JPS6022503B2 - 集積回路 - Google Patents
集積回路Info
- Publication number
- JPS6022503B2 JPS6022503B2 JP51011989A JP1198976A JPS6022503B2 JP S6022503 B2 JPS6022503 B2 JP S6022503B2 JP 51011989 A JP51011989 A JP 51011989A JP 1198976 A JP1198976 A JP 1198976A JP S6022503 B2 JPS6022503 B2 JP S6022503B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- charge pump
- integrated circuit
- pump type
- regions
- elements
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 2
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 2
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は絶縁ゲート型電界効果半導体装置を用いた集
積回路に関する。
積回路に関する。
絶縁ゲート型電界効果トランジスタ(肌Sトランジスタ
)、絶縁ゲート型ダイオード(MISダイオード)およ
びチャージポンプ型素子を用いた集積回路は高密度、大
寒積化によって動作特性向上を実現することができる。
)、絶縁ゲート型ダイオード(MISダイオード)およ
びチャージポンプ型素子を用いた集積回路は高密度、大
寒積化によって動作特性向上を実現することができる。
とくに、チャージポンプ型素子を負荷素子として用いた
ィンバータ回路を複数個有する集積回路は、負荷素子の
素子占有面積が小であるため高密度化に箸るしい利点を
もたらす。この発明の目的は、既知のものよりも更に高
密度化を実現しより高速動作の可能な集積回路を提供す
ることにある。
ィンバータ回路を複数個有する集積回路は、負荷素子の
素子占有面積が小であるため高密度化に箸るしい利点を
もたらす。この発明の目的は、既知のものよりも更に高
密度化を実現しより高速動作の可能な集積回路を提供す
ることにある。
この発明の集積回路は、チャージポンプ型素子をそれぞ
れの負荷として有する複数のィンバータ回路を備え、且
つ少くとも2個の前記チャージポンプ型素子の反転領域
が共通であることを特徴とする。
れの負荷として有する複数のィンバータ回路を備え、且
つ少くとも2個の前記チャージポンプ型素子の反転領域
が共通であることを特徴とする。
この発明の集積回路は、複数のチャージポンプ型素子の
動作において、個々の出力領域に比較して電荷を半導体
に再結合する反転領域を共用することができると云う新
規な発見に基ずき、反転領域の共用により無効面積を除
去して高密度集積を実現するものである。
動作において、個々の出力領域に比較して電荷を半導体
に再結合する反転領域を共用することができると云う新
規な発見に基ずき、反転領域の共用により無効面積を除
去して高密度集積を実現するものである。
集積回路は無効面積の減少により配線に対する寄生容量
を低下するため、この発明によ机ま小電力で高速動作を
得る集積回路が得られる。次にこの発明の特徴をより良
く理解するために実施例につき図を用いて説明する。
を低下するため、この発明によ机ま小電力で高速動作を
得る集積回路が得られる。次にこの発明の特徴をより良
く理解するために実施例につき図を用いて説明する。
第1図Aおよび第1図Bは従来の集積回路の回路図とパ
ターン平面図である。
ターン平面図である。
この従来例によれば、チャージポンプ型素子CP,,C
P2をそれぞれ負荷素子とする駆動用のMISトランジ
スタQ.,Q2を用いたィンバータ回路を互いに帰還し
てフリップフロップ回路を構成している。チャージポン
プ型素子CP,,CP2の出力領域11,12はそれぞ
れMSトランジスタQ,,Q2のドレイン領域となる拡
散領域である。チャージポンプ型素子CP,,CP2は
クロック信号線ぐの直下の半導体表面に反転領域を有し
、ここでの電荷再結合により電流源負荷として動作する
。クロック信号線◇の直下には他のチャージポンプ型素
子CP3,CP4の反転領域も個別に形成されている。
この従来例では同一信号線めで駆動されるチャージポン
プ型素子の反転領域が個々に設けられ、互いの電気的分
離のために素子間の距離を含ませてある。
P2をそれぞれ負荷素子とする駆動用のMISトランジ
スタQ.,Q2を用いたィンバータ回路を互いに帰還し
てフリップフロップ回路を構成している。チャージポン
プ型素子CP,,CP2の出力領域11,12はそれぞ
れMSトランジスタQ,,Q2のドレイン領域となる拡
散領域である。チャージポンプ型素子CP,,CP2は
クロック信号線ぐの直下の半導体表面に反転領域を有し
、ここでの電荷再結合により電流源負荷として動作する
。クロック信号線◇の直下には他のチャージポンプ型素
子CP3,CP4の反転領域も個別に形成されている。
この従来例では同一信号線めで駆動されるチャージポン
プ型素子の反転領域が個々に設けられ、互いの電気的分
離のために素子間の距離を含ませてある。
第2図はこの発明の一実施例の断面図である。
この実施例は比抵抗100一伽のP型シリコン単綾晶基
体201の一主表面の活性領域に2個のMISトランジ
スタQ,Q4と2個のチャージポンプ型素子CP5,C
P5を有する集積回路である。不活性領域の基体表面に
は寄生効果を抑えるための表面ボロン濃度2×1ぴ6伽
‐3のP型領域202と1.0ム程度の厚いシリコン酸
化膜203が設けられている。基体201の裏面には基
体電極204がオーミック接触する。トランジスタQ3
はN型領域205,206をソース、ドレィン領域とし
、これらの領域間の基体表面に800Aの薄いシリコン
酸化膜207とその上面のゲート電極208から成る。
体201の一主表面の活性領域に2個のMISトランジ
スタQ,Q4と2個のチャージポンプ型素子CP5,C
P5を有する集積回路である。不活性領域の基体表面に
は寄生効果を抑えるための表面ボロン濃度2×1ぴ6伽
‐3のP型領域202と1.0ム程度の厚いシリコン酸
化膜203が設けられている。基体201の裏面には基
体電極204がオーミック接触する。トランジスタQ3
はN型領域205,206をソース、ドレィン領域とし
、これらの領域間の基体表面に800Aの薄いシリコン
酸化膜207とその上面のゲート電極208から成る。
同様にトランジスタQ4は基体201の表面にN型領域
209,210とその間の基体上へのシリコン酸化膜2
11とゲート電極212を有する。チャージポンプ型素
子CP5,CP6はトランジスタQ3,Q4の一方のN
型領域206,210をそれぞれ出力領域とし、これら
の領域間の基体表面に100Aのシリコン酸化膜213
を熱酸化成長し、さらに駆動信号を受けるゲート電極2
14を有する。
209,210とその間の基体上へのシリコン酸化膜2
11とゲート電極212を有する。チャージポンプ型素
子CP5,CP6はトランジスタQ3,Q4の一方のN
型領域206,210をそれぞれ出力領域とし、これら
の領域間の基体表面に100Aのシリコン酸化膜213
を熱酸化成長し、さらに駆動信号を受けるゲート電極2
14を有する。
又、これらの素子の電荷再結合を行う反転領域は、チャ
−ジポンプ効果を高めるため表面ボロン濃度1×1ぴ6
仇‐3の高濃度のP型領域215を有する。又、チャー
ジポンプ型素子CP5,CP6は出力領域となるN型領
域206,210をそれぞれ有するが、ゲート構造は共
用する。チャージポンプ型素子CP5,CP6はゲート
電極214に駆動信号を与えることによりN型領域20
6,210から反転領域表面に電荷を議出し反転領域中
で再結合により消失する。この実施例では反転領域が共
用されているが、それぞれのチヤージポンプ効果は確実
で且つ占有面積が小であり、各トランジスタQ3,Q4
と共に高密度の集積回路を形成する。第3図Aおよび第
3図Bはこの発明の他の実施例の回路図および平面図で
ある。
−ジポンプ効果を高めるため表面ボロン濃度1×1ぴ6
仇‐3の高濃度のP型領域215を有する。又、チャー
ジポンプ型素子CP5,CP6は出力領域となるN型領
域206,210をそれぞれ有するが、ゲート構造は共
用する。チャージポンプ型素子CP5,CP6はゲート
電極214に駆動信号を与えることによりN型領域20
6,210から反転領域表面に電荷を議出し反転領域中
で再結合により消失する。この実施例では反転領域が共
用されているが、それぞれのチヤージポンプ効果は確実
で且つ占有面積が小であり、各トランジスタQ3,Q4
と共に高密度の集積回路を形成する。第3図Aおよび第
3図Bはこの発明の他の実施例の回路図および平面図で
ある。
この実施例はチャージポンプ素子CPの群を負荷とし、
出力領域の2個を駆動用のMISトランジスタQ,Q6
のドレィン領域にそれぞれ結合し、トランジスタは,Q
の互いに他のドレィン領域とゲート電極とを結合したフ
リツプ.フロップ回路である。チャージポンプ型素子C
Pは4個の出力領域を有し、ゲート構造を共用する実質
的に4個のチャージポンプ型素子から成る。第3図Bに
示すようにチャージポンプ型素子CPは出力領域301
,302,303,304を有し、共通の駆動信号線?
となるゲート電極305と直下の共通の反転領域を有す
る。即ち、ほゞ同一の電流源負荷として動作する第1図
Bもこ示した従来の素子に比較して占有面積を1/2に
減少することができ、高密度化、小電力化、動作特性の
向上を実現する。上にこの発明の実施例を説明したが、
実施例は必要に応じて材料、導電型、形状を変更し得る
。
出力領域の2個を駆動用のMISトランジスタQ,Q6
のドレィン領域にそれぞれ結合し、トランジスタは,Q
の互いに他のドレィン領域とゲート電極とを結合したフ
リツプ.フロップ回路である。チャージポンプ型素子C
Pは4個の出力領域を有し、ゲート構造を共用する実質
的に4個のチャージポンプ型素子から成る。第3図Bに
示すようにチャージポンプ型素子CPは出力領域301
,302,303,304を有し、共通の駆動信号線?
となるゲート電極305と直下の共通の反転領域を有す
る。即ち、ほゞ同一の電流源負荷として動作する第1図
Bもこ示した従来の素子に比較して占有面積を1/2に
減少することができ、高密度化、小電力化、動作特性の
向上を実現する。上にこの発明の実施例を説明したが、
実施例は必要に応じて材料、導電型、形状を変更し得る
。
第1図Aおよび第1図Bは従来の集積回路の回略図と平
面図、第2図はこの発明の一実施例の断面図、第3図A
および第3図Bはこの発明の他の実施例の回路図と平面
図である。 図中、CP,CP,,CP2,CP3,CP4,CP5
,CP6はチヤージポンプ型素子、Q,,Q2,Q,Q
,Q5,Q6はMISトランジスタ、Jは駆動信号線で
ある。箱 ′ 図 ′8」 第2図 弟 ’図 の) 弟 3 図 ′4) 弟 3 図 ′8)
面図、第2図はこの発明の一実施例の断面図、第3図A
および第3図Bはこの発明の他の実施例の回路図と平面
図である。 図中、CP,CP,,CP2,CP3,CP4,CP5
,CP6はチヤージポンプ型素子、Q,,Q2,Q,Q
,Q5,Q6はMISトランジスタ、Jは駆動信号線で
ある。箱 ′ 図 ′8」 第2図 弟 ’図 の) 弟 3 図 ′4) 弟 3 図 ′8)
Claims (1)
- 1 複数のチヤージポンプ型素子を有する集積回路にお
いて、少なくとも2個の前記チヤージポンプ型素子の反
転領域が同一の活性領域を共有して形成されていること
を特徴とする集積回路。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51011989A JPS6022503B2 (ja) | 1976-02-05 | 1976-02-05 | 集積回路 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51011989A JPS6022503B2 (ja) | 1976-02-05 | 1976-02-05 | 集積回路 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5294783A JPS5294783A (en) | 1977-08-09 |
| JPS6022503B2 true JPS6022503B2 (ja) | 1985-06-03 |
Family
ID=11792985
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51011989A Expired JPS6022503B2 (ja) | 1976-02-05 | 1976-02-05 | 集積回路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6022503B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6255601U (ja) * | 1985-09-19 | 1987-04-07 | ||
| JPH0179604U (ja) * | 1987-11-18 | 1989-05-29 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5885561A (ja) * | 1981-11-16 | 1983-05-21 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体集積回路装置 |
-
1976
- 1976-02-05 JP JP51011989A patent/JPS6022503B2/ja not_active Expired
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6255601U (ja) * | 1985-09-19 | 1987-04-07 | ||
| JPH0179604U (ja) * | 1987-11-18 | 1989-05-29 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5294783A (en) | 1977-08-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| GB1401158A (en) | Monolithic semiconductor structure | |
| US4220961A (en) | Monolithic combination of two complementary bipolar transistors | |
| JPS63253664A (ja) | バイポ−ラトランジスタ | |
| US5442219A (en) | Semiconductor device for controlling electric power | |
| JPS6319845A (ja) | 複合半導体装置 | |
| GB1360578A (en) | Semiconductor integrated circuits | |
| JPH0722182B2 (ja) | 相補形半導体装置 | |
| JPS6353972A (ja) | 複合半導体装置 | |
| JP2712448B2 (ja) | 半導体装置 | |
| JPS5845827B2 (ja) | 半導体集積回路 | |
| JPS5832505B2 (ja) | 半導体集積回路 | |
| JPH01282924A (ja) | トライステートインバータ及びそれを用いたフリップフロップ | |
| JPH05160409A (ja) | 半導体装置 | |
| JPS61263257A (ja) | 半導体装置 | |
| JPH0766965B2 (ja) | 半導体装置とその製造方法 | |
| JP3071819B2 (ja) | 絶縁ゲート型半導体装置 | |
| JP2536013B2 (ja) | 半導体装置 | |
| JPS59139666A (ja) | 半導体装置 | |
| JPS60154671A (ja) | 半導体装置 | |
| JPS5853509B2 (ja) | 半導体装置 | |
| JPS632365A (ja) | 半導体集積回路の製造方法 | |
| JPH0337314B2 (ja) | ||
| JPS5972772A (ja) | 半導体装置 | |
| JPS6132824B2 (ja) | ||
| JPH0367347B2 (ja) |