JPS60184050A - α−ケトエステル類を製造する方法 - Google Patents
α−ケトエステル類を製造する方法Info
- Publication number
- JPS60184050A JPS60184050A JP59040183A JP4018384A JPS60184050A JP S60184050 A JPS60184050 A JP S60184050A JP 59040183 A JP59040183 A JP 59040183A JP 4018384 A JP4018384 A JP 4018384A JP S60184050 A JPS60184050 A JP S60184050A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- ruthenium
- reaction
- alpha
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はα−ケトエステル類の効率的な製造法に関し、
更に詳しくは、α−オキシエステル類を、ルテニウム触
媒の存在下、ヒドロペルオキシドで処理して酸化脱水素
とすることから成るα−ケトエステル類の新規な製造方
法に関するものである。
更に詳しくは、α−オキシエステル類を、ルテニウム触
媒の存在下、ヒドロペルオキシドで処理して酸化脱水素
とすることから成るα−ケトエステル類の新規な製造方
法に関するものである。
α−ヶ１〜エステル類はそれ自身で複素環化合物をはじ
め、医・農薬等との関連で重要な一群の合成中間体であ
り、特に還元的アミノ化処理によって容易にα−アミノ
酸誘導体に誘導されることから、α−アミノ酸製造原料
として極めて有用な化合物である。
め、医・農薬等との関連で重要な一群の合成中間体であ
り、特に還元的アミノ化処理によって容易にα−アミノ
酸誘導体に誘導されることから、α−アミノ酸製造原料
として極めて有用な化合物である。
従来このようなα−ケＩ〜エステル類の合成は有機リチ
ウム化合物、有機マグネシウム化合物の如き高反応性カ
ルバニオン種を蓚酸エステルに作用させて行なわれてお
り、この高反応性カルバニオン種が多数の官能基と反応
するため、合成しうるα−ヶ１〜エステルの範囲が狭く
限定される。また、多種の副反応生成物も生成するため
、反応の選択率の面でも好ましくない。一方、α−ケ１
−エステル類はアシルシアニド類の加水分解とエステル
化によっても製造しうるが、アシルシアニド自身の合成
が高温、長時間を必要とするか、又は、アシルシアニド
ダイマーの多量の副生を伴うのが通例であり、工業的に
有利な製造法と言えない現状にある。このように従来法
によるα−ケ１−エステルの合成法は大規模な１成的製
造法として有利な結果をもたらすものではなく、バイオ
テクノロジーの進展に伴い多種のアミノ酸の需要の増加
の予測される技術体系の中で、穏和かつ高選択的なα−
ケ１〜酸の新規製造法開発は焦眉の技術課題となってい
る。
ウム化合物、有機マグネシウム化合物の如き高反応性カ
ルバニオン種を蓚酸エステルに作用させて行なわれてお
り、この高反応性カルバニオン種が多数の官能基と反応
するため、合成しうるα−ヶ１〜エステルの範囲が狭く
限定される。また、多種の副反応生成物も生成するため
、反応の選択率の面でも好ましくない。一方、α−ケ１
−エステル類はアシルシアニド類の加水分解とエステル
化によっても製造しうるが、アシルシアニド自身の合成
が高温、長時間を必要とするか、又は、アシルシアニド
ダイマーの多量の副生を伴うのが通例であり、工業的に
有利な製造法と言えない現状にある。このように従来法
によるα−ケ１−エステルの合成法は大規模な１成的製
造法として有利な結果をもたらすものではなく、バイオ
テクノロジーの進展に伴い多種のアミノ酸の需要の増加
の予測される技術体系の中で、穏和かつ高選択的なα−
ケ１〜酸の新規製造法開発は焦眉の技術課題となってい
る。
本発明者らはかかる状況に鑑み、新規な効率的α−ケト
エステル製造法をｒｉＦＪ発すべく鋭意研究の結果、入
手容易なα−オキシエステル類の酸化脱水素反応が、種
々のルテニウム触媒の存在工種々のヒドロペルオキシド
類を作用させることによって温和な条件下迅速に進行す
るという新規な事実を発見し、これにもとづき本発明を
完成させるに至った。
エステル製造法をｒｉＦＪ発すべく鋭意研究の結果、入
手容易なα−オキシエステル類の酸化脱水素反応が、種
々のルテニウム触媒の存在工種々のヒドロペルオキシド
類を作用させることによって温和な条件下迅速に進行す
るという新規な事実を発見し、これにもとづき本発明を
完成させるに至った。
すなわち、本発明によれば、工業的に容易に製造される
α−オキシエステル類を原料とする効率的なα−ケトエ
ステル類の新規製造方法が提供される。
α−オキシエステル類を原料とする効率的なα−ケトエ
ステル類の新規製造方法が提供される。
本発明の原料であるα−オキシエステル類は、のである
限り、脂肪族系、芳香族系、複素芳香族系などの種類を
問わない。従って、前記一般式のα−オキシエステル中
、Ｒ１で示される有機基には、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、し−ブチルなどのアルキル基、シク
ロペンチル、シクロヘキシル、シクロオクチルなどのシ
クロアルキル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基な
どのアリール基、フリル基、チェニル基、ピロリル基、
インドリル基、ピリジル基などの複素環基、ベンジル、
フェニルエチルなどの７ラルキル基、ビニル、プロペニ
ル、イソプロペニル、β−スチリルなどのアルケニル基
などの有機基が包含され、反応の進行を１ｕｌ害するも
のを除きあらゆる官能基が結合していても良い。なお、
上記の有機基はあくまで例示にすぎず、これらに限され
るものではない。これらのα−オキシエステル類は相当
するシアンヒドリン類から容易に得られ、これらシアン
ヒドリン類は相当するアルデヒド類から容易に製造され
ることは当業者に広く知られている。またこれらアルデ
ヒド類は酸化反応（Ｒ’ＣＨ３→Ｒ１Ｃｌｌ０）、ｇｅ
ｍ−ジハロゲン化物の加水分解（Ｒ’ ＣｌｌＸ ２−
＋Ｒ” Ｃｌ０）、 ハロゲン化物ノカルボニル化（Ｒ
ｌＸ−Ｎｔ’ Ｃｌｌ０）、Ｖｉｌｓｍｅｙｅｒ反応（
Ｉ＋” １１−＋Ｒ’ ＣＨＯ）Ｇａｔｔｅｒｍａｎ
−Ｋｏｃｈ反応（Ｒ’ Ｉ＋−＋ｌ１ｌＣＩＩＯ）、オ
キソ反応などによって工業的に大量に製造することが容
易である。
限り、脂肪族系、芳香族系、複素芳香族系などの種類を
問わない。従って、前記一般式のα−オキシエステル中
、Ｒ１で示される有機基には、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、し−ブチルなどのアルキル基、シク
ロペンチル、シクロヘキシル、シクロオクチルなどのシ
クロアルキル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基な
どのアリール基、フリル基、チェニル基、ピロリル基、
インドリル基、ピリジル基などの複素環基、ベンジル、
フェニルエチルなどの７ラルキル基、ビニル、プロペニ
ル、イソプロペニル、β−スチリルなどのアルケニル基
などの有機基が包含され、反応の進行を１ｕｌ害するも
のを除きあらゆる官能基が結合していても良い。なお、
上記の有機基はあくまで例示にすぎず、これらに限され
るものではない。これらのα−オキシエステル類は相当
するシアンヒドリン類から容易に得られ、これらシアン
ヒドリン類は相当するアルデヒド類から容易に製造され
ることは当業者に広く知られている。またこれらアルデ
ヒド類は酸化反応（Ｒ’ＣＨ３→Ｒ１Ｃｌｌ０）、ｇｅ
ｍ−ジハロゲン化物の加水分解（Ｒ’ ＣｌｌＸ ２−
＋Ｒ” Ｃｌ０）、 ハロゲン化物ノカルボニル化（Ｒ
ｌＸ−Ｎｔ’ Ｃｌｌ０）、Ｖｉｌｓｍｅｙｅｒ反応（
Ｉ＋” １１−＋Ｒ’ ＣＨＯ）Ｇａｔｔｅｒｍａｎ
−Ｋｏｃｈ反応（Ｒ’ Ｉ＋−＋ｌ１ｌＣＩＩＯ）、オ
キソ反応などによって工業的に大量に製造することが容
易である。
本反応で用いる一般式Ｒ” ０ＯＨ（Ｒ”は前記と同じ
である）で表わされるヒドロペルオキシドは前記Ｒ２の
範囲に属する限りいかなるものでもさしつかえないが、
化学的安定性を考広するならば、第２級又は第３級カル
ビル基でヒドロペルオキシ法に結合するのが好ましく、
このような有機基Ｒ２としては、イソプロピル基、シク
ロヘキシル基、し−ブチル基、α−テ１〜ラリル栽、α
−メチルベンジル基、α−クミル基、α−クミル基（０
−１る。
である）で表わされるヒドロペルオキシドは前記Ｒ２の
範囲に属する限りいかなるものでもさしつかえないが、
化学的安定性を考広するならば、第２級又は第３級カル
ビル基でヒドロペルオキシ法に結合するのが好ましく、
このような有機基Ｒ２としては、イソプロピル基、シク
ロヘキシル基、し−ブチル基、α−テ１〜ラリル栽、α
−メチルベンジル基、α−クミル基、α−クミル基（０
−１る。
本反応はルテニウム触媒の存在下に実施されるが、この
ルテニウム触媒としては、ルテニウム原子価が零価〜３
価のあらゆるルテニウム金属又は化合物を用いることが
出来る。この場合のルテニウム金属又は化合物は公知方
法で不活性な担体、例えば、アルミナ、シリカゲル。活
性炭などに担持して用いることも可能である。本反応に
用いうるルテニウム化合物を例示すると、金属ルテニウ
ム粉末、コロイド状ルテニウム、活性炭担持ルテニウム
、ルテニウムカルボニル、（１，３，５−シクロオクタ
トリエン）（１，５−シクロオキタジエン）ルテニウム
、ルテニウムジクロリド、ルテニウムジクロリド、酸化
ルテニウム、ルテニウムアセチルアセトナート、ルテニ
ウムトリクロリド、ルテニウム１−リブロミド、ルテニ
ウム１ヘリヨーシト、ジクロロ１−リカルボニルルテニ
ウムダイマー、ジクロロ−π−ベンゼンルテニウム、Ｄ
ＭＳＯ付加物、トリストリフェニルホスフィンルテニウ
ムジクロリド、トリストリフェニルホスフインルテニウ
ムジブロミド、クロロヒドリドトリストリフェニルホス
フインルテニウム、ブロモヒドリドトリストリフェニル
ホスフィンルテニウム、１−リス（Ｐ−クロロフェニル
）ホスフィンルテニウムジクロリド、トリストリフェニ
ルホスフィンルテニウムヒドリドアセター１−、トリス
トリフェニルホスフィンルテニウムヒドリドビバロアー
ト、トリストリフェニルホスフィンクロロジフェニル−
シリルルテニウｌ＼ヒドリド等を挙げることができる。
ルテニウム触媒としては、ルテニウム原子価が零価〜３
価のあらゆるルテニウム金属又は化合物を用いることが
出来る。この場合のルテニウム金属又は化合物は公知方
法で不活性な担体、例えば、アルミナ、シリカゲル。活
性炭などに担持して用いることも可能である。本反応に
用いうるルテニウム化合物を例示すると、金属ルテニウ
ム粉末、コロイド状ルテニウム、活性炭担持ルテニウム
、ルテニウムカルボニル、（１，３，５−シクロオクタ
トリエン）（１，５−シクロオキタジエン）ルテニウム
、ルテニウムジクロリド、ルテニウムジクロリド、酸化
ルテニウム、ルテニウムアセチルアセトナート、ルテニ
ウムトリクロリド、ルテニウム１−リブロミド、ルテニ
ウム１ヘリヨーシト、ジクロロ１−リカルボニルルテニ
ウムダイマー、ジクロロ−π−ベンゼンルテニウム、Ｄ
ＭＳＯ付加物、トリストリフェニルホスフィンルテニウ
ムジクロリド、トリストリフェニルホスフインルテニウ
ムジブロミド、クロロヒドリドトリストリフェニルホス
フインルテニウム、ブロモヒドリドトリストリフェニル
ホスフィンルテニウム、１−リス（Ｐ−クロロフェニル
）ホスフィンルテニウムジクロリド、トリストリフェニ
ルホスフィンルテニウムヒドリドアセター１−、トリス
トリフェニルホスフィンルテニウムヒドリドビバロアー
ト、トリストリフェニルホスフィンクロロジフェニル−
シリルルテニウｌ＼ヒドリド等を挙げることができる。
なお、これらルテニウム触媒の使用量はいわゆる触媒量
で充分であり、α−オキシエステルの構造によってはそ
の１／１０００モル比程度の量であっても室温に於て充
分迅速にα−ケトエステル類を得ることが出来る。
で充分であり、α−オキシエステルの構造によってはそ
の１／１０００モル比程度の量であっても室温に於て充
分迅速にα−ケトエステル類を得ることが出来る。
本反応は無溶媒でも進行するが、不活性な溶媒中で実施
することも可能である。このような溶媒を例示すると、
ベンゼン、トルエン、アセトン、ジクロルメタン、ヘキ
サン、水、酢酸、酢酸エチル、アセトニトリル、ｔ−ブ
チルアルコール、クロルベンゼン、エーテル、テトラヒ
ドロフラン、スルホランなど通常用いられる溶媒類が挙
げられる。
することも可能である。このような溶媒を例示すると、
ベンゼン、トルエン、アセトン、ジクロルメタン、ヘキ
サン、水、酢酸、酢酸エチル、アセトニトリル、ｔ−ブ
チルアルコール、クロルベンゼン、エーテル、テトラヒ
ドロフラン、スルホランなど通常用いられる溶媒類が挙
げられる。
本発明の反応は多くの場合室温でも迅速に進行し、また
α−オキシエステルの４Ｗ造によっては発熱を除去する
ため冷却を要する場合もあるが、反応速度が低い場合に
は加熱下に実施することも出来、通常−２０℃〜＋１０
０℃、好ましくはθ℃〜８０℃の温度範囲で実施される
。
α−オキシエステルの４Ｗ造によっては発熱を除去する
ため冷却を要する場合もあるが、反応速度が低い場合に
は加熱下に実施することも出来、通常−２０℃〜＋１０
０℃、好ましくはθ℃〜８０℃の温度範囲で実施される
。
α−オキシエステルとヒドロペルオキシドの量関係は、
いずれが過剰であっても反応は進行するが、通常、α−
オキシエステル／ヒドロペルオキシドのモル比で０．１
〜２の範囲で実施され、好ましくは０．２〜ｌの範囲で
ある。
いずれが過剰であっても反応は進行するが、通常、α−
オキシエステル／ヒドロペルオキシドのモル比で０．１
〜２の範囲で実施され、好ましくは０．２〜ｌの範囲で
ある。
生成物の分離は、反応混合物を必要に応じ、実質的に水
に不溶の溶剤を加え、不溶性触媒の場合には、濾過遠心
分離等により不溶物を分離回収の後、水（必要に応じ還
元剤を含んでいてもよい）で洗い、有機層を必要に応じ
て溶媒をストリップした後、蒸留、クロマトグラフィー
又は再結晶など通常の分離操作によって容易に行うこと
が出来る。
に不溶の溶剤を加え、不溶性触媒の場合には、濾過遠心
分離等により不溶物を分離回収の後、水（必要に応じ還
元剤を含んでいてもよい）で洗い、有機層を必要に応じ
て溶媒をストリップした後、蒸留、クロマトグラフィー
又は再結晶など通常の分離操作によって容易に行うこと
が出来る。
以上のように本発明によれば、入手容易な広い範囲のα
−オキシエステル類を原料に用いて、脂肪族、芳香族、
複素環族を問わず、ｌＪ広いα−ケトエステル類を穏和
な条件下、好収率に得ることが出来る。また反応操作、
生成物の分離にも煩雑な操作を必要とせず、所望のα−
ケトエステルを簡単に得ることが出来、工業的見地から
極めて有利な方法ということが出来る。
−オキシエステル類を原料に用いて、脂肪族、芳香族、
複素環族を問わず、ｌＪ広いα−ケトエステル類を穏和
な条件下、好収率に得ることが出来る。また反応操作、
生成物の分離にも煩雑な操作を必要とせず、所望のα−
ケトエステルを簡単に得ることが出来、工業的見地から
極めて有利な方法ということが出来る。
次に実施例に基づき更に詳細に説明する。
実施例１
窒素雰囲気下、ジクロロトリストリフェニルホスフィン
ルテニウム４８Ｂ（５Ｘ １０− ” ｍｍｏ Ｉｔ
）及びマンデル酸エチル０．９０１ｍｇ（５ｍｍｏ Ｑ
）をベンゼン５ｍＱに溶解し、室温に於て攪拌しつつ
ｔ−ブチルヒドロペルオキシドの水溶液（７０％）１．
２８ｍ Ｑ （１０ｍｍｏ Ｑ ）を１０分間かけて滴
下し、その後５０分攪拌を続けた。
ルテニウム４８Ｂ（５Ｘ １０− ” ｍｍｏ Ｉｔ
）及びマンデル酸エチル０．９０１ｍｇ（５ｍｍｏ Ｑ
）をベンゼン５ｍＱに溶解し、室温に於て攪拌しつつ
ｔ−ブチルヒドロペルオキシドの水溶液（７０％）１．
２８ｍ Ｑ （１０ｍｍｏ Ｑ ）を１０分間かけて滴
下し、その後５０分攪拌を続けた。
ジフェニルエーテル２７９ｍｇを内部標準物質として加
え、ガスクロマトグラフィーにより分析した結果、フェ
ニルグリオキシル酸エチルが９７．５％の収率で生成し
、未反応原料が１．８％残存していることを認めた。
え、ガスクロマトグラフィーにより分析した結果、フェ
ニルグリオキシル酸エチルが９７．５％の収率で生成し
、未反応原料が１．８％残存していることを認めた。
全く同様の反応を繰返し、ジフェニルエーテルを加えず
に反応溶液をエーテル２０ｍ Ｑに加え、水５ＩＩＩＱ
で２回洗い、硫酸マグネシウムで乾燥、次いで濾過し、
濾液から溶剤をロータリーエバポレーターで留去し、残
った油状物をシリカゲルクロマ１へグラフィー（展開溶
剤：ヘキサン−ベンゼン、グラディエンド）で精製し、
溶剤を留去後、ショートパス蒸留によって目的物０．８
５１ｍｇを得た。
に反応溶液をエーテル２０ｍ Ｑに加え、水５ＩＩＩＱ
で２回洗い、硫酸マグネシウムで乾燥、次いで濾過し、
濾液から溶剤をロータリーエバポレーターで留去し、残
った油状物をシリカゲルクロマ１へグラフィー（展開溶
剤：ヘキサン−ベンゼン、グラディエンド）で精製し、
溶剤を留去後、ショートパス蒸留によって目的物０．８
５１ｍｇを得た。
実施例２
実施例１に於て、ジクロロトリストリフェニルホスフィ
ンルテニウムの量を１／ｌＯにし、全く同様に反応し、
分析した結果、フェニルグリオキシル酸エチル生成量は
７４．２％、マンデル酸エチル残存量は１７．６％であ
ることが分った。
ンルテニウムの量を１／ｌＯにし、全く同様に反応し、
分析した結果、フェニルグリオキシル酸エチル生成量は
７４．２％、マンデル酸エチル残存量は１７．６％であ
ることが分った。
実施例３〜１１
実施例１に於て、ジクロロトリストリフエニルホスフイ
ンルテニウムの代りに種々の触媒を金属あたり５ Ｘ
１０− ” ｍｇ−ａｔｏｍ用いて、同様に反応させた
結果を表−１に示した。
ンルテニウムの代りに種々の触媒を金属あたり５ Ｘ
１０− ” ｍｇ−ａｔｏｍ用いて、同様に反応させた
結果を表−１に示した。
実施例１２〜１８
実施例１に於て、マンデル酸エチルの代りに種々のα−
オキシエステルを５ＩＩ１ｍｏ１２、触媒としてジクロ
ロトリストリフェニルホスフィンルテニウム又は塩化ル
テニウムを５ＸＩＯ−’ｍｍｏΩ用いて、同様に反応さ
せた結果を表−２に示した。
オキシエステルを５ＩＩ１ｍｏ１２、触媒としてジクロ
ロトリストリフェニルホスフィンルテニウム又は塩化ル
テニウムを５ＸＩＯ−’ｍｍｏΩ用いて、同様に反応さ
せた結果を表−２に示した。
Claims (1)
- ケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル
基及び複素環基の中から選ばれる有機基を示し、Ｚはエ
ステル基を示す）で表わされるα−オキシエステル類を
ルテニウム触媒の存在下、一般式Ｒ”０ＯＨ（式中Ｒ２
はアルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基の中か
ら選ばれる有機基を示す）で表わされるヒドロペルオキ
シドと反応させることを特徴とする、一般式Ｒ１Ｃ０Ｚ
（式中、Ｒ１及び２は前記と同じである）で表わされる
α−ケトエステル類を製造する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59040183A JPS60184050A (ja) | 1984-03-01 | 1984-03-01 | α−ケトエステル類を製造する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59040183A JPS60184050A (ja) | 1984-03-01 | 1984-03-01 | α−ケトエステル類を製造する方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60184050A true JPS60184050A (ja) | 1985-09-19 |
| JPH0140022B2 JPH0140022B2 (ja) | 1989-08-24 |
Family
ID=12573665
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59040183A Granted JPS60184050A (ja) | 1984-03-01 | 1984-03-01 | α−ケトエステル類を製造する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60184050A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2626276A1 (fr) * | 1988-01-22 | 1989-07-28 | Hoechst France | Perfectionnement au procede de fabrication de pyruvates d'alkyle |
-
1984
- 1984-03-01 JP JP59040183A patent/JPS60184050A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2626276A1 (fr) * | 1988-01-22 | 1989-07-28 | Hoechst France | Perfectionnement au procede de fabrication de pyruvates d'alkyle |
| US5053527A (en) * | 1988-01-22 | 1991-10-01 | Societe Francaise Hoechst | Process for the manufacture of alkyl pyruvates |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0140022B2 (ja) | 1989-08-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4264418B2 (ja) | メタセシス反応用（予備）触媒としてのルテニウム錯体 | |
| US4673757A (en) | Process for selective hydrogenation of C-C double bonds in the presence of reducible, nitrogen-containing groups and new ruthenium complex compounds | |
| JPWO2013099819A1 (ja) | バナジウム錯体を用いたファルネサールの製造方法 | |
| Giuseppone et al. | Tandem Mukaiyama Michael–aldol reactions catalysed by samarium diiodide | |
| US4433160A (en) | Process for producing α-arylalkanoic acid ester | |
| JPH0987258A (ja) | オキサゾリン類、その製造方法およびそれを用いる不斉シクロプロパンカルボン酸類の製造方法 | |
| EP0050445B1 (en) | Telomerization of butadiene and carbon dioxide | |
| JPH0140022B2 (ja) | ||
| US4515731A (en) | Asymmetric catalysis | |
| JP2000271485A (ja) | オレフィン類のビスアルコキシカルボニル化触媒、及びコハク酸エステル誘導体の製造法 | |
| JPH0140024B2 (ja) | ||
| JP4759722B2 (ja) | 置換基を有する芳香族カルボン酸エステルの製造方法 | |
| HU182673B (en) | Process for preparing esters of 2-formyl-3,3-dimethyl-cyclopropane-1-carboxylic acid | |
| JP4349678B2 (ja) | ジヒドロシトラールの製造方法 | |
| JPH01305053A (ja) | α−ケトエステルの製造法 | |
| JP2579547B2 (ja) | アルコキシカルボニル化合物の製法 | |
| JP2860676B2 (ja) | １―イソキノリン類の製造方法 | |
| JPH04283548A (ja) | 新規なテルペン誘導体及びその製造方法 | |
| JPS6038343A (ja) | フエニル酢酸誘導体の製造方法 | |
| JPS5817736B2 (ja) | フエニル酢酸アルキルエステルの製造方法 | |
| JP3912808B2 (ja) | アルカトリエン類の製造方法 | |
| CN104926747B (zh) | 具有光学活性的环己基噁唑啉配体的合成方法及其用途 | |
| JPS6030665B2 (ja) | α−ケトアミドイミン類の製造方法 | |
| JPS6250452B2 (ja) | ||
| JPS6159623B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |