JPS60226043A - 情報記録担体の複製用原盤の製造装置 - Google Patents
情報記録担体の複製用原盤の製造装置Info
- Publication number
- JPS60226043A JPS60226043A JP59084303A JP8430384A JPS60226043A JP S60226043 A JPS60226043 A JP S60226043A JP 59084303 A JP59084303 A JP 59084303A JP 8430384 A JP8430384 A JP 8430384A JP S60226043 A JPS60226043 A JP S60226043A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photoresist
- master
- information recording
- nozzle
- master disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0057—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0064—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture mediums or carriers characterised by the selection of the material
- G11B23/0085—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture mediums or carriers characterised by the selection of the material intermediate mediums using a photosensitive material, e.g. photo-resist
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ビデオディスク、デジタルオーディオディス
ク、光メモリ−ディスク、光磁気ディスク等の情報記録
担体の複製に必要とする複製用原盤の製造装置に関する
ものである。
ク、光メモリ−ディスク、光磁気ディスク等の情報記録
担体の複製に必要とする複製用原盤の製造装置に関する
ものである。
従来例の構成とその問題点
従来、上記情報記録担体の複製用原盤は次の様にして製
造される。平坦で滑かな表面をもつガラス円板を、まず
光学研磨を行い、表面の微細な傷や付着物を除去する。
造される。平坦で滑かな表面をもつガラス円板を、まず
光学研磨を行い、表面の微細な傷や付着物を除去する。
次に、ガラス板を超音波洗浄、有機溶剤による洗浄を行
い、フレオンの蒸気乾燥を行なった後次工程に送られる
。記録材料の密着強化剤としては、有機系のプライマー
材（シランカップリング剤）をスピン塗布もしくはクロ
ム等の金属膜を蒸着する。次に記録材料であるホトレジ
ストをスピン塗布し乾燥させる。ここでスピン回転数と
ホトレジスト溶液の濃度を選択することによシ乾燥後の
ホトレジストの膜厚を数１００人ないし数１０００人の
範囲で任意に設定することができる。
い、フレオンの蒸気乾燥を行なった後次工程に送られる
。記録材料の密着強化剤としては、有機系のプライマー
材（シランカップリング剤）をスピン塗布もしくはクロ
ム等の金属膜を蒸着する。次に記録材料であるホトレジ
ストをスピン塗布し乾燥させる。ここでスピン回転数と
ホトレジスト溶液の濃度を選択することによシ乾燥後の
ホトレジストの膜厚を数１００人ないし数１０００人の
範囲で任意に設定することができる。
この様にして作られたガラス原盤を回転させ、ホトレジ
ストを感光させ得る波長領域の発振波長をもつレーザー
光源、例えばＨｅ −Ｃｄレーザー【λ＝４４１６人）
、Ａｒ ｖ−ザー（λ＝４５７９人）、をレンズ系に
よって収束しガラス原盤上のホトレジスト層に照射する
。一方、この光源は信号によって０Ｎ−ＯＦＦされるの
で、信号に応じてホトレジストに光が照射される。一般
にガラス原盤上に塗布されるホトレジストは、解像度及
び信号形状からポジ型レジストが用いられる。
ストを感光させ得る波長領域の発振波長をもつレーザー
光源、例えばＨｅ −Ｃｄレーザー【λ＝４４１６人）
、Ａｒ ｖ−ザー（λ＝４５７９人）、をレンズ系に
よって収束しガラス原盤上のホトレジスト層に照射する
。一方、この光源は信号によって０Ｎ−ＯＦＦされるの
で、信号に応じてホトレジストに光が照射される。一般
にガラス原盤上に塗布されるホトレジストは、解像度及
び信号形状からポジ型レジストが用いられる。
次に、露光が終ったガラス原盤は現像工程へ送られ現像
される。ポジ型レジストの場合は露光された部分が可溶
性となシ、ホトレジストが除去される。ホトレジスト層
の除去される部分が厚み方向に完全になる条件すなわち
、ガラス表面が完全に露出する条件を選ぶことにより、
形成される凹部の深さあるいは、凸部の高さをホトレジ
スト層の厚さと等しくすることができる。
される。ポジ型レジストの場合は露光された部分が可溶
性となシ、ホトレジストが除去される。ホトレジスト層
の除去される部分が厚み方向に完全になる条件すなわち
、ガラス表面が完全に露出する条件を選ぶことにより、
形成される凹部の深さあるいは、凸部の高さをホトレジ
スト層の厚さと等しくすることができる。
この様にして作られた凹凸状のレジスト原盤は次にディ
スクの複製工程に必要な金属（スタンパ）の製作工程に
送られる。スタンパ作製の方法は、原理的には通常のオ
ーディオレコードと同じであるが、記録密度や完成ディ
スクの機械精度の点で大きな差があり、それ相応の配慮
が必要である。
スクの複製工程に必要な金属（スタンパ）の製作工程に
送られる。スタンパ作製の方法は、原理的には通常のオ
ーディオレコードと同じであるが、記録密度や完成ディ
スクの機械精度の点で大きな差があり、それ相応の配慮
が必要である。
レジスト原盤の表面は不導体であるので、電鋳を行うた
めには表面を導体化する必要がある。導体化する方法と
しては古くから行なわれている銀の無電解めっき（銀鏡
法）とニッケルの無電解めっき法等、又は真空中での金
属（銀、ニッケ／Ｌ／）の蒸着もしくは、スパッタリン
グの方法が使われている。この導体化された表面をマイ
ナス電極として、また陽極としてニッケルチップを用い
てスルファミン酸ニッケル浴中で電気を通電させると、
原盤上にニッケル金属が析出して電鋳を行なうことがで
きる。ニッケルの厚みを３００μ程度に設定し、この厚
みに到達したものをガラス原盤からはがし取り、表面の
ホトレジストを除去、洗浄しタモのをニッケルマスクと
呼んでいる。
めには表面を導体化する必要がある。導体化する方法と
しては古くから行なわれている銀の無電解めっき（銀鏡
法）とニッケルの無電解めっき法等、又は真空中での金
属（銀、ニッケ／Ｌ／）の蒸着もしくは、スパッタリン
グの方法が使われている。この導体化された表面をマイ
ナス電極として、また陽極としてニッケルチップを用い
てスルファミン酸ニッケル浴中で電気を通電させると、
原盤上にニッケル金属が析出して電鋳を行なうことがで
きる。ニッケルの厚みを３００μ程度に設定し、この厚
みに到達したものをガラス原盤からはがし取り、表面の
ホトレジストを除去、洗浄しタモのをニッケルマスクと
呼んでいる。
以上の様にしヤ、ニッケルマスクにガラス原盤の凹凸パ
ターンを写しとることができる。又、マスク、マザー、
スタンパと転写するには、表面に重クロム酸カリ溶液等
の浸積による剥離処理を行い、マスタを母体としてマザ
ーをニッケル電鋳する。同様にして、マザーを母体にし
てスタンパをニッケル電鋳し製作する。以上の様にして
情報記録担体の複製原盤が製作される。
ターンを写しとることができる。又、マスク、マザー、
スタンパと転写するには、表面に重クロム酸カリ溶液等
の浸積による剥離処理を行い、マスタを母体としてマザ
ーをニッケル電鋳する。同様にして、マザーを母体にし
てスタンパをニッケル電鋳し製作する。以上の様にして
情報記録担体の複製原盤が製作される。
ホトレジスト塗布方法については、従来、上記したスピ
ン塗布法以外にも、ロールコータ−法、ディピッフグ法
等があるが、ホトレジストの膜厚が数１００人から数１
０００人を要求される光学式記録原盤においてはスピン
塗布法が有利である。
ン塗布法以外にも、ロールコータ−法、ディピッフグ法
等があるが、ホトレジストの膜厚が数１００人から数１
０００人を要求される光学式記録原盤においてはスピン
塗布法が有利である。
このスピン塗布法はガラス原盤等の表面が平坦な円板状
原盤をターンテーブル上で回転させ、ノズルよりホトレ
ジストを滴下しながら、ノズル付アームを原盤の内周付
近より外周方向へ移動させていくものである。
原盤をターンテーブル上で回転させ、ノズルよりホトレ
ジストを滴下しながら、ノズル付アームを原盤の内周付
近より外周方向へ移動させていくものである。
第１図は従来から知られている情報記録担体の複製用原
盤を作成する時に使用される感光剤のスピン塗布の一例
である。ここでホトレジストとは米国シラプレー社のＡ
２１３５０等をいう。ガラス原盤１の乗ったターンテー
プ／Ｌ／２を数十から数百ｒｐｍで回転させながら、ア
ーム付ノズルをガラス原盤の中心付近から外周方向に向
って移動、かつホトレジストを滴下するものである。こ
のためホトレジストはスパイラル状に塗布され内周から
φ１５０ぐらい壕では均一に塗布されるがφ１５０を越
えるもの、たとえば通常の情報記録担体の複製用原盤を
作成するためのガラス原盤の代表的な形状は、直径３５
０ Ｎｈから４００３１１Ｂ、厚さが６ｕから１ｏｗＩ
Ｌ程度である。このため外周部分では、周速度が速くな
るために塗布面積が増えるのと同じことになり、ホトレ
ジストが充分に広がらず、又、ホトレジストの粘度が高
いことも重ってホトレジスト膜の塗布カケを生じる。こ
の塗布カケの防止としてホトレジストの量を多くして、
かつノズルアームの移動を遅くして滴下塗布することが
考えられるが、この方法では滴下時間が長くなり、途中
で異物の混入、ホコリ等の付着の原因となる。
盤を作成する時に使用される感光剤のスピン塗布の一例
である。ここでホトレジストとは米国シラプレー社のＡ
２１３５０等をいう。ガラス原盤１の乗ったターンテー
プ／Ｌ／２を数十から数百ｒｐｍで回転させながら、ア
ーム付ノズルをガラス原盤の中心付近から外周方向に向
って移動、かつホトレジストを滴下するものである。こ
のためホトレジストはスパイラル状に塗布され内周から
φ１５０ぐらい壕では均一に塗布されるがφ１５０を越
えるもの、たとえば通常の情報記録担体の複製用原盤を
作成するためのガラス原盤の代表的な形状は、直径３５
０ Ｎｈから４００３１１Ｂ、厚さが６ｕから１ｏｗＩ
Ｌ程度である。このため外周部分では、周速度が速くな
るために塗布面積が増えるのと同じことになり、ホトレ
ジストが充分に広がらず、又、ホトレジストの粘度が高
いことも重ってホトレジスト膜の塗布カケを生じる。こ
の塗布カケの防止としてホトレジストの量を多くして、
かつノズルアームの移動を遅くして滴下塗布することが
考えられるが、この方法では滴下時間が長くなり、途中
で異物の混入、ホコリ等の付着の原因となる。
同じく塗布カケ防止として、ホトレジストをガラス原盤
全面に塗布せずに内周から中周付近で滴下塗布を完了し
、その後に急峻な立上りでスピンしホトレジストを全面
に広がらせる方法もあるが、ホトレジストが急激に外周
方向へ流れる事によりホトレジストの飛沫が散乱し、ガ
ラス原盤上に再付着しホトレジスト膜の欠陥になるとい
う事態が生じていた。
全面に塗布せずに内周から中周付近で滴下塗布を完了し
、その後に急峻な立上りでスピンしホトレジストを全面
に広がらせる方法もあるが、ホトレジストが急激に外周
方向へ流れる事によりホトレジストの飛沫が散乱し、ガ
ラス原盤上に再付着しホトレジスト膜の欠陥になるとい
う事態が生じていた。
発明の目的
本発明の目的は、φ１５０１０００ガラス原盤にホトレ
ジスト 陥が少なく歩留りの良いホトレジスト原盤を作成し、高
品質の情報記録担体の複製用原盤を提供することにある
。
ジスト 陥が少なく歩留りの良いホトレジスト原盤を作成し、高
品質の情報記録担体の複製用原盤を提供することにある
。
発明の構成
本発明者は、上記従来の問題点を種々検討したところ、
ホトレジストの滴下ノズルを間隔を置いて２ケ所以上設
置し、各々のノズルについてホトレジストの流量をコン
トロールする事により、かかる問題を一挙に解決できる
ことを見出して、本発明を完成するに至った。
ホトレジストの滴下ノズルを間隔を置いて２ケ所以上設
置し、各々のノズルについてホトレジストの流量をコン
トロールする事により、かかる問題を一挙に解決できる
ことを見出して、本発明を完成するに至った。
実施例の説明
第２図は本発明の構成図であシ、ノズ／Ｌ／３及びノズ
／１．’ ３／には、それぞれ同一タンクからホトレジ
ストが供給される。ノズ）Ｖ３，３’から滴下され流量
は内周側のノズル３が１とすると、外周側のノズ／Ｌ／
３′は１．６から４．０倍の流量で滴下することにより
、外周部の塗布面積の増大分をカバーしている。アーム
４とアーム４′は同時に外周方向に滴下移動するが、移
動距離としては、ノズルが２カ所の場合は従来法の半分
で済むし、又滴下時間も半分に短縮できる。
／１．’ ３／には、それぞれ同一タンクからホトレジ
ストが供給される。ノズ）Ｖ３，３’から滴下され流量
は内周側のノズル３が１とすると、外周側のノズ／Ｌ／
３′は１．６から４．０倍の流量で滴下することにより
、外周部の塗布面積の増大分をカバーしている。アーム
４とアーム４′は同時に外周方向に滴下移動するが、移
動距離としては、ノズルが２カ所の場合は従来法の半分
で済むし、又滴下時間も半分に短縮できる。
第３図はアームが１本でノズ／Ｌ／３とノズ／Ｉ／３′
の間にホトレジストの逆流及び空気が浸入しない様に逆
止弁６を付けたものであるが、ホトレジスト滴下方法は
第２図の構成図と同様である。ノズル３のノズル径に対
しノズル３′の方が２倍から３倍の径の大きさを有して
いることにより、外周部の滴下量を多くしている。
の間にホトレジストの逆流及び空気が浸入しない様に逆
止弁６を付けたものであるが、ホトレジスト滴下方法は
第２図の構成図と同様である。ノズル３のノズル径に対
しノズル３′の方が２倍から３倍の径の大きさを有して
いることにより、外周部の滴下量を多くしている。
以上本発明を説明するにあたって２カ所のノズルを設置
した感光剤塗布方法を述べてきたが２力所以上のノズル
を設置した場合にも本発明が適用できることはいうまで
もない。
した感光剤塗布方法を述べてきたが２力所以上のノズル
を設置した場合にも本発明が適用できることはいうまで
もない。
発明の効果
以上の様に本発明の構成を採用することにより、ホトレ
ジストの塗布カケのない均一な、又滴下時間を短くする
ことにより欠陥の少ないホトレジスト塗布法原盤が得ら
れ、高品質、高歩留りの情報記録担体の複製用原盤を提
供することができる。
ジストの塗布カケのない均一な、又滴下時間を短くする
ことにより欠陥の少ないホトレジスト塗布法原盤が得ら
れ、高品質、高歩留りの情報記録担体の複製用原盤を提
供することができる。
第１図は従来法による複製用原盤の製造装置の一例の構
成図、第２図及び第３図は本発明による複製用原盤の製
造装置の一実施例の構成図である。 １・・・・・・ガラス原盤、２・・・・・・ターンテー
ブル、３゜３′・・・・・ノズル、４．４’・・・・・
・アーム、６・・・・・・逆止弁。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第２８１ （−り
成図、第２図及び第３図は本発明による複製用原盤の製
造装置の一実施例の構成図である。 １・・・・・・ガラス原盤、２・・・・・・ターンテー
ブル、３゜３′・・・・・ノズル、４．４’・・・・・
・アーム、６・・・・・・逆止弁。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第２８１ （−り
Claims (1)
- 平面状原盤に液状被膜形成材を滴下させ、スピニングに
よって塗布膜を作成すると共に、この被膜形成材の滴下
ノズルを２カ所以上設け、各々のノズルから吐出される
液体の流量をコントロールするよう構成したことを特徴
とする情報記録担体の複製用原盤の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59084303A JPS60226043A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | 情報記録担体の複製用原盤の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59084303A JPS60226043A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | 情報記録担体の複製用原盤の製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60226043A true JPS60226043A (ja) | 1985-11-11 |
Family
ID=13826712
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59084303A Pending JPS60226043A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | 情報記録担体の複製用原盤の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60226043A (ja) |
-
1984
- 1984-04-25 JP JP59084303A patent/JPS60226043A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4057831A (en) | Video record disc manufactured by a process involving chemical or sputter etching | |
| JPS6126952A (ja) | 情報記録担体の製造法 | |
| HK26991A (en) | Method relating to disc forming | |
| US4306013A (en) | Asymmetrical radiation exposure of spin coated photoresist to obtain uniform thickness coating used to replicate spiral grooves in plastic substrate | |
| US4422904A (en) | Method for forming video discs | |
| KR870001116B1 (ko) | 비데오 디스크 성형방법 | |
| JPH04259936A (ja) | 情報記録媒体製作用スタンパの製作方法 | |
| JP3187067B2 (ja) | 光ディスク製造方法 | |
| JPH09274744A (ja) | 金属原盤製造方法 | |
| JPH11350181A (ja) | スタンパの製造方法 | |
| JPH10312585A (ja) | 光学記録媒体作製用スタンパ、スタンパ用原盤、および光学記録媒体の製造方法 | |
| JP2663912B2 (ja) | ディスクの製造方法 | |
| JPH04259938A (ja) | 情報記録媒体製作用スタンパの製作方法 | |
| JPS6177152A (ja) | 光デイスク用スタンパの製作法 | |
| JPH04259937A (ja) | 情報記録媒体製作用スタンパの製作方法 | |
| CA1173304A (en) | Method for forming video discs | |
| CA1191597A (en) | Method for forming video discs | |
| JPS60182031A (ja) | 情報記録原盤とその製造方法 | |
| JPS603690B2 (ja) | 情報記録媒体の製造方法 | |
| JPH01235044A (ja) | 光ディスク基板およびその製造方法 | |
| JPH02303819A (ja) | 光記録媒体用スタンパーの製造方法 | |
| JPH0421940A (ja) | 光ディスク用マスタ原盤の製造方法 | |
| JPH03192550A (ja) | 光ディスク製造方法 | |
| JPH01182943A (ja) | スタンパの製造方法 | |
| JPS62130291A (ja) | 光ディスク基板成形用アルミニウム原盤の製造方法 |