JPS60214577A - ガスレ−ザ発振装置 - Google Patents
ガスレ−ザ発振装置Info
- Publication number
- JPS60214577A JPS60214577A JP59070783A JP7078384A JPS60214577A JP S60214577 A JPS60214577 A JP S60214577A JP 59070783 A JP59070783 A JP 59070783A JP 7078384 A JP7078384 A JP 7078384A JP S60214577 A JPS60214577 A JP S60214577A
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- Japan
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- laser medium
- flow path
- vacuum pump
- medium flow
- laser
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、新鮮なレーザ媒質をレーザ媒質供給源からレ
ーザ媒質流通路に供給しながら、分解劣化したレーザ媒
質をレーザ媒質流通路から真空ポンプによって排出する
レーザ媒質給排機構を具備したガスレーザ発振装置に関
するものである。
ーザ媒質流通路に供給しながら、分解劣化したレーザ媒
質をレーザ媒質流通路から真空ポンプによって排出する
レーザ媒質給排機構を具備したガスレーザ発振装置に関
するものである。
（従来例の構成とその問題点）
第１図は、ガスレーザ発振装置における従来のレーザ媒
質給排機構の構成を示すもので、１は放電管２をレーザ
媒質流通経路上に設置したレーザ媒質流通路、３はレー
ザ媒質流通路１に設置した送風機、４は送風機３のギア
ボックス、５は新鮮なレーザ媒質を封入したレーザ媒質
供給源、６はレーザ媒質流通路１とレーザ媒質供給源５
とを連通する供給管、７はレーザ媒質流通路１の中のレ
ーザ媒質の圧力が常に一定になるようにレーザ媒質供給
源５からレーザ媒質流通路１にレーザ媒質を供給する流
量調整弁で、この流量調整弁７は供給管６に設置されて
いる。８は真空ポンプ９の駆動開始直後から所定の時晶
過すると開き、真空ポンプ９が停止すると閉じる供給弁
で、この供給弁８は供給管６に設置されている。１０は
真空ポンプ９に設けた吸入口、１１は真空ポンプ９の中
に設けたオイル室、１２は真空ポンプ９の吸入口１０と
オイル室１１とを連通する油管、１３はレーザ媒質流通
路１からレーザ媒質を排出する導管、１４は導管１３と
真空ポンプ９の吸入口１０とを連通ずる排出管、１５は
レーザ媒質流通路１から真空ポンプ９に流入するレーザ
媒質の流入量が真空ボ・ンプ９の排出量より少なくなる
ように調整された流量調整弁で、この流量調整弁１５は
排出管１４に設置されている。
質給排機構の構成を示すもので、１は放電管２をレーザ
媒質流通経路上に設置したレーザ媒質流通路、３はレー
ザ媒質流通路１に設置した送風機、４は送風機３のギア
ボックス、５は新鮮なレーザ媒質を封入したレーザ媒質
供給源、６はレーザ媒質流通路１とレーザ媒質供給源５
とを連通する供給管、７はレーザ媒質流通路１の中のレ
ーザ媒質の圧力が常に一定になるようにレーザ媒質供給
源５からレーザ媒質流通路１にレーザ媒質を供給する流
量調整弁で、この流量調整弁７は供給管６に設置されて
いる。８は真空ポンプ９の駆動開始直後から所定の時晶
過すると開き、真空ポンプ９が停止すると閉じる供給弁
で、この供給弁８は供給管６に設置されている。１０は
真空ポンプ９に設けた吸入口、１１は真空ポンプ９の中
に設けたオイル室、１２は真空ポンプ９の吸入口１０と
オイル室１１とを連通する油管、１３はレーザ媒質流通
路１からレーザ媒質を排出する導管、１４は導管１３と
真空ポンプ９の吸入口１０とを連通ずる排出管、１５は
レーザ媒質流通路１から真空ポンプ９に流入するレーザ
媒質の流入量が真空ボ・ンプ９の排出量より少なくなる
ように調整された流量調整弁で、この流量調整弁１５は
排出管１４に設置されている。
１６は導管１３と真空ポンプ９の吸入口１０とを連通ず
るバイパス管で、このバイパス管１６は排出管１４と並
列に設けられている。１７は真空ポンプ９の駆動開始直
後から所定の時間だけ開いている排出弁で、この排出弁
１７はバイパス管１６に設置されている。
るバイパス管で、このバイパス管１６は排出管１４と並
列に設けられている。１７は真空ポンプ９の駆動開始直
後から所定の時間だけ開いている排出弁で、この排出弁
１７はバイパス管１６に設置されている。
１８はギアボックス４と導管１３とを連通ずるバイパス
管、１９は真空ポンプ９が駆動されると開き、真空ポン
プ９が停止すると閉じる開閉弁で、この開閉弁１９はバ
イパス管１８に設置されている。
管、１９は真空ポンプ９が駆動されると開き、真空ポン
プ９が停止すると閉じる開閉弁で、この開閉弁１９はバ
イパス管１８に設置されている。
このように構成された従来例では、ガスレーザ発振装置
の運転が開始されて、真空ポンプ９が駆動されると、供
給弁８が閉じると同時に、排出弁１７及び開閉弁１９が
開いて、レーザ媒質流通路１の中からその中に残留して
いる分解劣化したレーザ媒質が、又、ギアボックス４の
中からその中の空気、オイルミスト等が、それぞれ、真
空ポンプ９によって外部に排出され、時間が経過するに
つれて、レーザ媒質流通路１の中及びギアボックス４の
中がそれぞれ真空になる。そして、真空ポンプ９の駆動
開始直後から所定の時間が経過すると、供給弁８が開く
と同時に、排出弁１７が閉じて、新鮮なレーザ媒質が流
量調整弁７を介してレーザ媒質流通路１及びギアボック
ス４の中に供給される。
の運転が開始されて、真空ポンプ９が駆動されると、供
給弁８が閉じると同時に、排出弁１７及び開閉弁１９が
開いて、レーザ媒質流通路１の中からその中に残留して
いる分解劣化したレーザ媒質が、又、ギアボックス４の
中からその中の空気、オイルミスト等が、それぞれ、真
空ポンプ９によって外部に排出され、時間が経過するに
つれて、レーザ媒質流通路１の中及びギアボックス４の
中がそれぞれ真空になる。そして、真空ポンプ９の駆動
開始直後から所定の時間が経過すると、供給弁８が開く
と同時に、排出弁１７が閉じて、新鮮なレーザ媒質が流
量調整弁７を介してレーザ媒質流通路１及びギアボック
ス４の中に供給される。
同時に、レーザ媒質流通路１の中のレーザ媒質の圧力と
ギアボックス４の中の空気等の圧力とが常に等しくなる
ように管径が設定された導管１３、排出管１４とバイパ
ス管１８とを介して、レーザ媒質流通路１の中の分解劣
化したレーザ媒質を流量調整弁１５を介してレーザ媒質
流通路１の外に排出すると共に、ギアボックス４の中の
レーザ媒質と混合した空気、オイルミスト等を流量調整
弁１５を介してレーザ媒質流通路１の外に排出するので
、レーザ媒質流通路１の中は常に新鮮なレーザ媒質で満
される。又、真空ポンプ９の排気量は流量調整弁１５か
ら真空ポンプ９に流入するレーザ媒質の流入量よりも常
に多いので、レーザ媒質流通路１の中のレーザ媒質の圧
力は常に一定である。
ギアボックス４の中の空気等の圧力とが常に等しくなる
ように管径が設定された導管１３、排出管１４とバイパ
ス管１８とを介して、レーザ媒質流通路１の中の分解劣
化したレーザ媒質を流量調整弁１５を介してレーザ媒質
流通路１の外に排出すると共に、ギアボックス４の中の
レーザ媒質と混合した空気、オイルミスト等を流量調整
弁１５を介してレーザ媒質流通路１の外に排出するので
、レーザ媒質流通路１の中は常に新鮮なレーザ媒質で満
される。又、真空ポンプ９の排気量は流量調整弁１５か
ら真空ポンプ９に流入するレーザ媒質の流入量よりも常
に多いので、レーザ媒質流通路１の中のレーザ媒質の圧
力は常に一定である。
ところで、真空ポンプ９が停止すると、供給弁８、排気
弁１７及び開閉弁１９が閉じて、新鮮なレーザ媒質の供
給と分解劣化したレーザ媒質及びギアボックス４の中の
空気等の排出が遮断され、レーザ媒質流通路１の中に残
留したレーザ媒質の圧力は大気圧以下に保持される。と
ころが、レーザ媒質流通路１と真空ポンプ９のオイル室
１１とは流量調整弁１５を介して連通しているので、オ
イル室１１の中の空気やオイルミストがレーザ媒質流通
路１の中に流れ込んで、レーザ媒質流通路１の中を汚染
するので、レーザ出力が低下する欠点があった。
弁１７及び開閉弁１９が閉じて、新鮮なレーザ媒質の供
給と分解劣化したレーザ媒質及びギアボックス４の中の
空気等の排出が遮断され、レーザ媒質流通路１の中に残
留したレーザ媒質の圧力は大気圧以下に保持される。と
ころが、レーザ媒質流通路１と真空ポンプ９のオイル室
１１とは流量調整弁１５を介して連通しているので、オ
イル室１１の中の空気やオイルミストがレーザ媒質流通
路１の中に流れ込んで、レーザ媒質流通路１の中を汚染
するので、レーザ出力が低下する欠点があった。
又、レーザ媒質流通路１に設けた送風機３は、回転翼（
図示しない）がレーザ媒質流通路１の中に、回転翼駆動
装Ｗ（図示しない）がギアボックス４の中にそれぞれ装
着されているが、回転翼と回転翼駆動装置とを接続する
回転軸（図示しない）はレーザ媒質流通路１とギアボッ
クス４との仕切板３ａ４− に回転自在に貫装されているので、レーザ媒質流通路１
とギアボックス４との間をシール部材（図示しない）に
よって完全に密封できなくなる。このため、レーザ媒質
流通路１の中のレーザ媒質の圧力よりも空気の圧力が高
いギアボックス４の中の空気と共にオイルミストがシー
ル部材を通ってレーザ媒質流通路１の中に流れ込んで、
レーザ媒質流通路１の中を汚染するので、運転時間が長
くなるにつれて、レーザ出力が低下する欠点があった。
図示しない）がレーザ媒質流通路１の中に、回転翼駆動
装Ｗ（図示しない）がギアボックス４の中にそれぞれ装
着されているが、回転翼と回転翼駆動装置とを接続する
回転軸（図示しない）はレーザ媒質流通路１とギアボッ
クス４との仕切板３ａ４− に回転自在に貫装されているので、レーザ媒質流通路１
とギアボックス４との間をシール部材（図示しない）に
よって完全に密封できなくなる。このため、レーザ媒質
流通路１の中のレーザ媒質の圧力よりも空気の圧力が高
いギアボックス４の中の空気と共にオイルミストがシー
ル部材を通ってレーザ媒質流通路１の中に流れ込んで、
レーザ媒質流通路１の中を汚染するので、運転時間が長
くなるにつれて、レーザ出力が低下する欠点があった。
（発明の目的）
本発明の目的は、真空ポンプを停止させた後に、真空ポ
ンプのオイル室及びギアボックスがら空気やオイルミス
トがレーザ媒質流通路の中に流れ込むのを防止して、レ
ーザ出力を安定させることにある。
ンプのオイル室及びギアボックスがら空気やオイルミス
トがレーザ媒質流通路の中に流れ込むのを防止して、レ
ーザ出力を安定させることにある。
（発明の構成）
本発明は、真空ポンプが停止すると、レーザ媒質供給源
からレーザ媒質流通路の中にレーザ媒質が加圧供給され
て、レーザ媒質流通路の中が大気圧以上のレーザ媒質で
満されるようにしたものである。
からレーザ媒質流通路の中にレーザ媒質が加圧供給され
て、レーザ媒質流通路の中が大気圧以上のレーザ媒質で
満されるようにしたものである。
（実施例の説明）
第２図は、本発明の一実施例の゛構成を示すもので、第
１図の符号と同一符号のものは同一部分を示しており、
又、２０はレーザ媒質流通路Ｉとレーザ媒質供給源５と
を連通するバイパス管で、このバイパス管２０は供給管
６と並列に設けられている。
１図の符号と同一符号のものは同一部分を示しており、
又、２０はレーザ媒質流通路Ｉとレーザ媒質供給源５と
を連通するバイパス管で、このバイパス管２０は供給管
６と並列に設けられている。
２１は真空ポンプ９の駆動停止直後から所定の時間だけ
開いている開閉弁で、この開閉弁２１はバイパス管２０
に設置されている。２２は真空ポンプ９が駆動されると
開き、真空ポンプ９が停止すると閉じる開閉弁で、この
開閉弁２２は排出管１４に設置されている。
開いている開閉弁で、この開閉弁２１はバイパス管２０
に設置されている。２２は真空ポンプ９が駆動されると
開き、真空ポンプ９が停止すると閉じる開閉弁で、この
開閉弁２２は排出管１４に設置されている。
このように構成された本実施例では、ガスレーザ発振装
置の運転が開始されて、真空ポンプ９が駆動されると、
供給弁８が閉じると同時に、排出弁１７、開閉弁１９及
び２２が開いて、レーザ媒質流通路１の中からその中に
残留している分解劣化したレーザ媒質が、又、ギアボッ
クス４の中からその中の空気、オイルミス］・等が、そ
れぞれ、真空ポンプ９によって外部に排出され、時間が
経過するにつれて、レーザ媒質流通路１の中及びギアボ
ックス４の中がそれぞれ真空になる。そして、真空ポン
プ９の駆動開始直後から所定の時間が経過すると、供給
弁８が開くと同時に、排出弁１７が閉じて、新鮮なレー
ザ媒質が流量調整弁７を介してレーザ媒質流通路１及び
ギアボックス４の中に供給される。同時に、レーザ媒質
流通路１の中のレーザ媒質の圧力とギアボックス４の中
の空気等の圧力とが常に等しくなるように管径が設定さ
れた導管１３、排出管１４とバイパス管１８とを介して
、レーザ媒質流通路１の中の分解劣化したレーザ媒質を
流量調整弁１５を介してレーザ媒質流通路１の外に排出
すると共に、ギアボックス４の中のレーザ媒質と混合し
た空気、オイルミスト等を流量調整弁１５を介してレー
ザ媒質流通路１の外に排出するので、レーザ媒質流通路
１の中は常に新鮮なレーザ媒質で満される。又、真空ポ
ンプ９の排気量は流量調整弁１５から真空ポンプ９に流
入するレーザ媒７− 質の流入量よりも常に多いので、レーザ媒質流通路１の
中のレーザ媒質の圧力は常に一定である。
置の運転が開始されて、真空ポンプ９が駆動されると、
供給弁８が閉じると同時に、排出弁１７、開閉弁１９及
び２２が開いて、レーザ媒質流通路１の中からその中に
残留している分解劣化したレーザ媒質が、又、ギアボッ
クス４の中からその中の空気、オイルミス］・等が、そ
れぞれ、真空ポンプ９によって外部に排出され、時間が
経過するにつれて、レーザ媒質流通路１の中及びギアボ
ックス４の中がそれぞれ真空になる。そして、真空ポン
プ９の駆動開始直後から所定の時間が経過すると、供給
弁８が開くと同時に、排出弁１７が閉じて、新鮮なレー
ザ媒質が流量調整弁７を介してレーザ媒質流通路１及び
ギアボックス４の中に供給される。同時に、レーザ媒質
流通路１の中のレーザ媒質の圧力とギアボックス４の中
の空気等の圧力とが常に等しくなるように管径が設定さ
れた導管１３、排出管１４とバイパス管１８とを介して
、レーザ媒質流通路１の中の分解劣化したレーザ媒質を
流量調整弁１５を介してレーザ媒質流通路１の外に排出
すると共に、ギアボックス４の中のレーザ媒質と混合し
た空気、オイルミスト等を流量調整弁１５を介してレー
ザ媒質流通路１の外に排出するので、レーザ媒質流通路
１の中は常に新鮮なレーザ媒質で満される。又、真空ポ
ンプ９の排気量は流量調整弁１５から真空ポンプ９に流
入するレーザ媒７− 質の流入量よりも常に多いので、レーザ媒質流通路１の
中のレーザ媒質の圧力は常に一定である。
そして、真空ポンプ９が停止すると、供給弁８、排出弁
１７、開閉弁１９及び２２が閉じると同時に、開閉弁２
１が開いて、レーザ媒質供給源５からレーザ媒質流通路
１にレーザ媒質が加圧供給されて、レーザ媒質流通路１
の中が大気圧以上のレーザ媒質で満される。
１７、開閉弁１９及び２２が閉じると同時に、開閉弁２
１が開いて、レーザ媒質供給源５からレーザ媒質流通路
１にレーザ媒質が加圧供給されて、レーザ媒質流通路１
の中が大気圧以上のレーザ媒質で満される。
（発明の効果）
以上説明したように、本発明によれば、真空ポンプが停
止すると、レーザ媒質流通路と真空ポンプのオイル室と
の間が開閉弁によって遮断されて、オイル室の中の空気
やオイルミストがレーザ媒質流通路の中に流れ込まなく
なるので、レーザ媒質流通路の中が汚染されなくなって
、レーザ出力が低下しなくなる利点がある。又、レーザ
媒質流通路の中のレーザ媒質の圧力がギアボックスの中
の空気の圧力よりも高くなって、ギアボックスの中の空
気、オイルミスト等がシール部材を通ってレーザ媒質流
通路の中に流れ込まなくなるので、レ９− ８− −ザ媒質流通路の中が汚染されなくなって、レーザ出力
が低下しなくなる利点がある。
止すると、レーザ媒質流通路と真空ポンプのオイル室と
の間が開閉弁によって遮断されて、オイル室の中の空気
やオイルミストがレーザ媒質流通路の中に流れ込まなく
なるので、レーザ媒質流通路の中が汚染されなくなって
、レーザ出力が低下しなくなる利点がある。又、レーザ
媒質流通路の中のレーザ媒質の圧力がギアボックスの中
の空気の圧力よりも高くなって、ギアボックスの中の空
気、オイルミスト等がシール部材を通ってレーザ媒質流
通路の中に流れ込まなくなるので、レ９− ８− −ザ媒質流通路の中が汚染されなくなって、レーザ出力
が低下しなくなる利点がある。
第１図はガスレーザ発振装置における従来のレーザ媒質
給排機構の構成図、第２図はガスレーザ発振装置におけ
る本発明の一実施例の構成図である。 ■ ・・・ レーザ媒質流通路、 ５ ・・・レーザ媒
質供給源、 ９ ・・・真空ポンプ。 特許出願人 松下電器産業株式会社 第１図 第２図
給排機構の構成図、第２図はガスレーザ発振装置におけ
る本発明の一実施例の構成図である。 ■ ・・・ レーザ媒質流通路、 ５ ・・・レーザ媒
質供給源、 ９ ・・・真空ポンプ。 特許出願人 松下電器産業株式会社 第１図 第２図
Claims (1)
- 新鮮なレーザ媒質をレーザ媒質供給源からレーザ媒質流
通路に供給すると共に、分解劣化したレーザ媒質を前記
レーザ媒質流通路から真空ポンプによって排出するレー
ザ媒質給排機構を具備したガスレーザ発振装置において
、前記真空ポンプが停止すると、前記レーザ媒質供給源
から前記レーザ媒質流通路の中に前記レーザ媒質が加圧
供給されて、前記レーザ媒質流通路の中が大気圧以上の
前記レーザ媒質で満されることを特徴とするガスレーザ
発振装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59070783A JPS60214577A (ja) | 1984-04-11 | 1984-04-11 | ガスレ−ザ発振装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59070783A JPS60214577A (ja) | 1984-04-11 | 1984-04-11 | ガスレ−ザ発振装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60214577A true JPS60214577A (ja) | 1985-10-26 |
Family
ID=13441463
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59070783A Pending JPS60214577A (ja) | 1984-04-11 | 1984-04-11 | ガスレ−ザ発振装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60214577A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62136084A (ja) * | 1985-12-10 | 1987-06-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 炭酸ガスレ−ザ発振器 |
| WO1989000353A1 (fr) * | 1987-07-07 | 1989-01-12 | Fanuc Ltd | Laser a gaz |
| EP0328654B1 (en) * | 1987-07-07 | 1993-10-06 | Fanuc Ltd. | Gas laser |
| JP2010212551A (ja) * | 2009-03-12 | 2010-09-24 | Panasonic Corp | レーザ発振装置およびレーザ加工機 |
| CN103988378A (zh) * | 2012-05-18 | 2014-08-13 | 松下电器产业株式会社 | 激光振荡装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5729577A (en) * | 1980-07-30 | 1982-02-17 | Anelva Corp | Automatic continuous sputtering apparatus |
-
1984
- 1984-04-11 JP JP59070783A patent/JPS60214577A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5729577A (en) * | 1980-07-30 | 1982-02-17 | Anelva Corp | Automatic continuous sputtering apparatus |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62136084A (ja) * | 1985-12-10 | 1987-06-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 炭酸ガスレ−ザ発振器 |
| WO1989000353A1 (fr) * | 1987-07-07 | 1989-01-12 | Fanuc Ltd | Laser a gaz |
| JPS6412591A (en) * | 1987-07-07 | 1989-01-17 | Fanuc Ltd | Gas laser equipment |
| EP0328654B1 (en) * | 1987-07-07 | 1993-10-06 | Fanuc Ltd. | Gas laser |
| JP2010212551A (ja) * | 2009-03-12 | 2010-09-24 | Panasonic Corp | レーザ発振装置およびレーザ加工機 |
| CN103988378A (zh) * | 2012-05-18 | 2014-08-13 | 松下电器产业株式会社 | 激光振荡装置 |
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