JPS60203841A - 焼結鉱およびペレツトのｘ線透過試験方法 - Google Patents
焼結鉱およびペレツトのｘ線透過試験方法Info
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- JPS60203841A JPS60203841A JP59061704A JP6170484A JPS60203841A JP S60203841 A JPS60203841 A JP S60203841A JP 59061704 A JP59061704 A JP 59061704A JP 6170484 A JP6170484 A JP 6170484A JP S60203841 A JPS60203841 A JP S60203841A
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- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/02—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（Ｍ業上の利用分野）
この発明は、製鉄原料である焼結鉱、ベレットの試料に
Ｘ？ｆＭを照射し試料を断層的に非破壊試験する方法に
関するものである。
Ｘ？ｆＭを照射し試料を断層的に非破壊試験する方法に
関するものである。
（従来技術）
最近Ｘ線撮影装置とコンピュータとを組合せて人体の一
部の横断面を撮像するいわゆるＸ線透過型コンピュータ
断層撮影法（ＣＴ法： ＣｏｎｐｕｔｅｒｉｚｅｄＴｏ
ｍｏｇｒａｐｈｙ ）が開発され、従来観察ができなか
った内部組織に対しても鮮明な映像が得られるため、医
療分野において広く活用されている。
部の横断面を撮像するいわゆるＸ線透過型コンピュータ
断層撮影法（ＣＴ法： ＣｏｎｐｕｔｅｒｉｚｅｄＴｏ
ｍｏｇｒａｐｈｙ ）が開発され、従来観察ができなか
った内部組織に対しても鮮明な映像が得られるため、医
療分野において広く活用されている。
一方、工学の分野、特に材料関係では材料の欠陥を検出
するために非破壊試験の一つである放射線透過試験が広
く用いられている。しかし従来の放射線透過試験では試
料の全厚みにわたる投影像が撮像され、任意断面の断面
像を得ることはできず、従って試料の内部を詳細に試験
することはできなかった。
するために非破壊試験の一つである放射線透過試験が広
く用いられている。しかし従来の放射線透過試験では試
料の全厚みにわたる投影像が撮像され、任意断面の断面
像を得ることはできず、従って試料の内部を詳細に試験
することはできなかった。
また、試料内部の組織、欠陥などをマクロ的に試１議す
る場合、試料を薄くスンイシングすることが行われてい
る。しかし試料の材質によっては脆くてスシイシングが
困難であったシ、あるいはスライシング時に切断面の破
壊あるいは変質などが生じて、試料内部の状態をそのま
ま保存できない場合もある。
る場合、試料を薄くスンイシングすることが行われてい
る。しかし試料の材質によっては脆くてスシイシングが
困難であったシ、あるいはスライシング時に切断面の破
壊あるいは変質などが生じて、試料内部の状態をそのま
ま保存できない場合もある。
このような事情から本発明者はＣＴ法を工学分野に適用
することに着目し、先に無機物よシなる試料の任意横断
面に放射線を透過する試験方法について発明し、特願昭
５５−１４３７１９号として特許出願した。本発明は前
記発明をさらに発展させ、焼結鉱およびベレットの製鉄
原料の試験にも適用し得るようにしたものである。
することに着目し、先に無機物よシなる試料の任意横断
面に放射線を透過する試験方法について発明し、特願昭
５５−１４３７１９号として特許出願した。本発明は前
記発明をさらに発展させ、焼結鉱およびベレットの製鉄
原料の試験にも適用し得るようにしたものである。
（発明の目的）
本発明は、製鉄原料の組成を非破壊状態で観察し得るよ
りにしたものである。
りにしたものである。
（発明の構成、作用）
本発明は、焼結鉱およびベレットの試料の所定の横断面
に対して、管電圧１４０〜４２０ ＫＶ ％管電流２〜
１２０ｍＡで発生させたＸ＃を、１ｍ以下の径の１個以
上のコリメーターで絞って照射して透過Ｘ線の強度を検
出し、該操作を前記所定横断面に対し多数の方向から順
次繰返し、得られた透過Ｘ勝の強度から横断面の画像を
合成することを特徴とするものである。以下回向によｐ
本発明について畦細に説明する。
に対して、管電圧１４０〜４２０ ＫＶ ％管電流２〜
１２０ｍＡで発生させたＸ＃を、１ｍ以下の径の１個以
上のコリメーターで絞って照射して透過Ｘ線の強度を検
出し、該操作を前記所定横断面に対し多数の方向から順
次繰返し、得られた透過Ｘ勝の強度から横断面の画像を
合成することを特徴とするものである。以下回向によｐ
本発明について畦細に説明する。
第１図は焼結鉱、ベレット等の試料１の横断面２を本発
明方法によシ試験している状態を示す説明図である。３
は高圧Ｘ線ビーム８の走査面、４゜４′はその走査始点
、５はＸ線照射装置で管電圧１４０〜４２０ＫＶ％管電
流２〜１２０ｍＡで発生させ、１■以下のコリメーター
で絞ったものを使用する。６はＸ１ｗ検出器で、−ＢＧ
Ｏ（ＢｉとＧｅの酸化物）半導体検出器、シンチレーシ
ョン計数管、ＧｉＶｉ（ガイガー・ミュラー）計数管等
通常用いられている検出器を使用することができる。
明方法によシ試験している状態を示す説明図である。３
は高圧Ｘ線ビーム８の走査面、４゜４′はその走査始点
、５はＸ線照射装置で管電圧１４０〜４２０ＫＶ％管電
流２〜１２０ｍＡで発生させ、１■以下のコリメーター
で絞ったものを使用する。６はＸ１ｗ検出器で、−ＢＧ
Ｏ（ＢｉとＧｅの酸化物）半導体検出器、シンチレーシ
ョン計数管、ＧｉＶｉ（ガイガー・ミュラー）計数管等
通常用いられている検出器を使用することができる。
第２図は本発明による断面画像を得るための機構の一例
を示すもので、７はＸ線照射装置５から照射されるｘｉ
ｔ−＠接計測するＸ線検出器で、この検出器によりＸ線
発生量の経時変化全補正する。
を示すもので、７はＸ線照射装置５から照射されるｘｉ
ｔ−＠接計測するＸ線検出器で、この検出器によりＸ線
発生量の経時変化全補正する。
９は増幅器、ｌＯはアナログ・ディジタル変換器、１１
は演算制御装置で、バッファメモリ１２、中央演算装置
１３、プログラムストア１４、主メモリ１５、続出装置
１６等から構成され−〔いる。
は演算制御装置で、バッファメモリ１２、中央演算装置
１３、プログラムストア１４、主メモリ１５、続出装置
１６等から構成され−〔いる。
１７はディジタル・アナログ変換器、１８は増幅器、１
９はディスプレイ装置である。
９はディスプレイ装置である。
本発明において焼結鉱およびベレットの試料１の横断面
について断面画像を得るには、先ずＸｌｆＭ照射装置５
とＸ線検出器６とをＸ森ビーム８が試料ｌの所定横断面
２を通るように調定する。そこでＸ勝照射装置５とＸ線
検出器６の対を走査始点４．４′を起点として走査面３
に沿って移動させ、この移動中、Ｘ勝検出器６によ多試
料ｌを透過したＸ線を検出する。このときＸ線検出器７
によシＸ線照射装匝５からのｘｈを直接検出する。これ
らのＸ線の検出値ａ、ｂは第２図に示すように増幅器９
およびアナログ・ディジタル変換器ｌｏを経て演算制御
装置１１のバッファメモリ１２に入力され、検出値ａと
ｂとの比が走査始点４，４′からのＸ？ｆＭ検出器６の
移動距離と対応して記憶される。すなわち走査方向に沿
った透過Ｘ線の強度が記憶されることになる。さらに該
バッファメモリ１２に記憶された強度は中央演算装置１
３において試料の横断面２に逆投影されるように演其処
理芒れる。例えは第３図（、）に示すように、検出され
た１Ｍ度■は走査方向Ｓに対して直角方向に沿い横断面
上に強度工に比例して一様に配分される。配分された値
は画像が再生されたときの画像の濃淡を表わすもので、
例えは１６段階のグレイスクールでディスプレイ装置１
９に表示される。
について断面画像を得るには、先ずＸｌｆＭ照射装置５
とＸ線検出器６とをＸ森ビーム８が試料ｌの所定横断面
２を通るように調定する。そこでＸ勝照射装置５とＸ線
検出器６の対を走査始点４．４′を起点として走査面３
に沿って移動させ、この移動中、Ｘ勝検出器６によ多試
料ｌを透過したＸ線を検出する。このときＸ線検出器７
によシＸ線照射装匝５からのｘｈを直接検出する。これ
らのＸ線の検出値ａ、ｂは第２図に示すように増幅器９
およびアナログ・ディジタル変換器ｌｏを経て演算制御
装置１１のバッファメモリ１２に入力され、検出値ａと
ｂとの比が走査始点４，４′からのＸ？ｆＭ検出器６の
移動距離と対応して記憶される。すなわち走査方向に沿
った透過Ｘ線の強度が記憶されることになる。さらに該
バッファメモリ１２に記憶された強度は中央演算装置１
３において試料の横断面２に逆投影されるように演其処
理芒れる。例えは第３図（、）に示すように、検出され
た１Ｍ度■は走査方向Ｓに対して直角方向に沿い横断面
上に強度工に比例して一様に配分される。配分された値
は画像が再生されたときの画像の濃淡を表わすもので、
例えは１６段階のグレイスクールでディスプレイ装置１
９に表示される。
このようにして横断面２について１回目の走査を終ると
Ｘ厭照射装置ｔ５とＸ線検出器６の対を走査面３上で試
料１を中心に回転し、Ｘ線ビーム８を前回とは別の方向
から照射して前回と同様の短資を行う。このように角度
を少しづつ変えて（例えは６つつ回転させ）試料ｌの横
断面２にＸ線ビーム８を照射し、順次第３図（ａ） （
ｂ） （ｃ）・・・・・−・・に示すような逆投影像を
得、さらにこれらの逆投影像を中央演算装置１３におい
て演算処理により厘ね合せ、その結果を主メモリ１５に
記憶させる。厘ね合わされた像は第４図に示すように焼
＃ｉ鉱およびベレットの試料ｌ中に含まれる物質のうち
、目■゛シとする物質（例えは酸化鉄）Ｆが任在する位
置に酸化鉄１！ｌ！Ｇが生じる。画像は例えは５１２Ｘ
５１２の画素によシ構成され、それぞれの画素は前記の
ように１６段階のグレイスクールで表示される。王メモ
リ１５には２次元配置の番地にそれぞれの番地に対応す
る画素が記憶される。なお１画素の大きさは例えは０．
２ Ｗ Ｘ Ｏ，２１１１１である。主メモリ１５に記
憶された画像は読出装置１６によシ読出され、ディジタ
ル・アナログ変換器１７でアナログ信号に変換され、さ
らに増幅器１８を経てディスプレイ装置１ｔ１９に入力
され、その結果試料１の横断面２の画像が表示される。
Ｘ厭照射装置ｔ５とＸ線検出器６の対を走査面３上で試
料１を中心に回転し、Ｘ線ビーム８を前回とは別の方向
から照射して前回と同様の短資を行う。このように角度
を少しづつ変えて（例えは６つつ回転させ）試料ｌの横
断面２にＸ線ビーム８を照射し、順次第３図（ａ） （
ｂ） （ｃ）・・・・・−・・に示すような逆投影像を
得、さらにこれらの逆投影像を中央演算装置１３におい
て演算処理により厘ね合せ、その結果を主メモリ１５に
記憶させる。厘ね合わされた像は第４図に示すように焼
＃ｉ鉱およびベレットの試料ｌ中に含まれる物質のうち
、目■゛シとする物質（例えは酸化鉄）Ｆが任在する位
置に酸化鉄１！ｌ！Ｇが生じる。画像は例えは５１２Ｘ
５１２の画素によシ構成され、それぞれの画素は前記の
ように１６段階のグレイスクールで表示される。王メモ
リ１５には２次元配置の番地にそれぞれの番地に対応す
る画素が記憶される。なお１画素の大きさは例えは０．
２ Ｗ Ｘ Ｏ，２１１１１である。主メモリ１５に記
憶された画像は読出装置１６によシ読出され、ディジタ
ル・アナログ変換器１７でアナログ信号に変換され、さ
らに増幅器１８を経てディスプレイ装置１ｔ１９に入力
され、その結果試料１の横断面２の画像が表示される。
なお演算制御装置１３における演昇処理はプログラムス
トア１４から読み出されたプログラムに従って実行され
る。
トア１４から読み出されたプログラムに従って実行され
る。
本発明はＸ線ビームとして管電圧１４０〜４２０ＫＶ。
管電流２〜１２０ｍＡで発生させたＸ線を、径１ｍ以下
のコリメーターで絞ったものｔ使用することが特徴であ
る。その理由はつぎのとおりである。まず′Ｕ電圧と管
電流について述べる。焼結鉱やペレットの成分、欠陥な
どはバラツキが多く、１１１！］の試料を調べるだけで
は全体の判定にならない。経験的には４ｃｍ以上〜４０
ｃｍ以下のバケツ状の容器に入れ、その横前面を調量し
３〜５００個位の試料の平均値を出す必要がある。その
透過試験を１０分間以内に実施できるには、Ｘ＃ＪＩを
高圧化する必要がある。管電圧を１４０ＫＶ以上とした
場合に上記の条件を満たした。ま／ζ現在、市販されて
いるＸ線発生装置のうちで、時間的に安定しており、こ
うした測定装置に使用できる装置は、４２０ＫＶまでな
ので、それを上限とした。なお、Ｘ線発生装置において
管電圧と管電流値は関連しておｐ１互いに任意には定め
られない。市販のものの管電圧１４０〜４２０ＫＶに対
応する管電流は２〜１２０ｍＡである。なお、ＸＭ兄生
方式には連続式とパルス式があるがいずれも採用可能で
ある。
のコリメーターで絞ったものｔ使用することが特徴であ
る。その理由はつぎのとおりである。まず′Ｕ電圧と管
電流について述べる。焼結鉱やペレットの成分、欠陥な
どはバラツキが多く、１１１！］の試料を調べるだけで
は全体の判定にならない。経験的には４ｃｍ以上〜４０
ｃｍ以下のバケツ状の容器に入れ、その横前面を調量し
３〜５００個位の試料の平均値を出す必要がある。その
透過試験を１０分間以内に実施できるには、Ｘ＃ＪＩを
高圧化する必要がある。管電圧を１４０ＫＶ以上とした
場合に上記の条件を満たした。ま／ζ現在、市販されて
いるＸ線発生装置のうちで、時間的に安定しており、こ
うした測定装置に使用できる装置は、４２０ＫＶまでな
ので、それを上限とした。なお、Ｘ線発生装置において
管電圧と管電流値は関連しておｐ１互いに任意には定め
られない。市販のものの管電圧１４０〜４２０ＫＶに対
応する管電流は２〜１２０ｍＡである。なお、ＸＭ兄生
方式には連続式とパルス式があるがいずれも採用可能で
ある。
次にコリメートについて述べる。コリメーターヲ径１ｍ
以下と規定したのは焼結鉱やペレットの解析においては
１−以下の分解能かめれば実用−化できるからである。
以下と規定したのは焼結鉱やペレットの解析においては
１−以下の分解能かめれば実用−化できるからである。
すなわち焼結鉱やペレットにおいて重要な機械的強度は
微細組織、特に気孔に関係し、最低ｌ−までの微細組城
を調査する必要があることが知られている。従って分解
能１ｍｍ以下で測定する必要が生じるので、Ｘ線のコリ
メーターの径は少くとも１ｍとして、Ｘｗを１−以下に
叙ることか必要である。しかし分解能を下げ過ぎると、
測定に長時間を要するので得東でない場合がある。なお
コリメー奔は所謂第一世代ＯＣＴではｌ＆源、ｌ検出器
であるので１個でよいが、第二世代以降のＣＴでは２個
以上を必要とする。
微細組織、特に気孔に関係し、最低ｌ−までの微細組城
を調査する必要があることが知られている。従って分解
能１ｍｍ以下で測定する必要が生じるので、Ｘ線のコリ
メーターの径は少くとも１ｍとして、Ｘｗを１−以下に
叙ることか必要である。しかし分解能を下げ過ぎると、
測定に長時間を要するので得東でない場合がある。なお
コリメー奔は所謂第一世代ＯＣＴではｌ＆源、ｌ検出器
であるので１個でよいが、第二世代以降のＣＴでは２個
以上を必要とする。
以上、試料のＸ線ＣＴ法に基づく断層撮影法については
１線源、１検出′Ｕ方式の第一世代ＯＣＴを例にして腕
間したが、ｆｌｒｉｉｉｉｌ ＣＴ （１）第二、第三
、第四世代のｅＴも本先明の範囲に入ることは勿論であ
る。すなわち現在の医療用ＣＴのようにＸ線ビームを狭
いファン状にし、複数の検出器を用いてｘｆａ透過量を
測定したり、あるいは広いファン状Ｘ緋と３００個以上
の多数の検出器列を組合せ、Ｘ線源の回転運動の今で多
方向からの試料の透過Ｘ鈑イメージを採取する方法、逓
しには６００１固以上の多数開の検出器を全円ノーに並
べ、Ｘ線源のみ回転させ、一度で試料の透過イメージを
採取する方法などでりる。
１線源、１検出′Ｕ方式の第一世代ＯＣＴを例にして腕
間したが、ｆｌｒｉｉｉｉｌ ＣＴ （１）第二、第三
、第四世代のｅＴも本先明の範囲に入ることは勿論であ
る。すなわち現在の医療用ＣＴのようにＸ線ビームを狭
いファン状にし、複数の検出器を用いてｘｆａ透過量を
測定したり、あるいは広いファン状Ｘ緋と３００個以上
の多数の検出器列を組合せ、Ｘ線源の回転運動の今で多
方向からの試料の透過Ｘ鈑イメージを採取する方法、逓
しには６００１固以上の多数開の検出器を全円ノーに並
べ、Ｘ線源のみ回転させ、一度で試料の透過イメージを
採取する方法などでりる。
（芙ＩＭ例）
次に本％明の実＝９１１を示す。
実施例１：第５図は本発明方法によシ製鉄原料である焼
結鉱を試験した例で、その断面を模式的に示したもので
ある。用いた試料の横断面の大きさは４ ｃｍ Ｘ ５
ｔｔｎであシ、また使用したＸ１ＣＴ装置は管電圧４
２０ＫＶ、管電流３ｍＡで発生させた狭いファン状のＸ
線を径１鱈以下の８個のコリメーターで絞る第２世代の
装置であった。走査時間は６００秒、画像マトリックス
は２４０Ｘ２４０、検出器はＢＧＯであった。第５図に
おいてＡの部分はｘＨの透過量が少い個Ｈ［で、基礎的
実験から酸化鉄（ヘマタイトまたはマグネタイト）であ
ることがわかった。またＢの部分はＡの部分に次いでＸ
線の透過量が少い１固Ｈ「で、同じく基質的芙恢からカ
ルシウム７エライトであることがわかった。
結鉱を試験した例で、その断面を模式的に示したもので
ある。用いた試料の横断面の大きさは４ ｃｍ Ｘ ５
ｔｔｎであシ、また使用したＸ１ＣＴ装置は管電圧４
２０ＫＶ、管電流３ｍＡで発生させた狭いファン状のＸ
線を径１鱈以下の８個のコリメーターで絞る第２世代の
装置であった。走査時間は６００秒、画像マトリックス
は２４０Ｘ２４０、検出器はＢＧＯであった。第５図に
おいてＡの部分はｘＨの透過量が少い個Ｈ［で、基礎的
実験から酸化鉄（ヘマタイトまたはマグネタイト）であ
ることがわかった。またＢの部分はＡの部分に次いでＸ
線の透過量が少い１固Ｈ「で、同じく基質的芙恢からカ
ルシウム７エライトであることがわかった。
またＣの部分は比軟的Ｘ線の透過量が大きな個Ｄ１でス
ラグであることがわかった。なおりＬＤ部分は気孔であ
る。このように本発明方法によれは焼結鉱の内部構造を
非破壊状態で明確に知ることができる。
ラグであることがわかった。なおりＬＤ部分は気孔であ
る。このように本発明方法によれは焼結鉱の内部構造を
非破壊状態で明確に知ることができる。
実施例２：第６図は本発明方法によシ褒鉄原料であるベ
レットを試験した例でその断面を模式的に示したもので
ある。ベレットは第６図の最大のもので径１１ｗ程度で
ある。Ｘ＃ＣＴ装置はＸ線を管電圧３００ＫＶ、管電流
１０ｍＡで発生させ、コリメーター＆０．５−で絞って
照射するものであった。測定時間は１２０秒、画像マト
リックスは２５６Ｘ２５６、検出器はＢＧＯでおった。
レットを試験した例でその断面を模式的に示したもので
ある。ベレットは第６図の最大のもので径１１ｗ程度で
ある。Ｘ＃ＣＴ装置はＸ線を管電圧３００ＫＶ、管電流
１０ｍＡで発生させ、コリメーター＆０．５−で絞って
照射するものであった。測定時間は１２０秒、画像マト
リックスは２５６Ｘ２５６、検出器はＢＧＯでおった。
第６図においてＡは内部にクラックのあるベレット、Ｂ
はクラックのないベレットである。このような試料はく
ずれ易く断面を切断して調査してもクラックの有無を確
認し得ないこ、とが多い。しかしクラックの有無はその
機械的強度に大きく関係するのでベレ、トヲ高炉に装入
する場合には予め充分に藺食しておかなければならない
が、本＠明方法は非破壊状態でクラックの有無を確認で
きるので、ベレットの試験方法として極めて１効である
。
はクラックのないベレットである。このような試料はく
ずれ易く断面を切断して調査してもクラックの有無を確
認し得ないこ、とが多い。しかしクラックの有無はその
機械的強度に大きく関係するのでベレ、トヲ高炉に装入
する場合には予め充分に藺食しておかなければならない
が、本＠明方法は非破壊状態でクラックの有無を確認で
きるので、ベレットの試験方法として極めて１効である
。
なお、これらの場合、試料ｌの横断面全面を画ＩＪＪｆ
ｉ示せずに、透過Ｘ線の強度の２次元分布によシ横断面
部分を拡大衣示するようにしてもよい。
ｉ示せずに、透過Ｘ線の強度の２次元分布によシ横断面
部分を拡大衣示するようにしてもよい。
またＸＨのビーム径を威シ、かつ烏感度の検出器を使用
するこによ、９，０．１−位までの小さｑの検出が可能
でメジ、この限界は検出管の悪友を高めることさえでき
れば更に小さくなることは勿論である。
するこによ、９，０．１−位までの小さｑの検出が可能
でメジ、この限界は検出管の悪友を高めることさえでき
れば更に小さくなることは勿論である。
（発明の効果）
以上説明したように本発明によれば、従来、試験が困難
であった焼結鉱、ベレット等の組成、クラック等を非破
壊状態で確認することができ、従ってその効果は多大で
ある。
であった焼結鉱、ベレット等の組成、クラック等を非破
壊状態で確認することができ、従ってその効果は多大で
ある。
第１図は本発明の実例を示す説明図、第２図は本発明を
実施する装置の実例を示すブ目ツク図、第３図は本発明
における像の逆投影法の説明図、第４図は逆投影法によ
ｐ像が形成される原理を示す説明図、第５図および第６
図は本発明方法によシ得られた焼結鉱、ベレットの断ノ
ー写真を模式的に示した図である。 ｌ：試料、 ２：横断面、 ３：走置面、４ 、４’
：走査始点、 ５：Ｘ線照射装置、 ６：Ｘ線検出器、
７：Ｘ栂検出器、８：Ｘ麿ビーム、９：増幅器、ｌＯ：
アナログ・ディジタル変換器、１１：演算制御装置、１
２：バッ７アメモリ、１３：中央演算装置、１４ニブロ
グラムストア、１５：主メモリ、１６：読出装置、１７
：ディジタル・アナログ斌換器、１８：増幅器、 １９
：ディスプレイ装置。 出願人 ｈ日本製鐵株式会社 代理人弁理士 青 柳 稔 第１図 第２日 １δ １９ 第３図 ２ （ａ） 第４図 第５図
実施する装置の実例を示すブ目ツク図、第３図は本発明
における像の逆投影法の説明図、第４図は逆投影法によ
ｐ像が形成される原理を示す説明図、第５図および第６
図は本発明方法によシ得られた焼結鉱、ベレットの断ノ
ー写真を模式的に示した図である。 ｌ：試料、 ２：横断面、 ３：走置面、４ 、４’
：走査始点、 ５：Ｘ線照射装置、 ６：Ｘ線検出器、
７：Ｘ栂検出器、８：Ｘ麿ビーム、９：増幅器、ｌＯ：
アナログ・ディジタル変換器、１１：演算制御装置、１
２：バッ７アメモリ、１３：中央演算装置、１４ニブロ
グラムストア、１５：主メモリ、１６：読出装置、１７
：ディジタル・アナログ斌換器、１８：増幅器、 １９
：ディスプレイ装置。 出願人 ｈ日本製鐵株式会社 代理人弁理士 青 柳 稔 第１図 第２日 １δ １９ 第３図 ２ （ａ） 第４図 第５図
Claims (1)
- 焼結鉱およびベレットの試料の所定の横断面に対し、管
！圧１４０〜４２０ＫＶ、管電流２〜１２０ｍＡで発生
させたＸ線を、１■以下の径の１個以上のコリメーター
で絞って照射し、横断面を走査して、透過）１１強度を
検出し、該操作を前記所定横断面に対し多数の方向から
順次繰返し、得られた透過Ｘ蛛強度から横断面の画像を
合成することを特徴とする焼結鉱およびベレットのＸ線
透過試験方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59061704A JPS60203841A (ja) | 1984-03-29 | 1984-03-29 | 焼結鉱およびペレツトのｘ線透過試験方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59061704A JPS60203841A (ja) | 1984-03-29 | 1984-03-29 | 焼結鉱およびペレツトのｘ線透過試験方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60203841A true JPS60203841A (ja) | 1985-10-15 |
Family
ID=13178890
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59061704A Pending JPS60203841A (ja) | 1984-03-29 | 1984-03-29 | 焼結鉱およびペレツトのｘ線透過試験方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60203841A (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54130891A (en) * | 1978-04-03 | 1979-10-11 | Agency Of Ind Science & Technol | Tomograph using analogue picture memory |
| JPS5776442A (en) * | 1980-10-31 | 1982-05-13 | Nippon Steel Corp | Testing apparatus of transmission ofradiant ray |
| JPS5776444A (en) * | 1980-10-31 | 1982-05-13 | Nippon Steel Corp | Testing method for refractories |
| JPS57176443A (en) * | 1981-04-03 | 1982-10-29 | Philips Nv | System having first and second active function unit |
-
1984
- 1984-03-29 JP JP59061704A patent/JPS60203841A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54130891A (en) * | 1978-04-03 | 1979-10-11 | Agency Of Ind Science & Technol | Tomograph using analogue picture memory |
| JPS5776442A (en) * | 1980-10-31 | 1982-05-13 | Nippon Steel Corp | Testing apparatus of transmission ofradiant ray |
| JPS5776444A (en) * | 1980-10-31 | 1982-05-13 | Nippon Steel Corp | Testing method for refractories |
| JPS57176443A (en) * | 1981-04-03 | 1982-10-29 | Philips Nv | System having first and second active function unit |
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