JPS60200819A - 水素化ケイ素の製造法及びこれに用いる装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は三元ケイ素会金の酸加水分解により水素化ケイ
素の製造法及びその製造用装置に関する。

発明の背景 シラン（即ちモノシラン即ち四水素化ケイ素二５ＩＨ４
）は蒸気相からの沈着技術においてケイ素の部門に主に
用いられる。半導体の製造には、特にＶＬ８Ｉ（超大型
集積回路）技術では、多結晶質ケイ素、シリカ、窒化ケ
イ素の沈着物はケイ素部門としてシランを用いることに
よシ形成される。

シランから得られた多結晶質ケイ素の薄層沈着物は、４
％より大きいエネルギー出力を有する太陽電池を製造す
ることができる。酸による腐蝕に耐性である被覆層會シ
ランの分解により金属上に得ることができる。最後にシ
ランケ不飽和炭化水素の多重給仕に添加してオルガノシ
ラン全生成し得る。

多数のシラン合成法が提案されているが、現在では３つ
の方法のみが工業的発展を遂げていると思われる。その
うち溶融塩法は塩化リチウム−塩化カリウム溶融浴中で
≠ＳＯ℃程度の温度で水素化リチウムにニジクロロシラ
ンを還元することより成る。この技術は純度の良好なシ
ランを直接製造するという利点欠与えるが、他方では高
経費でありしかも溶融塩の取扱いが一般には容易でない
という欠点がある。この溶融塩技術の変更例はＳｕｎｄ
ｅｍｅｙｅｒ　、　Ｇｌｅｍｓｅｒに工りＡｎｇｅｗ、
　Ｏｈｅｍ、　７０　。

Ａ２１頁（ｌりｓｒ）に記載されている。該変更例は塩
化リチウム全その場で電解してリチウム全製造しこれ全
反応器に水素を導入することによシ水素化リチウムに変
化させることに在る。この方法は主として技術上の支障
の故に工業的には実施されなうλつた。

水素化リチウムアルミニウムにより塩化ケイ素の還元ケ
利用する方法によると、該反応はジグリム又はテトラグ
リムの如き重質溶剤中で室温付近で行う。この製造法は
それが余りにも高経費でし７５＝も溶剤が分解される故
にもはや用いられず、前記溶剤の分解は炭化水素によっ
てシラン合成法１それ酸生成物の徹底的な精製を必要と
する。

ケイ素置金欠加水分解する方法圧おいては。

Ｃａｄｉ　、　０ａＳ１２・、　Ｍｆ？Ｓｉ及びＭｆ’
２Ｓｉの如き種々の三元合金がＪＪＩされている。Ｅ、
ＷｉｂｅｒｇのＨｙｄｒｉｄｅｓ　。

Ｅｌｓｅｖｌｅｒ　Ｎ、Ｙ、　＜１７３頁（／り７／）
によると。

これらの合金のうちのケイ化マグネシウムのみが若干興
味のある収率紮生起する。しかしながらこの化会物の加
水分解反応は操作条件により変化し得るシラン転化率全
与える。シランの収率はケイ化マグネシウム粒子の寸法
、該化会物粉末の導入率１反応温度及び反応剤全接触さ
せる方法に太きく関連していると思われる。

この加水分解法の変更例によると、ケイ素に関して？θ
係程度のシラン収率は液体アンモニア媒質中でケイ化マ
グネシウムを塩化アンモニウムで作用させることにより
得られる。

ケイ化マグネシウムの加水分解反応用する原理は簡単な
薬剤に応じて決まりしかも主たる不純物が除去容易な水
であるシランを製造するという利点會与える。他方、ケ
イ化マグネシウムの加水分解全工業的な規模にまで移行
させるとλつの主たる経済的且つ技術的欠点がある。こ
のケイ化マグネシウムの調製にはシランの製造にしか今
や応用されるに過ぎない特別な装置を必要とし、原料の
ケイ化マグネシウムは高価な化会物である。他方。

良好な収率全書るには液体アンモニアの存在下に反応の
性能に応じて決まるので、を気圧程度の圧、カニに実施
し次いできわめて有効なシラン／アンモニアの分離全行
うのが必要である。

／り、ｔＪ年に０ｈｒｅｔｌｅｎ　、　Ｆｒｅｕｎｄｌ
ｉｃｈ　及びＤｅｓｃｈａｎｖｒｅｓは三元合金０ａ３
Ａｔ６Ｓｉ２及び（：ｈ２／’−１４８ｉ５について研
究中に、ｄれらの散散感化合物は希塩酸で作用させた時
には、空気中で自然発火性のガス（シラン）全放出する
こと全見出した（ＯＲＡｃａｄ。

５ｃｉｅｎｃｅｓ　７♂ａ〜を頁（／り１１））。これ
らの実験室での実験報告では経済的に引合う方法全具体
化するに必要な条件ケ与えておらず、−Ｆ：れ故工業的
な発展に遂げなかった。

発明の要約 安価な原料欠周いてしかも工業的な収率で水素化ケイ素
ケ製造する簡単な方法を見出した。二元合金を用いる代
りに本発明によると次式：％式％ （式中Ｍはアルミニウム又はマグネシウムの如き還元性
金属であり１Ｍは水素化物を容易に形成するカルシウム
の如きアルカリ又はアルカリ土類金属であるンの工業用
三元合金ｉ、、２Ｎ、７Ｎの濃度で水素酸及びオルト燐
酸から選んだ希酸と反応させるものであり；工業用三元
合金はせいぜいＯ１≠ｏｔｍｎに等しい粒度分布の微粉
末の形で前記の酸に添加し、前記の反応は室温と２θ℃
との間の温度で行うものとする。

発明の詳細な記載 三元合金例えばＡｚＸｓｉ、ｏａ、の式において、値Ｘ
。

）・、２は合金中に存在する各々の元素の重量１？表わ
す。各々の数値は０〜１００％の殆んど全範囲で理論上
変化し得るけれども、実際は３元素全ては少くとも約ｔ
〜１０重葉上で存在せねばならないことは理解されよう
。

選択したＡｔ／Ｓｉ／Ｃａ＠−金は現在入手し得る安価
な鋳造合金である。入手し得る合金のうち、Ａｔ、３０
〜３１％、８１３ｊ　Ｓ、１１３％、Ｏａ／ｊ　〜コｔ
％の合金が挙げられ、これは特に高性能であってきわめ
て良好な結果を与える。好ましい工業用付合（Ａｔ３Ｊ
％、Ｏａ／ｒ％及び５ＩｕＯ％）は合金１０ｋｆ当り／
　ｋｇのシランを与える。同じ条件下で別の工業用合金
（Ａｔ／　／　％、　８１ｊ　ｒ　％、　Ｃａ２１％）
は合金／ｒｋｑ当りノ陽のシラン欠与え、該合金の使用
も本発明の範囲内である。

合金粉末及び希酸全添加する方法（方向）はシランの収
率に決定的な因子となる。同じ条件下に１７．３３チ１
０ａ／ざチ／Ｓｔ弘Ｑチの合金について行った試験が示
す所によれば、合金粉末に＃全添加することにより粉末
上で酸を反応させる時には／　ｋｆのシランを製造する
のに／ｌ’ｋｇの合金が必要であり：然るに合金粉末耐
酸に添加することによりわずか１０ｋｇの合金から１ｋ
ｇのシランが製造される。試験条件下では、より大きな
供給率程反応系の反応性全増大させるのは判明している
けれども会合粉末ケ攪拌酸溶液に添加させるのはｔ〜ｒ
ｋｆ／時の割付で成し得る。

用いる水素酸のうちでは、２Ｎ−ＩＮの濃度で好ましく
は約３Ｎの濃度で希フッ化水素酸、塩化水素酸及びオル
ト燐酸を選ぶことができる。

希酸の種類及び濃度が台金のシラン収率に作用する影響
は１合金粉末を希酸に添加することによりＡｌ−３３％
／　Ｏａ／　ｌｒ　％／　８ｉ弘０　％の合金について
研究され、他の条件は全て同様である。３Ｎオルト燐酸
を用いるとｌ吟のシランが／弘袷の合金から得られ、ｊ
Ｎｍ化水素酸を作用させると／ＩＱのシラン欠製造する
のにわずかｉｏｋｇの合金が必要である。７Ｎ塩化水素
酸欠用いると１２１ｋｇの会合全反応させることによシ
わずか／吟のシランが得られるに過ぎず、然るに４Ｎ及
びｊ　Ｎ　Ｈｏｔ　耐用イると／に９のシランを放出さ
せるのにそれぞれわずか／Ｊｋｆ及び／θ梅の合金が必
要とされるに過ぎない。合金に関して、塩化水素酸は会
金粉末／ｋｆ当り／　０．．２ｔ　ｔの酸の相対的割付
で用いられ、供試条件下では／！、／ｌｔのＨＯ２’ｌ
ｒ選択するのが良好な妥協欠成す。

合金粉末を酸に反応させるのは室温で実施し得るが、温
度及び塩化水素酸と共に増大する反応速　度（ｋｉｎｅ
ｔｉｃｓ）が上昇すると反応ケ少くとも３０℃の温度で
行わせることを必要とする。反応速度を促進させるには
加熱は約７０℃までであるべきである。最高作業温度は
溶液の沸騰温度によって制限され、実際には約７０℃に
制限され１反応源度がりｏ′Ｃ２越えないような割付で
会金粉末紮導入する。

合金粉末の粒度分布が反応速度に影響し従って収率に影
響することも見出された。粒度が減少する時に反応速度
は上昇する。フオームの形成は粒度全制限する因子であ
る。工業用三元合金粉末の粒度分布は少くともＯ，ａθ
喘程小さくあるべきである。０．．２．より小さい粒度
分布が反応に良く適している。全ての条件が他の点では
等しく０粒度をｉｏ倍だけ分割した時には同じ粉末ケ用
いて製造されるシランの量は約／ｊ倍だけ増大する。

金属間化合物の合金化ケイ素５ｉ３Ａｔ４０ａ２の使用
量の重要性は確認されている。全ての条件が同等である
とし合金中の「合金化ケイ素Ｊ　（ａｌｌｏｙｅｄｓｉ
ｌｉｃｏｎ）の量が多ければ多い程、収率は大きく。

即ち形成される全生成物の量は増大する。「合金化ケイ
素」分含有する会金會選ぶのが好ましく；、２０％の程
度で「合金化ケイ素」の量衛用いて開始すると水素化ケ
イ素の生成収率に目立つ程の増大が認められる。「合金
化ケイ素」の量がｊ（７〜３０％変化すると形成される
全水素化ケイ素の３０係以上の増大に対応し得る。「合
金化ケイ素」の量の影響はジシラン含量には決定的であ
り、この含量は約ｇｏ％だけ増大する。＜１０％さえの
合金の「合金化ケイ素」含量の上昇は水素化ケイ素の形
成に有利にあり得るに過ぎず、「合金化ケイ素」高含量
の台金ケ用いる利点は多大であり、この使用は合金製造
の技術上の可能性によってのみ制限される。

ケイ素とカルシウムとアルミニウムとに基材とする何れ
かの工業用合金であって、その＃Ｉ成中に一定の元素Ｓ
ｔ　３０ａ２Ａｔ４　又はケイ化マグネシウムＭｆ２８
１即ち加水分解欠受ける全ての合金の少くとも１０重量
葉上且つｊＯ係以下を成す量で導入した添加剤ケ示す工
業用合金を用いると１本法の収率をかなり増大させ得る
。換言すれば、工業用合金が金属間化合物８１３０ａ２
ＡＬ４　ｋ含有するならば又は１Ｏ−ＪｉＯ％のＭｇ２
　Ｓ　ｉ及び／又はＳ　ｔ５０ａ２　Ａｔ４　ｋ工業用
合金に添加するならば収率が改良される。

反応帯域から出て来る粗ガスは水素と水素化シラン、シ
ラン５ＩＨ４，ジシラン５ｔ２Ｔ（６，）ジシランＳｉ
３Ｈ８とポリシラン即ち高級シラン５ｉｏＨ２ｎ＋２　
（但しｎ＞３）とよりなる。

場合によっては氷と水の如き冷却用混合物中に捕捉する
ことにより又は液体窒素の如き極低温冷却剤中に捕捉す
ることにより、水素化ケイ素を固体形で凝縮させる。部
分真空下で分別蒸発により分離すると３つのフラクショ
ン欠得ることができ。

次いで各々を例えば気相中で分取りロマトグラフイーの
技術により精製させる。シランＳ　ｉ　Ｈ４に対応する
第７のフラクションｆ３００ミリバール。

Ｊ、／　０’Ｐａ　（パスカルン−の真空下［−７Ｊ”
Ｃの温度で蒸発により単離する。

ジシランに対応する第λのフラクション即ち♂Ｏチのジ
シランと少くとも／！係の量でのトリシランと殆んどシ
ランである残部とより実際上なる第２のフラクションケ
タ００　ｍｂａｒ　、夕、／　ＯＰａの真空下に０℃で
分離する。重質高級シラン即ちポリシランＳ都Ｈ２ｎ＋
２（但しｎ＞３）に対応する第３のフラクション、特に
少くとも７！係の開会でのトリシランと、２．２％程度
のジシラン及び約／俤程度のシランの残部とに対応する
第３のフラクション′５ｃ／　０　（７ｍｂａｒ　、　
／、／　ＯＰａ下に十ざ０℃で加熱することにエリ分離
する。

反応帯域を空気から遮蔽し１反応の終了時に反応しなか
った合金を中和する。反応帯域とその付属部品と分別帯
域とを窒素で掃気する。反応で生成した水素及びガス生
成物會水素化シランの分離後に収集し、濾過後に回収又
は燃焼させる。

添附図面は本発明の方法を実施するに適当な装置の流れ
図解図である。

図面を参照するに、水素化ケイ素全製造する方法は二重
水循環装置の如き加熱手段２全備えた液密反応器／中で
行ない１反応器の上部は板３で閉鎖されており１反応器
中に攪拌機≠と酸欠供給する管ｊとを液密な要領で挿入
し、酸の供給は弁２により調節する。反応器は温度計の
針７と付会粉末供給系り、ｉｏ、ｉｉも備えている。背
金粉末ｆは液密な分配用ホラ４−２次いで管１０Ｋより
反応器に向けられ１合金粉末の導入速度は弁装置系／／
により調節、制御する。合金粉末は攪拌しながら希釈濃
度の酸浴／、２に添加する。スチーム及びガス生成物は
排気管１３により水凝縮器／弘に逃出する。反応器で過
剰圧力の場合には、水の噴射ポンプに接続した圧力放出
系／！がある。

ガス生成物に関しては、水素及び水素化ケイ素は水凝縮
器／４ｔの上部から逃出し、管／ｌで循環後にこれら全
フィルター／７で沖過してコン跡量の金属粉末を除去し
次いで回路／♂により一連の気密な極低温トラップ／り
１．２０及び−１７に通送し、そこで水素化ケイ素老液
体窒素の温度で凝縮させる。水素化ケイ素の大部分全第
７のトラップで凝縮させ、最後のλつのトラップは特に
安全弁の役割を果たす。トラップは各々圧力調節弁を備
えている。

トラップ／り中で水素化ケイ素の凝縮後に、管２２Ａｆ
介してトラップの上部から水素排気用の回路、２３に水
素を排気し１次いで可燃ガス燃焼バーナーに排気し又は
水素全収集する。他のトラップケ通過した後に、非凝縮
物を沖過し、管、２λＢ全通して排気回路コ３に回収す
る。最後のトラップの出口からフィルター／７の回路／
♂は各々の部分で弁の如き開放、閉鎖手段ケ備えており
、各々のトラップ全遮断でき且つトラップに入来する又
はトラップから逃出するガス生成物の導入量及び産出量
を制御できる。水素化ケイ素の凝縮及び非凝縮物の排出
後に１次いで極低温トラップを外部から熱？加えること
により加熱し真空下に置き。

温度及び圧力は分別蒸発後にフラクションの精製前にビ
ンに貯蔵される各々のフラクションに対応する精確な値
に調節する。

前記の装置は更に反応の終了後に全ての装置；反応器、
ホッパー、フィルター及び種々のトラップ全掃気し且つ
フラッシュ洗浄するのに意図した窒素υ１路、２４ｔｉ
包含してなる。種々の部分、２４ｔ、ｊ。

２４＃、２４１０　及び、２μＢは弁紮備えている。前
記装置はまた揚台によっては水素化ケイ素欠連行するこ
とがないように極低温トラップ、２乙により保護した真
空ポンプコｔ６包含してなる。トラップ２乙で凝縮しな
かったガス生成物は管、２．２０により例えば燃焼バー
ナーに導通する水素回収回路２３に運送される。更に反
応器／の下部は管λｇにより中和用タンクコアに接続し
ており１反応媒質會空にしこのタンクで中和する。

本発明全欠の実施例により説明するが１本発明はこれに
限定されるものではない。

実施例／ 反応剤： 台金粉末：　／’ｈ、ｔ３　！　１１０ａ／♂％／５ｉ
４ｔＯ係粒度分布：　０．．２喘 ３、グＮ塩酸（／コ重量葉上 相対的な割合：＠金の／　ｋｆ当りｉｓｌの酸操作条件 攪拌した酸溶液に台金粉末を添加する：反応混付物の初
期温度：ｚｏ℃ 反応の平衡温度：　７ｊ℃ 台金の添加速度：　ｌｒｋり７時 反応器から出る粗ガスは次の容量組成：水素Ｘｔ％、無
機の水素化物３５％ を有する。

部分真空下での分別蒸発によ９次の物質組成の３つのフ
ラクションを与える。

第１のフラクション （−７１℃、　３．Ｉ　Ｏ’Ｐａ）　ＳｉＨ４タッチ５
ｔ２Ｈ６，！Ｊ憾 他の不純物　θ、ｊチ 第一のフラクション （０℃、　ｊ、／　０’Ｐａ）　ＳｉＨ４４Ｌ、！　％
５ＩＩＩ蕾６　７り％ ８＋３Ｈａ　／　Ａ％ 他の不純物　Ｏｊ％ 第３のフラクション （ざθ℃、八／へＯ’Ｐａ）　５ＩＨ４／−ｊ　％５ｉ
２）１６．！　、２％ ５ｊｎＨ２ｎ＋２　７　Ａ、夕係 分離及び精製後に得られた生成物は次の通りである： ン即ち高級シランとが製造される。

最初の２つのフラクション？処理してエレクトロニクス
品質のシラン及びジシランを得る。

第３のフラクションは乾式法による乳白電球の処理に用
いたシランの代用品として有用である。

水素化シランは電子部品工業、光電池及びフォトコピア
ドラムの如き他の部門にも用い得る。

実施例コ 反応剤 合金粉末：Ａｔ３／、り％１０ａ、２３Ｊ％／８４３ｇ
、、２％／Ｆｅ　、２．り係 分会化ケイ素の割合：３．２．タチ 粒度分布：ｏ、４ｔ。

３Ｎ塩酸（／、２重量％〕 相対的な割合：合金の／　ｋｇ当り／Ａｔの酸操作条件 攪拌した酸溶液に合金粉末を添加する：反応媒質の初期
温度：夕Ｏ℃ 反応の平衡温度：ざＯ〜り０℃ 合金の添加速度：ｌ？ｋｇ１時 反応器の、出口からの粗ガスは次の容量組成：水素約３
！係、無機水素化物乙３ｔり 勿有する。

実施例／と同じ条件により部分真空下での分別蒸発によ
りＩＩ　ｋｇの原料合金から次の３つのフラクション老
得る。

第１のフラクション　３．２ｊｆ／ （−７１”℃、　３．／　０’ｐａ） 第一のフラクション　／ｊ４ｔｆ （０℃、ｊ、／　０４Ｐａ） 第３のフラクション　／６！２ １１０℃、　／、１０’Ｐａ）　”　’ｖ実施例３ 反応剤 会合粉末：へｌ、、３０．り％／Ｃａ、２／％／１９ｉ
４ｔ、２％／Ｆｅ　３．／係 分会化ケイ素の割合：　、２３．／％ 粒度分布：０．２＠＠ ３．４ｔＮ塩酸（７２重量％） 相対的な割合二合金／陽当り／Ａｌ−の酸操作条件 攪拌した酸溶液に合金粉末を添加する：反応混合物の初
期温度：５０℃ 反応の平衡温度：♂Ｑ〜り０℃ 合金の添加速度：Ｊｒ陽／時 反応器から出る粗ガスは次の容量組成：水素約ｊｏｂ、
無機水素化物１０％ 會有する。

この実施例の条件により部分真空下に分別蒸発させると
４ｔｋｆの原料合金から３つのフラクションを得る。

＠／のフラクション　２７３２ Ｃ−７１℃、３×１０’Ｐａ） 第２のフラクション　１０り２ （θ℃、３×１０　Ｐａ） 第３のフラクション　ｉ、２ｔｙ ＜ｔｏ℃、　／×ＩＯ’Ｐａ）　”　’？２つの実施例
２及び３について精製することなく製造産出時の３つの
フラクション全代表的に分析すると次の如くである。

１へ　厭 へ ） 本発明は例示のため与えた開示具体例に限定されるもの
ではなくまた本発明の範囲全逸脱することなく変更を行
い得ることは理解すべきである。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の方法全実施するに適当な装置の流れ図解
図であり０図中７は液密反応器、コは加熱手段、グは攪
拌機、夕は酸の供給管、７は温度計、！は合金粉末、Ｐ
は分配用ホラＡ−，／、２は酸浴、／４ｔは水凝縮器、
／７はフィルター、／り。 −〇、２／は極低温トラップ１．２３は水素排気用回路
、−２グは窒素回路１．２ｊは真空ポンプ６．２ｔはト
ラップ１．２７は中和用タンフケそれぞれ表わす。 第１頁の続き ＠発明者　ジャン・イベ・ラド ０発　明　者　ジャン・フランソワ・ ピッアル ■発明者　クリスチアン・ラルケ ＠発明者　フィリップ・コルヌ フランス国、ル・シエナイ、コレグ・セ・ペグイ・アブ
ニュ・シャルル・ド・ゴール・２３ フランス国、スルネ、リュ・デュ・ドクトウール・エミ
ルφルー３ フランス国、グヤンクール、リュ・ブノアφフラコンΦ
５５フランス国、う・セル拳サン・クロー、レジタ゛ン
ス、ブオールガル。アブニュ・デュ・ソー・デュΦルー
、１３手続補正書（方式） ％式％ １、事件の表示 昭和　５９　年特許願第２６６５６３号２、発明の名称 水素化ケイ素の製造法及びこれに用いる装置 ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 任　所　フランス国、パリ市、７．ケ、ド、オルセイ、
７５番−′′：１ １ １、Ａ・ 物産ビル別館　電話（５９１）　０２６１５、−１ｍ正
命令の日付　昭和６０年３月６日ム補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 ２補正の内容 （１）　明細書第４頁第１７行のｒ　Ａｎｇｅｗ、　Ｃ
ｈｅｍ、Ｊを［アンゲバント　ヘミ−（Ａｎｇｅｗａｎ
ｄｔｅＣｈｅｒｎｉｅ　）　Ｊ　と補正する・１２１　
同１！第５頁第１３行のｒ　Ｈｙｄｒｉｄｅｓ　Ｊ　を
［ハイドライド（Ｈｙｄｒｉｄｅｓ　）Ｊ　と補正する
０（３）同省第７頁第６行のｒ　５ｃｉｅｎｃｅ＋ｓ　
Ｊ　を「サイエンス（５ｃｉｅｎｃｅａ　）　Ｊ　と補
正する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ／　三元ケイ素合金の酸加水分解により水素化ケイ素ケ
   製造する方法において、少くともＯ０弘簡程に小さい粒
   度分布の微細粉末の形で次式二Ｍ１Ｍ２Ｓ・ ｘｙ＋ｚ Ｃ式中Ｍｌ−を還元性金属であｐｌＭは水素化物全容易
   に形成するアルカリ金属又はアルカリ土類金属であり、
   ｘ、ｙ及び２の各々は少くとも１０％である）の工業用
   三元ケイ素合金’（ｚ、２Ｎ−ＡＮの濃度の水素酸及び
   オルト燐酸から選んだ希酸に添加することにより、三元
   ケイ素置金欠希酸と反応させ、この反応は室温とり０℃
   との間の温度で行なうとと欠特徴とする水素化ケイ素の
   製造法。 コ　工業用台金は式ＡｔｘＳｉｚＯａｙで表わされる特
   許請求の範囲第１項記載の方法。 ３　工業用台金は／’ｔ１３０〜ｊ　Ｊ’　％　、　Ｏ
   ａ　／　ｊ　〜２ｊ％、５ｉＪｊ−４’！％である特許
   請求の範囲第１項記載の方法。 ４ｔ＠−金は合金化ケイ素を含有する特許請求の範囲第
   １項記載の方法。 よ　合金は少くとも一０％のケイ素ケ含有する特許請求
   の範囲第１項記載の方法。 ｔ　シラン、ジシラン、トリシラン及びポリシラン衛製
   造し、固体形で凝縮させ１次いで部分真空下で分別蒸発
   により分離し、各々のフラクション會次いで精製させる
   特許請求の範囲第７項記載の方法。 ７　シランに対応する第１のフラクション衛！、／　０
   ４Ａスカル下［−７ｒ℃で蒸発に工り単離し。 ・ジシランに対応する第２のフラクション’７７３，１
   ０４パスカル下に０℃で蒸発により単離し１次式５ｉｎ
   Ｈ２ｒｌ＋２　（但しｎ＞３）のポリシランに対応する
   第３のフラクションｙ　／、／　ｏ’Ａスカル下に＋ｔ
   ｒｏ℃で分離する特許請求の範囲第２項記載の方法。 ？　反応帯域ケ空気から遮蔽し１反応の終了時に反応し
   なかっりせ金衛中和し１反応帯域とその全ての付属部分
   と分別帯域と全窒素で掃気する特許請求の範囲第１項記
   載の方法。 タ　三元ケイ素合金の酸加水分解により水素化ケイ素の
   製造用装置において、加熱手段］を備えた液密反応器ｌ
   と、液密の分配用ホンＡ−タによる合金粉末の導入部と
   、水の凝縮器７μと、水素化ケイ素の一連の極低温トラ
   ップ／り、２０及びコ／と、極低温トラップにより保護
   される真空ポンプ２よと、窒素でフラッシュ洗浄し且つ
   掃気する回路λ弘と、中和用タンク２７と老包含して成
   る水素化ケイ素の製造用装置。