JPS6023108B2 - Ｘ線造影剤 - Google Patents
Ｘ線造影剤Info
- Publication number
- JPS6023108B2 JPS6023108B2 JP51065109A JP6510976A JPS6023108B2 JP S6023108 B2 JPS6023108 B2 JP S6023108B2 JP 51065109 A JP51065109 A JP 51065109A JP 6510976 A JP6510976 A JP 6510976A JP S6023108 B2 JPS6023108 B2 JP S6023108B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- carbon atoms
- group
- chemical
- alkyl group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000002872 contrast media Substances 0.000 title claims description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 31
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 27
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 27
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 23
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 claims description 23
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 20
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 claims description 18
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 16
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 14
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 12
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 11
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 11
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 8
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N Protium Chemical compound [1H] YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N 0.000 claims 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 75
- 239000000047 product Substances 0.000 description 54
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 51
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 45
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 27
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 25
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 21
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 21
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 21
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 20
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 19
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 12
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 12
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 12
- 229960004050 aminobenzoic acid Drugs 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 9
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 6
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 6
- -1 iodo compound Chemical class 0.000 description 6
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NWZSZGALRFJKBT-KNIFDHDWSA-N (2s)-2,6-diaminohexanoic acid;(2s)-2-hydroxybutanedioic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O.NCCCC[C@H](N)C(O)=O NWZSZGALRFJKBT-KNIFDHDWSA-N 0.000 description 5
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 5
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 4
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 4
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical group 0.000 description 4
- SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N n-[4-(1,3-benzoxazol-2-yl)phenyl]-4-nitrobenzenesulfonamide Chemical class C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1S(=O)(=O)NC1=CC=C(C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C=C1 SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 4
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QZRGKCOWNLSUDK-UHFFFAOYSA-N Iodochlorine Chemical compound ICl QZRGKCOWNLSUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- IKDUDTNKRLTJSI-UHFFFAOYSA-N hydrazine monohydrate Substances O.NN IKDUDTNKRLTJSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 3
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 3
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007868 Raney catalyst Substances 0.000 description 2
- NPXOKRUENSOPAO-UHFFFAOYSA-N Raney nickel Chemical compound [Al].[Ni] NPXOKRUENSOPAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000564 Raney nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N Sulphur dioxide Chemical compound O=S=O RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009435 amidation Effects 0.000 description 2
- 238000007112 amidation reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000013058 crude material Substances 0.000 description 2
- 229940050410 gluconate Drugs 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000026045 iodination Effects 0.000 description 2
- 238000006192 iodination reaction Methods 0.000 description 2
- 150000002497 iodine compounds Chemical class 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 231100000053 low toxicity Toxicity 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 2
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 2
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- RIWAPWDHHMWTRA-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triiodobenzene Chemical class IC1=CC=CC(I)=C1I RIWAPWDHHMWTRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- CAHWDGJDQYAFHM-UHFFFAOYSA-N 2-nitroisophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1[N+]([O-])=O CAHWDGJDQYAFHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQALEPDUVKVXLD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-aminoethylcarbamoyl)-5-nitrobenzoic acid Chemical compound NCCNC(=O)C1=CC(C(O)=O)=CC([N+]([O-])=O)=C1 FQALEPDUVKVXLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 4-aminobenzoic acid Chemical compound NC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-M D-gluconate Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-M 0.000 description 1
- 241000630665 Hada Species 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPBXUMGWBOLUGV-UHFFFAOYSA-N O[N+](O)(O)[O-] Chemical compound O[N+](O)(O)[O-] JPBXUMGWBOLUGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000001132 Osteoporosis Diseases 0.000 description 1
- 150000001348 alkyl chlorides Chemical class 0.000 description 1
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 1
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002583 angiography Methods 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 210000000988 bone and bone Anatomy 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N dimethyl sulfate Chemical compound COS(=O)(=O)OC VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- IDGUHHHQCWSQLU-UHFFFAOYSA-N ethanol;hydrate Chemical compound O.CCO IDGUHHHQCWSQLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQYBDCGIPTYXML-UHFFFAOYSA-N ethoxyethane;hydrate Chemical compound O.CCOCC DQYBDCGIPTYXML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 210000000416 exudates and transudate Anatomy 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000005194 fractionation Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000002083 iodinating effect Effects 0.000 description 1
- 125000002346 iodo group Chemical group I* 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 239000012264 purified product Substances 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000005185 salting out Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C243/00—Compounds containing chains of nitrogen atoms singly-bound to each other, e.g. hydrazines, triazanes
- C07C243/24—Hydrazines having nitrogen atoms of hydrazine groups acylated by carboxylic acids
- C07C243/38—Hydrazines having nitrogen atoms of hydrazine groups acylated by carboxylic acids with acylating carboxyl groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Medicines Containing Antibodies Or Antigens For Use As Internal Diagnostic Agents (AREA)
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、Ｘ−線造影剤、特に骨ずし、撮影に有用な、
新規、水溶性、非イオン性、トリヨードべンゼン誘導体
に関する。
新規、水溶性、非イオン性、トリヨードべンゼン誘導体
に関する。
アメリカ合衆国特許Ｎｏ．３７０１７７１には、Ｘ−線
造影剤として有用な非イオン性化合物、特にトリーョー
ドベンゼン誘導体が記載されている。
造影剤として有用な非イオン性化合物、特にトリーョー
ドベンゼン誘導体が記載されている。
本発明は、良好な溶解性を有し既知の材料に比較して著
しくよく許容されうる新規の非イオン性化合物に関して
いる。これらの化合物は、一般式 〔ただし式中、 ｎは０から４の整数とし、 Ｒ，およびＲ２はそれぞれに独立して、式−ＣＯＮＨＲ
５（ただし式中、Ｒ５は１から４炭素原子数のアルキル
基または１から４炭素原子数のヒドロキシアルキル基を
表わす）を有する基、または式（ただし式中、Ｒ６およ
びＲ７は１ から４炭素原子数のアルキル基を表わす）を有する基を
表わし、Ｒ３およびＲ４はそれぞれに独立して水素原子
または１から４炭素原子数のアルキル基を表わす〕を有
する。
しくよく許容されうる新規の非イオン性化合物に関して
いる。これらの化合物は、一般式 〔ただし式中、 ｎは０から４の整数とし、 Ｒ，およびＲ２はそれぞれに独立して、式−ＣＯＮＨＲ
５（ただし式中、Ｒ５は１から４炭素原子数のアルキル
基または１から４炭素原子数のヒドロキシアルキル基を
表わす）を有する基、または式（ただし式中、Ｒ６およ
びＲ７は１ から４炭素原子数のアルキル基を表わす）を有する基を
表わし、Ｒ３およびＲ４はそれぞれに独立して水素原子
または１から４炭素原子数のアルキル基を表わす〕を有
する。
式（１）の化合物は、ヒドロキシ基が保護されている式
ハロゲンＣ○（ＣＨＯＨ）５日を有する駿ハラィドと式
（ただし式中、ｎ、Ｒ，、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は（１
）に記載の意味を有する）を有するジアミンとを反応さ
せ、縮合生成物をけん化することにより製造しうる。
ハロゲンＣ○（ＣＨＯＨ）５日を有する駿ハラィドと式
（ただし式中、ｎ、Ｒ，、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は（１
）に記載の意味を有する）を有するジアミンとを反応さ
せ、縮合生成物をけん化することにより製造しうる。
酸クロラィドとジアミン（０）との縮合反応は、約１５
度Ｃから約３５度Ｃまでの温度でジメチルアセトアミド
またはジメチルスルホキサイドのような極性溶媒中で実
施するのが有利である。
度Ｃから約３５度Ｃまでの温度でジメチルアセトアミド
またはジメチルスルホキサイドのような極性溶媒中で実
施するのが有利である。
１から４日間かくはんすることにより反応は実質的に完
了するのがふつうである。
了するのがふつうである。
式（０）のアミンは、式
（ただし式中Ｒ′，はＲ，と同じ意味を有するかまたは
基−ＣＯＯ日を表わし、ｎ、Ｒ３、およびＲ４は、式（
１）に示したのと同じ意味を有する）を有するアミンと
、式（ただし式中、Ｒ′２はＲ２と同じであるか、ヒド
ロキシル基は保護されているとする）を有する酸クロラ
ィドとを縮合させ、つぎに、Ｒ′，が−ＣＯＯ日基の時
には、酸クロラィドを経由しアミンＮＨ２Ｒ５を作用さ
せる従来法で基−ＣＯＮＨＲ５にアミド化する方法で製
造しうる。
基−ＣＯＯ日を表わし、ｎ、Ｒ３、およびＲ４は、式（
１）に示したのと同じ意味を有する）を有するアミンと
、式（ただし式中、Ｒ′２はＲ２と同じであるか、ヒド
ロキシル基は保護されているとする）を有する酸クロラ
ィドとを縮合させ、つぎに、Ｒ′，が−ＣＯＯ日基の時
には、酸クロラィドを経由しアミンＮＨ２Ｒ５を作用さ
せる従来法で基−ＣＯＮＨＲ５にアミド化する方法で製
造しうる。
ァミン（ｍ）と酸クロラィドとの縮合反応は、トリェチ
ルァミンまたは炭酸ナトリウムのような酸捕捉剤の過剰
量の存在で、２０から６０度Ｃの温度で、ジメチルアセ
トアミド、ジメチルホルムアミドまたはジメチルスルホ
キサィドのような極性溶媒中で実施するのが有利である
。
ルァミンまたは炭酸ナトリウムのような酸捕捉剤の過剰
量の存在で、２０から６０度Ｃの温度で、ジメチルアセ
トアミド、ジメチルホルムアミドまたはジメチルスルホ
キサィドのような極性溶媒中で実施するのが有利である
。
反応時間は２時間から約４日に変動しうる。Ｒ，および
Ｒ２が同じである式（０）のアミンはまた、式（ただし
式中、ｎ、Ｒ３およびＲ４は式（１）の場合と同じ意味
を有する）を有するジァミンと式（Ｎ）の酸クロラィド
とを縮合させることによっても製造しうる。
Ｒ２が同じである式（０）のアミンはまた、式（ただし
式中、ｎ、Ｒ３およびＲ４は式（１）の場合と同じ意味
を有する）を有するジァミンと式（Ｎ）の酸クロラィド
とを縮合させることによっても製造しうる。
反応条件は、式（ｍ）のアミンと縮合させる場合と同様
である。Ｒ，およびＲ２が同じ基−ＣＯＮＨＲ５を表わ
す式（ｎ）のアミン、また、非ヨード化合物と縮合させ
そして最終段階においてョー素化を行なうことを本質的
に包含する変法により製造しうる。
である。Ｒ，およびＲ２が同じ基−ＣＯＮＨＲ５を表わ
す式（ｎ）のアミン、また、非ヨード化合物と縮合させ
そして最終段階においてョー素化を行なうことを本質的
に包含する変法により製造しうる。
この変法では、【ａー 式（Ｖ）を有するジアミンと、
式（ただし式中、Ｒは１から４炭素原子数のアルキル基
、特にメチル基を表わす）を有する酸クロラィドとを縮
合させ、式を有するジェステルとすること、 ‘ｂー 式（肌）のジェステルと式Ｎ比Ｒ５のァミンを
反応させて、式とすること、 ‘ｃ’式（肌）のジアミドのニトロ基を還元して、式の
ジアミンとすること、 【ｄー 式（Ｋ）の化合物をョー素化して、式のジアミ
ンとすることを包含している。
式（ただし式中、Ｒは１から４炭素原子数のアルキル基
、特にメチル基を表わす）を有する酸クロラィドとを縮
合させ、式を有するジェステルとすること、 ‘ｂー 式（肌）のジェステルと式Ｎ比Ｒ５のァミンを
反応させて、式とすること、 ‘ｃ’式（肌）のジアミドのニトロ基を還元して、式の
ジアミンとすること、 【ｄー 式（Ｋ）の化合物をョー素化して、式のジアミ
ンとすることを包含している。
式（Ｖ）のジアミンと式（肌）の酸クロラィドとの反応
は、この型の反応にふつうの温度条件、つまり室温から
５０度Ｃまでのあいだの温度で、アルカリ媒体またはジ
オキサン中で実施しうる。
は、この型の反応にふつうの温度条件、つまり室温から
５０度Ｃまでのあいだの温度で、アルカリ媒体またはジ
オキサン中で実施しうる。
式（Ｗ）のジヱステルと式ＮＨ２Ｒ５のアミンとの反応
は、ふつうの温度条件で、水またはアルコールを添加し
てもかまわないァミン中に溶液として実施しうる。ジア
ミド（側）のニトロ基の還元は、たとえばラネーニッケ
ルまたはパラジウムの存在で接触的に実施しうる。式×
の化合物のョー素化は、ベンゼン核をョー素化する常法
、代表的には酢酸中塩化ョー素を作用さすことにより実
施しうる。
は、ふつうの温度条件で、水またはアルコールを添加し
てもかまわないァミン中に溶液として実施しうる。ジア
ミド（側）のニトロ基の還元は、たとえばラネーニッケ
ルまたはパラジウムの存在で接触的に実施しうる。式×
の化合物のョー素化は、ベンゼン核をョー素化する常法
、代表的には酢酸中塩化ョー素を作用さすことにより実
施しうる。
式（０）（ただし式中Ｒ３および（または）Ｒ４は水素
原子とする）を有するジアミンをアルキル化し、Ｒ３お
よびＲ４がアルキル基であるジアミンとすることも可能
である。
原子とする）を有するジアミンをアルキル化し、Ｒ３お
よびＲ４がアルキル基であるジアミンとすることも可能
である。
この目的は、ふつうのアルキル化法、たとえば適当なョ
−化アルキルまたは硫酸アルキルを用いる方法を採用し
うる。つぎの非限定実施例で、式（１）の化合物の製造
を示す。例１ １・２−Ｎ・Ｎ′ービス（２・４・６ートリヨードー３
一Ｎ−メチル一Ｎ−アセチルアミノー５−Ｎーグルコニ
ルアミノーベンゾイル）ージミノーェタンの製造｛ａ）
１・２一Ｎ・Ｎ′ービス（２・４・６−トリヨード−
３一Ｎーメチル−Ｎーアセチルアミノ−５ーアミノーベ
ンゾイル）ジアミノーエタンの製造２・４・６ートリヨ
ードー３一Ｎーメチルアセトアミド−５ーアミノ安息香
酸クロラィド（２８０夕、０．４６５モル）（英国特許
１３２１５９２に準じ製造）をジメチルアセトアミド（
５００ｃｃ）およびトリェチルアミン（１３０ｃｃ、０
．９３モル）に含有する溶液に、２５度Ｃを越えない温
度でかくはんしながらエチレンジアミン（１８．７ｃｃ
、０．２９モル）を添加する。
−化アルキルまたは硫酸アルキルを用いる方法を採用し
うる。つぎの非限定実施例で、式（１）の化合物の製造
を示す。例１ １・２−Ｎ・Ｎ′ービス（２・４・６ートリヨードー３
一Ｎ−メチル一Ｎ−アセチルアミノー５−Ｎーグルコニ
ルアミノーベンゾイル）ージミノーェタンの製造｛ａ）
１・２一Ｎ・Ｎ′ービス（２・４・６−トリヨード−
３一Ｎーメチル−Ｎーアセチルアミノ−５ーアミノーベ
ンゾイル）ジアミノーエタンの製造２・４・６ートリヨ
ードー３一Ｎーメチルアセトアミド−５ーアミノ安息香
酸クロラィド（２８０夕、０．４６５モル）（英国特許
１３２１５９２に準じ製造）をジメチルアセトアミド（
５００ｃｃ）およびトリェチルアミン（１３０ｃｃ、０
．９３モル）に含有する溶液に、２５度Ｃを越えない温
度でかくはんしながらエチレンジアミン（１８．７ｃｃ
、０．２９モル）を添加する。
室温で１夜かくはんしてから、材料をクロマトグラフィ
ーで分析して、出発原料である酸クロラィドの残存しな
いことをたしかめる。反応液はかくはんしながら氷−水
（３リットル）にあげる。生ずる沈殿は吸引炉過し、水
洗し、７０度Ｃの炉の中で乾燥し、かなり着色した物質
１８６夕をうる。ジメチルアセトアミド（３００ｃｃ）
に溶解し、水を加えて分別沈殿し精製する。水洗し、吸
引炉過し乾燥して、非常に明るいベージュ色の生成物（
１３２夕）をうる。生成物の純度はつぎの方法で調べる
。薄層クロマトグラフィー、シリカゲルプレート、溶出
液：ベンゼンノメチルェチルケトン／ギ酸（６０：２５
：２０）。出発酸クロライドＲ「＝０．８０ 縮合生成物 Ｒｆ＝０．４５ ョー素滴定億＝９８％ 【ｂ｝ １・２一Ｎ・Ｎ′ービス（２・４・６ートリヨ
ード−３−Ｎ−メチル−Ｎーアセチルアミノー５一Ｎ−
グルコニルアミノーベンゾイル）ージアミノーエタン１
・２−Ｎ・Ｎ′−ビス（２・４・６ートリヨードー３一
ＮーメチルーＮーアセチルアミノー５−アミノ−ペンゾ
イル）ジアミノーエタン（１２１夕、０．１０１モル）
をジメチルアセトアミド（２００ｃｃ）に含有する溶液
に、ベンターアセチルグリコール酸クロラィド（１７２
夕、０．４０４モル）〔Ｃ．Ｅ．ＢｒａｕｎおよびＣ．
Ｄ．ＣＭｋ、０ｒ滋ｎｌｃＳ肌ｔｈｅｓｉｓ、Ｖｏｌ．
４１、７９−８２頁の方法で製造〕を少量宛添加する。
ーで分析して、出発原料である酸クロラィドの残存しな
いことをたしかめる。反応液はかくはんしながら氷−水
（３リットル）にあげる。生ずる沈殿は吸引炉過し、水
洗し、７０度Ｃの炉の中で乾燥し、かなり着色した物質
１８６夕をうる。ジメチルアセトアミド（３００ｃｃ）
に溶解し、水を加えて分別沈殿し精製する。水洗し、吸
引炉過し乾燥して、非常に明るいベージュ色の生成物（
１３２夕）をうる。生成物の純度はつぎの方法で調べる
。薄層クロマトグラフィー、シリカゲルプレート、溶出
液：ベンゼンノメチルェチルケトン／ギ酸（６０：２５
：２０）。出発酸クロライドＲ「＝０．８０ 縮合生成物 Ｒｆ＝０．４５ ョー素滴定億＝９８％ 【ｂ｝ １・２一Ｎ・Ｎ′ービス（２・４・６ートリヨ
ード−３−Ｎ−メチル−Ｎーアセチルアミノー５一Ｎ−
グルコニルアミノーベンゾイル）ージアミノーエタン１
・２−Ｎ・Ｎ′−ビス（２・４・６ートリヨードー３一
ＮーメチルーＮーアセチルアミノー５−アミノ−ペンゾ
イル）ジアミノーエタン（１２１夕、０．１０１モル）
をジメチルアセトアミド（２００ｃｃ）に含有する溶液
に、ベンターアセチルグリコール酸クロラィド（１７２
夕、０．４０４モル）〔Ｃ．Ｅ．ＢｒａｕｎおよびＣ．
Ｄ．ＣＭｋ、０ｒ滋ｎｌｃＳ肌ｔｈｅｓｉｓ、Ｖｏｌ．
４１、７９−８２頁の方法で製造〕を少量宛添加する。
２０から２５度Ｃで４日かきまぜながら、液体は、激し
くかくはんしながら氷−水（１リットル）にあげる。
くかくはんしながら氷−水（１リットル）にあげる。
結晶物質は吸引炉し、氷−水で洗い、吸引炉過し、水（
１００ｃｃ）およびアンモニヤ（２００ｃｃ）の混合物
に溢材料を加えて、ェステル官能基をけん化する。０か
ら２５度Ｃで６時間かくはんしたあと、水および過剰の
アンモニャを減圧で蒸発させて粘鋼な油（２１０夕）を
得、これを水（３００ｃｃ）に溶解する。
１００ｃｃ）およびアンモニヤ（２００ｃｃ）の混合物
に溢材料を加えて、ェステル官能基をけん化する。０か
ら２５度Ｃで６時間かくはんしたあと、水および過剰の
アンモニャを減圧で蒸発させて粘鋼な油（２１０夕）を
得、これを水（３００ｃｃ）に溶解する。
水溶液は、２００夕および１００夕のフェノールで、１
度宛抽出する。
度宛抽出する。
有機相は６０ｃｃの水で４度洗い、ジェチルェーテル（
１リットル）を添加する。生成物は、１００ｃｃ宛の水
で４回洗い、水相は１５０ｃｃ宛のジェチルェーテルで
３回洗う。生ずる材料は減圧で蒸発させて、半ばガム状
−半は結晶状の材料１３５夕をうる。粗生成物の純度は
つぎのように調べる。
１リットル）を添加する。生成物は、１００ｃｃ宛の水
で４回洗い、水相は１５０ｃｃ宛のジェチルェーテルで
３回洗う。生ずる材料は減圧で蒸発させて、半ばガム状
−半は結晶状の材料１３５夕をうる。粗生成物の純度は
つぎのように調べる。
薄層クロマトグラフィー、シリカゲルプレート、溶出液
：ブタノール／酢酸／水（５０：１１：２５）。
：ブタノール／酢酸／水（５０：１１：２５）。
出発アミンＲｒ＝０．６０一０．６５（２種の異性体）
けん化前の縮合生成物：Ｒｒは０．５２から０．５７ま
でのあいだけん化後の縮合生成物：Ｒｆ＝０．１２一０
．１８−０．２３（３種の異性体）ョー素の滴定値＝８
７％純度 粗材料は水（５０ｃｃ）に溶解し、エチルアルコール（
５００ｃｃ）をかくはんしながな添加する。
けん化前の縮合生成物：Ｒｒは０．５２から０．５７ま
でのあいだけん化後の縮合生成物：Ｒｆ＝０．１２一０
．１８−０．２３（３種の異性体）ョー素の滴定値＝８
７％純度 粗材料は水（５０ｃｃ）に溶解し、エチルアルコール（
５００ｃｃ）をかくはんしながな添加する。
生ずる沈殿は吸引炉過し、エチルアルコールで洗い、６
０度Ｃで乾燥し、６４．５夕の生成物をうる。エチルア
ルコールより２度再綾する。不溶物は熱時炉去する。生
ずる材料は、５０％水溶液中６０度Ｃで１８時間炭末処
理し、炭末は炉去し、水は減圧で留去する。
０度Ｃで乾燥し、６４．５夕の生成物をうる。エチルア
ルコールより２度再綾する。不溶物は熱時炉去する。生
ずる材料は、５０％水溶液中６０度Ｃで１８時間炭末処
理し、炭末は炉去し、水は減圧で留去する。
生ずる粉末は８０度Ｃの炉中で乾燥し、９夕の生成物を
うる。生成物の純度はつぎのように調べる。
うる。生成物の純度はつぎのように調べる。
シリカゲルプレート上の薄層クロマトグラフィー：溶出
液：ブタノ−ル／酢酸／水（５０：１１：２５）。
液：ブタノ−ル／酢酸／水（５０：１１：２５）。
３異性体が存在：Ｒｆ＝０．１２−０．１８−０．２ュ
ョー素摘定値＝９９％純度ナトリウムメトキサィド滴定
：１０３％純度｛ｃー 溶解生成物は、１００ｃｃあた
り２５夕のョー素となるように水に溶解する。
ョー素摘定値＝９９％純度ナトリウムメトキサィド滴定
：１０３％純度｛ｃー 溶解生成物は、１００ｃｃあた
り２５夕のョー素となるように水に溶解する。
溶液の粘度は３７度Ｃで７．４センチポイズ。例２
Ｎ・Ｎ′−ピス（２・４・６−トリヨードー３一Ｎーメ
チル−Ｎ−アセチルアミノー５一Ｎ−グリコニルアミノ
ーベンゾイル）ヒドラジドの製造【ａ１ ２・４・６ー
トリヨード−３一Ｎ−メチル−Ｎ−アセチルアミノー５
ーアミノ−ペンゾヒドラジドヒドラジンハイドレート（
９８％、３７２ｃｃ、７．４５モル）および水（５００
ｃｃ）の溶液に、２・４・６ートリヨートー３一Ｎ−メ
チル−Ｎ−アセチルァミノー５ーァミノー安息香酸クロ
ラィド（１５００夕、２．３８モル）をジオキサン（３
リットル）に含有する溶液を、冷却し激しくかきまぜな
がら添加する。
チル−Ｎ−アセチルアミノー５一Ｎ−グリコニルアミノ
ーベンゾイル）ヒドラジドの製造【ａ１ ２・４・６ー
トリヨード−３一Ｎ−メチル−Ｎ−アセチルアミノー５
ーアミノ−ペンゾヒドラジドヒドラジンハイドレート（
９８％、３７２ｃｃ、７．４５モル）および水（５００
ｃｃ）の溶液に、２・４・６ートリヨートー３一Ｎ−メ
チル−Ｎ−アセチルァミノー５ーァミノー安息香酸クロ
ラィド（１５００夕、２．３８モル）をジオキサン（３
リットル）に含有する溶液を、冷却し激しくかきまぜな
がら添加する。
２０度Ｃで５時間反応させてから、沈殿を吸引炉過し、
水洗し、そのあとで１００度Ｃの炉の中で乾燥し、７５
５＃の白色物質をうる。
水洗し、そのあとで１００度Ｃの炉の中で乾燥し、７５
５＃の白色物質をうる。
収率５０％。生成物の純度はつぎのようである。
ョー素滴定＝１００％
過塩素酸滴定：班．５％
シリカゲルプレート上の薄層クロマトグラフィー：溶出
液：ベンゼン／メチルエチルケトンノギ酸（６０：２５
：２０）。
液：ベンゼン／メチルエチルケトンノギ酸（６０：２５
：２０）。
出発酸クロラィド：Ｒ？＝０．８０
縮合生成物：Ｒｒ＝０．７０
【ｂ’Ｎ・Ｎ−ピス（２・４・６−トリョード−３−Ｎ
−メチル一Ｎーアセチルアミノー５ーアミノ−ペンゾイ
ル）ヒドラジド段階‘ａ｝で得られた生成物（７５０夕
、１．２５モル）を、炭酸カリウム（３４５夕、２．５
モル）を加えたジメチルアセトアミド（１．２５０りツ
トル）に溶解し、２・４・６−トリョードー３一Ｎ−メ
チル−Ｎーアセチルアミノー５ーアミノ−安息香酸クロ
ラィド（７５５夕、１．２５モル）をかくはんしがら添
加する。
−メチル一Ｎーアセチルアミノー５ーアミノ−ペンゾイ
ル）ヒドラジド段階‘ａ｝で得られた生成物（７５０夕
、１．２５モル）を、炭酸カリウム（３４５夕、２．５
モル）を加えたジメチルアセトアミド（１．２５０りツ
トル）に溶解し、２・４・６−トリョードー３一Ｎ−メ
チル−Ｎーアセチルアミノー５ーアミノ−安息香酸クロ
ラィド（７５５夕、１．２５モル）をかくはんしがら添
加する。
かくはんしがら５０度Ｃに２日間加熱したあと、反応液
は水（７．５リットル）にあげ、塩酸でｐＨ７に中和し
、生ずる沈殿は吸引炉過し、水洗する。湿材料はメタノ
ール（４リットル）中７０度Ｃで４時間加熱精製し、次
に吸引炉過し、乾燥し、８６９夕の生成物（収率６０％
）をうる。生成物の純度は次のようである。ョー素滴定
９７％ シリカゲルプレート簿層クロマトグラフィー；溶出剤：
ベンゼン／メチルエチルケトン／ギ酸（６０：２５：５
）出発酸クロライド：Ｒｒ＝０．７０ 出発アミ／化合物：Ｒｒ＝０．６０ 縮合生成物：異性体２種：Ｒｒ＝０．３０一０．２２【
ｃ） Ｎ・Ｎ′ービス（２・４・６ートリヨード−３−
Ｎ−メチルーアセチルアミノー５−Ｎーグルコニルアミ
ノ−ペンゾィル）ヒドラジドの製造Ｎ．Ｎ′ービス（２
・４・６−トリヨードー３一Ｎ−メチル一Ｎ−アセチル
アミノー５ーアミノベンゾイル）ヒドラジド（４００夕
；０．３４２モル）をジメチルアセトアミド（７００ｃ
ｃ）に含有する溶液にベンチルアセチル化グルコン酸ク
ロラィド（７２５夕；１．７１モル）を添加する。
は水（７．５リットル）にあげ、塩酸でｐＨ７に中和し
、生ずる沈殿は吸引炉過し、水洗する。湿材料はメタノ
ール（４リットル）中７０度Ｃで４時間加熱精製し、次
に吸引炉過し、乾燥し、８６９夕の生成物（収率６０％
）をうる。生成物の純度は次のようである。ョー素滴定
９７％ シリカゲルプレート簿層クロマトグラフィー；溶出剤：
ベンゼン／メチルエチルケトン／ギ酸（６０：２５：５
）出発酸クロライド：Ｒｒ＝０．７０ 出発アミ／化合物：Ｒｒ＝０．６０ 縮合生成物：異性体２種：Ｒｒ＝０．３０一０．２２【
ｃ） Ｎ・Ｎ′ービス（２・４・６ートリヨード−３−
Ｎ−メチルーアセチルアミノー５−Ｎーグルコニルアミ
ノ−ペンゾィル）ヒドラジドの製造Ｎ．Ｎ′ービス（２
・４・６−トリヨードー３一Ｎ−メチル一Ｎ−アセチル
アミノー５ーアミノベンゾイル）ヒドラジド（４００夕
；０．３４２モル）をジメチルアセトアミド（７００ｃ
ｃ）に含有する溶液にベンチルアセチル化グルコン酸ク
ロラィド（７２５夕；１．７１モル）を添加する。
室温で４斑時間かくはんしてから、反応液を水（５リッ
トル）にあげる。生ずる沈殿は熱水で２度洗いつぎに吸
引炉過する。ェステル分画は、水酸化ナトリウム粒子（
１９２夕）を水（２リットル）に含有する溶液に加えて
けん化する。反応混合物は室温で４時間かくはんし、酢
酸でｐＨ２から５の酸性とする。水溶液はフェ／ール（
６００夕および４００夕）で抽出し、有機相は５００ｃ
ｃの水で４度洗ってから、ジェチルェーテル（３リット
ル）で希釈し、５００ｃｃの水で２度抽出し、４００ｃ
ｃのジェチルェーテルで４度洗う。炭末処理してから水
溶液を減圧で蒸発させ３７８夕の無定型物質（収率７２
％）をうる。粗生成物の純度はつぎのようである。ョー
秦滴定：９５％ 薄層クロマトグラフィー、シリカゲルプレート；溶出剤
：ブタノール／酢酸／水（５０：１１：５）出発アミン
：Ｒｆ＝０．７５一０．８０（２種の異性体）けん化前
の縮合生成物：Ｒｒ＝０．斑一０．７２けん化後の縮合
生成物：Ｒ心１８−０．２２−０．１２＊（３種異性体
）。
トル）にあげる。生ずる沈殿は熱水で２度洗いつぎに吸
引炉過する。ェステル分画は、水酸化ナトリウム粒子（
１９２夕）を水（２リットル）に含有する溶液に加えて
けん化する。反応混合物は室温で４時間かくはんし、酢
酸でｐＨ２から５の酸性とする。水溶液はフェ／ール（
６００夕および４００夕）で抽出し、有機相は５００ｃ
ｃの水で４度洗ってから、ジェチルェーテル（３リット
ル）で希釈し、５００ｃｃの水で２度抽出し、４００ｃ
ｃのジェチルェーテルで４度洗う。炭末処理してから水
溶液を減圧で蒸発させ３７８夕の無定型物質（収率７２
％）をうる。粗生成物の純度はつぎのようである。ョー
秦滴定：９５％ 薄層クロマトグラフィー、シリカゲルプレート；溶出剤
：ブタノール／酢酸／水（５０：１１：５）出発アミン
：Ｒｆ＝０．７５一０．８０（２種の異性体）けん化前
の縮合生成物：Ｒｒ＝０．斑一０．７２けん化後の縮合
生成物：Ｒ心１８−０．２２−０．１２＊（３種異性体
）。
粗物質（１３０のを水（１００ｃｃ）に溶解し、かくは
んしながらエタノール（６００ｃｃ）にゆっくり添加す
る。
んしながらエタノール（６００ｃｃ）にゆっくり添加す
る。
結晶物質は吸引炉取しエタノールで洗い、８３夕の生成
物をうる。これを水（７０ｃｃ）に溶解する。水溶液は
エタノール（４００ｃｃ）にかくはん下に添加する。生
成物は吸引炉敬し、エタノールで洗い、乾燥し、３７夕
（収率：２８％）のほとんど白色の生成物をうる。生成
物の純度はつぎのようである。シリカゲルプレ−ト薄層
クロマトグラフィー：溶出液：ブタノール／酢酸／水（
５０：１１：２５）プレートを乾燥し、２かまたは３種
の異性体が存在する。
物をうる。これを水（７０ｃｃ）に溶解する。水溶液は
エタノール（４００ｃｃ）にかくはん下に添加する。生
成物は吸引炉敬し、エタノールで洗い、乾燥し、３７夕
（収率：２８％）のほとんど白色の生成物をうる。生成
物の純度はつぎのようである。シリカゲルプレ−ト薄層
クロマトグラフィー：溶出液：ブタノール／酢酸／水（
５０：１１：２５）プレートを乾燥し、２かまたは３種
の異性体が存在する。
Ｒｆ＝０．１２、０．１＆ ０．２２
ョ−素滴定：擬％
ナトリウムメトキサィドを用いる滴定：９９．５％。
例３
Ｎ・Ｎ′−ビス（２・４・６ートリヨード−３−Ｎーメ
チルーＮーアセチルアミノー５一Ｎ−グルコニルアミノ
−ペンゾイル）ジメチルヒドラジド【ａ｝ Ｎ・Ｎ′−
ビス（２・４・６−トリヨードー３一Ｎ−メチル−Ｎー
アセチルアミノ−５ーアミノーベンゾィル）ジメチルヒ
ドラジドの製造Ｎ・Ｎ′−ビス（２・４・６−トリヨー
ド−３一Ｎーメチル−Ｎーアセチルアミノ−５ーアミノ
ベンゾイル）ヒドロジド（１１７夕、０．１モル）を２
規定水酸化ナトリウム（２００ｃｃ）およびアセトン（
１５０ｃｃ）とかくはんし、それから、激しくかくはん
しながらジメチルスルフェート（総ｃｃ；０．４モル）
を添加する。
チルーＮーアセチルアミノー５一Ｎ−グルコニルアミノ
−ペンゾイル）ジメチルヒドラジド【ａ｝ Ｎ・Ｎ′−
ビス（２・４・６−トリヨードー３一Ｎ−メチル−Ｎー
アセチルアミノ−５ーアミノーベンゾィル）ジメチルヒ
ドラジドの製造Ｎ・Ｎ′−ビス（２・４・６−トリヨー
ド−３一Ｎーメチル−Ｎーアセチルアミノ−５ーアミノ
ベンゾイル）ヒドロジド（１１７夕、０．１モル）を２
規定水酸化ナトリウム（２００ｃｃ）およびアセトン（
１５０ｃｃ）とかくはんし、それから、激しくかくはん
しながらジメチルスルフェート（総ｃｃ；０．４モル）
を添加する。
２独時間後沈殿を吸引炉遇し、溢水で３度洗い１１０夕
の乾燥材料をうる。
の乾燥材料をうる。
（収率：９１％）。このものは還流メタノール（２５０
ｃｃ）中で２独時間洗い９７夕の乾燥生成物をうる。生
成物の純度はつぎのようである。シリカゲルプレート上
の薄層クロマトグラフィー：溶出液：ベンゼン／メチル
エチルケトン／ギ酸（６０：２５：５）非メチル化生成
物：Ｒｆ＝０．２２−０．３０（２種異性体）メチル化
生成物：Ｒｆ＝０．４５一０．５０。
ｃｃ）中で２独時間洗い９７夕の乾燥生成物をうる。生
成物の純度はつぎのようである。シリカゲルプレート上
の薄層クロマトグラフィー：溶出液：ベンゼン／メチル
エチルケトン／ギ酸（６０：２５：５）非メチル化生成
物：Ｒｆ＝０．２２−０．３０（２種異性体）メチル化
生成物：Ｒｆ＝０．４５一０．５０。
【ｂ’Ｎ．Ｎ′−ビス（２・４・６ートリヨード−３一
ＮーメチルーＮ−アセチルアミノ−９Ｎ−グルコニルア
ミノ−ペンゾイル）ジメチルヒドラジド上記の生成物（
９５夕、０．０８モル）をジメチルァセトアミド（１６
０ｃｃ）に含有する溶液に、ベンターアセチル化グルコ
ン酸クロラィド（１７０夕、０．４０モル）を添加する
。
ＮーメチルーＮ−アセチルアミノ−９Ｎ−グルコニルア
ミノ−ペンゾイル）ジメチルヒドラジド上記の生成物（
９５夕、０．０８モル）をジメチルァセトアミド（１６
０ｃｃ）に含有する溶液に、ベンターアセチル化グルコ
ン酸クロラィド（１７０夕、０．４０モル）を添加する
。
２０度Ｃで４鯨母かきまぜてから、反応液を水（１．６
リットル）にあけ、水で２度洗い、吸引炉過する。
リットル）にあけ、水で２度洗い、吸引炉過する。
水（２００ｃｃ）に１の規定水酸化ナトリウム（１２０
ｃｃ）を加えたものに緑材料をあげ、ェステル官能基を
加水分解する。２０度Ｃで４時間かくはんしたあとで、
混合物は塩酸でｐＨ５一６に中和し、僅かの沈殿を吸引
炉過する。
ｃｃ）を加えたものに緑材料をあげ、ェステル官能基を
加水分解する。２０度Ｃで４時間かくはんしたあとで、
混合物は塩酸でｐＨ５一６に中和し、僅かの沈殿を吸引
炉過する。
生成物は前記のようにフェノールで抽出し、蒸発乾こし
て８３２の生成物をうる。ョー素滴定：９５％ シリカゲルプレート上の簿層クロマトグラフィー：溶出
液：ブタノール／酢酸／水（５０：１１：２５）。
て８３２の生成物をうる。ョー素滴定：９５％ シリカゲルプレート上の簿層クロマトグラフィー：溶出
液：ブタノール／酢酸／水（５０：１１：２５）。
Ｒｒ＝０．１５−０．２０一０．２５（３種の異性体）
。水−ェタ／ールで２度処理して生成物を精製する。
。水−ェタ／ールで２度処理して生成物を精製する。
１５夕の生成物をうる。
例４
Ｎ．Ｎ′ーピス（２・４・６−トリヨードー３一Ｎ−ヒ
ドロキシエチル−カルバミルー５ーグルコニルアミノ−
ペンゾィル）ヒドラジドの製造‘ａ’Ｎ．Ｎ′ーピス（
３−メトキシカルボニル−５−ニトロベンゾィル）ヒド
ラジドの製造５ーメトキシカルボニル−５ーニトロー安
息香酸クロラィド（１０００夕、４．１モル）を水（４
リットル）に含有する懸濁液に、ヒドラジンハィドレー
ト（１０５ｃｃ）および水酸化ナトリウム（１０２夕）
を水（４００ｃｃ）に含有する溶液を添加する。
ドロキシエチル−カルバミルー５ーグルコニルアミノ−
ペンゾィル）ヒドラジドの製造‘ａ’Ｎ．Ｎ′ーピス（
３−メトキシカルボニル−５−ニトロベンゾィル）ヒド
ラジドの製造５ーメトキシカルボニル−５ーニトロー安
息香酸クロラィド（１０００夕、４．１モル）を水（４
リットル）に含有する懸濁液に、ヒドラジンハィドレー
ト（１０５ｃｃ）および水酸化ナトリウム（１０２夕）
を水（４００ｃｃ）に含有する溶液を添加する。
１時間してから水酸化ナトリウム（１００夕）を水（４
００ｃｃ）に含有する溶液を添加する。
００ｃｃ）に含有する溶液を添加する。
２即時間反応混合物をかくはんしてから、酸性とし、生
成物を炉取し、水洗し、９００夕の乾操生成物をうる。
成物を炉取し、水洗し、９００夕の乾操生成物をうる。
収率：班％。シリカゲルプレート上の簿層クロマトグラ
フィー：溶出液：ベンゼン／メチルエチルケトンノギ酸
（６０：２５：２０）：出発物質：Ｒｆ：０．９０ 縮合生成物：Ｒ「＝０．８０ １Ｎ．Ｎ′ービス（３−Ｎーヒドロキシエチルカルバミ
ル−５ーニトｏベンゾイル）ヒドラジドの製造Ｎ．Ｎ′
ービス（３ーメトキシカルポニル一５ーニトロ−ペンゾ
イル）ヒドラジド（５７５夕、１．２９モル）を、エタ
ノールアミン（１．５リットル）およびメタノール（１
リットル）に添加する。
フィー：溶出液：ベンゼン／メチルエチルケトンノギ酸
（６０：２５：２０）：出発物質：Ｒｆ：０．９０ 縮合生成物：Ｒ「＝０．８０ １Ｎ．Ｎ′ービス（３−Ｎーヒドロキシエチルカルバミ
ル−５ーニトｏベンゾイル）ヒドラジドの製造Ｎ．Ｎ′
ービス（３ーメトキシカルポニル一５ーニトロ−ペンゾ
イル）ヒドラジド（５７５夕、１．２９モル）を、エタ
ノールアミン（１．５リットル）およびメタノール（１
リットル）に添加する。
２餌時間かくはんしたあと、反応混合物は水（１リット
ル）で希釈し、水（１０リットル）および塩酸（２リッ
トル）に加える。
ル）で希釈し、水（１０リットル）および塩酸（２リッ
トル）に加える。
生成物は吸引炉過し、炉中で乾燥し、６９４夕の生成物
をうる。還流エタノール中で洗い洗浄する。つぎに乾燥
し、５３８夕（収率：８３％）の生成物をうる。シリカ
ゲルプレート上の薄層クロマトグラフィー：溶出液：ブ
タ／ール／酢酸／水（５０：１１：２５）、ジェステル
生成物：Ｒｆ＝０．９０ アミド化生成物：Ｒｒ＝０．０８ 【ｃ’Ｎ．Ｎ−ビス（３一Ｎーヒドロキシエチルカルバ
ミル−５ーアミ／ペンゾイル）ヒドラジド段階‘ｂ’で
得られたニトロ誘導体（３２６夕；０．６５モル）を、
ヒドラジンハイドレート（３６５ｃｃ）およびラネーニ
ッケルに添加する。
をうる。還流エタノール中で洗い洗浄する。つぎに乾燥
し、５３８夕（収率：８３％）の生成物をうる。シリカ
ゲルプレート上の薄層クロマトグラフィー：溶出液：ブ
タ／ール／酢酸／水（５０：１１：２５）、ジェステル
生成物：Ｒｆ＝０．９０ アミド化生成物：Ｒｒ＝０．０８ 【ｃ’Ｎ．Ｎ−ビス（３一Ｎーヒドロキシエチルカルバ
ミル−５ーアミ／ペンゾイル）ヒドラジド段階‘ｂ’で
得られたニトロ誘導体（３２６夕；０．６５モル）を、
ヒドラジンハイドレート（３６５ｃｃ）およびラネーニ
ッケルに添加する。
２畑時間かくはんしたあと反応混合物はｐＨ３の酸性と
し、炉過し、１規定水酸化ナトリウムを加えてｐＨ５か
ら６とし沈殿させる。
し、炉過し、１規定水酸化ナトリウムを加えてｐＨ５か
ら６とし沈殿させる。
生成物を炉取し、水洗し、３００夕の乾燥物をうる。純
度はつぎのようである。※ シリカゲルプレート上の
薄層クロマトグラフィー：溶出液：ブタノール／酢酸／
水（５０：１１：２５）ニトロ生成物：Ｒｆ＝０．０５
還元生成物：ＲＦＯ．４５ 【ｄ’Ｎ．Ｎ′ービス（２・４・６−トリヨード−３一
Ｎーヒドロキシエチルカルバミルー５ーアミノーペンゾ
イル）ヒドラジドＮ．Ｎ′ービス（３−Ｎ−ヒドロキシ
エチルーカルバミルー５ーアミ／ペンゾイル）ヒドラジ
ド生成物（３００夕、０．６７モル）を水（４．１リッ
トル）および塩酸（１７０ｃｃ）に含有する溶液に、水
（１．６リットル）に塩化カリウム（３７５夕）を含む
溶液に塩化ョー素（２５０ｃｃ）を含有する溶液を添加
する。
度はつぎのようである。※ シリカゲルプレート上の
薄層クロマトグラフィー：溶出液：ブタノール／酢酸／
水（５０：１１：２５）ニトロ生成物：Ｒｆ＝０．０５
還元生成物：ＲＦＯ．４５ 【ｄ’Ｎ．Ｎ′ービス（２・４・６−トリヨード−３一
Ｎーヒドロキシエチルカルバミルー５ーアミノーペンゾ
イル）ヒドラジドＮ．Ｎ′ービス（３−Ｎ−ヒドロキシ
エチルーカルバミルー５ーアミ／ペンゾイル）ヒドラジ
ド生成物（３００夕、０．６７モル）を水（４．１リッ
トル）および塩酸（１７０ｃｃ）に含有する溶液に、水
（１．６リットル）に塩化カリウム（３７５夕）を含む
溶液に塩化ョー素（２５０ｃｃ）を含有する溶液を添加
する。
６０度Ｃで１度かくはんしてから、材料を重亜硫酸で処
理し、吸引炉過し、水洗し、５７０夕の粗生成物をうる
。
理し、吸引炉過し、水洗し、５７０夕の粗生成物をうる
。
生成物は０．２規定水酸化ナトリウム（１１００ｃｃ）
に溶解し、１７規定水酸化ナトリウムで塩析し精製する
。結晶物を水に落籍し、それから塩酸酸性とし、水洗し
、１５０夕の乾燥の生成物をうる。純度はつぎのようで
ある。シリカゲルプレート上の薄届クロマトグラフィー
：溶出液：ベンゼン／メチルエチルケトン／ギ酸（６０
：２５：２０）出発物質のＲ「：０．１５ ヨード生成物のＲｒ：０．２５ ョー素滴定：９７％純度。
に溶解し、１７規定水酸化ナトリウムで塩析し精製する
。結晶物を水に落籍し、それから塩酸酸性とし、水洗し
、１５０夕の乾燥の生成物をうる。純度はつぎのようで
ある。シリカゲルプレート上の薄届クロマトグラフィー
：溶出液：ベンゼン／メチルエチルケトン／ギ酸（６０
：２５：２０）出発物質のＲ「：０．１５ ヨード生成物のＲｒ：０．２５ ョー素滴定：９７％純度。
‘ｅ）Ｎ・Ｎ′−ビス（２・４・６−トリヨードー３一
Ｎ−ヒドロキシエチルカルバミル−５−グルコニルアミ
ノ−ペンゾイル）ヒドラジドＮ．Ｎ′−ビス（２・４・
６−トリヨードー３−Ｎ−ヒドロキシヱチルカルバミル
ー５−アミノーベンゾイル）ヒドラジド（６０夕、０．
０５モル）をジメチルアセトアミド（２００ｃｃ）に含
有する溶液にペンタァセチル化グルコン酸クロラィド（
２１０夕、０．５モル）を添加する。
Ｎ−ヒドロキシエチルカルバミル−５−グルコニルアミ
ノ−ペンゾイル）ヒドラジドＮ．Ｎ′−ビス（２・４・
６−トリヨードー３−Ｎ−ヒドロキシヱチルカルバミル
ー５−アミノーベンゾイル）ヒドラジド（６０夕、０．
０５モル）をジメチルアセトアミド（２００ｃｃ）に含
有する溶液にペンタァセチル化グルコン酸クロラィド（
２１０夕、０．５モル）を添加する。
反応混合物は、２０から２５度Ｃで２蝿時間かくはんし
、水（１リットル）にあげる。吸引炉過し水洗する。ェ
ステル官能基は、湿材料を２規定水酸化ナトリウム（１
．２リットル）で２時間処理することでけん化する。溶
液はつぎに塩酸で柵６の酸性とし、森Ａカーボンブラッ
クで３度処理する。前記方法により、溶液をフェノール
抽出する。つぎに蒸発乾こし、５８夕の細生成物をうる
。シリカゲルプレート上の薄層クロマトグラフィー：溶
出液：ブタノール／酢酸／水（５０：１１：２５）。
、水（１リットル）にあげる。吸引炉過し水洗する。ェ
ステル官能基は、湿材料を２規定水酸化ナトリウム（１
．２リットル）で２時間処理することでけん化する。溶
液はつぎに塩酸で柵６の酸性とし、森Ａカーボンブラッ
クで３度処理する。前記方法により、溶液をフェノール
抽出する。つぎに蒸発乾こし、５８夕の細生成物をうる
。シリカゲルプレート上の薄層クロマトグラフィー：溶
出液：ブタノール／酢酸／水（５０：１１：２５）。
アミノ生成物：Ｒｆ＝０．７０
グルコン酸ェステル生成物：Ｒｆ：０．７５けん化生成
物：Ｒｒ＝０．１ん粗生成物は水−エタノールより分別
結晶し１４夕の精製物をうる。
物：Ｒｒ＝０．１ん粗生成物は水−エタノールより分別
結晶し１４夕の精製物をうる。
純度はつぎのようである。ョー秦滴定：９７％純度シリ
カゲルプレート上の薄層クロマトグラフィー：溶出液：
ブタノール／酢酸／水（５０：１１：２５）：Ｒｒ＝０
．１ふ例５ １・２−Ｎ・Ｎービス（２・４・６−トリヨード−３一
Ｎーヒドロキシエチルカルバミル−５−Ｎーグルコニル
アミノーベンゾイル）ジアミノーェタンの製造（ａ）２
・４・６−トリヨード−３−Ｎーアセトキシェチルカル
バミルー５−アミノ−安息香酸２・４・６ートリヨード
ー３一Ｎーヒドロキシェチルカルバミルー５−アミノ安
息香酸（１３３夕、０．２２モル）をピリジン（５００
ｃｃ）に溶解する。
カゲルプレート上の薄層クロマトグラフィー：溶出液：
ブタノール／酢酸／水（５０：１１：２５）：Ｒｒ＝０
．１ふ例５ １・２−Ｎ・Ｎービス（２・４・６−トリヨード−３一
Ｎーヒドロキシエチルカルバミル−５−Ｎーグルコニル
アミノーベンゾイル）ジアミノーェタンの製造（ａ）２
・４・６−トリヨード−３−Ｎーアセトキシェチルカル
バミルー５−アミノ−安息香酸２・４・６ートリヨード
ー３一Ｎーヒドロキシェチルカルバミルー５−アミノ安
息香酸（１３３夕、０．２２モル）をピリジン（５００
ｃｃ）に溶解する。
酢酸（１３．８ｃｃ、０．２３モル）およびＮ・Ｎ−ジ
シクロヘキシルカルボジイミド（５０夕、０．２４３モ
ル）を添加し、混合物は室温で１６時間かくはんする。
沈殿を吸引炉過し、炉液に、酢酸（６．９ｃｃ、０．１
１５モル）およびＮ・Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイ
ミド（２５夕、０．１２モル）を添加する。室温で２岬
時間かきまぜてから、沈殿を吸引炉遇し、炉液を蒸発乾
こする。濃縮物を水（５００ｃｃ）にとり、室温で２少
時間かくはんし、それから沈殿を吸引炉過する。水洗し
、乾燥する。１０３夕（７３％収率）で２・４・６ート
リヨードー３一Ｎーアセトキシエチルカルバミルー５−
アミノー安息香酸をうる。
シクロヘキシルカルボジイミド（５０夕、０．２４３モ
ル）を添加し、混合物は室温で１６時間かくはんする。
沈殿を吸引炉過し、炉液に、酢酸（６．９ｃｃ、０．１
１５モル）およびＮ・Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイ
ミド（２５夕、０．１２モル）を添加する。室温で２岬
時間かきまぜてから、沈殿を吸引炉遇し、炉液を蒸発乾
こする。濃縮物を水（５００ｃｃ）にとり、室温で２少
時間かくはんし、それから沈殿を吸引炉過する。水洗し
、乾燥する。１０３夕（７３％収率）で２・４・６ート
リヨードー３一Ｎーアセトキシエチルカルバミルー５−
アミノー安息香酸をうる。
生成物の純度はつぎのようである。｛１１ シリカゲル
プレート上の薄層クロマトグラフィー：溶出液：ベンゼ
ン／メチルエチルケトン／ギ酸（６０：２５：２０）Ｒ
ｆ：出発材料＝０．５５ Ｒ「：アセチル化合物＝０．６５ ‘２１ テトラヒドロキシアンモニウム（０．１規定）
で滴定：９４％ョー秦滴定値＝９４％ 【ｂ｝ ２・４・６−トリヨード−３−Ｎーアセトキシ
ェチルカルバミルー５ーアミノ−安息香酸クロライド２
・４・６ートリヨードー３一Ｎーアセトキシェチルカル
バミルー５ーアミ／安息香酸（１０３夕、０．１６０モ
ル）をチオニルクロライド（２５０ｃｃ）に熔解する。
プレート上の薄層クロマトグラフィー：溶出液：ベンゼ
ン／メチルエチルケトン／ギ酸（６０：２５：２０）Ｒ
ｆ：出発材料＝０．５５ Ｒ「：アセチル化合物＝０．６５ ‘２１ テトラヒドロキシアンモニウム（０．１規定）
で滴定：９４％ョー秦滴定値＝９４％ 【ｂ｝ ２・４・６−トリヨード−３−Ｎーアセトキシ
ェチルカルバミルー５ーアミノ−安息香酸クロライド２
・４・６ートリヨードー３一Ｎーアセトキシェチルカル
バミルー５ーアミ／安息香酸（１０３夕、０．１６０モ
ル）をチオニルクロライド（２５０ｃｃ）に熔解する。
溶液は６０度Ｃで２時間加熱し、それから蒸発乾こする
。濃縮液はベンゼン（２００ｃｃ）にとり、蒸発乾こし
１０６夕（収率１００％）の酸クロラィドをうる。さら
に糟製することなしに使用する。シリカゲルプレート上
でクロマトグラフする。
。濃縮液はベンゼン（２００ｃｃ）にとり、蒸発乾こし
１０６夕（収率１００％）の酸クロラィドをうる。さら
に糟製することなしに使用する。シリカゲルプレート上
でクロマトグラフする。
溶出液：ベンゼンノメチルェチルケトン／ギ酸（６０：
２５：２０）。Ｒｆ：出発酸＝０．６５ Ｒｆ：酸クロラィド＝０．９ Ｒｒ：エタノールと縮合後＝０．３５ Ｒｆ：エタノールアミンと縮合後けん化＝０．２５ ｛ｃ’１・２一Ｎ・Ｎ′ービス（２・４・６ートリヨー
ドー３−Ｎーアセトキシエチルカルバミルー５ーアミノ
ベンゾイル）ージアミノーエタン２・４・６−トリヨー
ドー３−Ｎーアセトキシェチルカルバミル−５ーアミノ
安息香酸クロライド（１０６夕、０．１６０モル）をジ
メチルアセトアミド（２００ｃｃ）の溶解し、エチレン
ジアミン（１０．６ｃｃ、０．１６０モル）を滴加する
。
２５：２０）。Ｒｆ：出発酸＝０．６５ Ｒｆ：酸クロラィド＝０．９ Ｒｒ：エタノールと縮合後＝０．３５ Ｒｆ：エタノールアミンと縮合後けん化＝０．２５ ｛ｃ’１・２一Ｎ・Ｎ′ービス（２・４・６ートリヨー
ドー３−Ｎーアセトキシエチルカルバミルー５ーアミノ
ベンゾイル）ージアミノーエタン２・４・６−トリヨー
ドー３−Ｎーアセトキシェチルカルバミル−５ーアミノ
安息香酸クロライド（１０６夕、０．１６０モル）をジ
メチルアセトアミド（２００ｃｃ）の溶解し、エチレン
ジアミン（１０．６ｃｃ、０．１６０モル）を滴加する
。
温度は１５から２０度Ｃまでとする。２０から２５度Ｃ
で４時間かくはんし、エチレンジアミン（５．３ｃｃ、
０．０８０モル）を添加する。
で４時間かくはんし、エチレンジアミン（５．３ｃｃ、
０．０８０モル）を添加する。
溶液はつぎに室温で１母音間かくはんし、それから１リ
ットルの氷水にあげる。生ずる沈殿は吸引炉遇し、水洗
し、乾燥する。３７夕（収率２９％）の物質をうる。
ットルの氷水にあげる。生ずる沈殿は吸引炉遇し、水洗
し、乾燥する。３７夕（収率２９％）の物質をうる。
純度は薄層クロマトグラフィーで調べる。溶出剤は、ベ
ンゼン／メチルエチルケトン／ギ酸（６０：２５：２０
）：Ｒｆ：酸クロラィド＝０．９ Ｒｒ：縮合生成物：０．４ 【ｄ）１・２一Ｎ・Ｎービス（２・４・６ートリヨード
ー３一Ｎ−ヒドロキシエチルカル／ゞミル−５−グルコ
ニルアミノ−ペンゾイル）ージアミ／−工夕ンＡ 縮合 上記生成物（３７夕、０．０２８モル）をジメチルアセ
トアミド（８０ｃｃ）に溶解する。
ンゼン／メチルエチルケトン／ギ酸（６０：２５：２０
）：Ｒｆ：酸クロラィド＝０．９ Ｒｒ：縮合生成物：０．４ 【ｄ）１・２一Ｎ・Ｎービス（２・４・６ートリヨード
ー３一Ｎ−ヒドロキシエチルカル／ゞミル−５−グルコ
ニルアミノ−ペンゾイル）ージアミ／−工夕ンＡ 縮合 上記生成物（３７夕、０．０２８モル）をジメチルアセ
トアミド（８０ｃｃ）に溶解する。
ペンタアセチルグリコン酸クロラィド（４７．５夕、０
．１１２モル）を少量宛添加する。室温で３時間かくは
んしてから溶液は氷水（５００ｃｃ）にあげる。生ずる
ガム状物は結晶化する。沈殿は吸引炉過する。水洗し、
そのままけん化する。Ｂ けん化 縮合生成物は２規定水酸化ナトリウム （１５０ｃｃ）に溶解する。
．１１２モル）を少量宛添加する。室温で３時間かくは
んしてから溶液は氷水（５００ｃｃ）にあげる。生ずる
ガム状物は結晶化する。沈殿は吸引炉過する。水洗し、
そのままけん化する。Ｂ けん化 縮合生成物は２規定水酸化ナトリウム （１５０ｃｃ）に溶解する。
室温で２４時間かきまぜてから、塩酸で溶液を中性とす
る。５０夕のフェノールで３度抽出する。
る。５０夕のフェノールで３度抽出する。
有機相は５０ｃｃの水で３度洗う。ジェチルェーテル（
６００ｃｃ）をフェノール相に加え、つぎに１５０ｃｃ
宛の水で３度抽出する。水溶液は１５０ｃｃ宛のジヱチ
ルェーテルで３度洗い、つぎにチャコール＄Ａで２独特
間室温で処理する。生成物は炉過し蒸発乾こする。１５
夕（収率３０％）の１・２−Ｎ．Ｎ′−ビス（２・４・
６ートリヨードー３一Ｎ−ヒドロキシエチルカルバミル
ー５ーグルコニルアミノーベンゾイル）ジアミノヱタン
をうる。
６００ｃｃ）をフェノール相に加え、つぎに１５０ｃｃ
宛の水で３度抽出する。水溶液は１５０ｃｃ宛のジヱチ
ルェーテルで３度洗い、つぎにチャコール＄Ａで２独特
間室温で処理する。生成物は炉過し蒸発乾こする。１５
夕（収率３０％）の１・２−Ｎ．Ｎ′−ビス（２・４・
６ートリヨードー３一Ｎ−ヒドロキシエチルカルバミル
ー５ーグルコニルアミノーベンゾイル）ジアミノヱタン
をうる。
シリカゲルプレート薄層クロマトグラフィーで純度をみ
る。溶出液：ベンゼンノメチルェチルケトンノギ酸（６
０：２５：２０）Ｒｆ：出発材料＝０．４ Ｒｆ：縮合生成物：０．２ Ｒｆ：けん化生成物＝０．０ ブタノールノ酢酸／水（５０：１１：２５）Ｒｆ：縮合
生成物＝０．８５Ｒｒ：けん化生成物＝０．１５ イソプタノール／イソプロパノール／アンモニヤ（５０
：２０：３０） Ｒｆ：縮合生成物＝０．８５ Ｒｆ：けん化生成物＝０．０５ 例６ １．２−Ｎ一（２・４・６−トリョード−３一Ｎ−ヒド
ロキシエチルカルバミル−５−グルコニルアミノ−ペン
ゾイル）一Ｎ′一（２．４．６ートリヨードー３一Ｎー
メチルカルバミルー５−グルコニルアミノーベンゾイル
）ージアミノーエタン｛ａ’３一（２ーアミノーエチル
カルバミル）一５−ニトロ−安息香酸Ｃ〇〇日 。
る。溶出液：ベンゼンノメチルェチルケトンノギ酸（６
０：２５：２０）Ｒｆ：出発材料＝０．４ Ｒｆ：縮合生成物：０．２ Ｒｆ：けん化生成物＝０．０ ブタノールノ酢酸／水（５０：１１：２５）Ｒｆ：縮合
生成物＝０．８５Ｒｒ：けん化生成物＝０．１５ イソプタノール／イソプロパノール／アンモニヤ（５０
：２０：３０） Ｒｆ：縮合生成物＝０．８５ Ｒｆ：けん化生成物＝０．０５ 例６ １．２−Ｎ一（２・４・６−トリョード−３一Ｎ−ヒド
ロキシエチルカルバミル−５−グルコニルアミノ−ペン
ゾイル）一Ｎ′一（２．４．６ートリヨードー３一Ｎー
メチルカルバミルー５−グルコニルアミノーベンゾイル
）ージアミノーエタン｛ａ’３一（２ーアミノーエチル
カルバミル）一５−ニトロ−安息香酸Ｃ〇〇日 。
２Ｎ／日皿岬
エチレンジアミン（４８０夕、８モル）を水（４００ｃ
ｃ）に含有する溶液にニトロイソフタール酸のモノメチ
ルェステル４５０夕（２モル）を少量宛添加する。
ｃ）に含有する溶液にニトロイソフタール酸のモノメチ
ルェステル４５０夕（２モル）を少量宛添加する。
室温で４糊時間かくはんしてから沈殿を吸引炉取し、水
洗し、乾燥し、３２０夕（収率６３％）の３一（２−ア
ミノ−エチルカルバミル）−５−ニトロ−安息香酸をう
る。生成物の純度はつぎのようである。１ ０．１規定
水酸化ナトリウムで通定＝１０％過塩素酸（酢酸中）で
滴定＝１０３％２ 薄層クロマトグラフィー、溶出液：
ペンゼン／メチルエチルケトン／ギ酸（６０：２５：２
０）；Ｒｒ：出発材料＝０．８ Ｒｆ：縮合生成物＝０．１５ ‘ｂ｝ ３一（２−アミノーエチルカルバミル）−５ー
アミノー安息香酸３−（２ーアミノーエチルカルバミル
）一５ーニトロー安息香酸（２００夕、０．７９モル）
を水（１０００ｃｃ）および濃塩酸（７５ｃｃ）の混合
物に溶解する。
洗し、乾燥し、３２０夕（収率６３％）の３一（２−ア
ミノ−エチルカルバミル）−５−ニトロ−安息香酸をう
る。生成物の純度はつぎのようである。１ ０．１規定
水酸化ナトリウムで通定＝１０％過塩素酸（酢酸中）で
滴定＝１０３％２ 薄層クロマトグラフィー、溶出液：
ペンゼン／メチルエチルケトン／ギ酸（６０：２５：２
０）；Ｒｒ：出発材料＝０．８ Ｒｆ：縮合生成物＝０．１５ ‘ｂ｝ ３一（２−アミノーエチルカルバミル）−５ー
アミノー安息香酸３−（２ーアミノーエチルカルバミル
）一５ーニトロー安息香酸（２００夕、０．７９モル）
を水（１０００ｃｃ）および濃塩酸（７５ｃｃ）の混合
物に溶解する。
パラジウム−炭末（２０夕）をそれに添加し、オートク
レープ中、３一４ｋ９の水素圧下に２時間水素添加する
。生成物を炉過し、炉液を減圧で蒸発乾こする。固型物
はエタノール（５００ｃｃ）にとる。生ずる沈殿は吸引
炉過し、エタノールで洗い、乾燥する。１３０夕（収率
７４％）の３一（２−アミノ−エチルカルバミル）−５
ーアミ／安息香酸をうる。
レープ中、３一４ｋ９の水素圧下に２時間水素添加する
。生成物を炉過し、炉液を減圧で蒸発乾こする。固型物
はエタノール（５００ｃｃ）にとる。生ずる沈殿は吸引
炉過し、エタノールで洗い、乾燥する。１３０夕（収率
７４％）の３一（２−アミノ−エチルカルバミル）−５
ーアミ／安息香酸をうる。
純度はつぎのようである。１ ０．１規定ナトリウムメ
トキサィドで滴定＝９６％酢酸中で過塩素酸で滴定＝９
８％２ 薄層クロマトグラフィー、溶液：酢酸エチル／
イソプロパノール／アンモニヤ（３５：３５：４０）Ｒ
ｆ：出発物質＝０．５５ Ｒｒ：還元生成物＝０．３ 【ｃ’２・４・６ートリヨード−３一（２−アミノ−エ
チルカルバミル）一５−アミノ−安息香酸３一（２ーア
ミノーエチルカルバミル）−５−アミノー安息香酸（９
８夕、０．３８モル）を水（３リットル）および濃塩酸
（総ｃｃ）の混合物に含有する溶液に、無水塩化ョ−素
（２２０夕）を水（５００ｃｃ）に含有する溶液および
塩化カリウム（１０２のを添加する。
トキサィドで滴定＝９６％酢酸中で過塩素酸で滴定＝９
８％２ 薄層クロマトグラフィー、溶液：酢酸エチル／
イソプロパノール／アンモニヤ（３５：３５：４０）Ｒ
ｆ：出発物質＝０．５５ Ｒｒ：還元生成物＝０．３ 【ｃ’２・４・６ートリヨード−３一（２−アミノ−エ
チルカルバミル）一５−アミノ−安息香酸３一（２ーア
ミノーエチルカルバミル）−５−アミノー安息香酸（９
８夕、０．３８モル）を水（３リットル）および濃塩酸
（総ｃｃ）の混合物に含有する溶液に、無水塩化ョ−素
（２２０夕）を水（５００ｃｃ）に含有する溶液および
塩化カリウム（１０２のを添加する。
生ずる混合物を５０度Ｃで２岬時間かくはんし、つぎに
室温で２４時間かくはんする。重亜硫酸塩で処理し、吸
引炉過し、水洗し、生成物を１規定水酸化ナトリウムに
溶解し、２酸化ィオウで酸を沈殿させる。沈殿を吸引炉
過し水洗し乾燥し、９０夕（収率４０％）の２・４・６
ートリヨードー３一（２ーアミノーェチルカルバミル）
一５−アミノー安息香酸をうる。純度はつぎのようであ
る。１ ナトリウムメトキサィド（０．１規定）で滴定
＝１００％ョー素摘定＝９８％ ２ 薄層クロマトグラフィー、溶出液： イソブタノール／イソプロパノールノアンモニヤ（５０
：２０：３０） Ｒｒ：出発物＝０．２５ Ｒｆ：ョー素化合物＝０．３５ ブタ／ール／酢酸／水（５０：１１：２５）Ｒｆ：出発
物＝０．３Ｒｒ：ョー素化合物＝０．３５ 【ｄ｝ ２・４・６−トリヨードー３−アミノー５一〔
２一（２・４‐６−トリｇード−３−Ｎーメチルカルバ
ミ−５−アミノ−ペンゾイル）アミノーェチル〕カルバ
ミル安息香酸２・４・６−トリヨード−３−（２ーアミ
／ーェチルカルバミル）−５ーアミ／安息香酸（８５夕
、０．１４２モル）をジメチルアセトアミド（２００ｃ
ｃ）に含有する懸濁液にトリェチルアミン（３６夕、０
．３５３モル）を存在させ、２・４・６ートリヨードー
３一Ｎーメチルカルバミル−５−アミノー安息香酸クロ
ラィド（８８夕、０．１４８モル）を添加する。
室温で２４時間かくはんする。重亜硫酸塩で処理し、吸
引炉過し、水洗し、生成物を１規定水酸化ナトリウムに
溶解し、２酸化ィオウで酸を沈殿させる。沈殿を吸引炉
過し水洗し乾燥し、９０夕（収率４０％）の２・４・６
ートリヨードー３一（２ーアミノーェチルカルバミル）
一５−アミノー安息香酸をうる。純度はつぎのようであ
る。１ ナトリウムメトキサィド（０．１規定）で滴定
＝１００％ョー素摘定＝９８％ ２ 薄層クロマトグラフィー、溶出液： イソブタノール／イソプロパノールノアンモニヤ（５０
：２０：３０） Ｒｒ：出発物＝０．２５ Ｒｆ：ョー素化合物＝０．３５ ブタ／ール／酢酸／水（５０：１１：２５）Ｒｆ：出発
物＝０．３Ｒｒ：ョー素化合物＝０．３５ 【ｄ｝ ２・４・６−トリヨードー３−アミノー５一〔
２一（２・４‐６−トリｇード−３−Ｎーメチルカルバ
ミ−５−アミノ−ペンゾイル）アミノーェチル〕カルバ
ミル安息香酸２・４・６−トリヨード−３−（２ーアミ
／ーェチルカルバミル）−５ーアミ／安息香酸（８５夕
、０．１４２モル）をジメチルアセトアミド（２００ｃ
ｃ）に含有する懸濁液にトリェチルアミン（３６夕、０
．３５３モル）を存在させ、２・４・６ートリヨードー
３一Ｎーメチルカルバミル−５−アミノー安息香酸クロ
ラィド（８８夕、０．１４８モル）を添加する。
反応混合物は５０度Ｃに１母時間加熱する溶液は水（１
００ｃｃ）にあげ、少量の不落物を炉去したあとで、濃
塩酸でｐＨＩの酸性とする。沈殿は吸引炉過し、水洗し
、乾燥する。１４０夕の生成物を得る。
００ｃｃ）にあげ、少量の不落物を炉去したあとで、濃
塩酸でｐＨＩの酸性とする。沈殿は吸引炉過し、水洗し
、乾燥する。１４０夕の生成物を得る。
これを１規定水酸化ナトリウム（１２０ｃｃ）に溶解す
る。室温で５日かくはんする。沈殿は吸引炉過し水洗す
る。ナトリウム塩を９０度Ｃで水（１２０ｃｃ）に溶解
する。つぎに塩酸でｐＨＩの酸性とする。生成物は吸引
炉過し、水洗し、乾燥し、６８夕（収率３９％）の２・
４・６−トリヨードー３−３アミノー５一〔２−（２・
４・６−トリョード−３一Ｎ−メチルカルバミルー５−
アミ／−ペンゾイル）ーアミノーェチル〕カルバミル−
安息香酸をうる。純度はつぎのようである。１ ０．１
規定水酸化ナトリウム滴定＝１００％２ 薄層クロマト
グラフィー、溶出液：ベンゼンノメチルェチルケトン／
ギ酸（６０：２５：２０）Ｒｆ：出発アミン＝０．０５ Ｒｆ：縮合生成物＝０．４５ （ｅ｝ ２・４・６−トリヨード−３ーアミノー５一〔
２−（２・４・６−トリョード−３一Ｎーメチルカルバ
ミルー５ーアミノーベンゾイル）ーアミノーェチル〕カ
ルバミル−安息香酸クロライド２・４・６−トリヨード
ー３ーアミノ−５−〔２一（２・４・６−トリョード−
３一Ｎ−メチルカルバミル−５ーアミ／ーベンゾイル）
一アミノーェチル〕カルバミルー安息香酸（１１．６夕
、０．１モル）を塩化チオニル（５０ｃｃ）に含有する
懸濁液を１母時間加熱する。
る。室温で５日かくはんする。沈殿は吸引炉過し水洗す
る。ナトリウム塩を９０度Ｃで水（１２０ｃｃ）に溶解
する。つぎに塩酸でｐＨＩの酸性とする。生成物は吸引
炉過し、水洗し、乾燥し、６８夕（収率３９％）の２・
４・６−トリヨードー３−３アミノー５一〔２−（２・
４・６−トリョード−３一Ｎ−メチルカルバミルー５−
アミ／−ペンゾイル）ーアミノーェチル〕カルバミル−
安息香酸をうる。純度はつぎのようである。１ ０．１
規定水酸化ナトリウム滴定＝１００％２ 薄層クロマト
グラフィー、溶出液：ベンゼンノメチルェチルケトン／
ギ酸（６０：２５：２０）Ｒｆ：出発アミン＝０．０５ Ｒｆ：縮合生成物＝０．４５ （ｅ｝ ２・４・６−トリヨード−３ーアミノー５一〔
２−（２・４・６−トリョード−３一Ｎーメチルカルバ
ミルー５ーアミノーベンゾイル）ーアミノーェチル〕カ
ルバミル−安息香酸クロライド２・４・６−トリヨード
ー３ーアミノ−５−〔２一（２・４・６−トリョード−
３一Ｎ−メチルカルバミル−５ーアミ／ーベンゾイル）
一アミノーェチル〕カルバミルー安息香酸（１１．６夕
、０．１モル）を塩化チオニル（５０ｃｃ）に含有する
懸濁液を１母時間加熱する。
反応混合物を冷却し、吸引炉取し、ィソロピルヱーテル
（１００ｃｃ）および酢酸エチル（１００ｃｃ）で洗い
乾燥し、１０夕（収率８４％）の２・４・６ートリョー
ドー３ーアミノ−５−〔２一（２・４・６ートリヨード
ー３一Ｎーメチルカル／ゞミルー５ーアミノーベンゾイ
ル）ーアミノエチル〕力ルバミル−安息香酸クロラィド
をうる。シリカゲル簿層クロマトグラフィーで純度をみ
る。溶出液は、ベンゼン／メチルエチルケトン／ギ酸（
６０：２５：２０）とする。
（１００ｃｃ）および酢酸エチル（１００ｃｃ）で洗い
乾燥し、１０夕（収率８４％）の２・４・６ートリョー
ドー３ーアミノ−５−〔２一（２・４・６ートリヨード
ー３一Ｎーメチルカル／ゞミルー５ーアミノーベンゾイ
ル）ーアミノエチル〕力ルバミル−安息香酸クロラィド
をうる。シリカゲル簿層クロマトグラフィーで純度をみ
る。溶出液は、ベンゼン／メチルエチルケトン／ギ酸（
６０：２５：２０）とする。
＊ Ｒｆ：出発酸＝０．４５
Ｒｒ：酸クロラィド＝０．７
Ｒｒ：プロピルアミンと縮合こ０．６５
Ｒｒ：エタノールアミンと縮合＝０．３０【ｆ）１・２
−Ｎ−（２・４・６ートリョード−３−Ｎーヒドロキシ
エチルカルバミル−５ーアミ／ペンゾイル）−Ｎ′−（
２・４・６−トリヨードー３−Ｎーメチルカルバミル−
５‐アミノベンゾイル）ジアミノーエタン２・４・６ー
トリヨ−ド−３−アミノ−５一〔２一（２・４・６−ト
リョードー３−Ｎ−メチルカルバミル−５ーアミノベン
ゾイル）−アミノーェチル〕カルバミルー安息香酸クロ
ラィド（ｌｏ夕、０．００８５モル）をジメチルアセト
アミド（２０ｃｃ）に溶出する。
−Ｎ−（２・４・６ートリョード−３−Ｎーヒドロキシ
エチルカルバミル−５ーアミ／ペンゾイル）−Ｎ′−（
２・４・６−トリヨードー３−Ｎーメチルカルバミル−
５‐アミノベンゾイル）ジアミノーエタン２・４・６ー
トリヨ−ド−３−アミノ−５一〔２一（２・４・６−ト
リョードー３−Ｎ−メチルカルバミル−５ーアミノベン
ゾイル）−アミノーェチル〕カルバミルー安息香酸クロ
ラィド（ｌｏ夕、０．００８５モル）をジメチルアセト
アミド（２０ｃｃ）に溶出する。
氷水浴で１５度Ｃに冷却してから、エタノールアミン（
１．２ｃｃ、０．０１８７モル）をそれにゆっくり添加
する。室温で４錨時間かきまぜてから、溶液を水（８０
ｃｃ）にあげる。沈殿は吸引炉取し、水洗し、乾燥して
、９．５夕（収率９３％）の１・２一Ｎ−（２・４・６
ートリヨードー３一Ｎ−ヒドロキシエチルカルバミルー
５−アミノ−ペンゾイル）−Ｎ−（２・４・６−トリヨ
ードー３−Ｎ−メチルカルバミルー５−アミノーベンゾ
イル）ージアミノーェタンをうる。純度はつぎのようで
ある。１ シリカゲルプレート上の薄層クロマトグラフ
ィー、溶出液：ベンゼンノメチルェチルケトン／ギ酸 （６０：２５：２０） Ｒｆ：酸ク。
１．２ｃｃ、０．０１８７モル）をそれにゆっくり添加
する。室温で４錨時間かきまぜてから、溶液を水（８０
ｃｃ）にあげる。沈殿は吸引炉取し、水洗し、乾燥して
、９．５夕（収率９３％）の１・２一Ｎ−（２・４・６
ートリヨードー３一Ｎ−ヒドロキシエチルカルバミルー
５−アミノ−ペンゾイル）−Ｎ−（２・４・６−トリヨ
ードー３−Ｎ−メチルカルバミルー５−アミノーベンゾ
イル）ージアミノーェタンをうる。純度はつぎのようで
ある。１ シリカゲルプレート上の薄層クロマトグラフ
ィー、溶出液：ベンゼンノメチルェチルケトン／ギ酸 （６０：２５：２０） Ｒｆ：酸ク。
ライド＝０．６５Ｒｆ：縮合生成物＝０．３
２ ョー素滴定：９６％
鷹）１・２−Ｎ一（２・４・６ートリヨード−３一Ｎ−
ヒドロキシヱチルカル／ゞミル−５ーグルコニルアミノ
ーベンゾイル）一Ｎ′一（２・４・６ードリヨードー３
一Ｎ−メチルカルバミル−５−グルコニルアミノーベン
ゾイル）ージアミノーエタンＡ 縮合 ｛ｆ｝で得られた生成物（９．６夕、０．００７９モル
）をジメチルアセトアミド（２０ｃｃ）に溶解する。
ヒドロキシヱチルカル／ゞミル−５ーグルコニルアミノ
ーベンゾイル）一Ｎ′一（２・４・６ードリヨードー３
一Ｎ−メチルカルバミル−５−グルコニルアミノーベン
ゾイル）ージアミノーエタンＡ 縮合 ｛ｆ｝で得られた生成物（９．６夕、０．００７９モル
）をジメチルアセトアミド（２０ｃｃ）に溶解する。
ペンターアセチルグルコン酸クロラィド（１３．５夕、
０．０３１７モル）をそれに添加する。室温で４劉侍間
経過したら、さらに追加量（３．４夕、０．００７９モ
ル）のペンターアセチルグルコン酸クロラィドを添加す
る。室温で４錨時間かくはんしてから、溶液を１００ｃ
ｃの水にあげる。生ずる非常に硬いガムが結晶化する。
吸引炉取し、水洗し、乾燥し、１２．５夕（収率６７％
）の生成物をうる。これは直接にけん化する。純度は薄
層クロマトグラフィーでみる。
０．０３１７モル）をそれに添加する。室温で４劉侍間
経過したら、さらに追加量（３．４夕、０．００７９モ
ル）のペンターアセチルグルコン酸クロラィドを添加す
る。室温で４錨時間かくはんしてから、溶液を１００ｃ
ｃの水にあげる。生ずる非常に硬いガムが結晶化する。
吸引炉取し、水洗し、乾燥し、１２．５夕（収率６７％
）の生成物をうる。これは直接にけん化する。純度は薄
層クロマトグラフィーでみる。
総出液：ベンゼンノメチルェチルケトン／ギ酸（６０：
２５：２０） Ｒｆ：出発原料＝０．３ Ｒｆ：縮合生成物＝０．３５ Ｂ けん化 縮合生成物（１２．５夕、０．００５３モル）を２規定
水酸化ナトリウム（５０ｃｃ）に溶解する。
２５：２０） Ｒｆ：出発原料＝０．３ Ｒｆ：縮合生成物＝０．３５ Ｂ けん化 縮合生成物（１２．５夕、０．００５３モル）を２規定
水酸化ナトリウム（５０ｃｃ）に溶解する。
２４時間室温に放置してから、少量の不溶物を炉去する
。
。
溶液を塩酸で中和し、２０夕のフェノールで３回抽出す
る。有機相を２０ｃｃの水で３回洗う。ジェチルェーテ
ル（２５０ｃｃ）をフェノール相に添加し、これを５０
ｃｃの水で３回抽出する。水溶液をジェチルェーテル１
００ｃｃで３回洗う。室温で２処時間チャーコール＄Ａ
で処理する。蒸発乾固すると、５夕（収率５４％）の１
・２−Ｎ一（２・４・６−トリヨードー３一Ｎーヒドロ
キシエチルカルバミルー＊ ５ーグルコニルアミノーベ
ンゾイル）−Ｎ−（２・４・６ートリヨードー３−Ｎー
メチルカルバミル−５ーグルコニルアミノーベンゾイル
）ジアミノーエタンをうる。シリカゲル薄層クロマトグ
ラフィーで純度をみる。溶出液：ベンゼン／メチルエチ
ルケトンノギ酸（６０：２５：２０）：Ｒｆ＝０．０ ブタノール／酢酸／水（５０：１１：２５）：Ｒｆ：〇
．・イソフタノールノイソプロパノールノアンモニヤ（
５０：２０：３０）：Ｒｒ＝０．０ｉ式（１）の化合物
は、特に低いオスモラリティ（重量モル浸透圧濃度）値
および低い毒性を特徴としている。
る。有機相を２０ｃｃの水で３回洗う。ジェチルェーテ
ル（２５０ｃｃ）をフェノール相に添加し、これを５０
ｃｃの水で３回抽出する。水溶液をジェチルェーテル１
００ｃｃで３回洗う。室温で２処時間チャーコール＄Ａ
で処理する。蒸発乾固すると、５夕（収率５４％）の１
・２−Ｎ一（２・４・６−トリヨードー３一Ｎーヒドロ
キシエチルカルバミルー＊ ５ーグルコニルアミノーベ
ンゾイル）−Ｎ−（２・４・６ートリヨードー３−Ｎー
メチルカルバミル−５ーグルコニルアミノーベンゾイル
）ジアミノーエタンをうる。シリカゲル薄層クロマトグ
ラフィーで純度をみる。溶出液：ベンゼン／メチルエチ
ルケトンノギ酸（６０：２５：２０）：Ｒｆ＝０．０ ブタノール／酢酸／水（５０：１１：２５）：Ｒｆ：〇
．・イソフタノールノイソプロパノールノアンモニヤ（
５０：２０：３０）：Ｒｒ＝０．０ｉ式（１）の化合物
は、特に低いオスモラリティ（重量モル浸透圧濃度）値
および低い毒性を特徴としている。
式（１）の化合物で得られる結果を次表に示す。
２８％ョー素を含有する水溶液として用いる。
＊耳，雌ｌｂｒｔｉｏｎの方法（Ｉｎｖｅｓｔｉｇａｔ
ｉｖｅ舷ｄｉｏｌｏｇｙ，１９７０，５，１，１３‐３
１）失＊ＨａｌｅｙおよびＭｂｃ Ｃｏｒｎｉｃｋの方
法（Ｂｒｔｉｓｎ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈａｒｍ
ａｃｏｌｏｇｙ，１９５７，１２，１２一１５）。低毒
性の点で、式（１）の化合物は、特に有用なＸ−線造影
剤となる。
ｉｖｅ舷ｄｉｏｌｏｇｙ，１９７０，５，１，１３‐３
１）失＊ＨａｌｅｙおよびＭｂｃ Ｃｏｒｎｉｃｋの方
法（Ｂｒｔｉｓｎ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈａｒｍ
ａｃｏｌｏｇｙ，１９５７，１２，１２一１５）。低毒
性の点で、式（１）の化合物は、特に有用なＸ−線造影
剤となる。
特に、骨ずし、および脈管撮影についてそうである。Ｘ
−線造影剤の有利な医薬しての形態は式（１）の化合物
の水溶液である。
−線造影剤の有利な医薬しての形態は式（１）の化合物
の水溶液である。
水溶液は溶液１００ｃｃについて式（１）の化合物を５
夕から１０タ含有するのが有利である。
夕から１０タ含有するのが有利である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、ｎは０から４までの整数で、Ｒ＿１およびＲ＿
２はそれぞれ独立して、式−ＣＯＮＨＲ＿５（式中、Ｒ
＿５は１から４炭素原子数のアルキル基または１から４
炭素原子数のヒドロキシアルキル基を表わす）を有する
基または式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿６お よびＲ＿７はそれぞれに１から４炭素原子数のアルキル
基を表わす）を有する基を表わし、Ｒ＿３およびＲ＿４
はそれぞれ独立して水素原子または１から４炭素原子数
のアルキル基を表わす〕を有する化合物。 ２ １・２−Ｎ・Ｎ′−ビス（２・４・６−トリヨード
−３−Ｎ−メチル−Ｎ−アセチルアミノ−５−Ｎ−グル
コニルアミノ−ベンゾイル）ジアミノ−エタンである特
許請求の範囲第１項記載の化合物。 ３ 一般式（I） ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、ｎは０から４までの整数で、Ｒ＿１およびＲ＿
２はそれぞれ相互に独立して、式−ＣＯＮＨＲ＿５（式
中、Ｒ＿５は１から４炭素原子数のアルキル基または１
から４炭素原子数のヒドロキシアルキル基を表わす）を
有する基または式▲数式、化学式、表等があります▼ （式 中、Ｒ＿６およびＲ＿７はそれぞれ１から４炭素原子数
のアルキル基を表わす）を有する基を表わし、Ｒ＿３お
よびＲ＿４はそれぞれ独立して水素原子または１から４
炭素原子数のアルキル基を表わす〕を有する化合物の製
造方法であつて、式ハロゲン−ＣＯ（ＣＨＯＨ）＿５Ｈ
（式中ヒドロキシ基は保護されているとする）を有する
酸ハライドと、式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｎ、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３およびＲ＿４は前
記と同じ意味を有する）を有するジアミンとを反応させ
、つぎに生成する縮合生成物をけん化することからなる
上記式（I）の化合物の製造方法。 ４ 一般式（I） ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、ｎは０から４までの整数で、Ｒ＿１およびＲ＿
２はそれぞれ相互に独立して、式−ＣＯＮＨＲ＿５（式
中、Ｒ＿５は１から４炭素原子数のアルキル基または１
から４炭素原子数のヒドロキシアルキル基を表わす）を
有する基または式▲数式、化学式、表等があります▼ （式 中、Ｒ＿６およびＲ＿７はそれぞれ１から４炭素原子数
のアルキル基を表わす）を有する基を表わし、Ｒ＿３お
よびＲ＿４はそれぞれ独立して水素原子または１から４
炭素原子数のアルキル基を表わす〕を有する化合物の製
造方法であつて、式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ′＿１はＲ＿１と同じ意味を有するかまたは
基−ＣＯＯＨを表わし、ｎ、Ｒ＿３およびＲ＿４は前記
に示した意味を有する）を有するアミンと、式▲数式、
化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ′＿２はＲ＿２と同じ基であるがヒドロキシ
基が保護されているものとする）を有する酸クロライド
とを反応させ、つぎに、Ｒ′＿１が基−ＣＯＯＨの時に
は、基−ＣＯＮＨＲ＿５にアミド化することにより式（
II）▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｎ、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３およびＲ＿４は前
記と同じ意味を有する）を有するジアミンを製造し、つ
いで式ハロゲン−ＣＯ（ＣＨＯＨ）＿５Ｈ（式中ヒドロ
キシ基は保護されているとする）を有する酸ハライドと
反応させ、生成する縮合生成物を次いでけん化すること
からなる上記式（I）の化合物の製造方法。 ５ 一般式（I） ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、ｎは０から４までの整数で、Ｒ＿１およびＲ＿
２それぞれ相互に独立して、式−ＣＯＮＨＲ＿５（式中
、Ｒ＿５は１から４炭素原子数のアルキル基または１か
ら４炭素原子数のヒドロキシアルキル基を表わす）を有
する基または式▲数式、化学式、表等があります▼ （式 中、Ｒ＿６およびＲ＿７はそれぞれ１から４炭素原子数
のアルキル基を表わす）を有する基を表わし、Ｒ＿３お
よびＲ＿４はそれぞれ独立して水素原子または１から４
炭素原子数のアルキル基を表わす〕を有する化合物の製
造方法であつて、式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｎ、Ｒ＿３およびＲ＿４は前記の意味を有する
）を有するジアミンを式▲数式、化学式、表等がありま
す▼ （式中Ｒ′＿２はＲ＿２と同じ基であるがヒドロキシ基
が保護されているものとする）を有する酸クロライドと
縮合させることによりＲ＿１およびＲ＿２が同一である
式（II）▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｎ、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３およびＲ＿４は前
記の意味を有する）を有するジアミンを製造し、ついで
式ハロゲン−ＣＯ（ＣＨＯＨ）＿５Ｈ（式中ヒドロキシ
基は保護されているとする）を有する酸ハライドと反応
させ、生成する縮合生成物をついでけん化することから
なる、上記式（I）の化合物の製造方法。 ６ 一般式（I） ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、ｎは０から４までの整数で、Ｒ＿１よびＲ＿２
はそれぞれ相互に独立して、式−ＣＯＮＨＲ＿５（式中
、Ｒ＿５は１から４炭素原子数のアルキル基または１か
ら４炭素原子数のヒドロキシアルキル基を表わす）を有
する基または式▲数式、化学式、表等があります▼ （式 中、Ｒ＿６およびＲ＿７はそれぞれ１から４炭素原子数
のアルキル基を表わす）を有する基を表わし、Ｒ＿３お
よびＲ＿４はそれぞれ独立して水素原子または１から４
炭素原子数のアルキル基を表わす〕を有する化合物の製
造方法であつて、（ａ） 式（V） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｎ、 Ｒ＿３およびＲ＿４は上記のとおりである）のジアミン
と、式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒは１から４炭素原子数のアルキル基、特にメ
チル基とする）を有する酸クロライドとを反応させて、
式▲数式、化学式、表等があります▼ のジエステルとし、 （ｂ） 式（VII）のジエステルと式ＮＨ＿２Ｒ＿５の
アミンとを反応させて、式▲数式、化学式、表等があり
ます▼ のジアミドとし、 （ｃ） 式（VIII）のジアミドのニト基を還元して、式
▲数式、化学式、表等があります▼のジアミンとし、 （ｄ） 式（IX）の化合物をヨウ素化して、式▲数式、
化学式、表等があります▼（式中、ｎ、Ｒ＿３およびＲ
＿４は前記の意味を有する）を有するジアミンを生成さ
せ、つぎに式ハロゲン−ＣＯ（ＣＨＯＨ）＿５Ｈ（式中
ヒドロキシ基は保護されているとする）を有する酸ハラ
イドと反応させ、生成する縮合生成物を次いでけん化す
ることからなる上記式（I）の化合物の製造方法。 ７ 一般式（I） ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、ｎは０から４までの整数で、Ｒ＿１およびＲ＿
２はそれぞれ独立して、式−ＣＯＮＨＲ＿５（式中、Ｒ
＿５は１から４炭素原子数のアルキル基または１から４
炭素原子数のヒドロキシアルキル基を表わす）を有する
基または式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿６お よびＲ＿７はそれぞれに１から４炭素原子数のアルキル
基を表わす）を有する基を表わし、Ｒ＿３およびＲ＿４
はそれぞれ独立して水素原子または１から４炭素原子数
のアルキル基を表わす〕で示される化合物を含有するＸ
−線造影剤。 ８ 式（I）の化合物を水溶液形態で含有する特許請求
の範囲第７項記載のＸ−線造影剤。 ９ 式（I）の化合物を溶液１００ｍｌについて５〜１
００ｇの濃度で含有する特許請求の範囲第８項記載のＸ
−線造影剤。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB24118/75 | 1975-06-04 | ||
| GB24118/75A GB1491129A (en) | 1975-06-04 | 1975-06-04 | Iodo-benzene derivatives and an x-ray contrast medium containing them |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS51146431A JPS51146431A (en) | 1976-12-16 |
| JPS6023108B2 true JPS6023108B2 (ja) | 1985-06-05 |
Family
ID=10206681
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51065109A Expired JPS6023108B2 (ja) | 1975-06-04 | 1976-06-03 | Ｘ線造影剤 |
Country Status (14)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4062934A (ja) |
| JP (1) | JPS6023108B2 (ja) |
| BE (1) | BE842374A (ja) |
| BR (1) | BR7603602A (ja) |
| CA (1) | CA1075712A (ja) |
| CH (1) | CH614700A5 (ja) |
| DE (1) | DE2624153C2 (ja) |
| DK (1) | DK147734B (ja) |
| ES (1) | ES448475A1 (ja) |
| FR (1) | FR2313018A1 (ja) |
| GB (1) | GB1491129A (ja) |
| NL (1) | NL7605980A (ja) |
| NO (1) | NO146907C (ja) |
| SE (1) | SE428921B (ja) |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH626873A5 (ja) * | 1977-03-28 | 1981-12-15 | Bracco Ind Chimica Spa | |
| DE3001292A1 (de) * | 1980-01-11 | 1981-07-16 | Schering Ag Berlin Und Bergkamen, 1000 Berlin | Nichtionische 5-c-substituierte 2,4,6-trijod-isophthalsaeure-derivate |
| DE3038853A1 (de) | 1980-10-10 | 1982-05-27 | Schering Ag, 1000 Berlin Und 4619 Bergkamen | Neue n-hydroxy-alkylierte dicarbonsaeure-bis-(3,5-dicarbamoyl-2,4,6-trijodanilide), deren herstellung und diese enthaltende roentgenkonstrastmittel (ii) |
| FR2511870A1 (fr) * | 1981-08-28 | 1983-03-04 | Guerbet Sa | Procede pour augmenter la tolerance des produits opacifiants, composes utilisables a cet effet et produits opacifiants les contenant |
| US4584401A (en) * | 1983-10-20 | 1986-04-22 | Biophysica Foundation | Methods and compositions involving polyhydroxylated polyiodo non-ionic contrast media |
| DE19875047I2 (de) * | 1984-02-29 | 2001-08-09 | Koehler Chemie Dr Franz | N,N-(3,5-Diacetamido-2,4,6-triiodbenzoyl)-aminoacyl-N-methylglucamide, Verfahren zu deren Herstellung und diese Verbindungen enthaltende Röntgenkontrastmittel. |
| US5117057A (en) * | 1985-10-21 | 1992-05-26 | Rohm And Haas Company | Insecticidal N' substituted-N-N'-disubstituted-hydrazines |
| US5354762A (en) * | 1986-07-14 | 1994-10-11 | Rohm And Haas Company | Six-membered heterocyclic derivatives of N'-substituted N,N'-diacylhydrazines |
| US4985461A (en) * | 1985-10-21 | 1991-01-15 | Rohm And Haas Company | Insecticidal N'-substituted-N,N'-diacylhydrazines |
| US5225443A (en) * | 1986-05-01 | 1993-07-06 | Rohm And Haas Company | Insecticidal N'-substituted-N'-substituted N,N'-diacylhydrazines |
| CA1281716C (en) * | 1986-05-01 | 1991-03-19 | Raymond August Murphy | Insecticidal n-substituted-n'-substituted-n,n'- diacylhydrazines |
| DE4009119A1 (de) * | 1990-03-19 | 1991-09-26 | Schering Ag | 1,4,7,10-tetraazacyclododecan-butyltriole, verfahren zu ihrer herstellung und diese enthaltende pharmazeutische mittel |
| IT1245853B (it) * | 1990-11-16 | 1994-10-25 | Bracco Spa | 1,3-bis(3-(mono o poliidrossi)acilamino-5-(mono o poliidrossi-alchil) aminocarbonil-2,4,6-triiodo-benzoil-amino)-idrossi- o idrossi-alchil- propani, loro metodo di preparazione e mezzi di contrasto roentgenografici che li contengono |
| US6013836A (en) * | 1992-02-28 | 2000-01-11 | Rohm And Haas Company | Insecticidal N'-substituted-N,N'-disubstitutedhydrazines |
| IT1264690B1 (it) * | 1993-07-08 | 1996-10-04 | Bracco Spa | Compositi oligomeri iodurati e composizioni diagnostiche contenenti gli stessi |
| US5888481A (en) * | 1995-09-29 | 1999-03-30 | Alliedsignal Inc. | Cinnamamides and their use as stabilizers |
| WO2009047317A1 (en) * | 2007-10-12 | 2009-04-16 | Ge Healthcare As | Contrast agents |
| JP2011500533A (ja) * | 2007-10-12 | 2011-01-06 | ジーイー・ヘルスケア・アクスイェ・セルスカプ | 造影剤 |
| MX382574B (es) | 2016-09-27 | 2025-03-13 | Bayer Pharma AG | Método para producir la forma cristalina de modificación a de calcobutrol. |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3178473A (en) * | 1962-03-02 | 1965-04-13 | Nyegaard & Co As | Process for the n-alkylation of acyl anilides halogen substituted in the nucleus |
| US3290366A (en) * | 1963-03-06 | 1966-12-06 | Mallinckrodt Chemical Works | 5-amino-nu-alkyl-2, 4, 6-triiodoisophthalamic acid derivatives |
| US3306927A (en) * | 1963-06-06 | 1967-02-28 | Sterling Drug Inc | N,n'-bis(3-amino-5-carboxy-2,4,6-trhodophenyl)-lower-alkanedioic acid amides and derivatives |
| US3541141A (en) * | 1967-06-29 | 1970-11-17 | Squibb & Sons Inc | Bis-triiodoisophthalamic acid compounds |
| US3732293A (en) * | 1968-03-15 | 1973-05-08 | Sterling Drug Inc | Iodinated bis(aminobenzoic acids) and esters thereof |
| CH502104A (de) * | 1968-05-02 | 1971-01-31 | Bracco Ind Chimica Spa | Neue Röntgenkontrastmittel und Verfahren zu ihrer Herstellung |
| DE2031724C3 (de) * | 1969-06-27 | 1979-06-28 | Nyegaard & Co. A/S., Oslo | N-substituierte Trijodbenz- bzw. Jodmethansulfon-am'ide, Verfahren zu deren Herstellung und radiologische Zusammensetzungen |
| US3660469A (en) * | 1969-08-04 | 1972-05-02 | Squibb & Sons Inc | Bis-triiodoisophthalamic acid compounds |
| DD104193A5 (ja) * | 1972-12-22 | 1974-03-05 | ||
| GB1436357A (en) * | 1973-12-07 | 1976-05-19 | Laboraoires Andre Guerbet | Tri-iodo benzene derivatives and their use as x-ray contrast |
| AR207465A1 (es) * | 1974-05-31 | 1976-10-08 | Guerbet Lab Andre | Procedimiento de preparacion de derivados de acido triiodoi2,4,6-(triiodo-2,4,6-benzoil)-amino-alcanoilaminobenzoico de acido triiodo-2,4,6-(triiodo-2,4,6-(triiodo-2,4,6-benzoil)-aminoalcanoilaminobenzoil)-amino-alcanoil-aminobenzoico y de acido triiodo-2,4,6-bis((triiodo-2,4,6-fenil)-carbamoil-metil)-aminoalcanoil-aminobenzoico |
| GB1488903A (en) * | 1974-05-31 | 1977-10-19 | Guerbet Sa | X-ray contrast media |
-
1975
- 1975-06-04 GB GB24118/75A patent/GB1491129A/en not_active Expired
-
1976
- 1976-05-17 FR FR7614807A patent/FR2313018A1/fr active Granted
- 1976-05-17 CH CH612376A patent/CH614700A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1976-05-25 US US05/689,929 patent/US4062934A/en not_active Expired - Lifetime
- 1976-05-25 CA CA253,277A patent/CA1075712A/en not_active Expired
- 1976-05-29 DE DE2624153A patent/DE2624153C2/de not_active Expired
- 1976-05-31 BE BE167459A patent/BE842374A/xx not_active IP Right Cessation
- 1976-06-02 NL NL7605980A patent/NL7605980A/xx not_active Application Discontinuation
- 1976-06-02 ES ES448475A patent/ES448475A1/es not_active Expired
- 1976-06-02 DK DK241876AA patent/DK147734B/da not_active Application Discontinuation
- 1976-06-02 SE SE7606203A patent/SE428921B/xx unknown
- 1976-06-03 NO NO761880A patent/NO146907C/no unknown
- 1976-06-03 JP JP51065109A patent/JPS6023108B2/ja not_active Expired
- 1976-06-04 BR BR3602/76A patent/BR7603602A/pt unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| BE842374A (fr) | 1976-12-01 |
| DE2624153C2 (de) | 1981-10-15 |
| JPS51146431A (en) | 1976-12-16 |
| NO761880L (ja) | 1976-12-07 |
| SE428921B (sv) | 1983-08-01 |
| FR2313018A1 (fr) | 1976-12-31 |
| NL7605980A (nl) | 1976-12-07 |
| NO146907C (no) | 1982-12-29 |
| US4062934A (en) | 1977-12-13 |
| NO146907B (no) | 1982-09-20 |
| SE7606203L (sv) | 1976-12-05 |
| BR7603602A (pt) | 1977-01-18 |
| CA1075712A (en) | 1980-04-15 |
| DK241876A (da) | 1976-12-05 |
| GB1491129A (en) | 1977-11-09 |
| DK147734B (da) | 1984-11-26 |
| FR2313018B1 (ja) | 1979-10-05 |
| ES448475A1 (es) | 1977-07-01 |
| CH614700A5 (ja) | 1979-12-14 |
| DE2624153A1 (de) | 1976-12-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4062934A (en) | X-ray contrast media | |
| US4474747A (en) | Process for increasing the tolerance of X-ray contrast media, and contrast media obtained thereby | |
| CN1476424A (zh) | 萘衍生物 | |
| JPWO1996032366A1 (ja) | ナフトール誘導体およびその製法 | |
| FR2673180A1 (fr) | Nouveaux composes non ioniques poly-iodes, procede de preparation, produit de contraste les contenant. | |
| Zhuang et al. | Derivatives of 4-(2'-Methoxyphenyl)-1-[2'-(N-2''-pyridinyl-p-iodobenzamido) ethyl] piperazine (p-MPPI) as 5-HT1A Ligands | |
| US4065553A (en) | X-Ray contrast media | |
| US3076024A (en) | Acylated 3, 5-diaminopolyhalobenzoic acids | |
| CA2145035A1 (en) | Polyiodinated compounds, process for preparing them and diagnostic compositions | |
| JP2979054B2 (ja) | 骨関節疾患の治療に有用なｎ−〔｛４，５−ジヒドロキシ−及び４，５，８−トリヒドロキシ−９，１０−ジヒドロ−９，１０−ジオキソ−２−アントラセン−イル｝カルボニル〕アミノ酸 | |
| JP4012569B2 (ja) | ヨウ素化造影剤の製造方法 | |
| JPS59193857A (ja) | 非イオン性ヨウド−またはブロモ−ベンゼン化合物、およびそれらを含有するｘ線造影剤 | |
| CN103228620B (zh) | 造影剂的制备方法 | |
| JPH07100684B2 (ja) | 新規なヨー素化非イオン性トリヨードベンゼン化合物 | |
| JPS5852244A (ja) | Ｘ線造影剤に有用なブロモベンゼン化合物 | |
| US3772376A (en) | X-ray contrast agents | |
| JP3024105B2 (ja) | 新規な２−ヒドロキシアルキルパラフェニレンジアミン、その合成法、酸化染色のためのその使用、それを含む染色組成物およびそれを用いた染色法 | |
| CN111302976A (zh) | 一种洗必泰碱的制备方法 | |
| US2571515A (en) | Process of preparing iodinated amino benzoylamino alkanoic acids | |
| JPH08283189A (ja) | ビフェニルヨード化誘導体およびそれらの診断用途 | |
| NO822907L (no) | Brom-jodholdige benzenderivater og roentgen-kontrastmidler inneholdende slike derivater | |
| BE620543A (ja) | ||
| JPH07149765A (ja) | 新規化合物及び該化合物を有効成分とする脳機能改善剤 | |
| JP3171483B2 (ja) | 含フッ素アミノ安息香酸誘導体 | |
| JPS58183669A (ja) | 光学活性なプロピオン酸誘導体の製造方法 |