JPS60231675A - 除草及び植物生長調節作用を有するスルホニル尿素 - Google Patents
除草及び植物生長調節作用を有するスルホニル尿素Info
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- JPS60231675A JPS60231675A JP60077507A JP7750785A JPS60231675A JP S60231675 A JPS60231675 A JP S60231675A JP 60077507 A JP60077507 A JP 60077507A JP 7750785 A JP7750785 A JP 7750785A JP S60231675 A JPS60231675 A JP S60231675A
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- C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
- C07D333/50—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D333/52—Benzo[b]thiophenes; Hydrogenated benzo[b]thiophenes
- C07D333/62—Benzo[b]thiophenes; Hydrogenated benzo[b]thiophenes with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to carbon atoms of the hetero ring
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- A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
- A01N47/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a carbon atom not being member of a ring and having no bond to a carbon or hydrogen atom, e.g. derivatives of carbonic acid
- A01N47/08—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a carbon atom not being member of a ring and having no bond to a carbon or hydrogen atom, e.g. derivatives of carbonic acid the carbon atom having one or more single bonds to nitrogen atoms
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は除草及び植物生長調節作用を有する新規なスル
ホニル尿素、その製造方法、有効成分として該化合物を
含有する組成物並びに有用植物の作付地の雑草の好まし
くは選択的な防除または植物生長の調節及び抑制の為の
該化合物の使用法に関する。さらに、本発明は中間体と
して製造される新規なスルホノアミド及びその誘導体に
関する。
ホニル尿素、その製造方法、有効成分として該化合物を
含有する組成物並びに有用植物の作付地の雑草の好まし
くは選択的な防除または植物生長の調節及び抑制の為の
該化合物の使用法に関する。さらに、本発明は中間体と
して製造される新規なスルホノアミド及びその誘導体に
関する。
本発明は次式I:
Ro
〔式中、
Eは窒素原子またはメチ/橋を表わし、zFi酸素原子
または硫黄原子を表わし、几4は水素原子または炭素原
子数1ないし4のアルキル基金表わし、 R5及びR6は各々独立に水素原子、)・ロゲン原子、
炭素原子数1ないし40アルキル基、炭素原子数1ない
し4のハロアルキル基、炭素原子数1ないし40アルコ
キシ基、炭素原子数1ないし4のハロアルコキシ基、炭
素原子数1ないし4のアルキルチオ基、炭素原子数3な
いし6のジアルコキシアルキル基、炭素原子数1ないし
4のハロアルキルチオ基、炭素原子数2ないし4のアル
コキシアルキル基、炭素原子数3ないし6のシクロアル
キル基または−Nl(,121(,13基を表わし、 GFi次式: で表わされる基を表わし、 R1は水素原子、〕・ロゲ/原子、ニトロ基、炭素原子
数1ないし40アルキル基、炭素原子数1ナイl、、4
(7)アルコキシ基、トリフルオロメチル基、トリフル
オロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、炭素原子数1
ないし4のアルキルカルボニル基または一〇〇〇R14
基を表わし。
または硫黄原子を表わし、几4は水素原子または炭素原
子数1ないし4のアルキル基金表わし、 R5及びR6は各々独立に水素原子、)・ロゲン原子、
炭素原子数1ないし40アルキル基、炭素原子数1ない
し4のハロアルキル基、炭素原子数1ないし40アルコ
キシ基、炭素原子数1ないし4のハロアルコキシ基、炭
素原子数1ないし4のアルキルチオ基、炭素原子数3な
いし6のジアルコキシアルキル基、炭素原子数1ないし
4のハロアルキルチオ基、炭素原子数2ないし4のアル
コキシアルキル基、炭素原子数3ないし6のシクロアル
キル基または−Nl(,121(,13基を表わし、 GFi次式: で表わされる基を表わし、 R1は水素原子、〕・ロゲ/原子、ニトロ基、炭素原子
数1ないし40アルキル基、炭素原子数1ナイl、、4
(7)アルコキシ基、トリフルオロメチル基、トリフル
オロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、炭素原子数1
ないし4のアルキルカルボニル基または一〇〇〇R14
基を表わし。
を表わし、
R3は次式:
で表わされる基を表わし、
Qは酸素原子、硫黄原子または−N九7−を表わし。
Aは酸素原子、硫黄原子、−8O−、−8Oz−または
−(CB、10几”)m−を表わし、m及びnは0,1
または2を表わし、 R7は水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、
炭素原子数6ないし6のシクロアルキル基、べ/ジル基
またはフェニル基ヲ表わしR8は水素原子、炭素原子数
1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアル
コキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数1ないし4のハロ
アルキル基、ニトロ基、−000几14.炭素原子数1
ないし4のハロアルコキシ基1.−Q−C3151(1
6−C(JOR14または一〇 −CR15R五6−C
Nを表わし。
−(CB、10几”)m−を表わし、m及びnは0,1
または2を表わし、 R7は水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、
炭素原子数6ないし6のシクロアルキル基、べ/ジル基
またはフェニル基ヲ表わしR8は水素原子、炭素原子数
1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアル
コキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数1ないし4のハロ
アルキル基、ニトロ基、−000几14.炭素原子数1
ないし4のハロアルコキシ基1.−Q−C3151(1
6−C(JOR14または一〇 −CR15R五6−C
Nを表わし。
R9は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1ないし4
のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、
炭素原子数2ないし4のアルコキシアルキル基または炭
素原子数2ないし4のアルコキシアルコキシ基を表わし
、九10及びR,11は各々独立に水素原子または炭素
原子数1ないし4のアルキル基を表わし、R12及びR
113は各々独立に水素原子または炭素原子数1ないし
40アルキル基を表わし、B14は水素原子、炭素原子
数1ないし4のアルキル基、炭素原子数2ないし4のア
ル斤ニル基、炭素原子数3ないし4のアルキニル基、ま
たは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、〕・ロゲ/
原子もしくはフェニル基で置換された炭素原子数1ない
し40アルキル基を表わし、几15及び凡16は各々水
素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わ
す]で表わされるスルホニル尿素またはその塩に関する
。
のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、
炭素原子数2ないし4のアルコキシアルキル基または炭
素原子数2ないし4のアルコキシアルコキシ基を表わし
、九10及びR,11は各々独立に水素原子または炭素
原子数1ないし4のアルキル基を表わし、R12及びR
113は各々独立に水素原子または炭素原子数1ないし
40アルキル基を表わし、B14は水素原子、炭素原子
数1ないし4のアルキル基、炭素原子数2ないし4のア
ル斤ニル基、炭素原子数3ないし4のアルキニル基、ま
たは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、〕・ロゲ/
原子もしくはフェニル基で置換された炭素原子数1ない
し40アルキル基を表わし、几15及び凡16は各々水
素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わ
す]で表わされるスルホニル尿素またはその塩に関する
。
除草作用を有する尿素、トリアジ/及びピリミジ/は当
該技術分野において公知である。除草及び植物生長調節
作用を有するスルホニル尿素は近年例えばヨーロッパ特
許願第39239号、同第41404号、同第4519
6号、同第57456号、同第64804号及び同第7
0698号に記載されている。
該技術分野において公知である。除草及び植物生長調節
作用を有するスルホニル尿素は近年例えばヨーロッパ特
許願第39239号、同第41404号、同第4519
6号、同第57456号、同第64804号及び同第7
0698号に記載されている。
上記の定義において、アルキル基は直鎖もしくは分枝鎖
のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、n−プロピ
ル基、イノプロピル基またはブチル基の4個の異性体を
表わす。
のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、n−プロピ
ル基、イノプロピル基またはブチル基の4個の異性体を
表わす。
アルコキシ基はメトキシ基、エトキシ基、n−プロビル
オキシ基、インプロピルオキシ基、またはブトキン基の
4個の異性体を表わすが、メトキシ基、エトキシ基また
はインプロピルオキシ基が好ましい。
オキシ基、インプロピルオキシ基、またはブトキン基の
4個の異性体を表わすが、メトキシ基、エトキシ基また
はインプロピルオキシ基が好ましい。
アルキルチオ基は例えばメチルチオ基、エチルチオ基、
n−プロピルチオ基、インプロピルチオ基またはブチル
チオ基の4個の異性体を表わすが、メチルチオ基及びエ
チルチオ基が好ましい。
n−プロピルチオ基、インプロピルチオ基またはブチル
チオ基の4個の異性体を表わすが、メチルチオ基及びエ
チルチオ基が好ましい。
シクロアルキル基は通常、シクロプロピル基、シクロブ
チル基、シクロペンチル基またはシクロヘキシル基を表
わす。
チル基、シクロペンチル基またはシクロヘキシル基を表
わす。
ハロゲン原子それ自体またはハロアルコキシ基、ハロア
ルキルチオ基もしくはハロアルキル基の様な置換基の一
部としてのハロゲンはフッ素原子、塩素原子及び臭素原
子を表わすが、フ・ソ素原子及び塩素原子が好ましい。
ルキルチオ基もしくはハロアルキル基の様な置換基の一
部としてのハロゲンはフッ素原子、塩素原子及び臭素原
子を表わすが、フ・ソ素原子及び塩素原子が好ましい。
ハロアルキル基それ自体またはハロアルコキシ基もしく
はハロアルキルチオ基の部分としてのハロアルキル基と
しては、通常、クロロメチル基、フルオロメチル基、ジ
フルオロメチル基、トリフルオロメチルi、2−クロロ
エチル基、2,2.2−トリフルオロエチル基、1,1
,2.2−テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエ
チル基、1.1.2−)IJフルオロ−2−クロロエチ
ル基、2.2.2− )リフルオロ−1,1−ジクロロ
エチル基、べ/タクロロエチル基、5.5.5− )
IJフルオロプロピル&、2.3−ジクロロプロピル基
、1,1,2,3,3.3−へキサフルオロプロピル基
を表わすが、フルオロメチル基、クロロメチル基 ジフ
ルオロメチル基及ヒトリフルオロメチル基が好ましい。
はハロアルキルチオ基の部分としてのハロアルキル基と
しては、通常、クロロメチル基、フルオロメチル基、ジ
フルオロメチル基、トリフルオロメチルi、2−クロロ
エチル基、2,2.2−トリフルオロエチル基、1,1
,2.2−テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエ
チル基、1.1.2−)IJフルオロ−2−クロロエチ
ル基、2.2.2− )リフルオロ−1,1−ジクロロ
エチル基、べ/タクロロエチル基、5.5.5− )
IJフルオロプロピル&、2.3−ジクロロプロピル基
、1,1,2,3,3.3−へキサフルオロプロピル基
を表わすが、フルオロメチル基、クロロメチル基 ジフ
ルオロメチル基及ヒトリフルオロメチル基が好ましい。
アルコキシアルキル基は例えば、メトキシメチル基、メ
トキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキンエチル
基、エトキシメチル基またはプロポキシメチル基を表わ
す。アルコキシアルコキシ基は例えはメトキシメトキシ
基、メトキシエトキシ基、メトキシプロピルオキシ基、
エトキシメトキシ基、エトキシエトキシ基及びプロピル
オキシメトキシ基を表わす。本発明の範囲内においてジ
アルコキシアルキル基は通常下記に示す基を表わすもの
と理解されたいニジメトキシメチル基、2.2−ジメト
キシエチル基、1.2−ジメトキシエチル基、1.2−
ジェトキシエチル基、2.2−ジェトキシエチル基、2
.2−ジメトキシプロピル基、3,5−ジメトキシプロ
ピル基、1,1−ジメトキシエチル基、1.1−ジェト
キシエチル基、1,1−ジメトキシプロピル基、2,6
−ジメトキシプロピル基、1.1−ジメトキシブチル基
、2.2− ジメトキシブチル某−5−3−−・ンメト
キ・ンゴキル其 AA−、−ン4トキシブチル基、好ま
しくはアセタールを選択してもよいジェム−ジアルコキ
シアルキル基。
トキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキンエチル
基、エトキシメチル基またはプロポキシメチル基を表わ
す。アルコキシアルコキシ基は例えはメトキシメトキシ
基、メトキシエトキシ基、メトキシプロピルオキシ基、
エトキシメトキシ基、エトキシエトキシ基及びプロピル
オキシメトキシ基を表わす。本発明の範囲内においてジ
アルコキシアルキル基は通常下記に示す基を表わすもの
と理解されたいニジメトキシメチル基、2.2−ジメト
キシエチル基、1.2−ジメトキシエチル基、1.2−
ジェトキシエチル基、2.2−ジェトキシエチル基、2
.2−ジメトキシプロピル基、3,5−ジメトキシプロ
ピル基、1,1−ジメトキシエチル基、1.1−ジェト
キシエチル基、1,1−ジメトキシプロピル基、2,6
−ジメトキシプロピル基、1.1−ジメトキシブチル基
、2.2− ジメトキシブチル某−5−3−−・ンメト
キ・ンゴキル其 AA−、−ン4トキシブチル基、好ま
しくはアセタールを選択してもよいジェム−ジアルコキ
シアルキル基。
アルキニル基はビニル基、アリル基、2−ブテニル基、
6−ブテニル基またはメタリル基を表わす。アルキニル
基はプロパルギル基、2−ブチニル基または3−ブチニ
ル基を表わす。アリル基及びプロパルギル基が好ましい
。
6−ブテニル基またはメタリル基を表わす。アルキニル
基はプロパルギル基、2−ブチニル基または3−ブチニ
ル基を表わす。アリル基及びプロパルギル基が好ましい
。
アルキルカルボニル基は特にアセチル基、プロピオニル
基、ブチリル基、インブチリル基、バレリル基、インバ
レリル基またはピバロイル基を表わす。
基、ブチリル基、インブチリル基、バレリル基、インバ
レリル基またはピバロイル基を表わす。
上記式中のGについて定義された芳香族複素環基は例え
ば下記の塩基性複素環基を表わす:ビリジン、ピロール
、フラノ、チオフェン、ベンゾ[b)チオフェノ、べ/
ゾCb)フラン またはインドール。
ば下記の塩基性複素環基を表わす:ビリジン、ピロール
、フラノ、チオフェン、ベンゾ[b)チオフェノ、べ/
ゾCb)フラン またはインドール。
本発明はまた、式Iの化合物とアミン、アルカリ金属塩
基、アルカリ土類金属塩基、またけ第四アンモニウム塩
基から形成し得る塩をも包含するものである。
基、アルカリ土類金属塩基、またけ第四アンモニウム塩
基から形成し得る塩をも包含するものである。
好ましい塩形成アルカリ金属水酸化物及びアルカリ土類
金属水酸化物はリチウム、ナトリウム、カリウム、マグ
ネシウムまたはカルシウムの水酸化物であり、ナトリウ
ムまたはカリウムの水酸化物が最も好ましい。
金属水酸化物はリチウム、ナトリウム、カリウム、マグ
ネシウムまたはカルシウムの水酸化物であり、ナトリウ
ムまたはカリウムの水酸化物が最も好ましい。
適する塩形成アミンの例として、メチルアミン1エチル
アミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ブチル
了ばンの4個の異性体、ジメチルアミン、ジエチルアミ
ン、ジェタノールアばノ、ジプロピルアミン、ジインプ
ロピルアミン、ジ−n−ブチルアミン、ピロリジン、ピ
ペリジン、モルホリン、トリメチルアミン、トリエチル
アミン、トリプロピルアミノ、キヌクリジ/、ピリジン
、キノリ/及びイソキノリ/の様な第一、第二及び第三
脂肪族並びに芳香族アミ/が挙げられる。好ましいアミ
ンはエチルアミノ、プロピル了ハ、/、ジェチルアばノ
またはトリエチルアミンであり、イノプロピルアミン、
ジェタノールアミン及び1.4−ジアザビシクロ(2,
2,2)オクタンが最も好ましい。
アミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ブチル
了ばンの4個の異性体、ジメチルアミン、ジエチルアミ
ン、ジェタノールアばノ、ジプロピルアミン、ジインプ
ロピルアミン、ジ−n−ブチルアミン、ピロリジン、ピ
ペリジン、モルホリン、トリメチルアミン、トリエチル
アミン、トリプロピルアミノ、キヌクリジ/、ピリジン
、キノリ/及びイソキノリ/の様な第一、第二及び第三
脂肪族並びに芳香族アミ/が挙げられる。好ましいアミ
ンはエチルアミノ、プロピル了ハ、/、ジェチルアばノ
またはトリエチルアミンであり、イノプロピルアミン、
ジェタノールアミン及び1.4−ジアザビシクロ(2,
2,2)オクタンが最も好ましい。
第四ア/モ、=ラム塩基の例として、通常、ハロゲン化
アンモニウム塩の陽イオン、例えばテトラメチルアンモ
ニウム陽イオン、テトラエチルアンモニウム陽イオン、
トリメチルエチルアンモニウム陽イオ/及びさらにアン
モニウム陽イオンが挙けられる。
アンモニウム塩の陽イオン、例えばテトラメチルアンモ
ニウム陽イオン、テトラエチルアンモニウム陽イオン、
トリメチルエチルアンモニウム陽イオ/及びさらにアン
モニウム陽イオンが挙けられる。
式Iの化合物の中で、
a)Zが酸素原子を表わすか、または
b)凡lが水素原子、C1、F 、 CHs 、 C2
H5゜CH30、CF3. CH3COを表わすか、ま
たはc)R5及びH,bが併せて4個より多い炭素原子
を含有せず、几4が水素原子を表わすか、または d)Gが3−フェニルピリジ/−2−イル基を表わすか
、または e)Gが2−フェニルベンゾCb) チオフェ/−5−
イル基もしくは2−フェノキシベンゾCb)チオフエ/
−5−イル基を表わすが、または f) Gが未置換またはC1、CH,もしくはCH30
テ置換すした3−フェニルチオフェン−2−イル&、3
−フェノキシチオフェン−5−イA4またFi、2−フ
ェニルチオフェン−3−イル基を表わすか、または g)Gが3−フェニルフラ7−2−、lル基マたは2−
フェニルフラノ−3−イル基ヲ表わすか、または、 h) ()が2−(炭素原子数1ないし4のアルコキシ
)カルボニル−4−フェニルチオフェ/−3−イル基ま
たは2−(炭素原子数1なイシ4 ノアルコキシ)カル
ボニル−5−フェニルチオフェ/−3−イル基を表わす
化合物が好ましい。
H5゜CH30、CF3. CH3COを表わすか、ま
たはc)R5及びH,bが併せて4個より多い炭素原子
を含有せず、几4が水素原子を表わすか、または d)Gが3−フェニルピリジ/−2−イル基を表わすか
、または e)Gが2−フェニルベンゾCb) チオフェ/−5−
イル基もしくは2−フェノキシベンゾCb)チオフエ/
−5−イル基を表わすが、または f) Gが未置換またはC1、CH,もしくはCH30
テ置換すした3−フェニルチオフェン−2−イル&、3
−フェノキシチオフェン−5−イA4またFi、2−フ
ェニルチオフェン−3−イル基を表わすか、または g)Gが3−フェニルフラ7−2−、lル基マたは2−
フェニルフラノ−3−イル基ヲ表わすか、または、 h) ()が2−(炭素原子数1ないし4のアルコキシ
)カルボニル−4−フェニルチオフェ/−3−イル基ま
たは2−(炭素原子数1なイシ4 ノアルコキシ)カル
ボニル−5−フェニルチオフェ/−3−イル基を表わす
化合物が好ましい。
さらに好ましい式1の化合物の副群は、aa) 7.が
酸素原子を表わし、R4が水素原子を表わし、そしてG
が6−フェニルピリジン−2−イル基を表わし、そして
R5及びl(,6が併せて4個より多い炭素原子を含有
しないが、または bb) zが酸素原子を表わし、 R4が水素原子を表
わし、そしてGが2−フェニルベンゾ〔b〕チスフェン
−5−イル基または2−フェノキシベンゾCblチオフ
ェ/−5−イル基を表わし、そしてR5及びR6が併せ
て4個よね多い炭素原子を含有しないか、または cc) 7.が酸素原子を表わし、l(,4が水素原子
を表わし、G7)R3−フェニルチオフェノ−2−イル
基、5−フェノキシチオフェ/−2−イル基、2−フェ
ニルチオフェン−3−イル基、3−フェニルフラノ−2
−イル基マタハ2−フェニルフラン−3−イル基ヲ表わ
し、そして凡5及びR6が併せて4個より多い炭素原子
を含有しないか、または dd) Zが酸素原子を表わし、R4が水素原子を表わ
し、Gが2−(炭素原子数1ないし4のアルコキシ)カ
ルボニル−4−フェニルチオフェン−5−イル基または
2−(炭素原子数1ないし4のアルコキシ)カルボニル
−5−フェニルチオフェ/−6−イル基ヲ表わし、そし
て艶及びR6は併せて4個より多い炭素原子を含有しな
い化合物を含む。
酸素原子を表わし、R4が水素原子を表わし、そしてG
が6−フェニルピリジン−2−イル基を表わし、そして
R5及びl(,6が併せて4個より多い炭素原子を含有
しないが、または bb) zが酸素原子を表わし、 R4が水素原子を表
わし、そしてGが2−フェニルベンゾ〔b〕チスフェン
−5−イル基または2−フェノキシベンゾCblチオフ
ェ/−5−イル基を表わし、そしてR5及びR6が併せ
て4個よね多い炭素原子を含有しないか、または cc) 7.が酸素原子を表わし、l(,4が水素原子
を表わし、G7)R3−フェニルチオフェノ−2−イル
基、5−フェノキシチオフェ/−2−イル基、2−フェ
ニルチオフェン−3−イル基、3−フェニルフラノ−2
−イル基マタハ2−フェニルフラン−3−イル基ヲ表わ
し、そして凡5及びR6が併せて4個より多い炭素原子
を含有しないか、または dd) Zが酸素原子を表わし、R4が水素原子を表わ
し、Gが2−(炭素原子数1ないし4のアルコキシ)カ
ルボニル−4−フェニルチオフェン−5−イル基または
2−(炭素原子数1ないし4のアルコキシ)カルボニル
−5−フェニルチオフェ/−6−イル基ヲ表わし、そし
て艶及びR6は併せて4個より多い炭素原子を含有しな
い化合物を含む。
式■の好ましい個々の化合物として、
N−(2−フェニルベンツ〔b〕チオフェン−3−イル
スルホニル)−N’−(4−メトキシ−6−メチル−ピ
リミジン−2−イル)尿素及び N−(2−メトキシカルボニル−4−フェニルチオフェ
ン−3−イルスルホニル) −N’−(a−メトキシ−
6−メチルピリミジ/−2−イル)尿素が挙げられる。
スルホニル)−N’−(4−メトキシ−6−メチル−ピ
リミジン−2−イル)尿素及び N−(2−メトキシカルボニル−4−フェニルチオフェ
ン−3−イルスルホニル) −N’−(a−メトキシ−
6−メチルピリミジ/−2−イル)尿素が挙げられる。
式■の化合物は通常下記の方法により製造される。
第1の方法によると、次式■:
G−80□−NH2(Ill
(式中、Gは前記式Iで定義した意味を表わす)で表わ
されるスルホノアミドを塩基の存在(式中、E 、 R
4、85、kL6及びZは前記式Iで定義した意味を表
わし、几はフェニル基、アルキル基または置換フェニル
基を表わす)で表わされるカルバメートと反応させるこ
とによゆ式Iの化合物1に製造する。
されるスルホノアミドを塩基の存在(式中、E 、 R
4、85、kL6及びZは前記式Iで定義した意味を表
わし、几はフェニル基、アルキル基または置換フェニル
基を表わす)で表わされるカルバメートと反応させるこ
とによゆ式Iの化合物1に製造する。
第2の方法によると、次式■:
G−80,−NH−C−0−R(IV11
(式中、G及び2は前記式Iで定義した意味を表わし、
′kLはフェニル基、アルキル基または置換フェニル基
を表わす)で表わされるスルホニルカルバメートを次式
■: (式中、E 、 R4、凡5及びR6は前記式Iで定修
した意味を表わす)で表わされるアミンと反応させるこ
とにより式Iの化合物を製造する。
′kLはフェニル基、アルキル基または置換フェニル基
を表わす)で表わされるスルホニルカルバメートを次式
■: (式中、E 、 R4、凡5及びR6は前記式Iで定修
した意味を表わす)で表わされるアミンと反応させるこ
とにより式Iの化合物を製造する。
さらに別の方法によると、次式■:
G−802−N=C;=Z (Vll
(式中、G及びZはffJ記式lで定義ヒた意味を表わ
す)で表わされるスルホニルイノシアネートを次式■: (式中、E 、 R4、R5及びR6は前記式Iで定義
した意味t−表わす)で表わされるアミンと反応させる
ことにより式■の化合物を製造する。
す)で表わされるスルホニルイノシアネートを次式■: (式中、E 、 R4、R5及びR6は前記式Iで定義
した意味t−表わす)で表わされるアミンと反応させる
ことにより式■の化合物を製造する。
所望により、得られた式Iの尿素をアミン、アルカリ金
属水酸化物、アルカリ土類金属の水酸化Th1tたは第
四アンモニウム塩基との付加塩に転化することもできる
。これは当量の塩基と反応させ、溶媒を留去することに
より行なわれる。
属水酸化物、アルカリ土類金属の水酸化Th1tたは第
四アンモニウム塩基との付加塩に転化することもできる
。これは当量の塩基と反応させ、溶媒を留去することに
より行なわれる。
式lの化合物を製造する為のこれらの反応は非プロトン
性の不活性有機溶媒中で行なうのが有利である。その様
な溶媒の例として、べ/ゼン、トルエン、キンレノtだ
hシクロヘキサ/の様な炭化水素、四塩化炭素、または
クロロベンゼン;ジエチルエーテル、エチレンクリコー
ルジメチルエーテル、ジエチレンクリコールジメチルエ
ーテル、テトラヒドロフラノまたはジオキサンの様なエ
ーテル、アセトニトリルまたはプロピオニトリルの様な
ニトリル:ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミ
ドまたはN−メチルビロリジノノの様なアミドが挙げら
れる。反応温度は好壕しくは−20ないし+120℃の
範囲である。カップリング灰石は通常わずかに発熱反応
であり、室温で実施できる。反応時間の短縮または反応
開始の為に反応混合物を短時間沸点温度に加熱するのが
有利である。反応時間は触媒としての塩基を数滴添加す
ることによっても短縮され得る。好ましい塩基はトリメ
チルアミン、トリエチルアミノ、キヌクリジン、1.4
−ジアザビシクロ(2,2,2)オクタン、1.5−ジ
アザビシクロ(4,s、01ノン−5−エンまたは1.
8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセ−7−二/
の様な第三アミ7である。
性の不活性有機溶媒中で行なうのが有利である。その様
な溶媒の例として、べ/ゼン、トルエン、キンレノtだ
hシクロヘキサ/の様な炭化水素、四塩化炭素、または
クロロベンゼン;ジエチルエーテル、エチレンクリコー
ルジメチルエーテル、ジエチレンクリコールジメチルエ
ーテル、テトラヒドロフラノまたはジオキサンの様なエ
ーテル、アセトニトリルまたはプロピオニトリルの様な
ニトリル:ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミ
ドまたはN−メチルビロリジノノの様なアミドが挙げら
れる。反応温度は好壕しくは−20ないし+120℃の
範囲である。カップリング灰石は通常わずかに発熱反応
であり、室温で実施できる。反応時間の短縮または反応
開始の為に反応混合物を短時間沸点温度に加熱するのが
有利である。反応時間は触媒としての塩基を数滴添加す
ることによっても短縮され得る。好ましい塩基はトリメ
チルアミン、トリエチルアミノ、キヌクリジン、1.4
−ジアザビシクロ(2,2,2)オクタン、1.5−ジ
アザビシクロ(4,s、01ノン−5−エンまたは1.
8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセ−7−二/
の様な第三アミ7である。
しかしながら、使用する塩基は燕機塩基、例えば水素化
ナトリウムまたは水素化カルシウムの様な水素化物、水
酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムの様な水酸化物、
炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウムの様な炭酸塩、また
は炭酸水素カリウムまたは炭酸水素ナトリウムの様な炭
酸水素塩でもよい。
ナトリウムまたは水素化カルシウムの様な水素化物、水
酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムの様な水酸化物、
炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウムの様な炭酸塩、また
は炭酸水素カリウムまたは炭酸水素ナトリウムの様な炭
酸水素塩でもよい。
式Iの最終生成物は濃縮及び/または溶媒の留去により
単離され、固体残漬をそれらが難溶である溶媒、例えば
エーテル、芳香族炭化水素または塩素化炭化水素中で再
結晶または粉砕することにより精製される。
単離され、固体残漬をそれらが難溶である溶媒、例えば
エーテル、芳香族炭化水素または塩素化炭化水素中で再
結晶または粉砕することにより精製される。
上記式■、■及び■の中間体は新規である。
該化合物は式■の化合物の合成の為に特に開発されたも
のであり、従って本発明の目的を構成する。
のであり、従って本発明の目的を構成する。
弐■の中間体はそれ自体公知方法により製造される。例
えば式■の化合物は、塩酸中で次式■ G −NH2(資) (式中、Gは上記式Iで定義した意味を表わす)で表わ
されるアミンをジアゾ化し、得られたジアゾ基を塩化銅
の様な触媒の存在下で二酸化硫黄と反応させ、得られた
次式■: G −802−C1@ (式中、Gは上記式Iで定義した意味を表わス)で表わ
される塩化スルホニルをアンモニアと反応させることに
より製造される。対応する出発物質のアミンは公知であ
るか、または公知方法、例えば対応するニトロ化合物を
還元することにより製造できる。
えば式■の化合物は、塩酸中で次式■ G −NH2(資) (式中、Gは上記式Iで定義した意味を表わす)で表わ
されるアミンをジアゾ化し、得られたジアゾ基を塩化銅
の様な触媒の存在下で二酸化硫黄と反応させ、得られた
次式■: G −802−C1@ (式中、Gは上記式Iで定義した意味を表わス)で表わ
される塩化スルホニルをアンモニアと反応させることに
より製造される。対応する出発物質のアミンは公知であ
るか、または公知方法、例えば対応するニトロ化合物を
還元することにより製造できる。
さらに、式■の化合物は次式■:
G −SO,−0H
(式中、Gは上記式■で定義した意味を表わす)で表わ
されるスルホン酸を、PCl3. POCts。
されるスルホン酸を、PCl3. POCts。
C0Ctzまたは5OC1xの様な塩素化剤で処理して
式■の塩化スルホニルに転化し、これをアンモニアと反
応させることにより製造される。
式■の塩化スルホニルに転化し、これをアンモニアと反
応させることにより製造される。
同様に式■の化合物は次式X:
G −S −CHz −C5Hs 00(式中、Gは上
記式Iで定義した意味を表わす)で表わされるペンジル
チオエーテルヲ塩素で処理し、得られた式■のスルホニ
ルクロライドをアンモニアと反応させることにより得ら
れる。
記式Iで定義した意味を表わす)で表わされるペンジル
チオエーテルヲ塩素で処理し、得られた式■のスルホニ
ルクロライドをアンモニアと反応させることにより得ら
れる。
場合により、式■の塩化スルホニルは次式X:G−H(
至) (式中、Gは上記式Iで定義した意味を表わす)で表わ
される置換化合物をクロロスルホン酸: C45O,H
で直接塩化スルホニル化することにより得られる。
至) (式中、Gは上記式Iで定義した意味を表わす)で表わ
される置換化合物をクロロスルホン酸: C45O,H
で直接塩化スルホニル化することにより得られる。
弐■のフェニルスルホニルイソシアネートは、例えば弐
Bのスルホンアミドをブチルイソシアネートの存在下、
不活性溶媒中、還流温度でホスゲン化することにより得
られる。類似の反応がNeuere Methoden
der prMparativs助organisc
hen Chemie″、第■巻、第211〜229頁
、Verlag Chemie、 Weinheim、
1970年に記載されている。
Bのスルホンアミドをブチルイソシアネートの存在下、
不活性溶媒中、還流温度でホスゲン化することにより得
られる。類似の反応がNeuere Methoden
der prMparativs助organisc
hen Chemie″、第■巻、第211〜229頁
、Verlag Chemie、 Weinheim、
1970年に記載されている。
式■のイソシアネートは式■のスルホンアミドを二硫化
炭素及び水酸化カリウムで処理し、続いて得られたニカ
リウム塩をホスゲン化することにより得られる。その様
な方法はArch、Pharm。
炭素及び水酸化カリウムで処理し、続いて得られたニカ
リウム塩をホスゲン化することにより得られる。その様
な方法はArch、Pharm。
Lひ、 174(1966)に記載されている。
式IVノフェニルスルホニルカルバメ−)u、式■のス
ルホンアミドを塩基の存在下で炭酸塩と反応させること
により製造される。類似方法が日本国特許第61169
号明細書に記載されている。
ルホンアミドを塩基の存在下で炭酸塩と反応させること
により製造される。類似方法が日本国特許第61169
号明細書に記載されている。
出発物質としての式■のアミノピリミジン及びアミノト
リアジン並びに対応する弐mのカルバメートは公知であ
るか、または公知方法により文献に記載の化合物から製
造され得る。
リアジン並びに対応する弐mのカルバメートは公知であ
るか、または公知方法により文献に記載の化合物から製
造され得る。
式■、■、■、X及びXの化合物は公知であるか、また
公知方法に類似した方法により製造され得る。
公知方法に類似した方法により製造され得る。
弐■の化合物は安定な化合物であり、それらを処理する
にあたって何らの防護措置も必要としない。
にあたって何らの防護措置も必要としない。
低い施用比率で用いた場合には、式lで表わされる化合
物は良好な選択的生長抑制および選択的除草特性を有し
、そのため有用植物、好ましくは穀物、棉、大豆、とう
もろこしおよび最も好ましくは稲の収穫のためにこれら
を使用するのが好ましい。いくつかの場合においては現
在総合除草剤によってのみ防除される雑草に対してもま
た損傷を与えることができる。
物は良好な選択的生長抑制および選択的除草特性を有し
、そのため有用植物、好ましくは穀物、棉、大豆、とう
もろこしおよび最も好ましくは稲の収穫のためにこれら
を使用するのが好ましい。いくつかの場合においては現
在総合除草剤によってのみ防除される雑草に対してもま
た損傷を与えることができる。
これらの化合物の作用形態は通常の場合とは異なる。多
くは転流可能であり、すなわちこれらは植物によって吸
収され、次いでこれらが作用する他の部所に移動する。
くは転流可能であり、すなわちこれらは植物によって吸
収され、次いでこれらが作用する他の部所に移動する。
それ故例えば表面処理により多年生雑草の根に損傷を与
えることが可能である。他の除草剤および生長抑制剤に
比べて、式■で表わされる新規な化合物は非常に低い施
用比率で′用いられた場合でも効果がある。
えることが可能である。他の除草剤および生長抑制剤に
比べて、式■で表わされる新規な化合物は非常に低い施
用比率で′用いられた場合でも効果がある。
式Iで表わされる化合物は生長調節、特に生長防止特性
を示す。単子葉植物および双子葉植物双方の生長が妨げ
られる。
を示す。単子葉植物および双子葉植物双方の生長が妨げ
られる。
それ故例えば式Iで表わされる化合物は熱帯地域で間作
としてしばしば栽培される豆科植物の生長を防止するこ
とができるので、その結果、栽培植物の間の土壌の浸食
が防がれ、間作は栽培植物と競合することができない。
としてしばしば栽培される豆科植物の生長を防止するこ
とができるので、その結果、栽培植物の間の土壌の浸食
が防がれ、間作は栽培植物と競合することができない。
多くの栽培植物の草丈生長の防止により、作付地あたり
より多い植物を播種することができ、その結果単位面積
あたりより高い収穫量を得ることができる。生長調節剤
の収穫量増加の他の機構は、草丈生長の防止により、花
の形成及び実生に費される栄養が増加し得ることよりな
る。
より多い植物を播種することができ、その結果単位面積
あたりより高い収穫量を得ることができる。生長調節剤
の収穫量増加の他の機構は、草丈生長の防止により、花
の形成及び実生に費される栄養が増加し得ることよりな
る。
高比率で施用した場合には、総ての試験植物がその生長
に大きな損傷を受けて枯れた。
に大きな損傷を受けて枯れた。
本発明はまた式Iで表わされる新規化合物を含む除草お
よび生長抑制剤組成物、並びに発芽前および発芽後の雑
草の防除、および単子葉植物および双子葉植物特に牧草
、熱帯間作および煙草植物の吸枝の生長防止の方法にも
また関するものである。
よび生長抑制剤組成物、並びに発芽前および発芽後の雑
草の防除、および単子葉植物および双子葉植物特に牧草
、熱帯間作および煙草植物の吸枝の生長防止の方法にも
また関するものである。
式■の化合物はそのままの形態で、或いは好ましくは製
剤技術で慣用の補助剤と共に組成物として使用され、公
知の方法により乳剤原液、直接噴霧可能なまたは希釈可
能な溶液、希釈乳剤、水和剤、水溶剤、粉剤、粒剤、お
よび例えばポリマー物質によるカプセル化剤に製剤化さ
れる。組成物の性質と同様、噴霧、霧化、散布散水また
は注水のような適用法は、目的とする対象および使用環
境r(依存して選ばれる。
剤技術で慣用の補助剤と共に組成物として使用され、公
知の方法により乳剤原液、直接噴霧可能なまたは希釈可
能な溶液、希釈乳剤、水和剤、水溶剤、粉剤、粒剤、お
よび例えばポリマー物質によるカプセル化剤に製剤化さ
れる。組成物の性質と同様、噴霧、霧化、散布散水また
は注水のような適用法は、目的とする対象および使用環
境r(依存して選ばれる。
製剤、即ち式Iの化合物および適当な場合には固体また
は液体の補助剤を含む組成物、配合剤または混合物は、
公知の方法により、例えば有効成分を溶媒、固体担体お
よび適当な場合には表面活性化合物(界面活性剤)のよ
うな増量剤と均一に混合および/または摩砕することに
より製造される。
は液体の補助剤を含む組成物、配合剤または混合物は、
公知の方法により、例えば有効成分を溶媒、固体担体お
よび適当な場合には表面活性化合物(界面活性剤)のよ
うな増量剤と均一に混合および/または摩砕することに
より製造される。
適当な溶媒は次のものである:芳香族炭化水素、好まし
くは炭素原子数8ないし12の部分、例えばキシレン混
合物または置換ナフタレン;ジブチルフタレートまたは
ジオクチルフタレートのようなフタレート:シクロヘキ
サンまたはパラフィンのような脂肪族炭化水素;エタノ
ール、エチレングリコール、エチレングリコールモノメ
チルまたはモノエチルエーテルのようなアルコールおよ
びグリコール並びにそれらのエーテルおよびエステル;
シクロヘキサノンのよりなケトン;N−メチル−2−ピ
ロリドン、ジメチルスルホキシドまたはジメチルホルム
アミドのような強極性溶媒;並びにエポキシ化ココナツ
ツ油または大豆油のようなエポキシ化植物油;または水
。
くは炭素原子数8ないし12の部分、例えばキシレン混
合物または置換ナフタレン;ジブチルフタレートまたは
ジオクチルフタレートのようなフタレート:シクロヘキ
サンまたはパラフィンのような脂肪族炭化水素;エタノ
ール、エチレングリコール、エチレングリコールモノメ
チルまたはモノエチルエーテルのようなアルコールおよ
びグリコール並びにそれらのエーテルおよびエステル;
シクロヘキサノンのよりなケトン;N−メチル−2−ピ
ロリドン、ジメチルスルホキシドまたはジメチルホルム
アミドのような強極性溶媒;並びにエポキシ化ココナツ
ツ油または大豆油のようなエポキシ化植物油;または水
。
例えば粉剤および分散性粉末に使用できる固体担体は通
常、方解石、タルク、カオリン、モンモリロナイトまた
はアタパルジャイトのよ5な天然鉱物充填剤である。物
性を改良するために、高分散ケイ酸または高分散吸収性
ポリマーを加えることも可能である。適当な粒状化吸収
性担体は多孔性型のもので、例えば軽石、破砕レンガ、
セピオライトまたはベントナイトであり;そして適当な
非吸収性担体は方解石または砂のような物質である。更
に非常に多くの予備粒状化した無機質および有機質の物
質、特にドロマイトまたは粉状化植物残骸、が使用し得
る。
常、方解石、タルク、カオリン、モンモリロナイトまた
はアタパルジャイトのよ5な天然鉱物充填剤である。物
性を改良するために、高分散ケイ酸または高分散吸収性
ポリマーを加えることも可能である。適当な粒状化吸収
性担体は多孔性型のもので、例えば軽石、破砕レンガ、
セピオライトまたはベントナイトであり;そして適当な
非吸収性担体は方解石または砂のような物質である。更
に非常に多くの予備粒状化した無機質および有機質の物
質、特にドロマイトまたは粉状化植物残骸、が使用し得
る。
製剤化すべき式Iの化合物の性質によるが、適当な表面
活性化合物は曵好な乳化性、分散性および湿潤性を有す
る非イオン性、カオチン性および/またはアニオン性界
面活性剤である。
活性化合物は曵好な乳化性、分散性および湿潤性を有す
る非イオン性、カオチン性および/またはアニオン性界
面活性剤である。
゛界面活性剤”の用語は界面活性剤の混合物をも含むも
のと理解されたい。
のと理解されたい。
適当なアニオン性界面活性剤は、水溶性石ケンおよび水
溶性合成表面活性化合物の両者であり得る。
溶性合成表面活性化合物の両者であり得る。
適当な石鹸は高級脂肪酸(C+o〜C22)のアルカリ
金属塩、アルカリ土類金属塩、または非置換または置換
のアンモニウム塩、例えばオレイン酸またはステアリン
酸、或いは例えばココナツツ油または獣脂から得られる
天然脂肪酸混合物のナトリウムまたはカリウム塩である
。脂肪酸メチルタウリン塩もまた用い得る。
金属塩、アルカリ土類金属塩、または非置換または置換
のアンモニウム塩、例えばオレイン酸またはステアリン
酸、或いは例えばココナツツ油または獣脂から得られる
天然脂肪酸混合物のナトリウムまたはカリウム塩である
。脂肪酸メチルタウリン塩もまた用い得る。
しかしながら、いわゆる合成界面活性剤、特に脂肪族ス
ルホネート、脂肪族サルフェート、スルホン化ベンズイ
ミダゾール誘導体またはアルキルアリールスルホネート
、が更に頻繁に使用される。
ルホネート、脂肪族サルフェート、スルホン化ベンズイ
ミダゾール誘導体またはアルキルアリールスルホネート
、が更に頻繁に使用される。
脂肪族スルホネートまたはサルフェートは通常アルカリ
金属塩、アルカリ土類金属塩或いは非置換または置換の
アンモニウム塩の形態にあり、そしてアシル基のアルキ
ル部分をも含む炭素原子数8ないし22のアルキル基を
含み、例えばリグノスルホン酸、ドデシルサルフェート
または天然脂肪酸から得られる脂肪族アルコールサルフ
ェートの混合物のナトリウムまたはカルシウム塩である
。これらの化合物には硫酸エステルの塩および脂肪族ア
ルコール/エチレンオキシド付加物のスルホン酸の塩も
含まれる。
金属塩、アルカリ土類金属塩或いは非置換または置換の
アンモニウム塩の形態にあり、そしてアシル基のアルキ
ル部分をも含む炭素原子数8ないし22のアルキル基を
含み、例えばリグノスルホン酸、ドデシルサルフェート
または天然脂肪酸から得られる脂肪族アルコールサルフ
ェートの混合物のナトリウムまたはカルシウム塩である
。これらの化合物には硫酸エステルの塩および脂肪族ア
ルコール/エチレンオキシド付加物のスルホン酸の塩も
含まれる。
スルホン化ベンズイミダゾール誘導体は、好ましくは二
つのスルホン酸基と8ないし22個の炭素原子を含む一
つの脂肪酸基とを含む。アルキルアリールスルホネート
の例は、ドデシルベンゼンスルホン酸、ジブチルナフタ
レンスルホン酸マタはナフタレンスルホン酸/ホルムア
ルデヒド縮合生成物のナトリウム、カルシウムまたはト
リエタノールアミン塩である。
つのスルホン酸基と8ないし22個の炭素原子を含む一
つの脂肪酸基とを含む。アルキルアリールスルホネート
の例は、ドデシルベンゼンスルホン酸、ジブチルナフタ
レンスルホン酸マタはナフタレンスルホン酸/ホルムア
ルデヒド縮合生成物のナトリウム、カルシウムまたはト
リエタノールアミン塩である。
対応するホスフェート、例えば4ないし14モルのエチ
レン オキシド を含むp−/ニルフェノール付加物の
リン酸エステルの塩、またはリン脂質もまた適当である
。
レン オキシド を含むp−/ニルフェノール付加物の
リン酸エステルの塩、またはリン脂質もまた適当である
。
非イオン性界面活性剤は、好ましくは脂肪族または脂環
式アルコール、または飽和または不飽和脂肪酸およびア
ルキルフェノールのポリグリコール エーテル誘導体で
あり、該誘導体は3ないし301固のグリコール エー
テル基、(脂肪族)炭化水素部分に8ないし20個の炭
素原子、セしてアルキルフェノールのアルキル部分に6
ないし18個の炭素原子を含む。
式アルコール、または飽和または不飽和脂肪酸およびア
ルキルフェノールのポリグリコール エーテル誘導体で
あり、該誘導体は3ないし301固のグリコール エー
テル基、(脂肪族)炭化水素部分に8ないし20個の炭
素原子、セしてアルキルフェノールのアルキル部分に6
ないし18個の炭素原子を含む。
他の適当な非イオン性界面活性剤は、ポリエチレン オ
キシドとポリプロピレン グリコール、エチレンジアミ
ンポリプロピレン グリコールおよびアルキル鎖中に1
ないし10個の炭素原子を含むアルキルポリプロピレン
グリコールとの水溶性付加物であり、その付加物は2
0ないし250個のエチレン グリコール エーテル基
および10ないし100個のプロピレングリコール エ
ーテル基を含む。これらの化合物は通常プロピレン グ
リコール単位当り1ないし5個のエチレングリコール単
位を含む。
キシドとポリプロピレン グリコール、エチレンジアミ
ンポリプロピレン グリコールおよびアルキル鎖中に1
ないし10個の炭素原子を含むアルキルポリプロピレン
グリコールとの水溶性付加物であり、その付加物は2
0ないし250個のエチレン グリコール エーテル基
および10ないし100個のプロピレングリコール エ
ーテル基を含む。これらの化合物は通常プロピレン グ
リコール単位当り1ないし5個のエチレングリコール単
位を含む。
非イオン性界面活性剤の代表的例は、ノニルフェノール
−ポリエトキシエタノール、ヒマシ油ポリグリコール
エーテル、ポリプロピレン/ポリエチレン オキシド付
加物、トリブチルフェノキシポリエトキシエタノール、
ポリエチレン グリコールおよびオクチルフェノキシエ
トキシエタノールである。ポリオキシエチレンソルビタ
ン、例えばポリオキシエチレン ソルビタン トリオレ
ートの脂肪酸エステルもまた適当な非イオン性界面活性
剤である。
−ポリエトキシエタノール、ヒマシ油ポリグリコール
エーテル、ポリプロピレン/ポリエチレン オキシド付
加物、トリブチルフェノキシポリエトキシエタノール、
ポリエチレン グリコールおよびオクチルフェノキシエ
トキシエタノールである。ポリオキシエチレンソルビタ
ン、例えばポリオキシエチレン ソルビタン トリオレ
ートの脂肪酸エステルもまた適当な非イオン性界面活性
剤である。
カチオン性界面活性剤は、好ましくはN−置換基として
少なくとも一つの炭素原子数8ないし22のアルキル基
と、他の置換基として低級非置換またはハロゲン化アル
キル基、ベンジル基または低級ヒドロキシアルキル基と
を含む第四アンモニウム塩である。該塩は好ましくはハ
ロゲン化物、メチル硫酸塩またはエチル硫酸塩の形態に
あり、例えばステアリルトリメチルアンモニウム クロ
リドまたはベンジル シー(2−クロロエチル)エチル
アンモニウム プロミドである。
少なくとも一つの炭素原子数8ないし22のアルキル基
と、他の置換基として低級非置換またはハロゲン化アル
キル基、ベンジル基または低級ヒドロキシアルキル基と
を含む第四アンモニウム塩である。該塩は好ましくはハ
ロゲン化物、メチル硫酸塩またはエチル硫酸塩の形態に
あり、例えばステアリルトリメチルアンモニウム クロ
リドまたはベンジル シー(2−クロロエチル)エチル
アンモニウム プロミドである。
製剤業界で慣用の界面活性剤は例えば下記の刊行物に記
載されている:″′′マクカツチヤンズデタージエンツ
ンド エマルジファイアーズ アニュアル(Mc Cu
tcheo&s Detergentsand Emu
lsifiers Annual)” 、 ? yり出
版社、リングウッド、ニューシャーシー州、1981年
:ノ\−、シュタツヒx (HoStache) 、
”テンシッド−タツシエンブーフ(Ten5id−Ta
shenbuch)”、第2版、シー、ハンザ−フエル
ラーク(C,Han−ser Verlag)、ミュン
ヘンおよびウィーン。
載されている:″′′マクカツチヤンズデタージエンツ
ンド エマルジファイアーズ アニュアル(Mc Cu
tcheo&s Detergentsand Emu
lsifiers Annual)” 、 ? yり出
版社、リングウッド、ニューシャーシー州、1981年
:ノ\−、シュタツヒx (HoStache) 、
”テンシッド−タツシエンブーフ(Ten5id−Ta
shenbuch)”、第2版、シー、ハンザ−フエル
ラーク(C,Han−ser Verlag)、ミュン
ヘンおよびウィーン。
1981年;エム、およびジェー、アッシ:L、(M。
and J、 Ash)、″エンサイクロペディア オ
ブサー77クタンツ(Encyclopedia of
5urfac −tants ) n、第1−I11
巻、ケミカル出版社、ニューヨーク、1980〜198
1年。
ブサー77クタンツ(Encyclopedia of
5urfac −tants ) n、第1−I11
巻、ケミカル出版社、ニューヨーク、1980〜198
1年。
除草剤組成物は通常、式Iの化合物0.1ないし95e
s、好ましくはcLlないし80%、固体または液体補
助剤1ないし99.9%、および界面活性剤0ないし2
5チ、好ましくは[11ないし25チを含む。
s、好ましくはcLlないし80%、固体または液体補
助剤1ないし99.9%、および界面活性剤0ないし2
5チ、好ましくは[11ないし25チを含む。
好ましい製剤としては特に下記の成分よりなるものが挙
げられる(チは重量百分率を示す。):乳剤原液 有効成分: 1ないし20%、好ましくは5ないし10
チ 界面活性剤: 5ないし50チ、好ましくは10ないし
20チ 液体担体: 50ないし94チ、好ましくは70ないし
85チ 粉 剤 有効成分: α1ないし10%、好ましくは0.1ない
し1チ 固体担体:99.9ないし90チ、好ましくは999な
いし99% 懸濁原液 有効成分: 5ないし75%、好ましくは10ないし5
0% 水 : 94ないし24チ、好ましくは88ないし30
チ 界面活性剤: 1ないし40チ、好ましくは2ないし5
0% 水和剤 有効成分: α5ないし90%、好ましくは1ないし8
0% 界面活性剤: 115ないし20%、好ましくは1ない
し15% 固体担体: 5ないし95%、好ましくは15ないし9
0チ 粒 剤 有効成分: (L5ないし50チ、好ましくは5ないし
15チ 固体担体: 995ないし70%、好ましくは97ない
し85% 市販品は好ましくは濃厚物として製剤化されるが、消費
者は通常希釈製剤を使用する。製剤はαロロ1チのよう
な低濃度に希釈することができる。施用比率は通常[L
Olないし10助有効成分(a、i 、) / ha
、好ましくはα025ないし5 Kpa、置、/haで
ある。
げられる(チは重量百分率を示す。):乳剤原液 有効成分: 1ないし20%、好ましくは5ないし10
チ 界面活性剤: 5ないし50チ、好ましくは10ないし
20チ 液体担体: 50ないし94チ、好ましくは70ないし
85チ 粉 剤 有効成分: α1ないし10%、好ましくは0.1ない
し1チ 固体担体:99.9ないし90チ、好ましくは999な
いし99% 懸濁原液 有効成分: 5ないし75%、好ましくは10ないし5
0% 水 : 94ないし24チ、好ましくは88ないし30
チ 界面活性剤: 1ないし40チ、好ましくは2ないし5
0% 水和剤 有効成分: α5ないし90%、好ましくは1ないし8
0% 界面活性剤: 115ないし20%、好ましくは1ない
し15% 固体担体: 5ないし95%、好ましくは15ないし9
0チ 粒 剤 有効成分: (L5ないし50チ、好ましくは5ないし
15チ 固体担体: 995ないし70%、好ましくは97ない
し85% 市販品は好ましくは濃厚物として製剤化されるが、消費
者は通常希釈製剤を使用する。製剤はαロロ1チのよう
な低濃度に希釈することができる。施用比率は通常[L
Olないし10助有効成分(a、i 、) / ha
、好ましくはα025ないし5 Kpa、置、/haで
ある。
この組成物はまた他の成分例えば安定剤、消泡剤、粘度
調節剤、結合剤、粘着付与剤並びに肥料及び特別な効果
のための他の有効成分を含有してもよい。
調節剤、結合剤、粘着付与剤並びに肥料及び特別な効果
のための他の有効成分を含有してもよい。
製造実施例
(化合物5.03)
a)2−フェニルベンツ(b)チオフェン−3−イルス
ルホニルクロライド 亜硝酸ナトリウムの50チ溶液6.9y(50ffmo
l )を氷水405F及び32チ塩酸20 rttl
(150nTnot)中の3−アミノ−2−フェニルベ
ンゾ〔b〕チオフェン11Jy(50mmot)の懸濁
液に0〜5℃で滴下する。混合物を同温で15分間攪拌
し続けた後、シリカ上でP適する。このF液を40%の
亜硫酸水素ナトリウム溶液13F(50mmot)と共
に、40チの亜硫酸水素す) IJウム溶液13 y
(50mmot)及び32%の塩酸50at6’に溶解
した硫酸銅1.2 y (5mmoL )の溶液中に1
0〜15℃で滴下する。反応混合物を20〜25℃でさ
らに1.5時間攪拌した後、メチレンクロライド50I
!Ll!で3回抽出する。
ルホニルクロライド 亜硝酸ナトリウムの50チ溶液6.9y(50ffmo
l )を氷水405F及び32チ塩酸20 rttl
(150nTnot)中の3−アミノ−2−フェニルベ
ンゾ〔b〕チオフェン11Jy(50mmot)の懸濁
液に0〜5℃で滴下する。混合物を同温で15分間攪拌
し続けた後、シリカ上でP適する。このF液を40%の
亜硫酸水素ナトリウム溶液13F(50mmot)と共
に、40チの亜硫酸水素す) IJウム溶液13 y
(50mmot)及び32%の塩酸50at6’に溶解
した硫酸銅1.2 y (5mmoL )の溶液中に1
0〜15℃で滴下する。反応混合物を20〜25℃でさ
らに1.5時間攪拌した後、メチレンクロライド50I
!Ll!で3回抽出する。
併せた有機層は所望の化合物2−フェニルベンツ〔b〕
チオフェン−3−イルスルホニルクロライドを含有して
おり、これはさらに精製せずに次の反応段階に使用する
ことができる。
チオフェン−3−イルスルホニルクロライドを含有して
おり、これはさらに精製せずに次の反応段階に使用する
ことができる。
b)2−フェニルベン:/ (b)チオフェン−3−イ
ルスルホニルアミド 充分に攪拌しなからa)で得られた2−フェニルベンツ
〔b〕チオフェン−3−イルスルホニルクロライドの溶
液を20〜25℃で水30m中の40チアンモニア50
rttlの溶液に滴下する。16時間攪拌し続けた後、
混合物を元の量の半分まで濃縮し、酢酸エチル50−で
2回抽出する。併せた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し
、蒸発により濃縮スル。残渣をシリカゲルのカラムクロ
マトグラフィーによりトルエンと酢酸エチル(2:1)
の混合物で展開して、融点185〜186℃の2−フェ
ニルベンゾ(b)チオフェン−5−イルスルホンアミド
&8Fを得る。
ルスルホニルアミド 充分に攪拌しなからa)で得られた2−フェニルベンツ
〔b〕チオフェン−3−イルスルホニルクロライドの溶
液を20〜25℃で水30m中の40チアンモニア50
rttlの溶液に滴下する。16時間攪拌し続けた後、
混合物を元の量の半分まで濃縮し、酢酸エチル50−で
2回抽出する。併せた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し
、蒸発により濃縮スル。残渣をシリカゲルのカラムクロ
マトグラフィーによりトルエンと酢酸エチル(2:1)
の混合物で展開して、融点185〜186℃の2−フェ
ニルベンゾ(b)チオフェン−5−イルスルホンアミド
&8Fを得る。
C)2−フェニルペンゾ(b)チオフェン−3−イルス
ルホニルアミド1.1 y (18mmol) 。
ルホニルアミド1.1 y (18mmol) 。
N−(4−メトキシ−6−メチルピリミジン−2−イル
)フェニルカルバメー)1.Op(i8mmot)、
1+8−ジアザビシフo(5,4,0)−ウンデセ−7
−エンQ、6y(4mmot)及びジオキサン15ゴを
20〜25℃で4時間攪拌する。その後反応混合物を水
100d中にとり、2Nの塩酸を滴下してpH3に調整
し、その後酢酸エチル30m1で3回抽出する。
)フェニルカルバメー)1.Op(i8mmot)、
1+8−ジアザビシフo(5,4,0)−ウンデセ−7
−エンQ、6y(4mmot)及びジオキサン15ゴを
20〜25℃で4時間攪拌する。その後反応混合物を水
100d中にとり、2Nの塩酸を滴下してpH3に調整
し、その後酢酸エチル30m1で3回抽出する。
併せた抽出液を乾燥した後蒸発して濃縮する。残渣をエ
ーテルから再結晶すると融点199〜202℃のN−(
2−フェニルベンゾ(b)チオフェン−5−イルスルホ
ニル)−N’−(4−メトキシ−6−メチルピリミジン
−2−イル)尿素1.351が得られる。(理論量の7
8%)。
ーテルから再結晶すると融点199〜202℃のN−(
2−フェニルベンゾ(b)チオフェン−5−イルスルホ
ニル)−N’−(4−メトキシ−6−メチルピリミジン
−2−イル)尿素1.351が得られる。(理論量の7
8%)。
a)2−メトキシカルボニル−4−フェニルイド
3−アミノ−2−メトキシカルボニル−4−7xニルチ
オ7 エン10.9p(α04mot)を濃塩酸20m
1に溶解し、その抜水10dに溶解した亜硝酸す) I
Jウム&65Fを用いて一5℃でジアゾ化する。亜硝酸
ナトリウ。
オ7 エン10.9p(α04mot)を濃塩酸20m
1に溶解し、その抜水10dに溶解した亜硝酸す) I
Jウム&65Fを用いて一5℃でジアゾ化する。亜硝酸
ナトリウ。
ム滴下の50分後このジアゾニウム塩溶液をジクロロエ
タン20d、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライ
ドα45F、塩化m(1)[L3y、塩化銅(II)0
1y及び二酸化イオウ6yの混合物に少量ずつ添加する
。ジアゾニウム塩溶液の5〜10℃での添加が完了した
後、反応混合物を1時間室温で攪拌し、ジクロロエタン
で3回抽出する。併せた抽出液を活性炭で処理し、濾過
した後濃縮する。得られた2−メトキシカルボニル−4
−フェニルチオフェン−3−イルスルホニルクロライド
はさらに精製せずに次の反応段階で使用できる。
タン20d、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライ
ドα45F、塩化m(1)[L3y、塩化銅(II)0
1y及び二酸化イオウ6yの混合物に少量ずつ添加する
。ジアゾニウム塩溶液の5〜10℃での添加が完了した
後、反応混合物を1時間室温で攪拌し、ジクロロエタン
で3回抽出する。併せた抽出液を活性炭で処理し、濾過
した後濃縮する。得られた2−メトキシカルボニル−4
−フェニルチオフェン−3−イルスルホニルクロライド
はさらに精製せずに次の反応段階で使用できる。
チオフェン−3−イルスルホンアミド
a)で得られた2−メトキシカルボニル−4−フェニル
チオフェン−3−イルスルホニルクロライドをテトラヒ
ドロンラン120dに溶解する。その後−10℃でアン
モニアガス2.2yを該溶液に導入する。続いて、反応
混合物を室温で攪拌する。反応完了後、混合物を濃縮し
、残渣をシリカゲルのカラムクロマトグラフィーで精製
する。溶媒<酢eエチル:シクロヘキサンニ2:1)を
留去すると、融点172〜175℃の2−メトキシカル
ボニル−4−フェニルチオフェン−6−イルスルホンア
ミド5.2Fが得られる。
チオフェン−3−イルスルホニルクロライドをテトラヒ
ドロンラン120dに溶解する。その後−10℃でアン
モニアガス2.2yを該溶液に導入する。続いて、反応
混合物を室温で攪拌する。反応完了後、混合物を濃縮し
、残渣をシリカゲルのカラムクロマトグラフィーで精製
する。溶媒<酢eエチル:シクロヘキサンニ2:1)を
留去すると、融点172〜175℃の2−メトキシカル
ボニル−4−フェニルチオフェン−6−イルスルホンア
ミド5.2Fが得られる。
C)2−メトキシカルボニル−4−フェニルチオフェン
−6−イルスルホンアミド2.41 (0,008mo
t)、N −(4,6−シメトキシピリミシンー2−イ
ル)フェニルカルバメート2.2り、1,8−ジアザビ
シクロ(5,4,0)ウンデセ−7−ニン1.2F及び
アセトニトリル30dを室温で16時間攪拌する。その
後、反応混合物を氷と水の混合物中に注ぎ、メタンスル
ホン酸で酸性にする。得られた沈殿を戸取し、水洗した
後乾燥すると、融点225〜227℃のN−(2−メト
キシカルボニル−4−フェニルチオフェン−3−イルス
ルホニル) −N’−(4,6−シメトキシピリミジン
ー2−イル)尿素A4y(95チ)が得られる。
−6−イルスルホンアミド2.41 (0,008mo
t)、N −(4,6−シメトキシピリミシンー2−イ
ル)フェニルカルバメート2.2り、1,8−ジアザビ
シクロ(5,4,0)ウンデセ−7−ニン1.2F及び
アセトニトリル30dを室温で16時間攪拌する。その
後、反応混合物を氷と水の混合物中に注ぎ、メタンスル
ホン酸で酸性にする。得られた沈殿を戸取し、水洗した
後乾燥すると、融点225〜227℃のN−(2−メト
キシカルボニル−4−フェニルチオフェン−3−イルス
ルホニル) −N’−(4,6−シメトキシピリミジン
ー2−イル)尿素A4y(95チ)が得られる。
下記の表に挙げた中間体及び回路生成物を同様の方法で
製造することができる。
製造することができる。
製剤例
実施例F1:
式Iで表わされる化合物に対する製剤例(パーセントは
重量基準である。) a)水和剤 a) b) c) 式1の化合物 20チ 50チ α5優りグツスルホン
酸ナトリウム 5% 5% 5%ラウリル硫酸ナトリウ
ム 3多 −− 高分散ケイTILSチ 27% 27%カオリ7 67
俤 −− 塩化ナトリウム −595% 有効成分を助剤とともに十分に混合した後、該混合物を
適当なミルで良く磨砕すると、水で希釈して所望の濃度
の懸濁液を得ることのできる水和剤が得られる。
重量基準である。) a)水和剤 a) b) c) 式1の化合物 20チ 50チ α5優りグツスルホン
酸ナトリウム 5% 5% 5%ラウリル硫酸ナトリウ
ム 3多 −− 高分散ケイTILSチ 27% 27%カオリ7 67
俤 −− 塩化ナトリウム −595% 有効成分を助剤とともに十分に混合した後、該混合物を
適当なミルで良く磨砕すると、水で希釈して所望の濃度
の懸濁液を得ることのできる水和剤が得られる。
b)乳剤原液
a) b)
式lの化合物 10チ 1%
ドテシルベンゼンスルホン酸カルシウム 3% 5%シ
クロへキサノン 30俤 10% キシレン混合物 50俤 79% この乳剤原液を水で希釈することにより、所望の濃度の
エマルジョンを得ることができる。
クロへキサノン 30俤 10% キシレン混合物 50俤 79% この乳剤原液を水で希釈することにより、所望の濃度の
エマルジョンを得ることができる。
C)粉 剤
a) b)
式Iの化合物 01% 1%
タルク 999% −
カオリン − 99係
有効成分を担体とともに混合し、適当なミル中でこの混
合物を磨砕することにより、そのまま使用することので
きる粉末を得る。
合物を磨砕することにより、そのまま使用することので
きる粉末を得る。
d)押出し粒剤
a) b)
式Iの化合物 10% 1%
リグノスルホン酸ナトリウム 2% 2%カルボキシメ
チルセルロース 1% 1%カオリン 87% 96係 有効成分を助剤とともに混合・磨砕し、続いてこの混合
物を水で湿めらす。混合物を押出し、空気流中で乾燥さ
せる。
チルセルロース 1% 1%カオリン 87% 96係 有効成分を助剤とともに混合・磨砕し、続いてこの混合
物を水で湿めらす。混合物を押出し、空気流中で乾燥さ
せる。
e)被覆粒剤
式Iの化合物 3チ
ポリエチレンクリコール2003%
カオリン 94チ
細かく粉砕した有効成分を、ミキサー中で、ポリエチレ
ングリコールで湿めらせたカオリンに均一に施用する。
ングリコールで湿めらせたカオリンに均一に施用する。
この方法により非粉塵性被覆粒剤が得られる。
f)懸濁原液
a) b)
式Iの化合物 40% 5チ
エチレングリコール 10% 10%
リグノスルホン酸ナトリウム 10% 5%カルボキシ
メチルセルロース 1チ 1%37%ホルムアルデヒド
水溶液 0.2% a2tlJ水 32チ 77% 細かく粉砕した有効成分を助剤とともに均一に混合し、
水で希釈することにより所望の濃度の懸濁液を得ること
のできる懸濁性濃厚物が得られる。
メチルセルロース 1チ 1%37%ホルムアルデヒド
水溶液 0.2% a2tlJ水 32チ 77% 細かく粉砕した有効成分を助剤とともに均一に混合し、
水で希釈することにより所望の濃度の懸濁液を得ること
のできる懸濁性濃厚物が得られる。
g)塩の溶液
式Iの化合物 5チ
イソプロビルアミン 1%
水 91qb
生物試験例
実施例B1:発芽前の除草作用
プラ、スチック容器を発泡バーミキュライト(密度:α
135F/;メ、水吸収容量: o、565t/l)で
満たす。70.8ppmの濃度で試験化合物を含む脱イ
オン水中の水性乳剤により非吸着性バーミキュライトを
飽和させた後、下記植物の種子をその表面に播く:ナス
ッルチウム オフィシナリス(Nasturtium
officinalis)、アグロスチステヌイス(A
grosNs tenujs)、ステラリア メディア
(Stellaria media)およびジギタリア
サングイナリス(Digitaria sangui
nalis)。次いで容器を20℃、照射約20キロル
クスおよび相対湿度70%の気候室中に保持する。4日
ないし5日の発芽期の間、局部的な湿度を増加させるた
めに光透過性物質でおおい、そして脱イオン水で潅水す
る。5白目の後、市販の液体肥料(Greenz i
t@、チバーガイギー社製)のcL5%をこの水に加え
る。播種後12日日目試験結果を評価し、そして植物に
対する作用を下記の等級に従って評価する: 1:植物が発芽しないかまたは全く枯れる2〜5:非常
に著しい作用 4〜6:中ぐらいの作用 7〜8:弱い作用 9:全く作用なしく未処理の対照物と同等)。
135F/;メ、水吸収容量: o、565t/l)で
満たす。70.8ppmの濃度で試験化合物を含む脱イ
オン水中の水性乳剤により非吸着性バーミキュライトを
飽和させた後、下記植物の種子をその表面に播く:ナス
ッルチウム オフィシナリス(Nasturtium
officinalis)、アグロスチステヌイス(A
grosNs tenujs)、ステラリア メディア
(Stellaria media)およびジギタリア
サングイナリス(Digitaria sangui
nalis)。次いで容器を20℃、照射約20キロル
クスおよび相対湿度70%の気候室中に保持する。4日
ないし5日の発芽期の間、局部的な湿度を増加させるた
めに光透過性物質でおおい、そして脱イオン水で潅水す
る。5白目の後、市販の液体肥料(Greenz i
t@、チバーガイギー社製)のcL5%をこの水に加え
る。播種後12日日目試験結果を評価し、そして植物に
対する作用を下記の等級に従って評価する: 1:植物が発芽しないかまたは全く枯れる2〜5:非常
に著しい作用 4〜6:中ぐらいの作用 7〜8:弱い作用 9:全く作用なしく未処理の対照物と同等)。
(結果を下記表に示す。)
発芽前作用
試験化合物乳剤の濃度 り0−&Frrn実施例B2:
熱帯間作豆科植物の生長抑制試験植物〔セントロセマ
プルミエリ (Centrosema plumieri)およびセ
/)Oセマプベスセy ス(Centrosema p
ubescens))を充分生長するまで栽培し、次い
で60cmの高さまで刈り込む。7日後に、この植物に
試験化合物の水性乳剤を噴霧する。試験植物を、相対湿
度70チおよび毎日14時間6000ルクスの人工光線
下、昼の温度27℃および夜の温度21℃で保持する。
熱帯間作豆科植物の生長抑制試験植物〔セントロセマ
プルミエリ (Centrosema plumieri)およびセ
/)Oセマプベスセy ス(Centrosema p
ubescens))を充分生長するまで栽培し、次い
で60cmの高さまで刈り込む。7日後に、この植物に
試験化合物の水性乳剤を噴霧する。試験植物を、相対湿
度70チおよび毎日14時間6000ルクスの人工光線
下、昼の温度27℃および夜の温度21℃で保持する。
施用後4週間目に、対照物と比べた新たな生長の重量を
調べ、そして植物毒性を決めることにより試験を評価す
る。
調べ、そして植物毒性を決めることにより試験を評価す
る。
本試験において、試験植物に損傷を生ずることなく、式
■で表わされる化合物により処理した植物の新たな生長
は著しく減少することが判った(未処理の対照植物の新
たな生長の20%より少ない)。
■で表わされる化合物により処理した植物の新たな生長
は著しく減少することが判った(未処理の対照植物の新
たな生長の20%より少ない)。
実施例B5.大豆の午長調節作用
Hark種の大豆をプラスチック容器中の土/ピート/
砂(6:3:1)の混合物中に播種する。
砂(6:3:1)の混合物中に播種する。
容器を気候室中に入れ、温度、光、肥料の添加、及び潅
水を最適状態に調整して、該植物を約5週間後の5〜6
葉期まで生長させる。その後、式Iの化合物の水性混合
物を完全に湿るまで植物体に噴霧する。施用率は1ヘク
タール当たり100F有効量に相当する。評価は施用後
5週間目に行なう。式■の化合物は、主枝上の長角の数
及び重量を未処理の対照群と比較して著しく増加させる
。
水を最適状態に調整して、該植物を約5週間後の5〜6
葉期まで生長させる。その後、式Iの化合物の水性混合
物を完全に湿るまで植物体に噴霧する。施用率は1ヘク
タール当たり100F有効量に相当する。評価は施用後
5週間目に行なう。式■の化合物は、主枝上の長角の数
及び重量を未処理の対照群と比較して著しく増加させる
。
実施例B4:穀類の生長抑制
夏大麦〔ホルデウム プルガレ(Hordeumvul
gare))および夏ライ麦〔セカーレ(Secale
))を温室内のプラスチック製ビーカー中の消毒した土
壌にまき、そして必要に応じて注水する。播種後約21
白目に穀類の若枝を式Iの化合物を含む水性噴霧用混合
物で処理する。
gare))および夏ライ麦〔セカーレ(Secale
))を温室内のプラスチック製ビーカー中の消毒した土
壌にまき、そして必要に応じて注水する。播種後約21
白目に穀類の若枝を式Iの化合物を含む水性噴霧用混合
物で処理する。
濃度は1ヘクタール当り有効成分それぞれ100ノに相
当する。穀類の飢長の評価を施用後21日目に行う。未
処理対照体と比べて、式■の化合物で処理した穀物植物
の生長は著しく減少(対照群の60ないし90%)し、
いくつかの場合には、茎の直径の増加が見られる。
当する。穀類の飢長の評価を施用後21日目に行う。未
処理対照体と比べて、式■の化合物で処理した穀物植物
の生長は著しく減少(対照群の60ないし90%)し、
いくつかの場合には、茎の直径の増加が見られる。
実施例B5:草(grasses)の比長抑制ロリウム
ペレネ(Lolium Perenne)、ボアプラテ
ンシス(Poa Pratensis)、フエスツカ
オビナ(Festuca ovina)、ダクチリス
グロメラーテ(Dactylis glomerate
)およびシノドンダクチo ン(Cynodon da
ctylon)の草の種子を温室内の土/泥炭/砂混合
物(6:3:1)を充填したプラスチック製器に捷き、
そして必要に応じて注水する。発芽した草を週毎に4c
fflの高さに切断し、そして播種後約50白目および
最後つ切断から1日後に、式Iの化合物を含む水性噴霧
用混合物を吹付ける。試験化合物の濃度は1ヘクタール
当り100y有効量の施用率に相当する。
ペレネ(Lolium Perenne)、ボアプラテ
ンシス(Poa Pratensis)、フエスツカ
オビナ(Festuca ovina)、ダクチリス
グロメラーテ(Dactylis glomerate
)およびシノドンダクチo ン(Cynodon da
ctylon)の草の種子を温室内の土/泥炭/砂混合
物(6:3:1)を充填したプラスチック製器に捷き、
そして必要に応じて注水する。発芽した草を週毎に4c
fflの高さに切断し、そして播種後約50白目および
最後つ切断から1日後に、式Iの化合物を含む水性噴霧
用混合物を吹付ける。試験化合物の濃度は1ヘクタール
当り100y有効量の施用率に相当する。
草の生長を櫂用後21白目に評価する。未処理の対照群
と比較して、弐Iの化合物は新しい生長を10ないし3
0チの割合で低減する。
と比較して、弐Iの化合物は新しい生長を10ないし3
0チの割合で低減する。
特許出願人 チバーガイギー アクチェンゲゼルシャフ
ト第1頁の続き
ト第1頁の続き
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1) 次式I; 〔式中、 Eは窒素原子またはメチン橋を表わし、Zは酸素原子ま
たは硫黄原子を表わし、R4は水素原子または炭素原子
数1ないし4のアルキル基を表わし、 R5及びR6は各々独立に水素原子、I・ロゲン原子、
炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ない
し4のハロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコ
キシ基、炭素原子数1ないし4のハロアルコキシ基、炭
素原子数1ないし4のアルキルチオ基、炭素原子数5な
いし6のジアルコキシアルキル基、炭素原子数1ないし
4のハロアルキルチオ基、炭素原子数2ないし4のアル
コキシアルキル基、炭素原子数3ないしるのシクロアル
キル基または−NR12R13基を表わし。 Gは次式: で表わされる基を表わし、 R1は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数
1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアル
コキシ基、トリフルオロメチA4.)’Jフルオロメト
キシ基、ジフルオロメトキシ基、炭素原子数1ないし4
のアルキルカルポニル基または一〇〇〇R14基を表わ
し、R3は次式: で表わされる基を表わし、 Qは酸素原子、硫黄原子または−NR7−を表わし、 Aは酸素原子、硫黄原子、−5o−、−5o2−または
−< CB 10 gll )m−を表わし。 m及びnは0.1tたは2を表わし、 R7は水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、
炭素原子数6ないし6のシクロアルキル基、ベンジル基
またはフェニル基を表わし、R8は水素原子、炭素原子
数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のア
ルコキシ基、ノ・ロゲ/原子、炭素原子数1ないし4の
ノ・ロアルキル基、ニトロ基、−COOR14、炭素原
子数1ないし4の710アルコキシ基、−Q −(JI
SR16−C00R14または一〇−CR15B、16
−CNt表わし、R9は水素原子、)・ロゲ/原子、炭
素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし
4のアルコキシ基、炭素原子数2ないし4のアルコキシ
アルキル基または炭素原子数2ないし4のプルコキシア
ルコキシ基を表わし、 RIO及びR11は各々独立に水素原子または炭素g子
数1ないし4のアルキル基を表わし、几12及びR1&
は各々独立に水素原子または炭キル基、炭素原子数2な
いし4のアルケニル基、炭素原子数3ないし4のアルキ
ニル基、または炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、
ノ・ロゲン原子もしくはフェニル基で置換された炭素原
子数1ないし4のアルキル基を表わし、RIll及びR
IJは各々水素原子または炭素原子数1ないし4のアル
キル基を表わす〕で表わされるスルホニル尿素またはそ
の塩。 (2)上記式I中、2が酸素原子を表わす特許請求の範
囲第1項記載の化合物。 (3)上記式l中、R,lが水素原子、塩素原子、フッ
素原子、CH3,C,R5,OCH,、CF3またはC
OCH3を表わす特許請求の範囲第1項記載の化合物。 (4)上記式I中、R5及び几6が併せて4個以下の炭
素原子を含有し R4が水素原子を表わす特許請求の範
囲第1項記載の化合物。 (5)上記式1中、Gが5−フェニルピリジン−2−イ
ル基を表わす特許請求の範囲第1項記載の化合物〇 (6)上記式l中、Gが2−フェニルベンン゛Cb)チ
オフェノ−6−イル基または2−フエノキシベノゾCb
)チオフェン−3−イル基を表わ一11許請求の範囲第
1項記載の化合物。 (7)上記式l中、Gがもh未置換もしくは塩基原子、
0M3もしくはCH30基で1を換された3−フェニル
チオフェ/−2−イル基、6−フェノキシチオフェン−
2−イル基または2−フェニルチオフェン−6−イル基
を表わす特許請求の範囲第1項記載の化合物。 (8)上記式l中、2が酸素原子を表わし、R4が水素
原子を表わし、Gが3−フェニルピリジノ−2−イル基
を表わし、そしてR5及びR6が併せて4個以下の炭素
原子を有する特許請求の範囲第1項記載の化合物。 (9)上記式1中、Gが3−フェニルフラン−2−(A
4またFi2−フェニルフラン−5−イル基を表わす4
+許請求の範囲第1項記載の化合物。 αO上記式I中、Gが2−(炭素原子数1ないし4のア
ルコキシ)カルボニル−4−フェニルチオフェ/−“3
−イル基または2−(炭素原子数1ないし4のアルコキ
シ)カルボニル−5−フェニルチオフェ/−6−イル基
を表わす特許請求の範囲第1項記載の化合物。 (2)上記式l中、2が酸素原子を表わし、凡4が水素
原子を表わし、Gが2−フェニルベンゾ[b)チオフェ
ン−3−イル基または2−フェノキシベンゾ[b)チオ
フェン−3−イル基ヲ表わし、そして几5及びR6が併
せて4個より多い炭素原子を含有しない特許請求の範囲
第1項記載の化合物。 (2)上記式l中、2が酸素原子を表わし、R4が水素
原子を表わし、Gが3−フェニルチオフェン−2−イル
基、2−フェニルチオフェン−3−イル基、3−フェニ
ルフ5:y−2−イル基、2−フェニルフラン−5−イ
ル基または3−フェ)?r’/fオフエンー2−イル基
を表わし、そして′R+5及びR6が併せて4個よシ多
い炭素原子を含有しない特許請求の範囲第1項記載の化
合物O (至)上記式l中、Zが酸素原子を表わし、R4が水素
原子を表わし、Gが2−(炭素原子数1ないシ4(2)
アルコキシ)カルボニル−4−フェニルチオフェン−6
−イル基またI/′12−(炭素原子数1ないし4のア
ルコキシ)カルボニル−5−フェニルチオフェン−3−
イル基を表わし、セして几5及び凡6が併せて4個より
多い炭素原子を含有しない特許請求の範囲第1項記載の
化合物。 Q4N−(2−フェニルベン/ (bl チオフェン−
6−イルスルホニル)−N’−(4−メトキシ−6−メ
チルピリミジン−2−イル)尿素である特許請求の範囲
第1項記載の化合物。 (lf9N−(2−メトキシカルボニル−4−フェニル
チオフェン−3−イルスルホニル)−N’−(4−メト
キシ−6−メチルピリミジン−2−イル)尿素である特
許請求の範囲第1項記載の化合物。 06 次式■: G−8O□−NH21111 (式中、Gは後記式Iで定義する意味を表わす)で表わ
されるスルホンアミドを塩基の存在下で次式■: (式中、E 、 R4、几5.R6及びZは後記式1で
定義する意味を表わし、Rはフェニル基、アルキル基ま
たは置換フェニル基を表わす)で表わされるカルバメー
トと反応させ、得られた式Iの化合物を所望によりその
塩に転化することを特徴とする次式I: 〔式中。 Eは窒素原子またはメチン&を表わし、zFi#1索原
子または硫黄原子を表わし、)%4ij:水素原子また
は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わし、 R5及び凡6は各々独立罠水素原子、/・ロゲン原子、
炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ない
し4のノ・ロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアル
コキシ基、炭素原子数1ないし4のハロアルコキシ基、
炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基、炭素原子数3
ないし6のジアルコキシアルキル基、炭素原子数1ない
し4のハロアルキルチオ基、炭素原子数2ないし4のア
ルコキシアルキル基、炭素原子数3ないし6のシクロア
ルキル基または−Nl(,12R,13基を表わし、 Gは次式: で表わされる基を表わし、 R1は水素原子、−・ロゲ7原子、ニトロ基、炭素原子
数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のア
ルコキク基、トリフルオロメチA4、)IJフルオロメ
トキシ基、ジフルオロメトキ7基、炭素原子数1ないし
4のアルキルカルボニル基または一〇〇〇fL14基を
表わし、表わし、 R3は次式: で表わされる基を表わし、 Qは酸素原子、硫黄原子または−NR7−を表わし、 Aは酸素原子、硫黄原子、−5o−、−5o2−または
−(CR’o Bll)m−を表わし、m及びnは0
’+ 1または2を表わし、R7は水素原子、炭素原子
数1ないし4のアルキル基、炭素原子数3ないし6のシ
クロアルキル基、ぺ/ジル基またはフェニル基を表わし
、R8は水系原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基
、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、ハロゲン原子
、炭素原子数1ないし4のハロアルキル基、ニトロ基、
−COO几14、炭素原子数1ないし4のハロアルコキ
シ基、−Q −CR15R16+C00RJ4または−
O−C里5R+6−CNを表わし、R9は水素原子、ハ
ロゲン原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素
原子数1ないし4のアルコキク基、炭素原子数2ないし
4のアルコキシアルキル基または炭素原子数2ないし4
のアルコキシアルコキシ基を表わし、RIO及び1(l
lは各々独立に水素原子または炭素原子数1ないし4の
アルキル基を表ワシ、E112及びR1”は各々独立に
水系原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基ヲ衣
わし、R114は水系原子、炭素原子数1ないし4のア
ルキル基、炭素原子数2ないし4のアルケニル基、炭素
原子数6ないし4のアルキニル基、または炭素原子数1
ないし4のアルコキシ基、)・ロゲ/原子もしくはフェ
ニル基で置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基
ヲ表わし、RIM及びR16は各々水素原子または炭素
原子数1ないし4のアルキル基を表わす〕で表わされる
スルホニル尿素またはその塩の製造方法。 (171次式■: G−SO,−N)1− C−0−R釦 1 (式中、G及びZは後記式Iで定義する意味を表わし、
Rはフェニル基、アルキル基または置換フェニル基を表
わす)で表わされるスルホニルカルバメートを次式■。 (式中、E 、 kL4 、 R5及びR6は後記式I
で定義する意味を表わす)で表わされるアミノと反応さ
せ、所望により得られた化合物をその塩に転化すること
を特徴とする次式I: 〔式中、 Eは窒素原子またはメチン橋を表わし、2は酸素原子ま
たは硫黄原子を表わし、R4は水系原子または炭素原子
数1ないし4のアルキル基を表わし、 R5及び几6は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭
素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし
4のハロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキ
シ基、炭素原子数1ないし4のハロアルコキシ基、炭素
原子数1ないし4のアルキルチオ基、炭素原子数3ない
しるのジアルコキシアルキル基、炭素原子数1ないし4
のハロアルキルチオ基、炭素原子数2ないし4のアルコ
キシアルキル基、炭素原子数3ないし6のシクロアルキ
ル基または−NR121(,134金表わし、 で表わされる基を表わし、 H,tは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子
数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし40ア
ルコキシ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメト
キシ基、ジフルオロメトキシ基、炭素原子数1ないし4
のアルキルカルボニル基または一〇〇〇R14基を表わ
し、几3は次式 で表わされる基を表わし、 Qは酸素原子、硫黄原子または−NR7−を表わし、 Ati酸素原子、硫黄原子、−80−、−80z −ま
たは−(C几lOR”l)m−を表わし。 m及びnは0,1または2を表わし、 R7は水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、
炭素原子数3ないし6のシクロアルキル基、べ/ジル基
またはフェニル基を表わし、R+8は水素原子、炭素原
子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4の
アルコキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数1ないし4の
ハロアルキル基、ニトロ基、−C0OR14、炭素原子
数1ないし4のハロアルコキシ基、−0−CR15R1
6−COOR14または−o −cn:tsgtb−C
Nを表わし、R9は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子
数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のア
ルコキシ基、炭素原子数2ないし4のアルコキシアルキ
ル基または炭素原子数2ないし417)アルコキシ了ル
コキン基をebし、RIO及びR11は各々独立に水素
原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わし
、R”及びR113は各々独立に水素原子または炭素原
子数1ないし4のアルキル基を表わし、R14は水素原
子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数2
ないし4のアルキニル基、炭素原子数5ないし4のアル
キニル基、またに炭素原子数1ないし4のアルコキシ基
、ノ・ロゲン原子もしくはフェニル基で置換された炭素
原子数1ないし4のアルキル基を表わし、R15及びR
16は各々水素原子または炭素原子数1ないし40アル
キル基を表わす〕で表わされるスルホニル尿素またはそ
の塩の製造方法。 (至) 次式■゛ G、−80,I−N=C=Z (Vll(式中、G及び
Zは後記式Iで定義する意味を表わす)で表わされるス
ルホニルイソシアネートを次式V: (式中、E 、 R4、R,6及びR6は後記式■で定
義する意味を表わす)で表わされるアミノピリミジ/ま
たはアミノトリアシフと反応させ、所望により得られた
化合物をその塩罠転化することを特徴とする次式■: 〔式中、 Eは窒素原子またはメチル橋を表わし、Zは酸素原子ま
たは硫黄原子を表わし、R4は水素原子または炭素原子
数1ないし40アルキル基を表わし、 R,I、及びR6は各々独立に水素原子、)・ロゲン原
子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1
ないし4のハロアルキル基、炭素原子数1ないし4のア
ルコキシ基、炭素原子数1ないし4のハロアルコキシ基
、炭素原子数1hいし4のアルキルチオ基、炭素原子数
6ないし6のジアルコキシアルキル基、炭素原子数1な
いし4のハロアルキルチオ基、炭素原子数2ないし4の
アルコキンアルキル基、炭素原子数5カいし6の7クロ
アルキル基または−NR12R13基を表わし、 Gは次式=R2 で表わされる基を表わし。 KI Fi水素原子、ノ・ロゲ/原子、ニトロ基、炭素
原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4
のアルコキシ基、トリフルオロメチルv基、) IJフ
ルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、炭素原子数
1ないし4のアルキルシカ表わし、 R3は次式: で表わされる基を表わし、 Qは酸素原子、硫黄原子または−NR7−を表わし、 Aは酸素原子、硫黄原子、−5o−、−so、−まkは
−(CR1OR11)m−’を表わし、m及びnは0,
1または2を表わし、 R7は水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、
炭素原子数3ないし6のシクロアルキル基、ベアジル基
またはフェニル基を表わし、R8は水素原子、炭素原子
数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のア
ルコキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数1ないし4のノ
・ロアルキル基、ニトロ基、−C00i−R14、炭素
原子数1ないし4のハロアルコキシ基、−Q −CR,
IsR,16−COO几14または一〇 −CR1OR
11−ONを表わし、R9は水素原子、ハロゲン原子、
炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ない
し4のアルコキシ基、炭素原子数2ないし4のアルコキ
シアルキル基または炭素原子数2ないし4のアルコキシ
アルコキシ基を表わし、 RIG及びR11は各々独立に水素原子または炭素原子
数1ないし4のアルキル基を表わし。 R12及びR13は各々独立に水素原子または炭素原子
数1ないし4のアルキル基を表わし、几14は水素原子
、炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数2な
いし4のアルケニル基、炭素原子数3ないし4のアルキ
ニル基、または炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、
ノ・ロゲ/原子もしくはフェニル基で置換された炭素原
子数1ないし4のアルキル基を表わし、R15及びR1
6ij各々水素原子または炭素原子数1ないし4のアル
キル基を表わす〕で表わされるスルホニル尿素またはそ
の塩の製造方法。 α嗜 上記式Iの化合物をアミン、アルカリ金属水酸化
物、アルカリ土類金属水酸化物または第4アンモニウム
塩基と反応させて酸付加塩とすることを特徴とする特許
請求の範囲第16ないし18項のいずれか1項に記載の
製造方法。 翰 有効成分として次式■: 5 一 〔式中、 Eは窒素原子またはメチ/橋を表わし、Zは酸素原子ま
たは硫黄原子を表わし、R4は水素原子または炭素原子
数1ないし4のアルキル基を表わし、 R5及びR6は各々独立に水素原子、)・ロゲ/原子、
炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ない
し4のハロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコ
キシ基、炭素原子数1ないし4のハロアルコキシ基、炭
素原子数1ないし4のアルキルチオ基、炭素原子数3な
いし6のジアルコキシアルキル基、炭素原子数1ないし
4のハロアルキルチオ基、炭素原子数2ないし4のアル
コキシアルキル基、炭素原子数5ないし6のシクロアル
キル基または−NR,IIIRI11基を表わし、 Gは次式: で表わされる基を表わし、 R1は水素原子、l・ロゲン原子、ニトロ基、炭素原子
数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のア
ルコキシ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメト
キシ基、ジフルオロメトキシ基、炭素原子数1ないし4
のアルキルカルボニル基または一〇〇O几14基を表わ
し、を表わし、 R3は次式: で表わされる基を表わし、 Qは酸素原子、硫黄原子または−NR7−を表わし、 Aは酸素原子、硫黄原子、−80−、−8OI!−また
は−(0glOR1+ )m−を表わし、m及びnは0
,1または2を表わし、 几7は水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、
炭素原子数6ないし6のシクロアルキル基、ベンジル基
またはフェニル基を表わし、R8は水素原子、炭素原子
数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし40ア
ルコキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数1ないし4のハ
ロアルキル基、ニトロ基、−C00L(14、炭素原子
数1ないし4のハロアルコキシ基、−0−CB16R1
6−〇〇〇R14または一〇 −CR15R16−CN
を表わし、R9は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数
1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアル
コキシ基、炭素原子数2ないし4のアルコキシアルキル
基または炭素原子数2ないし4のアルコキシアルコキシ
基ヲ表わし、 RlO及びR11は各々独立に水素原子または炭素原子
数1ないし40アルキル基を表わし、R12及びR13
は各々独立に水素原子または炭素原子数1ないし4のア
ルキル基を表わし、g14は水素原子、炭素原子数1な
いし4のアルキル基、炭素原子数2ないし4のアルケニ
ル基、炭素原子数5ないし4のアルキニル基、捷たけ炭
素原子数1ないし4のアルコキシ基、ハロゲン原子もし
くはフェニル基で置換された炭素原子数1ないし4のア
ルキル基を表わし、RIIS及びKl”は各々水素原子
または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わす〕で
表わされる置換スルホニル尿素またはその塩の少々〈有
する除草及び植物生長抑制用組成物。 (2)次式I b 〔式中、 Eは窒素原子またはメチル橋を表わし、Zは酸素原子ま
たは硫黄原子を表わし、几4は水素原子または炭素原子
数1ないし4のアルキル基を表わし、 R5及びR6は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭
素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし
4のハロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキ
ン基、炭素原子数1ないし4のハロアルコキシ基、炭素
原子数1ないし4のフルキルチオ基、炭素原子数3ない
し6のジアルコキシアルキル基、炭素原子数1ないし4
のハロアルキルチオ基、炭素原子数2なないし6のシク
ロアルキル基または−Nl(121(13基を表わし、 Gは次式: で表わされる基を表わし、 141は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子
数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のア
ルコキシ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメト
キシ基、ジフルオロメトキシ基、炭素原子数1ないし4
0アルキルカルボニル基または一〇〇〇R14基を表わ
し、を表わし、 R3は次式: で表わされる基を表わし、 Qは酸素原子、硫黄原子または−NR?−を表わし、 Aは酸素原子、硫黄原子、−8O−、−5O2−または
−(CRIORII )m−を表わし、m及びnは0,
1または2を表わし、 R7は水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、
炭素原子数3ないしるのシクロアルキル基、ベノジル基
またはフェニル基金表わし、・R8は水素原子、炭素原
子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4の
アルコキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数1ないし4の
ハロアルキル基、ニトロ基、−C0OR14、炭素原子
数1ないし4のハロアルコキシ基、−0−CR15kL
16− C0OR14または−〇 −CRIS R16
−CNを表わし、R9は水素原子、ノ・ロゲン原子、炭
素原子数1ないし40アルキル基、炭素原子数1ないし
4のアルコキシ基、炭素原子数2ないし4のアルコキシ
アルキル基または炭素原子数2ないし4のアルコキンア
ルコキシ基ヲ表わし、RIO及びR11は各々独立に水
素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わ
し、R12及びR13は各々独立に水素原子または炭z
i子eiiないし4のアルキル基を表わし、R114は
水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原
子数2ないし4のアルキニル基、炭素原子数6ないし4
のアルキニル基、または炭素原子数1ないし4のアルコ
キシ基、ハロゲン原子もしくはフェニル基で置換された
炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わし、R15及
びg16は各々水素原子または炭素原子数1ないし4の
アルキル基を表わす]で表わされるスルホニル尿素、そ
の塩または該化合物を地に施用することを特徴とする望
ましくない植物生長の調節方法。 翰 次式I: 〔式中、 Eは窒素原子またはメチン橋を表わし、2は酸素原子ま
たは硫黄原子を表わし、R4は水素原子または炭素原子
数1ないし4のアルキル基を表わし、 R5及びR6は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭
素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし
4のハロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキ
シ基、炭素原子数1ないし4のハロアルコキン基、炭素
原子数1なlnl、4のアルキルチオ基、炭素原子数3
ないしるのジアルコキシアルキル基、炭素原子数1ない
し4のアルコキシアルキル基、炭素原子数6ないし6の
シクロアルキル基1 タハ−NR12[13基を表わし
、 Gは次式: で表わされる基を表わし、 凡lは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数
1ないし40アルキル基、炭素原子数1ないし4のアル
コキシ基、トリフルオロメfル基、) IJフルオロメ
トキシ基、ジフルオロメトキシ基、炭素原子数1ないし
4のアルキルカルボニル基または−C(JO几14基を
表わし、R3は次式: で表わされる基を表わし、 Qは酸素原子、硫黄原子または−NR7−を表わし、 人は酸素原子、硫黄原子、−80−、−802−または
−(C1(101(11)m−を表わし、m及びnは0
,1または2を表わし、 R7は水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、
炭素原子数6ないし6のシクロアルキル基、ベンジル基
またはフェニル基を表わし、R8Fi水垢原子、炭素原
子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4の
アルコキシ基、ノ・ロゲ/原子、炭素原子数1ないし4
のノ・ロアルキル基、ニトロ基、 −COOR14,炭
素原子数1ないし4の7・ロアルコキシ基、−0−C几
15R16−C0OR14または−0−CfL15 R
16−CNN金紗し。 R9は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1ないし4
のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、
炭素原子数2ないし4のアルコキシアルキル基または炭
素原子数2ないし4のアルコキクアルコキシ基ヲ表わし
、RIG及びR11は各々独立に水素原子または炭素原
子数1ないし4のアルキル基を表わし、R12及びR1
13は各々独立に水素原子または炭素原子数1ないし4
のアルキル基を表わし、R14は水素原子、炭素原子数
1ないし4のアルキル基、炭素原子数2ないし4のアル
ケニル基、炭素原子数3ないし4のアルキニル基、また
は炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、ハロゲン原子
もしくはフェニル基で置換された炭素原子数1ないし4
のアルキル基を表わし、I’L15及びFLI”は各々
水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表
わす〕で表わされるスルホニル尿素、その塩または該化
合物を含有する組成物の有効量を植物またはその庄育地
に施用することを特徴とする植物生長の抑制方法。 (イ) 次式l: 〔式中、 Eは窒素原子またはメチン橋を表わし、Zは酸素原子ま
たは硫黄原子を表わし、R4は水素原子または炭素原子
数1ないし4のアルキル基を表わし。 Bs及びR6は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭
素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし
4のハロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキ
シ基、炭素原子数1ないし4のハロアルコキシ基、炭素
原子数1ないし4のアルキルチオ基、炭素原子数3ない
し6のジアルコキシアルキル基、炭素原子数1ないし4
のハロアルキルチオ基、炭素原子数2ないし4のアルコ
キシアルキル基、炭素原子数6ないしるのシクロアルキ
ル基または−NR,12B13基を表わし、 Gは次式: で表わされる基を表わし、 R1は水素原子、I・ロゲ/原子、ニトロ基、炭素原子
数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のア
ルコキシ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメト
キシ基、ジフルオロメトキ7基、炭素原子数1ないし4
のアルキルカルボニル基または一〇〇〇R14基を表わ
し。 を表わし、 R3は次式: で表わされる基を表わし、 Qは酸素原子、硫黄原子または−NB?−を表わし、 Aは酸素原子、硫黄原子、−5o−、−so、−または
−(CRIORIl)m −t−表わし、m及びnは0
.1または2を表わし、 R7は水素原子、炭素原子vL1ないし4のアルキル基
、炭素原子数6ないし6のシクロアルキル基、ベノジル
基またはフェニル基金表わし、几8は水素原子、炭素原
子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4の
アルコキシ基、/・ロゲ/原子、炭素原子ei1ないし
4のノ゛ロアルキル基、ニトロ基、−C00L(,14
、炭素原子数1ないし4の)・ロアルコキシ基、−□−
C1%161(,16−C0OR14−1タH−0−C
R1’R16−CN ヲ表ワL、R9は水素原子、)・
ロゲ/原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素
原子数1ないし4のアルコキシ基、炭素原子数2ないし
4のアルコキシアルキル基または炭素原子数2ないし4
のアルコキシアルコキシ基を表わし、 KlO及びR11は各々独立に水素原子または炭素原子
数1ないし40アルキル基を表わし、kl”及びR+1
3は各々独立に水素原子または炭素原子数1ないし4の
アルキル基を表わし、R1’は水素原子、炭素原子数1
ないし40アルキル基、炭素原子数2ないし4のアルケ
ニル基、炭素原子数3ないし4のアルキニル基、または
炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、/・ロゲン原子
もしくはフェニル基で置換された炭素原子数1ないし4
0アルキル基を表わし、nts及びR1’は各々水素原
子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わす〕
で表わされるスルホニル尿素、その塩または該化合物を
含有する組成物の有効量を植物またはその生育地に施用
することを特徴とする収穫量増加の為の植物生長の調節
方法。 (ハ)有用植物の作付地の雑草を発芽前または発芽後に
選択的に防除することを特徴とする特許請求の範囲第2
1項記載の方法。 (ホ)有効成分を発芽前に施用することにより、2葉期
以降の植物生長を調節することを特徴とする特許請求の
範囲第22項記載の方法。 (イ)作物が稲であること′t−特徴とする特許請求の
範囲第24項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH182284 | 1984-04-11 | ||
| CH1822/84-3 | 1984-04-11 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60231675A true JPS60231675A (ja) | 1985-11-18 |
Family
ID=4219407
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60077507A Pending JPS60231675A (ja) | 1984-04-11 | 1985-04-11 | 除草及び植物生長調節作用を有するスルホニル尿素 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US4932997A (ja) |
| EP (1) | EP0161211B1 (ja) |
| JP (1) | JPS60231675A (ja) |
| AT (1) | ATE55128T1 (ja) |
| BR (1) | BR8501677A (ja) |
| DE (1) | DE3578933D1 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS61161280A (ja) * | 1984-12-27 | 1986-07-21 | イ−・アイ・デユポン・デ・ニモアス・アンド・カンパニ− | 除草剤性チオフエンスルホンアミド類およびピリジンスルホンアミド類 |
| JPS61267576A (ja) * | 1984-12-06 | 1986-11-27 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | N−〔(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミノカルボニル〕−3−トリフルオロメチルピリジン−2−スルホンアミド或いはその塩、それらの製造方法及びそれらを含有する除草剤 |
| JP2012250978A (ja) * | 2011-05-10 | 2012-12-20 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 植物の生長を促進する方法 |
| JP2012250979A (ja) * | 2011-05-10 | 2012-12-20 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 植物の生長を促進する方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| AU576868B2 (en) * | 1984-06-11 | 1988-09-08 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Thiophene and pyridine sulfonamides |
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| US4690705A (en) * | 1984-11-30 | 1987-09-01 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Herbicidal sulfonamides |
| US4877440A (en) * | 1985-05-29 | 1989-10-31 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Thiophenesulfonamide herbicides |
| US4801327A (en) * | 1985-05-30 | 1989-01-31 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Herbicidal sulfonamides |
| DE3677652D1 (de) * | 1985-05-30 | 1991-04-04 | Du Pont | Herbizid wirksame sulfonamide. |
| US4906283A (en) * | 1985-10-23 | 1990-03-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Herbicidal sulfonamides |
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| CH580608A5 (en) * | 1973-08-17 | 1976-10-15 | Ciba Geigy Ag | (2,4-Dihalogen-s-triazin-6-yl)-urea prepn. - from dihalogen-amino-s-triazines and chlorosulphonyl isocyanate and prod. hydrolysis |
| DK172396B1 (da) * | 1979-11-30 | 1998-05-18 | Du Pont | Thiophencarboxylsyrederivater, middel til bekæmpelse af væksten af uønsket vegetation, fremgangsmåde til bekæmpelse af uønsket vegetation samt mellemprodukter til fremstilling af de nævnte derivater |
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| US4398939A (en) * | 1980-06-03 | 1983-08-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Herbicidal thiophenesulfonamides |
| US4391627A (en) * | 1980-07-25 | 1983-07-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Herbicidal benzothiophene and benzofuran sulfonamides |
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| US4473394A (en) * | 1981-03-25 | 1984-09-25 | E. I. Dupont De Nemours & Company | Pyrrole sulfonamides |
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-
1985
- 1985-04-03 EP EP85810154A patent/EP0161211B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1985-04-03 DE DE8585810154T patent/DE3578933D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1985-04-03 AT AT85810154T patent/ATE55128T1/de not_active IP Right Cessation
- 1985-04-03 US US06/719,614 patent/US4932997A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-04-10 BR BR8501677A patent/BR8501677A/pt not_active IP Right Cessation
- 1985-04-11 JP JP60077507A patent/JPS60231675A/ja active Pending
-
1987
- 1987-10-26 US US07/114,993 patent/US4875923A/en not_active Expired - Fee Related
-
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- 1989-06-29 US US07/374,322 patent/US4936903A/en not_active Expired - Fee Related
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| JP2012250978A (ja) * | 2011-05-10 | 2012-12-20 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 植物の生長を促進する方法 |
| JP2012250979A (ja) * | 2011-05-10 | 2012-12-20 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 植物の生長を促進する方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4936903A (en) | 1990-06-26 |
| US4875923A (en) | 1989-10-24 |
| US4932997A (en) | 1990-06-12 |
| DE3578933D1 (de) | 1990-09-06 |
| EP0161211A1 (de) | 1985-11-13 |
| BR8501677A (pt) | 1985-12-10 |
| EP0161211B1 (de) | 1990-08-01 |
| ATE55128T1 (de) | 1990-08-15 |
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