JPS60184050A - α−ケトエステル類を製造する方法 - Google Patents
α−ケトエステル類を製造する方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はα−ケトエステル類の効率的な製造法に関し、
更に詳しくは、α−オキシエステル類を、ルテニウム触
媒の存在下、ヒドロペルオキシドで処理して酸化脱水素
とすることから成るα−ケトエステル類の新規な製造方
法に関するものである。
更に詳しくは、α−オキシエステル類を、ルテニウム触
媒の存在下、ヒドロペルオキシドで処理して酸化脱水素
とすることから成るα−ケトエステル類の新規な製造方
法に関するものである。
α−ヶ1〜エステル類はそれ自身で複素環化合物をはじ
め、医・農薬等との関連で重要な一群の合成中間体であ
り、特に還元的アミノ化処理によって容易にα−アミノ
酸誘導体に誘導されることから、α−アミノ酸製造原料
として極めて有用な化合物である。
め、医・農薬等との関連で重要な一群の合成中間体であ
り、特に還元的アミノ化処理によって容易にα−アミノ
酸誘導体に誘導されることから、α−アミノ酸製造原料
として極めて有用な化合物である。
従来このようなα−ケI〜エステル類の合成は有機リチ
ウム化合物、有機マグネシウム化合物の如き高反応性カ
ルバニオン種を蓚酸エステルに作用させて行なわれてお
り、この高反応性カルバニオン種が多数の官能基と反応
するため、合成しうるα−ヶ1〜エステルの範囲が狭く
限定される。また、多種の副反応生成物も生成するため
、反応の選択率の面でも好ましくない。一方、α−ケ1
−エステル類はアシルシアニド類の加水分解とエステル
化によっても製造しうるが、アシルシアニド自身の合成
が高温、長時間を必要とするか、又は、アシルシアニド
ダイマーの多量の副生を伴うのが通例であり、工業的に
有利な製造法と言えない現状にある。このように従来法
によるα−ケ1−エステルの合成法は大規模な1成的製
造法として有利な結果をもたらすものではなく、バイオ
テクノロジーの進展に伴い多種のアミノ酸の需要の増加
の予測される技術体系の中で、穏和かつ高選択的なα−
ケ1〜酸の新規製造法開発は焦眉の技術課題となってい
る。
ウム化合物、有機マグネシウム化合物の如き高反応性カ
ルバニオン種を蓚酸エステルに作用させて行なわれてお
り、この高反応性カルバニオン種が多数の官能基と反応
するため、合成しうるα−ヶ1〜エステルの範囲が狭く
限定される。また、多種の副反応生成物も生成するため
、反応の選択率の面でも好ましくない。一方、α−ケ1
−エステル類はアシルシアニド類の加水分解とエステル
化によっても製造しうるが、アシルシアニド自身の合成
が高温、長時間を必要とするか、又は、アシルシアニド
ダイマーの多量の副生を伴うのが通例であり、工業的に
有利な製造法と言えない現状にある。このように従来法
によるα−ケ1−エステルの合成法は大規模な1成的製
造法として有利な結果をもたらすものではなく、バイオ
テクノロジーの進展に伴い多種のアミノ酸の需要の増加
の予測される技術体系の中で、穏和かつ高選択的なα−
ケ1〜酸の新規製造法開発は焦眉の技術課題となってい
る。
本発明者らはかかる状況に鑑み、新規な効率的α−ケト
エステル製造法をriFJ発すべく鋭意研究の結果、入
手容易なα−オキシエステル類の酸化脱水素反応が、種
々のルテニウム触媒の存在工種々のヒドロペルオキシド
類を作用させることによって温和な条件下迅速に進行す
るという新規な事実を発見し、これにもとづき本発明を
完成させるに至った。
エステル製造法をriFJ発すべく鋭意研究の結果、入
手容易なα−オキシエステル類の酸化脱水素反応が、種
々のルテニウム触媒の存在工種々のヒドロペルオキシド
類を作用させることによって温和な条件下迅速に進行す
るという新規な事実を発見し、これにもとづき本発明を
完成させるに至った。
すなわち、本発明によれば、工業的に容易に製造される
α−オキシエステル類を原料とする効率的なα−ケトエ
ステル類の新規製造方法が提供される。
α−オキシエステル類を原料とする効率的なα−ケトエ
ステル類の新規製造方法が提供される。
本発明の原料であるα−オキシエステル類は、のである
限り、脂肪族系、芳香族系、複素芳香族系などの種類を
問わない。従って、前記一般式のα−オキシエステル中
、R1で示される有機基には、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、し−ブチルなどのアルキル基、シク
ロペンチル、シクロヘキシル、シクロオクチルなどのシ
クロアルキル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基な
どのアリール基、フリル基、チェニル基、ピロリル基、
インドリル基、ピリジル基などの複素環基、ベンジル、
フェニルエチルなどの7ラルキル基、ビニル、プロペニ
ル、イソプロペニル、β−スチリルなどのアルケニル基
などの有機基が包含され、反応の進行を1ul害するも
のを除きあらゆる官能基が結合していても良い。なお、
上記の有機基はあくまで例示にすぎず、これらに限され
るものではない。これらのα−オキシエステル類は相当
するシアンヒドリン類から容易に得られ、これらシアン
ヒドリン類は相当するアルデヒド類から容易に製造され
ることは当業者に広く知られている。またこれらアルデ
ヒド類は酸化反応(R’CH3→R1Cll0)、ge
m−ジハロゲン化物の加水分解(R’ CllX 2−
+R” Cl0)、 ハロゲン化物ノカルボニル化(R
lX−Nt’ Cll0)、Vilsmeyer反応(
I+” 11−+R’ CHO)Gatterman
−Koch反応(R’ I+−+l1lCIIO)、オ
キソ反応などによって工業的に大量に製造することが容
易である。
限り、脂肪族系、芳香族系、複素芳香族系などの種類を
問わない。従って、前記一般式のα−オキシエステル中
、R1で示される有機基には、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、し−ブチルなどのアルキル基、シク
ロペンチル、シクロヘキシル、シクロオクチルなどのシ
クロアルキル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基な
どのアリール基、フリル基、チェニル基、ピロリル基、
インドリル基、ピリジル基などの複素環基、ベンジル、
フェニルエチルなどの7ラルキル基、ビニル、プロペニ
ル、イソプロペニル、β−スチリルなどのアルケニル基
などの有機基が包含され、反応の進行を1ul害するも
のを除きあらゆる官能基が結合していても良い。なお、
上記の有機基はあくまで例示にすぎず、これらに限され
るものではない。これらのα−オキシエステル類は相当
するシアンヒドリン類から容易に得られ、これらシアン
ヒドリン類は相当するアルデヒド類から容易に製造され
ることは当業者に広く知られている。またこれらアルデ
ヒド類は酸化反応(R’CH3→R1Cll0)、ge
m−ジハロゲン化物の加水分解(R’ CllX 2−
+R” Cl0)、 ハロゲン化物ノカルボニル化(R
lX−Nt’ Cll0)、Vilsmeyer反応(
I+” 11−+R’ CHO)Gatterman
−Koch反応(R’ I+−+l1lCIIO)、オ
キソ反応などによって工業的に大量に製造することが容
易である。
本反応で用いる一般式R” 0OH(R”は前記と同じ
である)で表わされるヒドロペルオキシドは前記R2の
範囲に属する限りいかなるものでもさしつかえないが、
化学的安定性を考広するならば、第2級又は第3級カル
ビル基でヒドロペルオキシ法に結合するのが好ましく、
このような有機基R2としては、イソプロピル基、シク
ロヘキシル基、し−ブチル基、α−テ1〜ラリル栽、α
−メチルベンジル基、α−クミル基、α−クミル基(0
−1る。
である)で表わされるヒドロペルオキシドは前記R2の
範囲に属する限りいかなるものでもさしつかえないが、
化学的安定性を考広するならば、第2級又は第3級カル
ビル基でヒドロペルオキシ法に結合するのが好ましく、
このような有機基R2としては、イソプロピル基、シク
ロヘキシル基、し−ブチル基、α−テ1〜ラリル栽、α
−メチルベンジル基、α−クミル基、α−クミル基(0
−1る。
本反応はルテニウム触媒の存在下に実施されるが、この
ルテニウム触媒としては、ルテニウム原子価が零価〜3
価のあらゆるルテニウム金属又は化合物を用いることが
出来る。この場合のルテニウム金属又は化合物は公知方
法で不活性な担体、例えば、アルミナ、シリカゲル。活
性炭などに担持して用いることも可能である。本反応に
用いうるルテニウム化合物を例示すると、金属ルテニウ
ム粉末、コロイド状ルテニウム、活性炭担持ルテニウム
、ルテニウムカルボニル、(1,3,5−シクロオクタ
トリエン)(1,5−シクロオキタジエン)ルテニウム
、ルテニウムジクロリド、ルテニウムジクロリド、酸化
ルテニウム、ルテニウムアセチルアセトナート、ルテニ
ウムトリクロリド、ルテニウム1−リブロミド、ルテニ
ウム1ヘリヨーシト、ジクロロ1−リカルボニルルテニ
ウムダイマー、ジクロロ−π−ベンゼンルテニウム、D
MSO付加物、トリストリフェニルホスフィンルテニウ
ムジクロリド、トリストリフェニルホスフインルテニウ
ムジブロミド、クロロヒドリドトリストリフェニルホス
フインルテニウム、ブロモヒドリドトリストリフェニル
ホスフィンルテニウム、1−リス(P−クロロフェニル
)ホスフィンルテニウムジクロリド、トリストリフェニ
ルホスフィンルテニウムヒドリドアセター1−、トリス
トリフェニルホスフィンルテニウムヒドリドビバロアー
ト、トリストリフェニルホスフィンクロロジフェニル−
シリルルテニウl\ヒドリド等を挙げることができる。
ルテニウム触媒としては、ルテニウム原子価が零価〜3
価のあらゆるルテニウム金属又は化合物を用いることが
出来る。この場合のルテニウム金属又は化合物は公知方
法で不活性な担体、例えば、アルミナ、シリカゲル。活
性炭などに担持して用いることも可能である。本反応に
用いうるルテニウム化合物を例示すると、金属ルテニウ
ム粉末、コロイド状ルテニウム、活性炭担持ルテニウム
、ルテニウムカルボニル、(1,3,5−シクロオクタ
トリエン)(1,5−シクロオキタジエン)ルテニウム
、ルテニウムジクロリド、ルテニウムジクロリド、酸化
ルテニウム、ルテニウムアセチルアセトナート、ルテニ
ウムトリクロリド、ルテニウム1−リブロミド、ルテニ
ウム1ヘリヨーシト、ジクロロ1−リカルボニルルテニ
ウムダイマー、ジクロロ−π−ベンゼンルテニウム、D
MSO付加物、トリストリフェニルホスフィンルテニウ
ムジクロリド、トリストリフェニルホスフインルテニウ
ムジブロミド、クロロヒドリドトリストリフェニルホス
フインルテニウム、ブロモヒドリドトリストリフェニル
ホスフィンルテニウム、1−リス(P−クロロフェニル
)ホスフィンルテニウムジクロリド、トリストリフェニ
ルホスフィンルテニウムヒドリドアセター1−、トリス
トリフェニルホスフィンルテニウムヒドリドビバロアー
ト、トリストリフェニルホスフィンクロロジフェニル−
シリルルテニウl\ヒドリド等を挙げることができる。
なお、これらルテニウム触媒の使用量はいわゆる触媒量
で充分であり、α−オキシエステルの構造によってはそ
の1/1000モル比程度の量であっても室温に於て充
分迅速にα−ケトエステル類を得ることが出来る。
で充分であり、α−オキシエステルの構造によってはそ
の1/1000モル比程度の量であっても室温に於て充
分迅速にα−ケトエステル類を得ることが出来る。
本反応は無溶媒でも進行するが、不活性な溶媒中で実施
することも可能である。このような溶媒を例示すると、
ベンゼン、トルエン、アセトン、ジクロルメタン、ヘキ
サン、水、酢酸、酢酸エチル、アセトニトリル、t−ブ
チルアルコール、クロルベンゼン、エーテル、テトラヒ
ドロフラン、スルホランなど通常用いられる溶媒類が挙
げられる。
することも可能である。このような溶媒を例示すると、
ベンゼン、トルエン、アセトン、ジクロルメタン、ヘキ
サン、水、酢酸、酢酸エチル、アセトニトリル、t−ブ
チルアルコール、クロルベンゼン、エーテル、テトラヒ
ドロフラン、スルホランなど通常用いられる溶媒類が挙
げられる。
本発明の反応は多くの場合室温でも迅速に進行し、また
α−オキシエステルの4W造によっては発熱を除去する
ため冷却を要する場合もあるが、反応速度が低い場合に
は加熱下に実施することも出来、通常−20℃〜+10
0℃、好ましくはθ℃〜80℃の温度範囲で実施される
。
α−オキシエステルの4W造によっては発熱を除去する
ため冷却を要する場合もあるが、反応速度が低い場合に
は加熱下に実施することも出来、通常−20℃〜+10
0℃、好ましくはθ℃〜80℃の温度範囲で実施される
。
α−オキシエステルとヒドロペルオキシドの量関係は、
いずれが過剰であっても反応は進行するが、通常、α−
オキシエステル/ヒドロペルオキシドのモル比で0.1
〜2の範囲で実施され、好ましくは0.2〜lの範囲で
ある。
いずれが過剰であっても反応は進行するが、通常、α−
オキシエステル/ヒドロペルオキシドのモル比で0.1
〜2の範囲で実施され、好ましくは0.2〜lの範囲で
ある。
生成物の分離は、反応混合物を必要に応じ、実質的に水
に不溶の溶剤を加え、不溶性触媒の場合には、濾過遠心
分離等により不溶物を分離回収の後、水(必要に応じ還
元剤を含んでいてもよい)で洗い、有機層を必要に応じ
て溶媒をストリップした後、蒸留、クロマトグラフィー
又は再結晶など通常の分離操作によって容易に行うこと
が出来る。
に不溶の溶剤を加え、不溶性触媒の場合には、濾過遠心
分離等により不溶物を分離回収の後、水(必要に応じ還
元剤を含んでいてもよい)で洗い、有機層を必要に応じ
て溶媒をストリップした後、蒸留、クロマトグラフィー
又は再結晶など通常の分離操作によって容易に行うこと
が出来る。
以上のように本発明によれば、入手容易な広い範囲のα
−オキシエステル類を原料に用いて、脂肪族、芳香族、
複素環族を問わず、lJ広いα−ケトエステル類を穏和
な条件下、好収率に得ることが出来る。また反応操作、
生成物の分離にも煩雑な操作を必要とせず、所望のα−
ケトエステルを簡単に得ることが出来、工業的見地から
極めて有利な方法ということが出来る。
−オキシエステル類を原料に用いて、脂肪族、芳香族、
複素環族を問わず、lJ広いα−ケトエステル類を穏和
な条件下、好収率に得ることが出来る。また反応操作、
生成物の分離にも煩雑な操作を必要とせず、所望のα−
ケトエステルを簡単に得ることが出来、工業的見地から
極めて有利な方法ということが出来る。
次に実施例に基づき更に詳細に説明する。
実施例1
窒素雰囲気下、ジクロロトリストリフェニルホスフィン
ルテニウム48B(5X 10− ” mmo It
)及びマンデル酸エチル0.901mg(5mmo Q
)をベンゼン5mQに溶解し、室温に於て攪拌しつつ
t−ブチルヒドロペルオキシドの水溶液(70%)1.
28m Q (10mmo Q )を10分間かけて滴
下し、その後50分攪拌を続けた。
ルテニウム48B(5X 10− ” mmo It
)及びマンデル酸エチル0.901mg(5mmo Q
)をベンゼン5mQに溶解し、室温に於て攪拌しつつ
t−ブチルヒドロペルオキシドの水溶液(70%)1.
28m Q (10mmo Q )を10分間かけて滴
下し、その後50分攪拌を続けた。
ジフェニルエーテル279mgを内部標準物質として加
え、ガスクロマトグラフィーにより分析した結果、フェ
ニルグリオキシル酸エチルが97.5%の収率で生成し
、未反応原料が1.8%残存していることを認めた。
え、ガスクロマトグラフィーにより分析した結果、フェ
ニルグリオキシル酸エチルが97.5%の収率で生成し
、未反応原料が1.8%残存していることを認めた。
全く同様の反応を繰返し、ジフェニルエーテルを加えず
に反応溶液をエーテル20m Qに加え、水5IIIQ
で2回洗い、硫酸マグネシウムで乾燥、次いで濾過し、
濾液から溶剤をロータリーエバポレーターで留去し、残
った油状物をシリカゲルクロマ1へグラフィー(展開溶
剤:ヘキサン−ベンゼン、グラディエンド)で精製し、
溶剤を留去後、ショートパス蒸留によって目的物0.8
51mgを得た。
に反応溶液をエーテル20m Qに加え、水5IIIQ
で2回洗い、硫酸マグネシウムで乾燥、次いで濾過し、
濾液から溶剤をロータリーエバポレーターで留去し、残
った油状物をシリカゲルクロマ1へグラフィー(展開溶
剤:ヘキサン−ベンゼン、グラディエンド)で精製し、
溶剤を留去後、ショートパス蒸留によって目的物0.8
51mgを得た。
実施例2
実施例1に於て、ジクロロトリストリフェニルホスフィ
ンルテニウムの量を1/lOにし、全く同様に反応し、
分析した結果、フェニルグリオキシル酸エチル生成量は
74.2%、マンデル酸エチル残存量は17.6%であ
ることが分った。
ンルテニウムの量を1/lOにし、全く同様に反応し、
分析した結果、フェニルグリオキシル酸エチル生成量は
74.2%、マンデル酸エチル残存量は17.6%であ
ることが分った。
実施例3〜11
実施例1に於て、ジクロロトリストリフエニルホスフイ
ンルテニウムの代りに種々の触媒を金属あたり5 X
10− ” mg−atom用いて、同様に反応させた
結果を表−1に示した。
ンルテニウムの代りに種々の触媒を金属あたり5 X
10− ” mg−atom用いて、同様に反応させた
結果を表−1に示した。
実施例12〜18
実施例1に於て、マンデル酸エチルの代りに種々のα−
オキシエステルを5II1mo12、触媒としてジクロ
ロトリストリフェニルホスフィンルテニウム又は塩化ル
テニウムを5XIO−’mmoΩ用いて、同様に反応さ
せた結果を表−2に示した。
オキシエステルを5II1mo12、触媒としてジクロ
ロトリストリフェニルホスフィンルテニウム又は塩化ル
テニウムを5XIO−’mmoΩ用いて、同様に反応さ
せた結果を表−2に示した。
Claims (1)
- ケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル
基及び複素環基の中から選ばれる有機基を示し、Zはエ
ステル基を示す)で表わされるα−オキシエステル類を
ルテニウム触媒の存在下、一般式R”0OH(式中R2
はアルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基の中か
ら選ばれる有機基を示す)で表わされるヒドロペルオキ
シドと反応させることを特徴とする、一般式R1C0Z
(式中、R1及び2は前記と同じである)で表わされる
α−ケトエステル類を製造する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59040183A JPS60184050A (ja) | 1984-03-01 | 1984-03-01 | α−ケトエステル類を製造する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59040183A JPS60184050A (ja) | 1984-03-01 | 1984-03-01 | α−ケトエステル類を製造する方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60184050A true JPS60184050A (ja) | 1985-09-19 |
| JPH0140022B2 JPH0140022B2 (ja) | 1989-08-24 |
Family
ID=12573665
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59040183A Granted JPS60184050A (ja) | 1984-03-01 | 1984-03-01 | α−ケトエステル類を製造する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60184050A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2626276A1 (fr) * | 1988-01-22 | 1989-07-28 | Hoechst France | Perfectionnement au procede de fabrication de pyruvates d'alkyle |
-
1984
- 1984-03-01 JP JP59040183A patent/JPS60184050A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2626276A1 (fr) * | 1988-01-22 | 1989-07-28 | Hoechst France | Perfectionnement au procede de fabrication de pyruvates d'alkyle |
| US5053527A (en) * | 1988-01-22 | 1991-10-01 | Societe Francaise Hoechst | Process for the manufacture of alkyl pyruvates |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0140022B2 (ja) | 1989-08-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |