JPS60209924A - 垂直磁気記録体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は磁気テープ及び磁気カード等に使用される磁気
記録体、特に垂直磁気記録方式に適した磁気記録体及び
その製造方法に関する。

（従来技術とその問題点） 垂直磁気記録方式は、第１図及び第２図に示す様に記録
媒体面に垂直方向の磁化状態として情報を記録するもの
であシ、従来の面内記録方式に比べて原理的に短波長特
性が勝れ、高密度記録が可能という点で注目されている
０ この方式に用いる磁気記録体としては基体ｌ上に形成し
た垂直方向（厚さ方向）に磁化容易軸を持つＣｏＣｒ合
金、バリウムフェライトなどの磁気記録層２（以下垂直
磁化＠）、もしくは、この垂直磁化膜と基体との間に、
ＮｉＦｅ合金等の高透磁率磁性層３を有する２層膜が知
られている。

又、磁気ヘッドとしては、高透磁率磁性膜から成る短備
状の主磁極４と、記録再生用巻線６を有助磁極５とを記
録体９，１０を挾んで配置したもの、もしくは記録体９
，１０の片面側だけで、記録再生ができる様に、短冊状
の主磁極７に記録再生用巻線８を施したもの等が用いら
れる。そして。

これらの磁気ヘッドを用いる場合には、先述した２層膜
を用いることによって記録再生効率が向上することが知
られており基体１と垂直磁化膜２との間に設けた高透磁
率磁性層３の効果が注目されている。

これは、高透磁率磁性層３が記録体１０の構成要素であ
シながら、磁気ヘッドの一部分と見なすことができ、そ
れが垂直磁化膜２に近接して設けられた効果と考えるこ
とができるからである。従って、２層膜を用いた場合の
記録再生効率は、この高透磁率磁性層３の特性によって
も、影響を受けるので、媒体作製に当りて新たな問題を
生じて−ブや磁気カードの様な長尺状の基体上に形成す
る場合を考える。周知の如く、高透磁率磁性層は、スパ
ッタリングや蒸着やメッキ等による成膜時に、誘導磁気
異方性によって、−軸方向に磁化容易軸を有する異方性
を生じたシ、あるいは分散的な磁気特性を呈する。この
特性差によって、記録再生効率の違いを生じる０例えば
Ａに示す様に、記録位置における長尺状記体吐の高透磁
率磁性層３の磁化容易軸方向１５が磁気ヘッド走向方向
（ｙ方向）に対して垂直方向の場合、すなわち、高透磁
率磁性層３の異方性が困難軸方向の場合、その透磁率は
広い周波数領域で高いので、記録再生効率々 の向上も顕著である０しかし、第３図のＢやＣに示す様
に磁化容易軸方向が垂直方向から傾くにつれて透磁率が
低下するので記録再生効率もあまシ向上しなくなる。又
、高透磁率磁性層の磁気特性が分散的な場合にも、その
透磁率はあまシ高くできないので、記録再生効率の向上
も十分ではない。

さらに、長尺状記録体１３の場所によって、高透磁率磁
性層３の磁気特性が、変化している場合には、たとえ、
垂直磁化膜２の特性が均一であっても、長尺の場所によ
る再生出力の変動を生じる。

（発明の目的） 本発明の目的は、以上の様な問題点を解決し、長尺全面
において、記録再生効率が向上した、２層膜から成る垂
直磁気記録体を提供することにある。

（発明の構成） 本発明にかかる垂直磁気記録体は、長尺状の基体上に高
透磁率磁性層次いで膜面に垂直な方向に磁化容易軸を有
する磁性層の順に形成して成る垂直磁気記録体において
、前記高透磁率磁性層は、前記長尺状基体の幅方向に、
磁化容易軸を有することを特徴とする０ 又、本発明による垂直磁気記録体の製造方法は、前記高
透磁率磁性層成膜時に、前記長尺状基体の幅方向に直流
磁界を印加することを特徴とする。

（実施例） １８の特徴を示した図でｓｂ、長尺状基体１６上−−１
−一−÷−−−謔１−−噌一一、１■−１１−一一一一
＝１−１−＝−■テ＋＋１＋−−□１１μ、、■、１−
シー＝１自１９が長尺の幅方向になっている。

次に、この様な垂直磁気記録体１８の作製方法を説明す
る０第５図はＲＦスパッタリングによる作製方法を模式
的に示したものである〕この図では、繁雑さを避けるだ
めにスパッタチャンバの中身だけを示しである０これに
よれば、ＮｉＦｅ合金の様な高透磁率磁性体が成るター
ゲット２０と、ＣｏＣｒ合金やバリウムフェライト等の
ターゲット２２とがそれぞれターゲットホルダ２１及び
２３に固定されて、互いにはぼ平行に配設されているＯ
そして、各々のターゲットは、図には示していないが、
マツチングボックスを介して高周波電源に接続されてい
るロ一方、この両ターゲットに対向する様に所定の距離
隔ててもう一方の電極となる基板ホルダ２４が配設され
、これにそって長尺状の基体１６が送シ出しロール２６
と巻き取シロール２７０間にセットされている０そして
、この基板ホルダ２４の裏面で、しかも前記高透磁率磁
性体から成るターゲット２０の真上に相当する位置に、
基板ホルダ２４０幅方向に着磁した永久磁石２５が配設
されている。この永久磁石２５によって、前記ターゲッ
ト２０の真上に相当する基体１６の部分には、数十エル
ステッド以上の直流磁界が、その幅方向に印加される０ この様な構成によって、基体１６上には、送υ出しロー
ル２６から前記基板ホルダ２４にそりて一定速度で送り
出され巻き取りロール２７に巻き取られながら、高透磁
率磁性層１７及び垂直磁化膜２のスパッタリングが行わ
れる。ここでは高透磁率磁性層１７として約０．５μｍ
厚のＮｉＦｅ合金及び垂直磁化膜２として、約０．５μ
ｍ厚のＣｏＣｒ合金暎を順次形成した。この場合前記基
体１６を約５ｃｍ／−で移動させながら、次の条件でス
パッタリングを行なった。

パックグランドガス圧　１０−６Ｔｏｒｒ以下スパツタ
パワ一密度　０．０５Ｗ／ｃｒｎ″７　ｋ　：’　：／
　カーＸ　ｔＥ　４　Ｘ　Ｉ　Ｑ−３Ｔｏｒｒ−極間隔
　４０朋 基体移動速度　５　ｃｍ／ｍ この様にして形成されたＮｌｃｅ合金層１７は、永久磁
石２５から発生している幅方向の磁界によって生じる誘
導磁気異方性によりて、長尺状基体１６の幅方向に磁化
容易軸を有している。次に、＜２′ これをスリッタ等によって、所定の幅に切シ出すことに
よって、本発明の垂直磁気記録体１８が得られる。

この記録体１Ｂでは、長尺状基体１６の全ての記録位置
において高透磁率磁性層１７の磁気異方性が記録方向に
対して困離軸となっているので、高い透磁率が広い周波
数領域で実現されている。

従って、第１図及び第２図で示した磁気ヘッドを用いた
時の記録再生効率は、長尺上の全ての位置で向上し、再
生出力の一様性も良好なものとなる。

なお、第５図に示したスパッタリングターゲラ）２０及
び２２のかわシに蒸着用のンースを配設すれば、蒸着に
よっても同様に、本発明の垂直磁気記録体１８が得られ
る。また長尺状の基体１６としては厚さ数十ミクロンの
ポリエステルやポリイミドやポリアミド等が用いられる
。

高透磁率磁性層１７としては、０．５μｍ厚のＮｉＦｅ
合金についてのみ、述べたが、これに限定されるもので
はなく、厚みは数千オングストローム−数ミクロンの範
囲で艮く、又、ＮｉＦｅ合金系以外にＣｏＺｒ系アモル
ファス合金等他の高透磁率磁性材料も同様に適用できる
。又、垂直磁化膜２としては、　ＣｏＣｒ合金以外にバ
リウムフェライでも良くその厚みも数千オングストロー
ム−数ミクロンの範囲で良い０さらに、磁界発生手段と
して、基体１６の裏に永久磁石２５を配設する方法につ
いてのみ述べたが、これに限らす長尺状基体１６に対し
て、幅方向に磁界を発生できる範囲で永久磁石の位置及
び形状を変えても良い。

（発明の効果） 以上述べた様に、本発明によれば、長尺の全位置におい
て記録再生効率の向上した２層膜から成る垂直磁気記録
体が提供できる。

【図面の簡単な説明】

発明の実施例を示す図、第５図は本発明の製造方法を示
す図である。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）　長尺状の基体上に、高透磁率磁性層、次いで膜
   面に垂直な方向に磁化容易軸を有する磁性層の順に形成
   して成る垂直磁気記録体において、前記高透磁率磁性層
   は、前記長尺状基体の幅方向に磁化容易軸を有すること
   を特徴とする垂直磁気記録体０
2. （２）　長尺状基体上に高透磁率磁性層、膜面に垂直な
   方向に磁化容易軸を有する磁性膜の順に形成する垂直磁
   気記録体の製造方法でありて、高透磁率磁性層形成時に
   長尺状基体の幅方向に直流磁界を印加することを特徴と
   する垂直磁気記録体の製造方法り