JPS60191735A - 静電チヤツク - Google Patents
静電チヤツクInfo
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- JPS60191735A JPS60191735A JP4530984A JP4530984A JPS60191735A JP S60191735 A JPS60191735 A JP S60191735A JP 4530984 A JP4530984 A JP 4530984A JP 4530984 A JP4530984 A JP 4530984A JP S60191735 A JPS60191735 A JP S60191735A
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- Jigs For Machine Tools (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は静電ヂトツタに係り、特に被処理物を静電的に
吸着づる静電ヂレックに関する。
吸着づる静電ヂレックに関する。
第１図は従来の静電ヂせツクをエツチング装置に適用し
たもので、真空容器１の下部には、電極２が絶縁部材３
を介して取付けられており、上記電極２の上面にはカブ
ｌ−ン（ポリイミド）等の１４電体膜４が貼着されてい
る。また、」−記電極２には、マツチング回路５を介し
て高周波電１１１＋！ ６が１ａ続されるとどもに、フ
ィルタ７を介して出力霜月を可変しつる直流電源８が接
続されてＪ５す、さらに、上記電極２の内部には冷却水
を送る水冷バルブ９が脣通されている。また１、に開口
４゛ｊ容器１には、真空１ノ１気管１０ＪｊＪ、びガス
導入管１１がぞれぞれ接続されている。
たもので、真空容器１の下部には、電極２が絶縁部材３
を介して取付けられており、上記電極２の上面にはカブ
ｌ−ン（ポリイミド）等の１４電体膜４が貼着されてい
る。また、」−記電極２には、マツチング回路５を介し
て高周波電１１１＋！ ６が１ａ続されるとどもに、フ
ィルタ７を介して出力霜月を可変しつる直流電源８が接
続されてＪ５す、さらに、上記電極２の内部には冷却水
を送る水冷バルブ９が脣通されている。また１、に開口
４゛ｊ容器１には、真空１ノ１気管１０ＪｊＪ、びガス
導入管１１がぞれぞれ接続されている。
上記！置の場合、真空容器１の内部空気を真空排気管１
０から真空ポンプ等により工゛↓空１ノ１気し、かつ、
ガス導入管１１からＡｒ等のガスを送り真空容器１の内
部をガス雰囲気にする。ぞしで、シリコンウェハ等の被
処理物Δを、誘′ｔ［１体膜４上に載置し、直流電源８
をＯＮに９−ることにより被処理物Ａは静電的に吸む固
定される。この状態において、高周波電源６をＯＮにす
ることにより、被処理物Ａのエツチングが行なわれ、水
冷パイプ９の内部を流れる冷却水により電極２および被
処理物Ａの冷却が行なわれる。
０から真空ポンプ等により工゛↓空１ノ１気し、かつ、
ガス導入管１１からＡｒ等のガスを送り真空容器１の内
部をガス雰囲気にする。ぞしで、シリコンウェハ等の被
処理物Δを、誘′ｔ［１体膜４上に載置し、直流電源８
をＯＮに９−ることにより被処理物Ａは静電的に吸む固
定される。この状態において、高周波電源６をＯＮにす
ることにより、被処理物Ａのエツチングが行なわれ、水
冷パイプ９の内部を流れる冷却水により電極２および被
処理物Ａの冷却が行なわれる。
イしく、」−ツＪングが終了した１ね、高周波電源６お
よσ直流電源８を０［二Ｆにし、図示しない搬送駅間に
Ｊ、り被処理物Ａ＠離［１２させるようになされる。
よσ直流電源８を０［二Ｆにし、図示しない搬送駅間に
Ｊ、り被処理物Ａ＠離［１２させるようになされる。
〔前号１技術の問題点〕
上記装置ｆｆ１Ｙの鳴合、被処理物Ａの吸名回数が少む
いどきには問題はないが、多数枚の被処理物△を吸？１
固定すると、誘電体膜４の表面に電荷が蓄積して静電シ
ールドされてしまうため、静電ヂトツクの吸引力が弱ま
り被処理物へを確実に吸着固定りることができなくなる
という欠点を右している。
いどきには問題はないが、多数枚の被処理物△を吸？１
固定すると、誘電体膜４の表面に電荷が蓄積して静電シ
ールドされてしまうため、静電ヂトツクの吸引力が弱ま
り被処理物へを確実に吸着固定りることができなくなる
という欠点を右している。
（発明の目的）
本発明は上記欠点に鑑みてなされたもので、電荷の蓄積
による吸引力の低下を防止することのでさる静電ヂレッ
クを提供りることを目的とＪるものである。
による吸引力の低下を防止することのでさる静電ヂレッ
クを提供りることを目的とＪるものである。
〔発明の（１１（要］
」記目的を’＋１．成りるため本発明に係る静電デシツ
クは、誘電体膜を被処理物の外周部分該当位置にのみ電
４う！に貼着りるように構成されており、誘＝電体膜を
はど／υど使用づることなく被処理物を固定するように
なされている。
クは、誘電体膜を被処理物の外周部分該当位置にのみ電
４う！に貼着りるように構成されており、誘＝電体膜を
はど／υど使用づることなく被処理物を固定するように
なされている。
以下、本発明の実施例を第２１２（ｌ ｄ３ Ｊ、びダ
）３３図４参照し、第１図と同一部分には同一符号を（
Ｎｔ Ｌ ”（説明り゛る。
）３３図４参照し、第１図と同一部分には同一符号を（
Ｎｔ Ｌ ”（説明り゛る。
第２図は本発明に係る静電ヂｐツクの電］か部分を示し
たもので、被処理物への外周部分に密接づるように環状
の誘電体膜４が、電極２に貼７゛１されている。この誘
電体膜４の厚さは約０．１・〜０゜２ ｍｍどされてお
り、この誘７ｈ体膜４にＪ、り被処理物Δと電極２との
間にわずかな隙間が保ｌ〔れるので、誘電体１！ｉ！
４が貼着されていない部分におい（も絶縁される。
たもので、被処理物への外周部分に密接づるように環状
の誘電体膜４が、電極２に貼７゛１されている。この誘
電体膜４の厚さは約０．１・〜０゜２ ｍｍどされてお
り、この誘７ｈ体膜４にＪ、り被処理物Δと電極２との
間にわずかな隙間が保ｌ〔れるので、誘電体１！ｉ！
４が貼着されていない部分におい（も絶縁される。
本実施例においては、誘電体膜１をはど／ｕど使用けず
に被処理物△を固定するＪ、うになされるので、誘電体
膜４への電荷の蓄積（ｉｔが茗しく減少し、この電的の
蓄積ににる吸引ツノの低下を有効に防１１−づることが
できる。
に被処理物△を固定するＪ、うになされるので、誘電体
膜４への電荷の蓄積（ｉｔが茗しく減少し、この電的の
蓄積ににる吸引ツノの低下を有効に防１１−づることが
できる。
また、第３図は本発明の伯の実施例を示したｂの（、被
処理物への外周部分３箇所に誘電体膜４が貼ン１され（
いる。本実施例においても、上記実施例ど１１ｊ１様に
電６：＋の蓄積量が少なくなり、被処理物へをＭＥ実に
固定りることができる。
処理物への外周部分３箇所に誘電体膜４が貼ン１され（
いる。本実施例においても、上記実施例ど１１ｊ１様に
電６：＋の蓄積量が少なくなり、被処理物へをＭＥ実に
固定りることができる。
なお、誘電体膜４の貼着箇所は、本実施例に示づ３箇所
に限定されるものではなく、適宜増設しＣｔ）Ｊ、いこ
とはムらろんである。
に限定されるものではなく、適宜増設しＣｔ）Ｊ、いこ
とはムらろんである。
以」−述べたＪ：うに本発明に係る静電チャックは、誘
電体膜を被処理物の外周部分該当位置にのみ電４１＋に
貼着ＪるＪ、うになされており、誘電体膜をはど／υど
使用Ｊることなく被処理物を吸着固定するＪ、うにし！
この（゛、誘電体膜への雷萄の蓄積■が大幅に減少し、
被処理物を多数枚吸着固定した場合でし吸引力の低十を
防ぐことができ、したがつ−Ｃ１被処理物を確実に固定
り−ることがＣきる。まｌこ、♀Ｊｉ ／＝な装「９が
不能でかつ誘電体膜が少なくてづ−むので、紅汎的であ
る等の効果を奏り゛る。
電体膜を被処理物の外周部分該当位置にのみ電４１＋に
貼着ＪるＪ、うになされており、誘電体膜をはど／υど
使用Ｊることなく被処理物を吸着固定するＪ、うにし！
この（゛、誘電体膜への雷萄の蓄積■が大幅に減少し、
被処理物を多数枚吸着固定した場合でし吸引力の低十を
防ぐことができ、したがつ−Ｃ１被処理物を確実に固定
り−ることがＣきる。まｌこ、♀Ｊｉ ／＝な装「９が
不能でかつ誘電体膜が少なくてづ−むので、紅汎的であ
る等の効果を奏り゛る。
第１図は従来の静電ブーＶツクを」−ツブング装置ｒｊ
に適用した例を示り′縦［θｉ面図、第２図おにび第３
゛ 図はそれぞれ本発明の一実施例を小したもので、第
２図は電極部分のＩＩ断面図、第３図は電４ａｉ部分の
正面図である。 １・・・真空容器、２・・・７Ｒ極、３・・・絶縁部月
、４・・・誘電体膜、５・・・マッヂング回路、６・・
・畠周波電１１；シフ・・・フィルタ、８・・・直流電
源、９・・・水冷パイプ、１０・・・真空排気管、１１
・・・ガス尋人管。 出願人代理人 猪 股 消
に適用した例を示り′縦［θｉ面図、第２図おにび第３
゛ 図はそれぞれ本発明の一実施例を小したもので、第
２図は電極部分のＩＩ断面図、第３図は電４ａｉ部分の
正面図である。 １・・・真空容器、２・・・７Ｒ極、３・・・絶縁部月
、４・・・誘電体膜、５・・・マッヂング回路、６・・
・畠周波電１１；シフ・・・フィルタ、８・・・直流電
源、９・・・水冷パイプ、１０・・・真空排気管、１１
・・・ガス尋人管。 出願人代理人 猪 股 消
Claims (1)
- 電極ど、この電極にＩｌ／Ｊ名された誘電体膜どを右し
、」二記電極にｌｌ’ｌ ｌＡＥ電圧を印加することに
Ｊζり被１７！１Ｊｊｌ物を土ｔｉｃ誘電体膜表面に静
電的に固定りる静電ブ１１ツクにａ３いて、上記誘電体
膜を上記被処理物の外周部分該当位置にのみ貼着°りる
ようにしたことを１ｊＩ徴どづる静電チ１！ツタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4530984A JPS60191735A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | 静電チヤツク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4530984A JPS60191735A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | 静電チヤツク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60191735A true JPS60191735A (ja) | 1985-09-30 |
| JPH0145223B2 JPH0145223B2 (ja) | 1989-10-03 |
Family
ID=12715709
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4530984A Granted JPS60191735A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | 静電チヤツク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60191735A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6278846A (ja) * | 1985-10-01 | 1987-04-11 | Tokyo Electron Ltd | 半導体ウエハ処理装置 |
| JPS6286837A (ja) * | 1985-10-14 | 1987-04-21 | Tokyo Electron Ltd | ウエハ処理装置 |
-
1984
- 1984-03-09 JP JP4530984A patent/JPS60191735A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6278846A (ja) * | 1985-10-01 | 1987-04-11 | Tokyo Electron Ltd | 半導体ウエハ処理装置 |
| JPS6286837A (ja) * | 1985-10-14 | 1987-04-21 | Tokyo Electron Ltd | ウエハ処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0145223B2 (ja) | 1989-10-03 |
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