JPS60206123A - 軟磁性薄膜の真空熱処理装置 - Google Patents
軟磁性薄膜の真空熱処理装置Info
- Publication number
- JPS60206123A JPS60206123A JP6289884A JP6289884A JPS60206123A JP S60206123 A JPS60206123 A JP S60206123A JP 6289884 A JP6289884 A JP 6289884A JP 6289884 A JP6289884 A JP 6289884A JP S60206123 A JPS60206123 A JP S60206123A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic field
- thin film
- heat treatment
- soft magnetic
- sample
- Prior art date
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- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気記録用薄膜ヘッド、％に垂直磁気記録再生
ヘッド等に用いられる軟磁性薄膜の熱処理装置に関する
ものである。
ヘッド等に用いられる軟磁性薄膜の熱処理装置に関する
ものである。
周知のように、磁気記録用薄膜ヘッド、なかんずく垂直
磁気記録ヘッド等の材料として＋Ｃｏ基の非晶質薄膜（
Ｃｏ−Ｘ、Ｘとしては＊ Ｚｒ＋ Ｔｉ＋ ＴａｒＮｂ
、 Ｗ等）は役れた特性を有する。これらの薄膜は一般
にスパッタ法によシ作成されるが成膜したままの状態で
は薄膜の磁気異方性が大きく、その異方性磁界Ｈｋは２
００ｅ程度になる。第１図にこの種の膜の一例としてＣ
ｏ −Ｚ ｒ−Ｎｂ薄膜を取上げその５０Ｈｚにおける
Ｂ−Ｈ％性曲綜を磁化容易軸〔（ａ）図〕及び磁化困難
軸〔（ｂ）図〕（以下単に容易軸。
磁気記録ヘッド等の材料として＋Ｃｏ基の非晶質薄膜（
Ｃｏ−Ｘ、Ｘとしては＊ Ｚｒ＋ Ｔｉ＋ ＴａｒＮｂ
、 Ｗ等）は役れた特性を有する。これらの薄膜は一般
にスパッタ法によシ作成されるが成膜したままの状態で
は薄膜の磁気異方性が大きく、その異方性磁界Ｈｋは２
００ｅ程度になる。第１図にこの種の膜の一例としてＣ
ｏ −Ｚ ｒ−Ｎｂ薄膜を取上げその５０Ｈｚにおける
Ｂ−Ｈ％性曲綜を磁化容易軸〔（ａ）図〕及び磁化困難
軸〔（ｂ）図〕（以下単に容易軸。
困難軸という）の両方向について示す。磁気ヘッドとし
てこれらの膜を利用する場合には２周波数特性が良好な
、すなわち透磁率の周波数依存性の少ない困難軸方向が
一般に用いられている。しかし、成膜したままの状態で
は困難軸方向の透磁率は低く、これｌをこのまま磁気ヘ
ッド材料として使用することができない。そこで、この
困難軸方向の良同好な周波数特性を損なうことなしにそ
の磁気異方性を小さくシ、透磁率を高めるために。
てこれらの膜を利用する場合には２周波数特性が良好な
、すなわち透磁率の周波数依存性の少ない困難軸方向が
一般に用いられている。しかし、成膜したままの状態で
は困難軸方向の透磁率は低く、これｌをこのまま磁気ヘ
ッド材料として使用することができない。そこで、この
困難軸方向の良同好な周波数特性を損なうことなしにそ
の磁気異方性を小さくシ、透磁率を高めるために。
膜面に平行な１回転磁界中でこれを熱処理することが行
なわれている。
なわれている。
第２図に従来の熱処理装置の概略図を、第３図にその平
面図を示す。
面図を示す。
真空排気装置７で排気された真空容器３内の試料台２上
に置かれた試料１は、固定鉄心６とその励磁コイル５に
より印加された静磁界の中で回転している。この回転駆
動は水冷パイプ１０で冷却される回転導入器８を通して
、大気中に置かれたモータ９により行なわれる。
に置かれた試料１は、固定鉄心６とその励磁コイル５に
より印加された静磁界の中で回転している。この回転駆
動は水冷パイプ１０で冷却される回転導入器８を通して
、大気中に置かれたモータ９により行なわれる。
こうして、試料に対して回転磁界を印加しつつ。
ヒータ４により設定温度まで加熱し、所定時間その温度
を保持した後に自然冷却することで熱処理を完了する。
を保持した後に自然冷却することで熱処理を完了する。
熱処理後の５０ＨｚにおけるＣｏ−Ｚｒ−Ｎｂ薄膜のＢ
−Ｈ特性曲線を第４図に示す。困難軸方向のＢ−Ｈ特性
曲想１６は鋭い立ち上が９を示し、この方向の透磁率が
増大したことを示す。１７は容易軸方向のＢ−Ｈ％性曲
線である。
−Ｈ特性曲線を第４図に示す。困難軸方向のＢ−Ｈ特性
曲想１６は鋭い立ち上が９を示し、この方向の透磁率が
増大したことを示す。１７は容易軸方向のＢ−Ｈ％性曲
線である。
しかしながら従来の上記の方法により熱処理を行なった
軟磁性薄膜は、その容易軸の方向が熱処理の前後で変化
して、＃処理前と異なる方向を示すことがしばしばアリ
、歩留りを悪化させる原因となっていた。
軟磁性薄膜は、その容易軸の方向が熱処理の前後で変化
して、＃処理前と異なる方向を示すことがしばしばアリ
、歩留りを悪化させる原因となっていた。
本発明者はこの問題の解決に注力し、研究を重ねるうち
９回転磁界を変形して９強さの等方向な磁界ではなく、
常に磁化困難方向に比べて容易軸方向に強い磁界が印加
されるように磁界強度を変化させる。楕円形状の回転磁
界を印加することで良好な結果が得られることを見出し
た。これを詳しく説明すると、第３図の回転する試料台
２上の試料１の両側に、第５図に示す２様にヨーク１１
ａ１１１ｂを載置するときは、第６図（ａ）に示すよう
に磁力線１４に対しヨーク１１ａ、１１ｂの位置が変化
するため、試料１上を流れる磁界の強さ１５は第６図（
ｂ）に示す様に変化し、楕円形状の回転磁界となる。
９回転磁界を変形して９強さの等方向な磁界ではなく、
常に磁化困難方向に比べて容易軸方向に強い磁界が印加
されるように磁界強度を変化させる。楕円形状の回転磁
界を印加することで良好な結果が得られることを見出し
た。これを詳しく説明すると、第３図の回転する試料台
２上の試料１の両側に、第５図に示す２様にヨーク１１
ａ１１１ｂを載置するときは、第６図（ａ）に示すよう
に磁力線１４に対しヨーク１１ａ、１１ｂの位置が変化
するため、試料１上を流れる磁界の強さ１５は第６図（
ｂ）に示す様に変化し、楕円形状の回転磁界となる。
ここで最大磁界が印加される方向、すなわち第６図（ｂ
）の長径１２の方向に磁化容易軸が向く様に試料１を配
置することによシ熱処理前後における磁気異方性の向き
の変化を防ぐことができることを見出したものである。
）の長径１２の方向に磁化容易軸が向く様に試料１を配
置することによシ熱処理前後における磁気異方性の向き
の変化を防ぐことができることを見出したものである。
ところで回転磁界の印加方法には、前述の静磁界中で試
料を回転させる方法の他に試料１を真空容器内に固定さ
せ、固定鉄心及び励磁コイルを多極構造にして励磁コイ
ルに交流を流し、各励磁コイルに流す電位の位相を変え
て回転磁界を発生させる方法で知られている。
料を回転させる方法の他に試料１を真空容器内に固定さ
せ、固定鉄心及び励磁コイルを多極構造にして励磁コイ
ルに交流を流し、各励磁コイルに流す電位の位相を変え
て回転磁界を発生させる方法で知られている。
第７図（正面図）、第８図（平面図）にその１梗構造の
熱処理装置の概略図を示す。試料１および試料台２は真
空容器３内に固定され、真空排気装置７により真空存器
３内を排気した後、ヒータ４によシ加熱される。そして
、励磁コイル５ａに単相交流をＲｆＺＪｔば２直接流し
、もう一方の励磁コイル５ｂにコンデンサーを経由し９
０度位相の進んだ単相交流を流すときは、固定された試
料１に対し回転磁界が印加される。
熱処理装置の概略図を示す。試料１および試料台２は真
空容器３内に固定され、真空排気装置７により真空存器
３内を排気した後、ヒータ４によシ加熱される。そして
、励磁コイル５ａに単相交流をＲｆＺＪｔば２直接流し
、もう一方の励磁コイル５ｂにコンデンサーを経由し９
０度位相の進んだ単相交流を流すときは、固定された試
料１に対し回転磁界が印加される。
この方法は、前述の静磁界中で試料を回転させる方法に
比べて複雑な回転導入材機構（先述の８）等が省略され
るため、経済的でアシ、故障が生じにくいとともに１回
転導入部の加熱防止の機構（先述の１０）も省略される
ため極めて小型にできるという利点がおる。しかし２問
題はなお残されておシ、第５図に示したヨークｌｌａ、
ｌｌｂが必要であるため試料１が占有する面積が限定
されもしくは、装置全体が大きくなるという欠点がある
。
比べて複雑な回転導入材機構（先述の８）等が省略され
るため、経済的でアシ、故障が生じにくいとともに１回
転導入部の加熱防止の機構（先述の１０）も省略される
ため極めて小型にできるという利点がおる。しかし２問
題はなお残されておシ、第５図に示したヨークｌｌａ、
ｌｌｂが必要であるため試料１が占有する面積が限定
されもしくは、装置全体が大きくなるという欠点がある
。
本発明はこの問題の解決を目的とするもので、楕円形の
回転磁界をヨークｌｌａ、ｌｌｂなしで試料に与えるこ
とのできる。新規の信頼性、経済性共に浸れた軟磁性薄
膜の熱処理装置を提供することにある。
回転磁界をヨークｌｌａ、ｌｌｂなしで試料に与えるこ
とのできる。新規の信頼性、経済性共に浸れた軟磁性薄
膜の熱処理装置を提供することにある。
以下図面を用いて本発明を詳細説明する。
第９図は本発明の実施例であり四極構造の熱処理装置を
示す。ここでは第７図及び第８区における装置の２対の
磁極６ａ＋６ｂのうち、一方の磁極６ｂの励磁コイル５
ｂ’の巻数をもう一方の磁極６ａの励磁コイル５ａより
も多くシ、方向１２の磁界強度をこれと直交する方向１
３の磁界強度より大きくしである。この構成によって、
試料台２上の回転磁界はその強さが第１０図に示す様に
連続的に楕円形状に変化するものとなる。
示す。ここでは第７図及び第８区における装置の２対の
磁極６ａ＋６ｂのうち、一方の磁極６ｂの励磁コイル５
ｂ’の巻数をもう一方の磁極６ａの励磁コイル５ａより
も多くシ、方向１２の磁界強度をこれと直交する方向１
３の磁界強度より大きくしである。この構成によって、
試料台２上の回転磁界はその強さが第１０図に示す様に
連続的に楕円形状に変化するものとなる。
従ってこの最大強度の磁界が印加される方向。
すなわち第９図、第１θ図の１２の方向に軟磁性膜の磁
化容易軸が向く様に試料１を配置する。
化容易軸が向く様に試料１を配置する。
このように試料１を配置した後の操作は、従来の熱処理
装置と同様であシ、真空排気装置で真空室３を排気し、
楕円形状の回転磁界を印加しながら設定温度まで加熱し
、所定時間その温度で保持した後に自然冷却する。
装置と同様であシ、真空排気装置で真空室３を排気し、
楕円形状の回転磁界を印加しながら設定温度まで加熱し
、所定時間その温度で保持した後に自然冷却する。
以上の熱処理を行なった軟磁性薄膜の磁気異方性の方向
は、熱処理前の磁気異方性の方向と変らなかった。楕円
形状の回転磁界は、各極対で励磁コイルの巻数を変化さ
せる他に、励磁コイルに流す交流の実効電流や、各磁極
対に流す交流の位相を変化させることでも可能で、それ
らの方法で楕円形状の回転磁場を発生させ熱処理を行っ
た場合も同様の効果のあることがわかっている。再現性
も良かった。
は、熱処理前の磁気異方性の方向と変らなかった。楕円
形状の回転磁界は、各極対で励磁コイルの巻数を変化さ
せる他に、励磁コイルに流す交流の実効電流や、各磁極
対に流す交流の位相を変化させることでも可能で、それ
らの方法で楕円形状の回転磁場を発生させ熱処理を行っ
た場合も同様の効果のあることがわかっている。再現性
も良かった。
ただし本発明でいう「楕円形状」は厳密な楕円なお、上
記の実施例は四極構造の装置について述べたが１回転磁
界は四極以外の極数によっては可能である。本発明は磁
極の数に制限されない。
記の実施例は四極構造の装置について述べたが１回転磁
界は四極以外の極数によっては可能である。本発明は磁
極の数に制限されない。
例えば３相交流を用いるときは６極構造の装置が最も安
直に回転磁界を与える。
直に回転磁界を与える。
本発明は以上説明した通シであって２本発明の装置によ
れば、熱処理前後における磁化容易軸の移動を防ぎ、熱
処理に対する信頼性を向上することができる。更に回転
導入機構を不安にすることにより熱処理装置の保守ケ簡
単にすることができ。
れば、熱処理前後における磁化容易軸の移動を防ぎ、熱
処理に対する信頼性を向上することができる。更に回転
導入機構を不安にすることにより熱処理装置の保守ケ簡
単にすることができ。
かつ装置自体を極めて小形化できる。
本発明が磁気記録用薄膜ヘッド特に垂直磁気記録ヘッド
の特性、経済性の向上に寄与するところは大きく、工業
上有益な発明ということができる。
の特性、経済性の向上に寄与するところは大きく、工業
上有益な発明ということができる。
第１図は５０ＨｚにおけるＧｏ−Ｚｒ−ＮｂＮ膜の磁化
容易軸方向（ａ）及び困難軸方向（ｂ）のＢ−）Ｌ特性
曲線であり、第４図は熱処理後の５０ＨｚにおけるＣｏ
−Ｚｒ−Ｎｂ薄膜のＢ−Ｈ特性曲線である。 第２図、第３図、第７図、第８図は従来の熱処理装置の
概略図で第５図、第６図は従来の楕円状回転磁界の印加
方法を示した図である。 第９図、第１０図は本発明の実施例である。 １・・・試料、２・・・試料台、３・・・真空容器。 ４・・・ヒータ、 ５・・・励磁コイル、 ６・・・固
定鉄心ヨーク。 ７・・・真空排気装置、８・・・回転導入機構。 ９・・・モータ、１０・・・水冷パイプ、１１・・・ヨ
ーク。 １２・・・長径方向、１３・・・短径方向、１４・・・
印／Ｊ［＋磁界。 １５・・・試料上を流れる磁界の強さ １６・・・困ｊ＋Ｉ紬、１７・・・容易軸。 特許出願人 日電アネルバ株式会社 ＦＩＧ、２ ヒ１（ｊ、４ ヒＩＧ、５ （ａ） ＦＩＧ、６ ＦＩＧ、Ｂ ＦＩＧ、９
容易軸方向（ａ）及び困難軸方向（ｂ）のＢ−）Ｌ特性
曲線であり、第４図は熱処理後の５０ＨｚにおけるＣｏ
−Ｚｒ−Ｎｂ薄膜のＢ−Ｈ特性曲線である。 第２図、第３図、第７図、第８図は従来の熱処理装置の
概略図で第５図、第６図は従来の楕円状回転磁界の印加
方法を示した図である。 第９図、第１０図は本発明の実施例である。 １・・・試料、２・・・試料台、３・・・真空容器。 ４・・・ヒータ、 ５・・・励磁コイル、 ６・・・固
定鉄心ヨーク。 ７・・・真空排気装置、８・・・回転導入機構。 ９・・・モータ、１０・・・水冷パイプ、１１・・・ヨ
ーク。 １２・・・長径方向、１３・・・短径方向、１４・・・
印／Ｊ［＋磁界。 １５・・・試料上を流れる磁界の強さ １６・・・困ｊ＋Ｉ紬、１７・・・容易軸。 特許出願人 日電アネルバ株式会社 ＦＩＧ、２ ヒ１（ｊ、４ ヒＩＧ、５ （ａ） ＦＩＧ、６ ＦＩＧ、Ｂ ＦＩＧ、９
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 真空室内の試料台上に固定された軟磁性薄膜と。 それを加熱する装置と、該軟磁性薄膜の磁化容易軸方向
よりも強い磁界が印加されるようにした楕円形状の回転
磁界を印加する磁気装置とをそなえたことを特徴とする
軟磁性薄膜の真空熱処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6289884A JPS60206123A (ja) | 1984-03-30 | 1984-03-30 | 軟磁性薄膜の真空熱処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6289884A JPS60206123A (ja) | 1984-03-30 | 1984-03-30 | 軟磁性薄膜の真空熱処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60206123A true JPS60206123A (ja) | 1985-10-17 |
Family
ID=13213523
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6289884A Pending JPS60206123A (ja) | 1984-03-30 | 1984-03-30 | 軟磁性薄膜の真空熱処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60206123A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001135543A (ja) * | 1999-08-26 | 2001-05-18 | Nikko Consulting & Engineering Co Ltd | 熱処理装置 |
| JP2006057055A (ja) * | 2004-08-23 | 2006-03-02 | Tsunehisa Kimura | 磁場による精密配向体の製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5232598A (en) * | 1975-09-08 | 1977-03-11 | Mitsubishi Electric Corp | Electrodepositing method of high permeability permalloy thin film |
| JPS58213860A (ja) * | 1982-06-03 | 1983-12-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 非晶質磁性膜の熱処理方法 |
-
1984
- 1984-03-30 JP JP6289884A patent/JPS60206123A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5232598A (en) * | 1975-09-08 | 1977-03-11 | Mitsubishi Electric Corp | Electrodepositing method of high permeability permalloy thin film |
| JPS58213860A (ja) * | 1982-06-03 | 1983-12-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 非晶質磁性膜の熱処理方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001135543A (ja) * | 1999-08-26 | 2001-05-18 | Nikko Consulting & Engineering Co Ltd | 熱処理装置 |
| JP2006057055A (ja) * | 2004-08-23 | 2006-03-02 | Tsunehisa Kimura | 磁場による精密配向体の製造方法 |
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