電気１１（ｌｉ“し率に変
化）よなかった。 上記の諸条イ′［を変えで作成したり仮を、いり゛れも
同条件で陽極酸化処’ｌ１ｌｌ、ボア拡大処理、磁性体
析出処理を行なつＵ （！’？られｌこ磁性膜の（６気
特性を測定した。 この結果、１１６１面に垂直り向の保磁力１１ｃ （±
〉は、股作成条イ９（に依存ｌｉす゛、（Ｊぽ一定のｌ
１１１が１°Ｉられるか、飽和磁束密度１３ｓは純Δｌ
の電気抵抗率に大きく依存りることが判った。この結果
を第１図に示す。同図にＬｉ２い（、実線、鎖線、及び
一点鎖線はそれぞれＷ着払（Ｊよる皮膜、イＡンゾレー
ディング法による皮膜、及びスパッタリング法にＪ、る
皮膜の測定結果を示づ。 垂直（丑気記録媒体どして使用覆る場合、Ｂ ｓは大き
い方がＴＩ′ｉ生信号の信号雑音比が良くなり、記録密
度が向上Ｊるため、Δを合金基板上に形成づる純△を股
とし℃は、電気抵抗率ρが２゜７〜３．２μΩａｍの範
囲にあるものが適当であることが、この測定結果から判
る。
第１図は本発明による基板の高純度Ａｔ層の電気抵抗率
と飽和磁束密度との関係を示−リグラフＣある。 １４訂出願人 高 橋 俊 部 夕 才 否 ２．５ ３．５ 電気伝斡ｒψΩｃｍｌ １’Ｔ ＋ｉ’ｌ庁長官 若杉和夫 殿１ 、 ＝Ｉ；
ｆｌの表示 昭和（）０づ１２ＬＩ２ε３１］イ’ｌ Ｉ！２出のｆ
ｌ ＲＴ願く１）２、発明の名称 Ｑ’−、ｓｉｎ、
’−メ垂自磁気記録媒体 ３、補正４りる石 “旧′１どの関係 １：１ム′［出ｌ（１人１１所 静
岡県浜松市人瀬町３５０−２９氏名 １ｒ５ イｎ 俊
部 ４、代理人〒１０５ （１１１ｉ 中５ｒｒ都港１メ豹ｉ橋３］目′１５５番
り弓（３，ン＋ｌｉ ｉＥ の対（（） 明１ｉ’１ｌｌｆ！ｆの’ｌ’ｌ ｉ１’ｌ晶求の範囲
の欄及び発明の訂廁な説明欄 ７、袖１１−の内容 ８．１” ”・ 別紙のどＪ３リ ′５９．３．７４ 。 補正の内容 （１）特許請求の範囲を別紙のとｄ３り訂正りる。 く２）明細囚第４頁第１５行目のｌ’Ａ４合金」より第
１８行目までを次のように訂正づる。 １機械的強度及び加工性に優れた月利、例えば△を合金
、ガラス、硬７′（プラスチック、レラミックなど（以
下、代表的にＡｔ合金という。）Ｃ基板を作り、その基
板上に、蒸着、イオンブレニアインク又はスパッタリン
グなどの気相成長によるノｊ２）、−ｃ高純度△ｔＦｉ
を形成したものである。」 （３）明細−）図１４頁第１９行目のｌ ＪＪ板−１を
１磁気記録媒体コに訂正ηる。 （４）明細丙第９頁ダ１８？ｊ目と第９行目の闇に、次
の文章をＩＪ］」入ηる。 １ト記実施例は、Ａｔ合金を基板として用いｌｃ揚合の
ものであるが、カラス、ｌｉ！Ｊ！貿プラスチック、又
はレラミックなどを用いる場合にも、同様の結末かｊ’
Ｊられるものと思われる。」’ｌｌｌ ｉ’ｆ品求の範
囲 （１） ｊ’ルミニウム（以上、Ａｔという。）の陽４
４ｉ酸化処理にｅＪ：り生成される酸化皮１１４）の微
ｆｌｌｌ ｌ中に強１４１性体を充填して製造される垂
直磁気記録媒体であって、Ａｔ合金、カラス、硬質プラ
スチック又（よレラミツクを基板としＣ用い、この基板
上に蒸着、イオンプレーディング又はスパッタリングな
どの気相成長による方法で高純する垂直磁気記録媒体。 （２）高Ｔｋ度Ａｔ層はその電気抵抗率が２．７へ・３
．２μΩｃｍの範囲にあるものであることを特徴とりる
１４訂請求の範囲第１１ｊｉに記載の垂直磁気記録媒体
。
と飽和磁束密度との関係を示−リグラフＣある。 １４訂出願人 高 橋 俊 部 夕 才 否 ２．５ ３．５ 電気伝斡ｒψΩｃｍｌ １’Ｔ ＋ｉ’ｌ庁長官 若杉和夫 殿１ 、 ＝Ｉ；
ｆｌの表示 昭和（）０づ１２ＬＩ２ε３１］イ’ｌ Ｉ！２出のｆ
ｌ ＲＴ願く１）２、発明の名称 Ｑ’−、ｓｉｎ、
’−メ垂自磁気記録媒体 ３、補正４りる石 “旧′１どの関係 １：１ム′［出ｌ（１人１１所 静
岡県浜松市人瀬町３５０−２９氏名 １ｒ５ イｎ 俊
部 ４、代理人〒１０５ （１１１ｉ 中５ｒｒ都港１メ豹ｉ橋３］目′１５５番
り弓（３，ン＋ｌｉ ｉＥ の対（（） 明１ｉ’１ｌｌｆ！ｆの’ｌ’ｌ ｉ１’ｌ晶求の範囲
の欄及び発明の訂廁な説明欄 ７、袖１１−の内容 ８．１” ”・ 別紙のどＪ３リ ′５９．３．７４ 。 補正の内容 （１）特許請求の範囲を別紙のとｄ３り訂正りる。 く２）明細囚第４頁第１５行目のｌ’Ａ４合金」より第
１８行目までを次のように訂正づる。 １機械的強度及び加工性に優れた月利、例えば△を合金
、ガラス、硬７′（プラスチック、レラミックなど（以
下、代表的にＡｔ合金という。）Ｃ基板を作り、その基
板上に、蒸着、イオンブレニアインク又はスパッタリン
グなどの気相成長によるノｊ２）、−ｃ高純度△ｔＦｉ
を形成したものである。」 （３）明細−）図１４頁第１９行目のｌ ＪＪ板−１を
１磁気記録媒体コに訂正ηる。 （４）明細丙第９頁ダ１８？ｊ目と第９行目の闇に、次
の文章をＩＪ］」入ηる。 １ト記実施例は、Ａｔ合金を基板として用いｌｃ揚合の
ものであるが、カラス、ｌｉ！Ｊ！貿プラスチック、又
はレラミックなどを用いる場合にも、同様の結末かｊ’
Ｊられるものと思われる。」’ｌｌｌ ｉ’ｆ品求の範
囲 （１） ｊ’ルミニウム（以上、Ａｔという。）の陽４
４ｉ酸化処理にｅＪ：り生成される酸化皮１１４）の微
ｆｌｌｌ ｌ中に強１４１性体を充填して製造される垂
直磁気記録媒体であって、Ａｔ合金、カラス、硬質プラ
スチック又（よレラミツクを基板としＣ用い、この基板
上に蒸着、イオンプレーディング又はスパッタリングな
どの気相成長による方法で高純する垂直磁気記録媒体。 （２）高Ｔｋ度Ａｔ層はその電気抵抗率が２．７へ・３
．２μΩｃｍの範囲にあるものであることを特徴とりる
１４訂請求の範囲第１１ｊｉに記載の垂直磁気記録媒体
。
Claims (2)
- （１）陽極酸化処理ににり生成される微細孔中に強磁性
体を充填して製造される垂直磁気記録媒体の基板が、ア
ルミニウム（以Ｆ、Ａｔ という。）合金上に、蒸着、
イオンブレーアイング、又はスパッタリングなとの気相
成長によるｈ法′Ｃ″高純度Ａ１層を形成しＣなること
を特徴どηる垂直磁気記録媒体。 - （２）高純度Ａｔ層はその電気抵抗甲が２．７〜３．２
μＯｆｆ＋の範囲にｄうるちのでｄうることを特徴とす
る特５′［請求の範囲第１項に記載の垂直磁気記録異体
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3659484A JPS60182015A (ja) | 1984-02-28 | 1984-02-28 | 垂直磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3659484A JPS60182015A (ja) | 1984-02-28 | 1984-02-28 | 垂直磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60182015A true JPS60182015A (ja) | 1985-09-17 |
Family
ID=12474103
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3659484A Pending JPS60182015A (ja) | 1984-02-28 | 1984-02-28 | 垂直磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60182015A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5671821A (en) * | 1979-11-14 | 1981-06-15 | Hitachi Ltd | Substrate for magnetic disc and its manufacture |
| JPS5922232A (ja) * | 1982-07-26 | 1984-02-04 | Sumitomo Light Metal Ind Ltd | 磁気デイスク用アルミニウム基板の製造法 |
-
1984
- 1984-02-28 JP JP3659484A patent/JPS60182015A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5671821A (en) * | 1979-11-14 | 1981-06-15 | Hitachi Ltd | Substrate for magnetic disc and its manufacture |
| JPS5922232A (ja) * | 1982-07-26 | 1984-02-04 | Sumitomo Light Metal Ind Ltd | 磁気デイスク用アルミニウム基板の製造法 |
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