JPS60222675A - 流体通過制御弁 - Google Patents
流体通過制御弁Info
- Publication number
- JPS60222675A JPS60222675A JP4409684A JP4409684A JPS60222675A JP S60222675 A JPS60222675 A JP S60222675A JP 4409684 A JP4409684 A JP 4409684A JP 4409684 A JP4409684 A JP 4409684A JP S60222675 A JPS60222675 A JP S60222675A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluid
- valve
- flow rate
- fluid passage
- passage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Magnetically Actuated Valves (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の技術分野]
本発明は、特に流体の流量を制御する流体通過制御弁に
関するものである。
関するものである。
[発明の技術的背11
第1図は、従来の流体通過制御弁の一例として電磁弁を
示したものである。第1図において、ベース本体1lS
1の内部には、区画13を介して流入通路5aと流出通
路5bとに区画された流体通路5が形成されており、前
記区画壁3には弁孔7が形成されている。ベース本体部
1の頂壁部1aには挿通孔9が穿設されており、この挿
通孔9に摺動自在にプランジャ11が挿入されている。
示したものである。第1図において、ベース本体1lS
1の内部には、区画13を介して流入通路5aと流出通
路5bとに区画された流体通路5が形成されており、前
記区画壁3には弁孔7が形成されている。ベース本体部
1の頂壁部1aには挿通孔9が穿設されており、この挿
通孔9に摺動自在にプランジャ11が挿入されている。
プランジャ11の下端部にはバネ受けフランジ13が設
けられており、このバネ受はフランジ13に圧縮変形自
在のスプリング15の下端が係合されている。そしてス
プリング15の上端はベース本体部1側の受け板17に
係止されている。
けられており、このバネ受はフランジ13に圧縮変形自
在のスプリング15の下端が係合されている。そしてス
プリング15の上端はベース本体部1側の受け板17に
係止されている。
前記プランジャ11の下端、すなわち、バネ受はフラン
ジ13の下方部には弁座19が装着されており、この弁
座19はスプリング15の付勢力で弁孔7に圧接されて
いる。一方、べ゛−ス本体部1の頂壁部1aには電磁手
段たる電磁コイル装置21が装着されて(>る。この電
磁コイル装@21はコイル枠体23内に円筒状のコイル
25を収容したものであり、このコイル25の中心孔の
下半部には前記プランジャ11の上半部が遊挿されてい
る。他方、この中心孔の上半部には鉄心27が前記プラ
ンジャ11と一定の間隙29を介して挿入されており、
この状態で鉄心27はコイル枠体23にネジ固定されて
いる。
ジ13の下方部には弁座19が装着されており、この弁
座19はスプリング15の付勢力で弁孔7に圧接されて
いる。一方、べ゛−ス本体部1の頂壁部1aには電磁手
段たる電磁コイル装置21が装着されて(>る。この電
磁コイル装@21はコイル枠体23内に円筒状のコイル
25を収容したものであり、このコイル25の中心孔の
下半部には前記プランジャ11の上半部が遊挿されてい
る。他方、この中心孔の上半部には鉄心27が前記プラ
ンジャ11と一定の間隙29を介して挿入されており、
この状態で鉄心27はコイル枠体23にネジ固定されて
いる。
上述した構成からなる従来装置は各種の配管系に組み込
まれ、所望の流量113111が行なわれる。すなわち
、コイル25に駆動電圧が印加されない状態にあっては
、プランジャ11はスプリング15によって下方に付勢
されることとなり、この付勢力によって弁座19が区画
壁3の弁孔7に圧接され、弁孔7は全開状態となる。し
たがって、流入通路5aから流出通路5bへの流体の流
れは完全に遮断される。
まれ、所望の流量113111が行なわれる。すなわち
、コイル25に駆動電圧が印加されない状態にあっては
、プランジャ11はスプリング15によって下方に付勢
されることとなり、この付勢力によって弁座19が区画
壁3の弁孔7に圧接され、弁孔7は全開状態となる。し
たがって、流入通路5aから流出通路5bへの流体の流
れは完全に遮断される。
これに対し、コイル25に駆動電圧が印加された場合に
は、鉄心27が励磁され、その電磁力によつ【、スプリ
ング15の付勢力に抗してプランジャ11が鉄心27に
吸着される。この結果、弁座19は間隙29に対応する
量だけ上方に移動され、弁孔7は全開状態となる。した
がって、この状態にあっては、流体が流入通路5aから
流出通路5bに流れることとなる。
は、鉄心27が励磁され、その電磁力によつ【、スプリ
ング15の付勢力に抗してプランジャ11が鉄心27に
吸着される。この結果、弁座19は間隙29に対応する
量だけ上方に移動され、弁孔7は全開状態となる。した
がって、この状態にあっては、流体が流入通路5aから
流出通路5bに流れることとなる。
このように、コイル25への電圧印加を制御することに
より適宜弁孔7の開閉制御が行われる。
より適宜弁孔7の開閉制御が行われる。
E背景技術の問題]
しかしながら、この種の従来装置においては、弁孔7の
全開と全開との二態様の制御機能しか有しないので、流
体通路5を流れる流量を適宜可変制御することができな
いという問題があった。
全開と全開との二態様の制御機能しか有しないので、流
体通路5を流れる流量を適宜可変制御することができな
いという問題があった。
このような不都合を解消するために、電磁吸引力とスプ
リング15の付勢力とのバランスをとり、弁座19の変
位農を制御して、弁孔7の一屁量を調節することで流量
可変制御を行うことL考えられる。しかし、このような
制御方式にあっては、大容量の流量可変制御ができない
という問題が生じる。すなわち、一般に、この種の装置
の弁孔7の面積は流体通路5の断面積にくらべて極めて
小さく、このため、弁孔7の開孔量を鯛御す為場合は弁
孔7を塞ぐかっこうで行われるので弁孔7の通路面積が
ますますせまくなり、したがって、大容量の流−が短時
間のうちに流れるのは困難となってしまうからである。
リング15の付勢力とのバランスをとり、弁座19の変
位農を制御して、弁孔7の一屁量を調節することで流量
可変制御を行うことL考えられる。しかし、このような
制御方式にあっては、大容量の流量可変制御ができない
という問題が生じる。すなわち、一般に、この種の装置
の弁孔7の面積は流体通路5の断面積にくらべて極めて
小さく、このため、弁孔7の開孔量を鯛御す為場合は弁
孔7を塞ぐかっこうで行われるので弁孔7の通路面積が
ますますせまくなり、したがって、大容量の流−が短時
間のうちに流れるのは困難となってしまうからである。
また、前記の如く、電磁吸引力とスプリング15の付勢
力とのバランスをとる方式にあっては、その両者のバラ
ンス状態時には、プランジャ11が空中に浮いた状態に
なっているため、何らかの原因で流体内に衝撃的な圧力
変動が発生した場合には、弁座19やプランジャ11が
周囲の部材に衝突して損傷あるいは装置故障をひき起こ
すという問題がある。
力とのバランスをとる方式にあっては、その両者のバラ
ンス状態時には、プランジャ11が空中に浮いた状態に
なっているため、何らかの原因で流体内に衝撃的な圧力
変動が発生した場合には、弁座19やプランジャ11が
周囲の部材に衝突して損傷あるいは装置故障をひき起こ
すという問題がある。
(発明の目的]
本発明は、前述した問題7点に鑑みなされたものであり
、その目的は、流体内の衝撃的な圧力変動の発生に関係
なく、流体の断続制御および大流最の流量可変制御を安
定して行うことができる流体通過制御弁を提供すること
にある。
、その目的は、流体内の衝撃的な圧力変動の発生に関係
なく、流体の断続制御および大流最の流量可変制御を安
定して行うことができる流体通過制御弁を提供すること
にある。
[発明の概要]
上記目的を達成するために、本発明に係る流体通過制御
弁は、ベース本体に設けられ当該ベース本体に形成され
た流入通路と流出通路とからなる流体通路を遮断または
遮断解除づる流体通過制御手段と、前記ベース本体に設
けられ当該流体通路に進退して通路断面積を可変する流
体量制御手段とを有する構成としたことを要旨とする。
弁は、ベース本体に設けられ当該ベース本体に形成され
た流入通路と流出通路とからなる流体通路を遮断または
遮断解除づる流体通過制御手段と、前記ベース本体に設
けられ当該流体通路に進退して通路断面積を可変する流
体量制御手段とを有する構成としたことを要旨とする。
[発明の実施例]
以下、本発明の一実施例を図面にもとづい−C説明する
。なお、その説明において、従来装置と同一部材には同
一符号を付して、その説明を省略する。
。なお、その説明において、従来装置と同一部材には同
一符号を付して、その説明を省略する。
第2図には本発明を電磁弁に適用した場合の一実施例の
構成が示されている。第2図において、 、ベース本体
部1の底壁部1bには、弁座19と対□ 向する位置にガイド孔31が穿設されており、このガイ
ド孔31には弁棒33の先端部が摺動自在 1゛ に挿入されている。そして、弁棒33の先端は、 ゛パ
第4図に示す如く、流体が通過し易いように円錐形状に
形成されていする。弁棒33の基端部は該弁 □棒33
を流体通路5内に進退操作するための手動操作部になっ
ている。なお、前記進退操作を自動で行うための弁棒制
御手段を設けることも可能であり、例えば第3図に示す
ように、電磁弁本体25と同一配管系に配置され流量に
応じた発信信号を出力する流量発振器37と、発振信号
にもとづいて弁棒33の進退制御信号を出力する制御回
路39とにより前記制御手段を構成することが可能であ
る。
構成が示されている。第2図において、 、ベース本体
部1の底壁部1bには、弁座19と対□ 向する位置にガイド孔31が穿設されており、このガイ
ド孔31には弁棒33の先端部が摺動自在 1゛ に挿入されている。そして、弁棒33の先端は、 ゛パ
第4図に示す如く、流体が通過し易いように円錐形状に
形成されていする。弁棒33の基端部は該弁 □棒33
を流体通路5内に進退操作するための手動操作部になっ
ている。なお、前記進退操作を自動で行うための弁棒制
御手段を設けることも可能であり、例えば第3図に示す
ように、電磁弁本体25と同一配管系に配置され流量に
応じた発信信号を出力する流量発振器37と、発振信号
にもとづいて弁棒33の進退制御信号を出力する制御回
路39とにより前記制御手段を構成することが可能であ
る。
本発明の一実施例は以上の構成からなり、以下にその作
用を説明する。
用を説明する。
第2図は、弁孔7が弁座19によって開鎖されている状
態が示されている。この状態において、コイル25に電
圧を印加することにより、プランジャ11が鉄心27に
吸着され弁孔7が全開状態となることは従来装置と同様
であり、したがっτ、コイル25への電圧供給をオン・
オフ制御することにより流体の流れを断続制御すること
ができる。
態が示されている。この状態において、コイル25に電
圧を印加することにより、プランジャ11が鉄心27に
吸着され弁孔7が全開状態となることは従来装置と同様
であり、したがっτ、コイル25への電圧供給をオン・
オフ制御することにより流体の流れを断続制御すること
ができる。
そして、流量可変制御を行う場合は、コイル25へ電圧
を印加して弁孔7を全開状態に継続維持した状態で、手
動操作により、あるいは自動の制御手段を作動して弁棒
33の流体通路5への進退量を制御すればよい。すなわ
ち、弁棒33の流体通路5への進入量を大きくすること
によって該流体通路5の通路断面積が小さくなり流量は
減少する。これに対し、進入量を小さくづることによっ
て通路断面積が大きくなり流量は大きくなる。
を印加して弁孔7を全開状態に継続維持した状態で、手
動操作により、あるいは自動の制御手段を作動して弁棒
33の流体通路5への進退量を制御すればよい。すなわ
ち、弁棒33の流体通路5への進入量を大きくすること
によって該流体通路5の通路断面積が小さくなり流量は
減少する。これに対し、進入量を小さくづることによっ
て通路断面積が大きくなり流量は大きくなる。
このように、弁棒33の進退量を制御することによって
、流体通路5を流れる流量を適宜調節できる。そして、
この場合において、この流量可変制御は、弁孔7が全開
状態にされたまま行われるため、大容量の流量可変制御
が可能となるものである。なお、この流量制御を第3図
に示すように遠隔操作により行う場合には、弁棒33の
進退を流量発振器からの発信信号と制御回路39からの
制御信号とに基づいて行うこととなる。
、流体通路5を流れる流量を適宜調節できる。そして、
この場合において、この流量可変制御は、弁孔7が全開
状態にされたまま行われるため、大容量の流量可変制御
が可能となるものである。なお、この流量制御を第3図
に示すように遠隔操作により行う場合には、弁棒33の
進退を流量発振器からの発信信号と制御回路39からの
制御信号とに基づいて行うこととなる。
また、この流量制御において、弁棒33の進退動作は、
弁棒33がガイド孔31のガイド壁に支持された状態で
行われるため、たとえ流体内に衝撃的な圧力変動が生じ
ても弁棒33が他の部材に衝突することがなく、またプ
ランジャ11も浮いた状態でなく鉄心27に吸着固定さ
れた状態にあるため衝撃圧によってプランジャ11が他
の部材に衝突するということがなく、したがって、装置
の損傷や故障発生に起因する弊害を効果的に回避できる
。
弁棒33がガイド孔31のガイド壁に支持された状態で
行われるため、たとえ流体内に衝撃的な圧力変動が生じ
ても弁棒33が他の部材に衝突することがなく、またプ
ランジャ11も浮いた状態でなく鉄心27に吸着固定さ
れた状態にあるため衝撃圧によってプランジャ11が他
の部材に衝突するということがなく、したがって、装置
の損傷や故障発生に起因する弊害を効果的に回避できる
。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明に係る流体通過制御弁は、
ベース本体に設けられ当該ベース本体に形成された流入
通路と流出通路とからなる流体通路を遮断または遮断解
除することで当該通路の流体通過を制御する手段と、前
記ベース本体に設けられ当該流体通路に進退して通路断
面積を可変する手段とを有する構成としたので、流量の
断続制御ばかりでなく、大容量の流量可変制御も効果的
に行うことができる。また、流量可変制御中に何らかの
原因でたとえ流体内に衝撃的な圧力変動が生じたとして
も、装置部劇の損傷や装置の故障にもとづく弊害を確実
に防止することが可能である。
ベース本体に設けられ当該ベース本体に形成された流入
通路と流出通路とからなる流体通路を遮断または遮断解
除することで当該通路の流体通過を制御する手段と、前
記ベース本体に設けられ当該流体通路に進退して通路断
面積を可変する手段とを有する構成としたので、流量の
断続制御ばかりでなく、大容量の流量可変制御も効果的
に行うことができる。また、流量可変制御中に何らかの
原因でたとえ流体内に衝撃的な圧力変動が生じたとして
も、装置部劇の損傷や装置の故障にもとづく弊害を確実
に防止することが可能である。
第1図は従来の流体通過制御弁の一例として示した電磁
弁を示す断面図、第2図は本発明を電磁弁に適用した場
合の要部断面図、第3図は遠隔制御による弁棒制御手段
の一例を示すブロック図、第4図は第2図の流量調節部
の拡大説明図である。 1・・・ベース本体部 3・・・区画壁5・・・流体通
路 5a・・・流入通路5b・・・流出通路 7・・・
弁孔 19・・・弁座 25・・・コイル 33・・・弁棒 職(l禾2y 第1図 第2図 第3図 第4図
弁を示す断面図、第2図は本発明を電磁弁に適用した場
合の要部断面図、第3図は遠隔制御による弁棒制御手段
の一例を示すブロック図、第4図は第2図の流量調節部
の拡大説明図である。 1・・・ベース本体部 3・・・区画壁5・・・流体通
路 5a・・・流入通路5b・・・流出通路 7・・・
弁孔 19・・・弁座 25・・・コイル 33・・・弁棒 職(l禾2y 第1図 第2図 第3図 第4図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 0) ベース本体に設けられ当該ベース本体に形成され
た流入通路と流出通路とを有する流体通路を遮断または
遮断解除する流体通過wU一手段と、前記ベース本体に
設けられ当該流体通路に進退して通路断面積を可変する
流体量制御手段とを有することを特徴とする流体通過制
御弁。 (2) 前記流体通過制御手段が、電磁手段によって遮
断または遮断解除せしめられることを特徴とする特許請
求の範囲第1項に記載の流体通過制御弁。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4409684A JPS60222675A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | 流体通過制御弁 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4409684A JPS60222675A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | 流体通過制御弁 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60222675A true JPS60222675A (ja) | 1985-11-07 |
Family
ID=12682084
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4409684A Pending JPS60222675A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | 流体通過制御弁 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60222675A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4931011U (ja) * | 1972-06-21 | 1974-03-18 | ||
| JPS5616205B2 (ja) * | 1973-07-31 | 1981-04-15 |
-
1984
- 1984-03-09 JP JP4409684A patent/JPS60222675A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4931011U (ja) * | 1972-06-21 | 1974-03-18 | ||
| JPS5616205B2 (ja) * | 1973-07-31 | 1981-04-15 |
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