JPS60206673A - サ−マルヘツド - Google Patents
サ−マルヘツドInfo
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- JPS60206673A JPS60206673A JP59065310A JP6531084A JPS60206673A JP S60206673 A JPS60206673 A JP S60206673A JP 59065310 A JP59065310 A JP 59065310A JP 6531084 A JP6531084 A JP 6531084A JP S60206673 A JPS60206673 A JP S60206673A
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- JP
- Japan
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- substrate
- width
- thermal head
- ceramic substrate
- metal substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 21
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 4
- 239000012212 insulator Substances 0.000 abstract 3
- 238000010276 construction Methods 0.000 abstract 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
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- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N97/00—Electric solid-state thin-film or thick-film devices, not otherwise provided for
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Electronic Switches (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はヒートシンク會有するサーマルヘッドの構造に
関する。
関する。
一般に、ヒートシンクに有”1−るサーマルヘッドの構
造においては、放熱性、伝熱性等の点から、発熱素子と
しての抵抗体および他の能動あるいは受動累す奮同−セ
ラミック基板上に配線用導体にて配線し、はぼ同一形状
のヒートシンクとしての金属基板に接着剤もしくはネジ
等により固定されている。
造においては、放熱性、伝熱性等の点から、発熱素子と
しての抵抗体および他の能動あるいは受動累す奮同−セ
ラミック基板上に配線用導体にて配線し、はぼ同一形状
のヒートシンクとしての金属基板に接着剤もしくはネジ
等により固定されている。
第1図は従来のサーマルヘッドの断面図であシ、ヒート
シンク金属基板1上に固定されたセラミック基板2上に
抵抗体3および配線用導体4全形成する。そして、抵抗
体3の周辺部においてダイオード、トランジスタ等の半
導体能動素子5およびチップコンデンサ、チップ抵抗等
の受動素子6を、ワイヤーボンディング、半田付け、熱
圧着等の方法で配線用導体4上に接続している。
シンク金属基板1上に固定されたセラミック基板2上に
抵抗体3および配線用導体4全形成する。そして、抵抗
体3の周辺部においてダイオード、トランジスタ等の半
導体能動素子5およびチップコンデンサ、チップ抵抗等
の受動素子6を、ワイヤーボンディング、半田付け、熱
圧着等の方法で配線用導体4上に接続している。
ところが、このように形成されるサーマルヘッドでは、
セラミック基板2の平面積が大である。
セラミック基板2の平面積が大である。
そして、一般にサーマルヘッドにおいて、発熱素子が形
成されたセラミック基板が高放熱性を要求されることか
ら材料費が高く、又高密度に発熱皇子を形成することか
ら、歩留りも50%((下回シ、かつ大型ということで
製造能力、加工時間においてもコストが高くなるという
欠点を有していた。
成されたセラミック基板が高放熱性を要求されることか
ら材料費が高く、又高密度に発熱皇子を形成することか
ら、歩留りも50%((下回シ、かつ大型ということで
製造能力、加工時間においてもコストが高くなるという
欠点を有していた。
本発明は上記問題点vc′6みなされたもので、その目
的は半導体素子等の=動および受動素子部品をヒートシ
ンクとしての金属基板上に取刊け、セラミック基板の平
面績全従米より1/6〜2/6小さくし、放熱性、伝熱
性等を損うことなく廉価なサーマルヘッドを提供するこ
とにある。
的は半導体素子等の=動および受動素子部品をヒートシ
ンクとしての金属基板上に取刊け、セラミック基板の平
面績全従米より1/6〜2/6小さくし、放熱性、伝熱
性等を損うことなく廉価なサーマルヘッドを提供するこ
とにある。
以下第2図全参照してこの発明の一実施例+C説明する
。第2図は本発明に係るサーマルヘッドの断面図2ボし
たものでおる。従来構造と同一箇所は同符号ン付して説
明を省略する。11は金属基板であり、放熱性、伝熱性
の良好な金属がらなっている。12は金属基板11の一
部に設けられた絶縁膜、13は絶縁膜12を介して金属
基板11上に形成された回路パターンであり、このパタ
ーン16に各能動、受動素子5.6が配設されている。
。第2図は本発明に係るサーマルヘッドの断面図2ボし
たものでおる。従来構造と同一箇所は同符号ン付して説
明を省略する。11は金属基板であり、放熱性、伝熱性
の良好な金属がらなっている。12は金属基板11の一
部に設けられた絶縁膜、13は絶縁膜12を介して金属
基板11上に形成された回路パターンであり、このパタ
ーン16に各能動、受動素子5.6が配設されている。
20は金属基板11の幅りに対しほぼ1/2の幅z’l
有し金属基板11の段部11aに接着されたセラミ、ツ
ク基板で、この基板20上に抵抗体6および配線用導体
4が形成されている。
有し金属基板11の段部11aに接着されたセラミ、ツ
ク基板で、この基板20上に抵抗体6および配線用導体
4が形成されている。
尚、セラミック基板20の幅lは金属基板11の幅りに
対し1/6〜2/3の範囲であれば、抵抗体6および配
線用導体4の配設にも、能動、受動素子5.6の取付け
((も支障rきたすことはない。
対し1/6〜2/3の範囲であれば、抵抗体6および配
線用導体4の配設にも、能動、受動素子5.6の取付け
((も支障rきたすことはない。
また、金属基板の段部11aによジ、セラミック基板2
0と半導体能動素子5との表面高さはほぼ一致している
ので、半導体能動素子5あるいは回路パターン13とセ
ラミック基板20上の配線用導体4との接続は、一般の
ワイヤーボンディング、半田付け、熱圧着等の方法で行
なうことができる。
0と半導体能動素子5との表面高さはほぼ一致している
ので、半導体能動素子5あるいは回路パターン13とセ
ラミック基板20上の配線用導体4との接続は、一般の
ワイヤーボンディング、半田付け、熱圧着等の方法で行
なうことができる。
このように形成されたサーマルヘッドにおいては、放熱
性、伝熱性等の良好な金属基板11上に直接セラミック
基板20が接着されている。また、薄い絶縁膜12葡介
して金属基板11上に形成された回路パターン13上の
半導体能動素子5の放熱性、伝熱性等も良好であった。
性、伝熱性等の良好な金属基板11上に直接セラミック
基板20が接着されている。また、薄い絶縁膜12葡介
して金属基板11上に形成された回路パターン13上の
半導体能動素子5の放熱性、伝熱性等も良好であった。
従って、本発明によれば放熱性、伝熱性等を損うことな
くセラミック基板を平面積で従来よ!111 / 5〜
2/3小さくすることが可能となり、従来よシセラミッ
ク基板の製造能力が1/6〜2/6増え、かつコスト7
5E20〜60%低くなる廉価なサーマルヘッドが得ら
れるという効果が得られた。
くセラミック基板を平面積で従来よ!111 / 5〜
2/3小さくすることが可能となり、従来よシセラミッ
ク基板の製造能力が1/6〜2/6増え、かつコスト7
5E20〜60%低くなる廉価なサーマルヘッドが得ら
れるという効果が得られた。
第1図は従来のサーマルヘッドの断面図、第2図は本発
明の一実施例を示すサーマルヘッドの断面図である。 6・・・抵抗体、4・・・配線用導体、5・・・半導体
能動素子、6・・・受動素子、11・・・金属基板、1
2・・・絶縁膜、13・・・回路パターン、20・・・
セラミック基板。 第1図 第2図 〆2 し
明の一実施例を示すサーマルヘッドの断面図である。 6・・・抵抗体、4・・・配線用導体、5・・・半導体
能動素子、6・・・受動素子、11・・・金属基板、1
2・・・絶縁膜、13・・・回路パターン、20・・・
セラミック基板。 第1図 第2図 〆2 し
Claims (2)
- (1) ヒートシンクとしての金属基板と、この金属基
板上に固着されたセラミック基板と、このセラミック基
板上に形成された配線用導体を介して設けられた発熱素
子としての抵抗体と、この抵抗体を駆動するための能動
素子および受動素子とからなるサーマルヘッドにおいて
、前記金属基板の一部に絶縁膜を設け、この絶縁膜上に
形成した回路パターンを介して前記能動素子および受動
素子全配設することによシ、前記セラミック基板の幅を
前記金属基板の幅に対し1/3〜2/3にしたこと全特
徴とするサーマルヘッド。 - (2)前記金属基板の前記セラミック基板が固着される
部分に段部を設け、前記セラミック基板の表面と前記能
動素子の表面との高さ會はぼ一致させたことを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載のサーマルヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59065310A JPS60206673A (ja) | 1984-03-30 | 1984-03-30 | サ−マルヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59065310A JPS60206673A (ja) | 1984-03-30 | 1984-03-30 | サ−マルヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60206673A true JPS60206673A (ja) | 1985-10-18 |
Family
ID=13283202
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59065310A Pending JPS60206673A (ja) | 1984-03-30 | 1984-03-30 | サ−マルヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60206673A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01122946U (ja) * | 1988-02-17 | 1989-08-21 | ||
| JPH02108033U (ja) * | 1989-02-15 | 1990-08-28 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54162168A (en) * | 1978-06-13 | 1979-12-22 | Tokyo Shibaura Electric Co | Thin film hybrid circuit |
| JPS5753372A (en) * | 1980-09-17 | 1982-03-30 | Ricoh Co Ltd | Thermal head apparatus |
| JPS5763278A (en) * | 1980-10-03 | 1982-04-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Thermal head |
-
1984
- 1984-03-30 JP JP59065310A patent/JPS60206673A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54162168A (en) * | 1978-06-13 | 1979-12-22 | Tokyo Shibaura Electric Co | Thin film hybrid circuit |
| JPS5753372A (en) * | 1980-09-17 | 1982-03-30 | Ricoh Co Ltd | Thermal head apparatus |
| JPS5763278A (en) * | 1980-10-03 | 1982-04-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Thermal head |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01122946U (ja) * | 1988-02-17 | 1989-08-21 | ||
| JPH02108033U (ja) * | 1989-02-15 | 1990-08-28 |
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