JPS6023099A - オフセツト印刷用不感脂化処理液 - Google Patents
オフセツト印刷用不感脂化処理液Info
- Publication number
- JPS6023099A JPS6023099A JP58130348A JP13034883A JPS6023099A JP S6023099 A JPS6023099 A JP S6023099A JP 58130348 A JP58130348 A JP 58130348A JP 13034883 A JP13034883 A JP 13034883A JP S6023099 A JPS6023099 A JP S6023099A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- cationic polymer
- ammonium salt
- liquid
- offset printing
- Prior art date
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- Granted
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G13/00—Electrographic processes using a charge pattern
- G03G13/26—Electrographic processes using a charge pattern for the production of printing plates for non-xerographic printing processes
- G03G13/28—Planographic printing plates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/08—Damping; Neutralising or similar differentiation treatments for lithographic printing formes; Gumming or finishing solutions, fountain solutions, correction or deletion fluids, or on-press development
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電子写真オフセット印刷版面処理液に関し、シ
アン化合物を一切含有しない、シアンフリーオフセット
印刷用不感脂化処理液に関するものである。
アン化合物を一切含有しない、シアンフリーオフセット
印刷用不感脂化処理液に関するものである。
電子写真オフセット印刷原版（以下マスターと称する）
は、酸化亜鉛のごとき光導電性微粉末体を樹脂結着剤中
に分散した感光層を有し、この層上に通常の電子写真操
作を施して、親油性画像を形成させることによって得ら
れる。
は、酸化亜鉛のごとき光導電性微粉末体を樹脂結着剤中
に分散した感光層を有し、この層上に通常の電子写真操
作を施して、親油性画像を形成させることによって得ら
れる。
一般にオフセット印刷では、水に湿潤され易い非画線部
（親水性部）と湿潤され難い画線部（親油性部）とから
構成された版が使用されているが、電子写真オフセット
印刷原版は、その画線部が疎・水性の光導電層より成っ
ているためそのまま印刷を施すと、印刷インキは非画線
部に付着され正常な印刷を行うことができない。
（親水性部）と湿潤され難い画線部（親油性部）とから
構成された版が使用されているが、電子写真オフセット
印刷原版は、その画線部が疎・水性の光導電層より成っ
ているためそのまま印刷を施すと、印刷インキは非画線
部に付着され正常な印刷を行うことができない。
それ故に印刷に先だって、印刷原版の非画線部を不感脂
化処理して、親水性を付与してやる必要がある。従来よ
りこの種の不感脂化処理液として、フェロシアン塩、フ
ェリシアン塩を主成分とするシアン化合物含有処理液、
アンミンコバルト醋体、フィチン酸及びその誘導体、グ
アニジン誘導体を主成分としたシアンフリー処理液が提
起されている。
化処理して、親水性を付与してやる必要がある。従来よ
りこの種の不感脂化処理液として、フェロシアン塩、フ
ェリシアン塩を主成分とするシアン化合物含有処理液、
アンミンコバルト醋体、フィチン酸及びその誘導体、グ
アニジン誘導体を主成分としたシアンフリー処理液が提
起されている。
しかしながら、これらの処理液は充分満足出来る処理液
とは言えない。即ち、前者のフェロシアン塩、フェリシ
アン塩含有処理液の場合は、不感脂化力は強く、強固な
親水性被膜形成能を持ち、成膜速度も速％ｓ％ｉ１点は
あるが、反面フェロシアンイオン、フェリシアンイオン
は熱や光に対し不安定で光にさらすと着色し、沈澱を承
じて不感脂化力が弱まり、さらにシアンイオン（Ｃ’Ｎ
）を含有することで遊離シアンとして検出されることに
より排水等、公害の面において種々の問題を提起する欠
点を持っている。
とは言えない。即ち、前者のフェロシアン塩、フェリシ
アン塩含有処理液の場合は、不感脂化力は強く、強固な
親水性被膜形成能を持ち、成膜速度も速％ｓ％ｉ１点は
あるが、反面フェロシアンイオン、フェリシアンイオン
は熱や光に対し不安定で光にさらすと着色し、沈澱を承
じて不感脂化力が弱まり、さらにシアンイオン（Ｃ’Ｎ
）を含有することで遊離シアンとして検出されることに
より排水等、公害の面において種々の問題を提起する欠
点を持っている。
一方、こうした点を考慮して後者のような不感脂化剤を
主成分としたシアンフリー処理液が提案されているが、
これらによっても未だ充分満足すべき平版印刷原版を得
る処理液とは言えない。具体的には、前者に比べ成膜速
度が遅く、プロセッサーを用いたエツチング方式では１
回通しで直ち−に印刷可能な物理強度の高い親水性被膜
形成が出来ず、地汚れや網点階調につぶれを生じる欠点
を有している。
主成分としたシアンフリー処理液が提案されているが、
これらによっても未だ充分満足すべき平版印刷原版を得
る処理液とは言えない。具体的には、前者に比べ成膜速
度が遅く、プロセッサーを用いたエツチング方式では１
回通しで直ち−に印刷可能な物理強度の高い親水性被膜
形成が出来ず、地汚れや網点階調につぶれを生じる欠点
を有している。
従来、イノジットへキザリン酸エステル及びその金属誘
導体は金属とキレート化合物を形成することは周知の通
りで、オフセット印刷原版の不感脂化剤としてすでに種
々提供されている。
導体は金属とキレート化合物を形成することは周知の通
りで、オフセット印刷原版の不感脂化剤としてすでに種
々提供されている。
しかしこれらは、いずれも成膜速度が遅く、プロセッサ
ー１回の処理で印刷可能な親水性被膜が形成されず、こ
のためインキ分離性が悪く、地汚れや網点階調のつぶれ
を生じる欠点がある。
ー１回の処理で印刷可能な親水性被膜が形成されず、こ
のためインキ分離性が悪く、地汚れや網点階調のつぶれ
を生じる欠点がある。
本発明者らは、先に特公昭５８−５７９９でイノジット
ヘキサリン酸エステルのナトリウムフィテート、カリウ
ムフィテート、カルシウムフィテートなどの１価、２価
の金属塩と水溶性カチオンポリマーとのイオンコンプレ
ックスを提案したが、この場合は保水性は向上したが、
満足すべきエツチングスピードが得られない嫌いがある
。と同時に湿度依存性が強く、印刷環境の影響を受け低
湿時の印刷で地汚れが出易い欠点を有している。本発明
では、これらの欠点を改良するため鋭意検討を加えた結
果、ヘキサリン酸エステルの１価、２価の金属塩の代り
にアンモニウム塩又はアミン塩とのイーオンコンプレッ
クスを用いることでエツチングスピードを高めると同時
に低湿特性を飛躍的に向上することを見い出し本発明を
完成させた。
ヘキサリン酸エステルのナトリウムフィテート、カリウ
ムフィテート、カルシウムフィテートなどの１価、２価
の金属塩と水溶性カチオンポリマーとのイオンコンプレ
ックスを提案したが、この場合は保水性は向上したが、
満足すべきエツチングスピードが得られない嫌いがある
。と同時に湿度依存性が強く、印刷環境の影響を受け低
湿時の印刷で地汚れが出易い欠点を有している。本発明
では、これらの欠点を改良するため鋭意検討を加えた結
果、ヘキサリン酸エステルの１価、２価の金属塩の代り
にアンモニウム塩又はアミン塩とのイーオンコンプレッ
クスを用いることでエツチングスピードを高めると同時
に低湿特性を飛躍的に向上することを見い出し本発明を
完成させた。
即ち、本発明はイノジットヘキサリン酸エステルのアン
モニウム塩、又はアミン塩に低分子電解質と水溶性カチ
オンポリマーを併用するもので、水溶性カチオンポリマ
ーとイノジットヘキサリン酸のアンモニウム塩又はアミ
ン塩とで生成するイオンコンプレックスを有効に利用す
るものである。
モニウム塩、又はアミン塩に低分子電解質と水溶性カチ
オンポリマーを併用するもので、水溶性カチオンポリマ
ーとイノジットヘキサリン酸のアンモニウム塩又はアミ
ン塩とで生成するイオンコンプレックスを有効に利用す
るものである。
イノジットヘキサリン酸エステルのアンモニウム塩又は
アミン塩は単独又は任意の割合で混合してもかまわない
。生成するイオンコンプレックスは強親水性被膜形成能
を有し、金属イオンと反応して生成するキレート化合物
に高吸着し親水性、成膜性を著しく向上させ高速処理で
地汚れや網点階調のつぶれのない印刷原版を得ることを
見い出した。
アミン塩は単独又は任意の割合で混合してもかまわない
。生成するイオンコンプレックスは強親水性被膜形成能
を有し、金属イオンと反応して生成するキレート化合物
に高吸着し親水性、成膜性を著しく向上させ高速処理で
地汚れや網点階調のつぶれのない印刷原版を得ることを
見い出した。
本発明の処理液に用いる水溶性カチオンポリマーとして
は、分子中にアミノ基、イミノ基、第３アミン基、第４
アンモニウム塩基やヒドラジン基を有する分子量約５０
０〜１００，０００の水溶性化合物が好適である。具体
的にはメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、アセトグアナ
ミン−ホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミン−ホル
ムアルデヒド樹脂、ポリエチレンイミン、ポリアミドポ
リアミンエピクロルヒドリン、アニリン樹脂塩酸塩、ポ
リチオ尿素塩酸塩、カチオン化アミノ樹脂、ポリビニル
ピリジン塩酸塩、ポリアクリルアミドカチオン変性物（
ポリアクリルアミドをホフマン分解させたビニルアミン
重合体、ポリアクリルアミドをホルマリンと２級アミン
でマンニッヒ反応させたものや更にジメチル硫酸で第４
級アンモニウム塩としたもの）、ポリビニルヘンシルク
ロライドを第３級アミンで第４級アンモニウム塩とした
もの、ポリ（Ｎ−ビニル−２−メチルイミダゾリウムメ
チルサルフェート）、ジメチルアミノエチル（メタ）ア
クリレート重合体及びその第４級アンモニウム基、アミ
ノ基含有（メタ）アクリレート重合体（ジエチルアミノ
エチル〈メタ）アクリレート重合体及びその第４級アン
モニウム塩）、特公昭４５−２４６０９号明細書中に記
載されている、（り返し単位中に脂肪族アミノ基を含有
する重合体のアミノ基を１部又は全部塩の形または４級
化した形に変えたポリアルキルイミン化合物、エポキシ
樹脂のアミン付加物、マレイン化ポリマーのアミン付加
物、アミノ基含有ポリアミド樹脂、ポリアミド−エポキ
シ樹脂、ポリアミド−エピクロルヒドリン樹脂等がある
。
は、分子中にアミノ基、イミノ基、第３アミン基、第４
アンモニウム塩基やヒドラジン基を有する分子量約５０
０〜１００，０００の水溶性化合物が好適である。具体
的にはメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、アセトグアナ
ミン−ホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミン−ホル
ムアルデヒド樹脂、ポリエチレンイミン、ポリアミドポ
リアミンエピクロルヒドリン、アニリン樹脂塩酸塩、ポ
リチオ尿素塩酸塩、カチオン化アミノ樹脂、ポリビニル
ピリジン塩酸塩、ポリアクリルアミドカチオン変性物（
ポリアクリルアミドをホフマン分解させたビニルアミン
重合体、ポリアクリルアミドをホルマリンと２級アミン
でマンニッヒ反応させたものや更にジメチル硫酸で第４
級アンモニウム塩としたもの）、ポリビニルヘンシルク
ロライドを第３級アミンで第４級アンモニウム塩とした
もの、ポリ（Ｎ−ビニル−２−メチルイミダゾリウムメ
チルサルフェート）、ジメチルアミノエチル（メタ）ア
クリレート重合体及びその第４級アンモニウム基、アミ
ノ基含有（メタ）アクリレート重合体（ジエチルアミノ
エチル〈メタ）アクリレート重合体及びその第４級アン
モニウム塩）、特公昭４５−２４６０９号明細書中に記
載されている、（り返し単位中に脂肪族アミノ基を含有
する重合体のアミノ基を１部又は全部塩の形または４級
化した形に変えたポリアルキルイミン化合物、エポキシ
樹脂のアミン付加物、マレイン化ポリマーのアミン付加
物、アミノ基含有ポリアミド樹脂、ポリアミド−エポキ
シ樹脂、ポリアミド−エピクロルヒドリン樹脂等がある
。
また、本発明の処理液に使用する低分子電解質物質とし
ては硫酸、塩酸、ＨＢｒ、Ｈｌ、ＨＰ。
ては硫酸、塩酸、ＨＢｒ、Ｈｌ、ＨＰ。
硝酸、過塩素酸、ＨＰＦ、等の無機の酸や有機スルホン
酸（メタンスルホン酸等）、アミドスルホン酸、有機ホ
スホン酸、蓚酸、ギ酸、トリクロロ酢酸、ピクリン酸等
の有機の酸の塩で特にこれらの酸のアルカリ金属塩、ア
ルカリ土金属塩又はアンモニウム塩で、水に対する常温
での溶解度が約１０重量％以上の化合物が好適である。
酸（メタンスルホン酸等）、アミドスルホン酸、有機ホ
スホン酸、蓚酸、ギ酸、トリクロロ酢酸、ピクリン酸等
の有機の酸の塩で特にこれらの酸のアルカリ金属塩、ア
ルカリ土金属塩又はアンモニウム塩で、水に対する常温
での溶解度が約１０重量％以上の化合物が好適である。
具体的にはＮａＣ１，ＮａＢｒ５ＫＣＬ ＫＢｒ、Ｌｉ
Ｃｌ、ＬｉＢｒ。
Ｃｌ、ＬｉＢｒ。
ＮＨ−ＣＩ−、ＮａＮ０ａ、ＫＮＯ３、ＮＨ，ＮＯ３、
Ｃａ（ＮＯ３）２、Ｍｇ（Ｎ Ｏｘ ＞２、Ｎａ２５Ｏ
，、Ｋ２Ｓ０．、Ｍ ｇ Ｓ Ｏａ、（ＮＨ，）２Ｓｏ
４、ＨＣＯＯＮａ。
Ｃａ（ＮＯ３）２、Ｍｇ（Ｎ Ｏｘ ＞２、Ｎａ２５Ｏ
，、Ｋ２Ｓ０．、Ｍ ｇ Ｓ Ｏａ、（ＮＨ，）２Ｓｏ
４、ＨＣＯＯＮａ。
ＣＨａ Ｃ０ＯＮａ、（Ｃ０ＯＮａ）２、ＣＩａ ＣＣ
ＯＯＮａ。
ＯＯＮａ。
ＮＨ，Ｆ、 ＫＰＦ８、ｃＨ３３ｓｏ、Ｎａ、Ｎ）ｌ、
５Ｏ３Ｎ８２等を挙げることが出来る。
５Ｏ３Ｎ８２等を挙げることが出来る。
イノジットヘキサリン酸エステルのアンモニウム塩又は
アミン塩は、市販品として又は公知の方法で容易に合成
出来る。
アミン塩は、市販品として又は公知の方法で容易に合成
出来る。
本発明の処理液を構成する上記物質の使用量は、本処理
剤１０００重量部中イノジットヘキサリン酸エステルの
アンモニウム塩又はアミン塩１０〜２００重量部、より
好ましくは４０〜１５Ｍ量部、低分子電解質化合物２０
〜１５０重量部、より好ましくは４０〜１００重量部、
および水溶性カチオンポリマー０．２〜２０重量部、よ
り好ましくは１−１０重量部である。
剤１０００重量部中イノジットヘキサリン酸エステルの
アンモニウム塩又はアミン塩１０〜２００重量部、より
好ましくは４０〜１５Ｍ量部、低分子電解質化合物２０
〜１５０重量部、より好ましくは４０〜１００重量部、
および水溶性カチオンポリマー０．２〜２０重量部、よ
り好ましくは１−１０重量部である。
これらの化合物をイオン交換水又は水道水に溶解させて
本処理液とする。溶解の順序は特に制限されないが、好
ましくは水にイノジットヘキサリン酸エステルのアンモ
ニウム塩又はアミン塩を溶解させた後、低分子電解質化
合物を加え、その後にカチオンポリマー水溶液を加える
。処理液には上記成分の他にＰＨ調整剤として有機・無
機の酸類、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の塩基
性水酸化物、ＰＨ緩衝剤としてリン酸塩類、湿潤剤とし
てエチレングリコール、ソルビトール、グリセリン、ア
ラビアゴム等、防腐剤としてサリチル酸、フェノールパ
ラ安息香酸ブチル、デヒドロ酢酸ナトリウム等、防錆剤
としてＥＤＴＡ、アミン類、など適当量添加して使用す
ることが出来る。
本処理液とする。溶解の順序は特に制限されないが、好
ましくは水にイノジットヘキサリン酸エステルのアンモ
ニウム塩又はアミン塩を溶解させた後、低分子電解質化
合物を加え、その後にカチオンポリマー水溶液を加える
。処理液には上記成分の他にＰＨ調整剤として有機・無
機の酸類、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の塩基
性水酸化物、ＰＨ緩衝剤としてリン酸塩類、湿潤剤とし
てエチレングリコール、ソルビトール、グリセリン、ア
ラビアゴム等、防腐剤としてサリチル酸、フェノールパ
ラ安息香酸ブチル、デヒドロ酢酸ナトリウム等、防錆剤
としてＥＤＴＡ、アミン類、など適当量添加して使用す
ることが出来る。
処理液を実施するに当たり、処理液のＰｉ−１値は３〜
６の範囲にするのが好ましい。又、水で稀釈して湿し水
としても使用出来る。
６の範囲にするのが好ましい。又、水で稀釈して湿し水
としても使用出来る。
以上の如く、本発明の処理液は公害上問題となり、且つ
光や熱によって劣化するフェロシアン、フェリシアン化
合物を含まず、長期保存下でも安定で、変色、沈澱をせ
ず、従来のシアンフリー処理液に比べ印刷環境の影響を
受けず、しかも著しく成膜速度が向上し、高速エツチン
グ処理によっても地汚れや網点階調のつぶれの出ないオ
フセット印刷原版を得ることが出来る優れたシアンフリ
ーの処理液である。
光や熱によって劣化するフェロシアン、フェリシアン化
合物を含まず、長期保存下でも安定で、変色、沈澱をせ
ず、従来のシアンフリー処理液に比べ印刷環境の影響を
受けず、しかも著しく成膜速度が向上し、高速エツチン
グ処理によっても地汚れや網点階調のつぶれの出ないオ
フセット印刷原版を得ることが出来る優れたシアンフリ
ーの処理液である。
以下実施例、比較例により本発明を説明する。
実施例１
実施例２
実施例３
ｆ 水 ６０８重量部
比較例１
比較例２
比較例３
比較例４
比較例５
酸化亜鉛〜樹脂分散系の電子写真感光材料に常法に従い
画像を形成懐、上記の処理液で夫々高速エツチング処理
してオフセットマスター原版とし、湿し水に各々の処理
液を水で５倍に稀釈したものを用いて、環境を変えて印
刷を行った。その結果は表−１１表−２の通りである。
画像を形成懐、上記の処理液で夫々高速エツチング処理
してオフセットマスター原版とし、湿し水に各々の処理
液を水で５倍に稀釈したものを用いて、環境を変えて印
刷を行った。その結果は表−１１表−２の通りである。
表−１（２５℃−６０％ＲＨ）
表−２（２０℃−３０％ＲＨ）
表−１、表−２から判るように、実施例１〜３は印刷環
境を変え、高速エツチング処理しても、４０００枚の印
刷でマスターズ及び印刷物に地汚れがなく、インキ付着
性も良好で網点階調のつぶれのない鮮明な印刷物が得ら
れた。
境を変え、高速エツチング処理しても、４０００枚の印
刷でマスターズ及び印刷物に地汚れがなく、インキ付着
性も良好で網点階調のつぶれのない鮮明な印刷物が得ら
れた。
しかし、比較例１〜４はエツチングスピードを遅くして
も地汚れを生じ、インキ分離性も悪く、網点階調がつぶ
れ印刷不能であった。又、比較例５は６０％ＲＨの環境
でエツチング処理時間を長くすれば印刷可能であるが、
３０％ＲＨの環境では処理時間を長くしても印刷不能で
ある。
も地汚れを生じ、インキ分離性も悪く、網点階調がつぶ
れ印刷不能であった。又、比較例５は６０％ＲＨの環境
でエツチング処理時間を長くすれば印刷可能であるが、
３０％ＲＨの環境では処理時間を長くしても印刷不能で
ある。
以上の如く、イノジットヘキサリン酸エステルのアンモ
ニウム塩、又はアミン塩と水溶性カチオンポリマーおよ
び低分子電解質化合物を有効成分とする本発明の処理液
は湿度依存性がなく、エツチングスピードが極めて早い
ものである。
ニウム塩、又はアミン塩と水溶性カチオンポリマーおよ
び低分子電解質化合物を有効成分とする本発明の処理液
は湿度依存性がなく、エツチングスピードが極めて早い
ものである。
特許出願人
株式会社巴川製紙所
富士写真フィルム株式会社
−ＣＸＡζ−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記（ａ）、（ｂ）および（Ｃ）を有効成分とすること
を特徴とするシアンフリーオフセット印刷用不感脂化処
理液。 （ａ）：イノシットへキサリン酸エステルのアンモニウ
ム塩又はアミン塩 （ｂ）：水溶性カチオンポリマー （Ｃ）：低分子電解質化合物
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58130348A JPS6023099A (ja) | 1983-07-19 | 1983-07-19 | オフセツト印刷用不感脂化処理液 |
| EP84108506A EP0135031B1 (en) | 1983-07-19 | 1984-07-18 | Desensitizing solution for use in offset printing |
| DE8484108506T DE3470614D1 (en) | 1983-07-19 | 1984-07-18 | Desensitizing solution for use in offset printing |
| US06/632,169 US4579591A (en) | 1983-07-19 | 1984-07-19 | Desensitizing solution for use in offset printing |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58130348A JPS6023099A (ja) | 1983-07-19 | 1983-07-19 | オフセツト印刷用不感脂化処理液 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6023099A true JPS6023099A (ja) | 1985-02-05 |
| JPH0324358B2 JPH0324358B2 (ja) | 1991-04-03 |
Family
ID=15032238
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58130348A Granted JPS6023099A (ja) | 1983-07-19 | 1983-07-19 | オフセツト印刷用不感脂化処理液 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4579591A (ja) |
| EP (1) | EP0135031B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6023099A (ja) |
| DE (1) | DE3470614D1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61189996A (ja) * | 1985-02-18 | 1986-08-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用版面保護剤 |
| US4954173A (en) * | 1987-11-19 | 1990-09-04 | Nikken Chemical Laboratory Co., Ltd. | Lipophobicating solution for electrophotographic plates for offset printing |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6231859A (ja) * | 1985-08-01 | 1987-02-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 製版方法 |
| JPS6277994A (ja) * | 1985-10-01 | 1987-04-10 | Nikken Kagaku Kenkyusho:Kk | オフセツト印刷用電子写真版の不感脂化処理液 |
| JPS62145257A (ja) * | 1985-12-20 | 1987-06-29 | Oji Paper Co Ltd | 平版印刷版不感脂化処理用組成物 |
| US4781853A (en) * | 1986-12-01 | 1988-11-01 | Harris Corp. | Method of enhancing silicon etching capability of alkali hydroxide through the addition of positive valence impurity ions |
| US4859280A (en) * | 1986-12-01 | 1989-08-22 | Harris Corporation | Method of etching silicon by enhancing silicon etching capability of alkali hydroxide through the addition of positive valence impurity ions |
| US4925761A (en) * | 1989-06-15 | 1990-05-15 | A. B. Dick | Conversion solutions for lithographic printing plates containing phytic acid |
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