JPS6023403A - 光増感性高分子化合物とその製法 - Google Patents
光増感性高分子化合物とその製法Info
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- JPS6023403A JPS6023403A JP13053183A JP13053183A JPS6023403A JP S6023403 A JPS6023403 A JP S6023403A JP 13053183 A JP13053183 A JP 13053183A JP 13053183 A JP13053183 A JP 13053183A JP S6023403 A JPS6023403 A JP S6023403A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、優れた感光度を有する光不溶化性樹脂を提供
する光増感性高分子およびその製造方法に関する。更に
詳しくは、ジアルキルアミノテトン類を光増感性残基と
して側鎖に有する光増感性高分子に関する。
する光増感性高分子およびその製造方法に関する。更に
詳しくは、ジアルキルアミノテトン類を光増感性残基と
して側鎖に有する光増感性高分子に関する。
光重合を原理とする光年溶性樹脂の感光速度を増大する
ためには多くの研究がなされているが、その多くは紫外
線に活性な光重合増感剤(開始剤)に関するものである
。−万感光性樹脂は、フォトレジスト材料、インキ、塗
料、フェス、印刷製版材料などを越えて、レーザー光を
用いる画像形成材料や銀塩に代わる感光材料として注目
されているが、この新しい材料としての感光特性は、従
来のものでは甚だ不十分のものでしかない。そのため、
感光波長領域を拡大し、しかも感光速度を飛躍的に増大
させる必要がある。この場合、感光性樹脂の持つ優れた
特性である高解像性と、目的に適した諸物性をも兼ね備
えていなければならないことは言うまでもない。
ためには多くの研究がなされているが、その多くは紫外
線に活性な光重合増感剤(開始剤)に関するものである
。−万感光性樹脂は、フォトレジスト材料、インキ、塗
料、フェス、印刷製版材料などを越えて、レーザー光を
用いる画像形成材料や銀塩に代わる感光材料として注目
されているが、この新しい材料としての感光特性は、従
来のものでは甚だ不十分のものでしかない。そのため、
感光波長領域を拡大し、しかも感光速度を飛躍的に増大
させる必要がある。この場合、感光性樹脂の持つ優れた
特性である高解像性と、目的に適した諸物性をも兼ね備
えていなければならないことは言うまでもない。
可視光線に感光する光重合性樹脂としそは、いくつかの
提案がなされている。特開昭48−36281号におい
ては、エチレン系不飽和によるトリアジン環と共役され
た少なくとも1つのトリハロメチル基と少なくとも1つ
の発色団部分を有するS−トリアジンを重合開始剤とす
る方法が提案されている。また、特開昭54−1552
9号においてはp−ジアルキルアミノアリリデンと共役
した不飽和ケトンを光重合開始剤とする組成物が提案さ
れている。あるいは特開昭52−134692 号にお
いては、多環性キノンと3級アミンを光重合開始系とす
る組成物が提案されている。
提案がなされている。特開昭48−36281号におい
ては、エチレン系不飽和によるトリアジン環と共役され
た少なくとも1つのトリハロメチル基と少なくとも1つ
の発色団部分を有するS−トリアジンを重合開始剤とす
る方法が提案されている。また、特開昭54−1552
9号においてはp−ジアルキルアミノアリリデンと共役
した不飽和ケトンを光重合開始剤とする組成物が提案さ
れている。あるいは特開昭52−134692 号にお
いては、多環性キノンと3級アミンを光重合開始系とす
る組成物が提案されている。
これらはいずれも従来の光重合性樹脂に比して、より長
波長に感光する側斜を与えることが出来るが、レーザー
用感光材料や銀塩代替材料などとして利用するには、な
お一層の高い感光速度が望まれる。
波長に感光する側斜を与えることが出来るが、レーザー
用感光材料や銀塩代替材料などとして利用するには、な
お一層の高い感光速度が望まれる。
光不溶化樹脂の感光速度は、不溶化する高分子の分子量
、光不溶化に必要な橋かけ反応の効率および感光基の吸
光度によって決定される。上記の可視光線に感光する重
合組成物(ま、可視光を吸収する低分子光重合開始剤を
特徴とするものであるから、感光基の吸光度に着目して
高感度化を図ったものと言うことが出来る。本発明者は
以上の諸点を熟考した結果、可視光を吸収する光重合開
始剤を易分子化することによりなお一層の高感度化が可
能となり、しかも均質な樹脂となるために高解像性も期
待出来るものと考え、本発明を成すに至ったものである
。
、光不溶化に必要な橋かけ反応の効率および感光基の吸
光度によって決定される。上記の可視光線に感光する重
合組成物(ま、可視光を吸収する低分子光重合開始剤を
特徴とするものであるから、感光基の吸光度に着目して
高感度化を図ったものと言うことが出来る。本発明者は
以上の諸点を熟考した結果、可視光を吸収する光重合開
始剤を易分子化することによりなお一層の高感度化が可
能となり、しかも均質な樹脂となるために高解像性も期
待出来るものと考え、本発明を成すに至ったものである
。
すなわち本発明は、一般式
(式中、Rty ”cは水素原子、低級アルキル基、低
級アルコキシ基であり、馬は低級アルキル基であり、n
は0から2までの整数を示す。)で表わされる不飽和ケ
トンから成る光増感性残基を側鎖に少なくとも1つ含有
することを特徴とする光増感性高分子化合物およびその
製造方法に関する。
級アルコキシ基であり、馬は低級アルキル基であり、n
は0から2までの整数を示す。)で表わされる不飽和ケ
トンから成る光増感性残基を側鎖に少なくとも1つ含有
することを特徴とする光増感性高分子化合物およびその
製造方法に関する。
本発明によれば、光重合開始能を有する感光性残基を重
合体に結合することにより、その開始点自体がラジカル
重合による高分子の不溶化に直接関与することになり、
より一層の高感度化が達成される。
合体に結合することにより、その開始点自体がラジカル
重合による高分子の不溶化に直接関与することになり、
より一層の高感度化が達成される。
一般式(Dで表わされる構造のうち、nwlの場合であ
るアリリデンアセトンフェノンのような不飽和ケトンF
A基は、光照射によって容易にシクロブタン形成による
光二量化反応を起すので、この残基を側「jに有する昌
分子自体すでに光不溶化能を持つものである。しかし、
P−ジアルキルアミ7の換誘専体は、光二景化能は無誼
換に比べて低い。したがって一般式中から成る構成単位
を持つ高分子は、それ自体光不溶化能を示すものの、そ
の効率は良好なものではない。しかしながら、後述する
ように他の補助物質をビニル重合能を持つ物質とともに
本発明の高任子と混合することにより著しく高感度の光
不溶化能を示すことになる。
るアリリデンアセトンフェノンのような不飽和ケトンF
A基は、光照射によって容易にシクロブタン形成による
光二量化反応を起すので、この残基を側「jに有する昌
分子自体すでに光不溶化能を持つものである。しかし、
P−ジアルキルアミ7の換誘専体は、光二景化能は無誼
換に比べて低い。したがって一般式中から成る構成単位
を持つ高分子は、それ自体光不溶化能を示すものの、そ
の効率は良好なものではない。しかしながら、後述する
ように他の補助物質をビニル重合能を持つ物質とともに
本発明の高任子と混合することにより著しく高感度の光
不溶化能を示すことになる。
こうした特徴を持つ本発明の高分子化合物を製造するに
は、この比較約分子爪の大きい残基を効率良く高分子化
する必要がある。そのためには次の三つの方法がとりわ
け有効であるので、以下にそれらについて詳細に説明す
る。
は、この比較約分子爪の大きい残基を効率良く高分子化
する必要がある。そのためには次の三つの方法がとりわ
け有効であるので、以下にそれらについて詳細に説明す
る。
まず第一の方法は、容易に入手出来る(メタ)アクリル
酸グリシジルのエポキシ基の反応性に着目したものであ
り、この反応性ビニル単量体とその他の共重合し得るビ
ニル単量体との共重合体が原料となる。光増感性残基を
導入するに必要な化合物は、 一般式、 (式中、現9%、J nは前記と同じ意味を持つ。)で
表わされるフェノール性水酸基を有するアミ ・ケトン
である。この一般式(II)で表わされる化合物のうち
、n=1または2の場合には、そのアルキル置換体とp
−ジアルキルアミノ置換芳香族アルデヒドとの脱水縮合
反応によって容易に製造される。
酸グリシジルのエポキシ基の反応性に着目したものであ
り、この反応性ビニル単量体とその他の共重合し得るビ
ニル単量体との共重合体が原料となる。光増感性残基を
導入するに必要な化合物は、 一般式、 (式中、現9%、J nは前記と同じ意味を持つ。)で
表わされるフェノール性水酸基を有するアミ ・ケトン
である。この一般式(II)で表わされる化合物のうち
、n=1または2の場合には、そのアルキル置換体とp
−ジアルキルアミノ置換芳香族アルデヒドとの脱水縮合
反応によって容易に製造される。
一般式(It)で表わされる化合物と(メタ)アクリル
酸グリシジル共重合体との反応は、極性溶媒中で行われ
る。溶媒としては活性水素を持たない溶媒、たとえばテ
トラヒドロ7ラン、アセトニトリル、アセトン、クロロ
ホルム、トリクレン、o−ジクロpベンゼン、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルア七ドアミド、N−メチルピロ
リドン、ジメチルスルホキシドが望ましい。この反応を
促進させるためには、ハロゲンイオンの添加が著しく効
果的であり、このために塩化リチウム、臭化リチウム、
テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアン
モニウムプロミド、テトラエチルアンモニウムクロリド
、テトラエチルアンモニウムプロミド、トリエチルベン
ジルアンモニウムクロリド、トリエチルベンジルアンモ
ニウムプロミドなどのハロゲン化物が用いられ、なかで
も有機アンモニウムクロリドが好適である。
酸グリシジル共重合体との反応は、極性溶媒中で行われ
る。溶媒としては活性水素を持たない溶媒、たとえばテ
トラヒドロ7ラン、アセトニトリル、アセトン、クロロ
ホルム、トリクレン、o−ジクロpベンゼン、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルア七ドアミド、N−メチルピロ
リドン、ジメチルスルホキシドが望ましい。この反応を
促進させるためには、ハロゲンイオンの添加が著しく効
果的であり、このために塩化リチウム、臭化リチウム、
テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアン
モニウムプロミド、テトラエチルアンモニウムクロリド
、テトラエチルアンモニウムプロミド、トリエチルベン
ジルアンモニウムクロリド、トリエチルベンジルアンモ
ニウムプロミドなどのハロゲン化物が用いられ、なかで
も有機アンモニウムクロリドが好適である。
一般式(II)で表わされるフェノール誘導体を(メタ
)アクリル酸ゲリシジル単位に対して等量から10倍モ
ルの範囲で用い、これに触媒としてのハロゲン化物を7
工ノール誘導体1部に対してα01部からα5部の範囲
で添加して、上記の極性溶媒中で反応させる。反応温度
としては室温から100°Cの範囲、好ましくは40°
〜8o00の範囲が用いられる。また、反応時間は反応
温度と触媒量により変動するが、通常は1時間ないし2
0時間である。いたずらに高温でしかも長時間にわたっ
て反応を続けることは、反応物の不必要な増粘あるいは
不溶化をもたらす原因となるので避けるべきである。
)アクリル酸ゲリシジル単位に対して等量から10倍モ
ルの範囲で用い、これに触媒としてのハロゲン化物を7
工ノール誘導体1部に対してα01部からα5部の範囲
で添加して、上記の極性溶媒中で反応させる。反応温度
としては室温から100°Cの範囲、好ましくは40°
〜8o00の範囲が用いられる。また、反応時間は反応
温度と触媒量により変動するが、通常は1時間ないし2
0時間である。いたずらに高温でしかも長時間にわたっ
て反応を続けることは、反応物の不必要な増粘あるいは
不溶化をもたらす原因となるので避けるべきである。
反応生成物は貧溶媒に江別して沈殿させ精製することが
出来る。このようにして得られる樹脂は7!ノール性水
酸基とエポキシ基との反応により、一般式 凡は水素原子又はメチル基である。)で表わされる光増
感性構成単位を含有する高分子である。
出来る。このようにして得られる樹脂は7!ノール性水
酸基とエポキシ基との反応により、一般式 凡は水素原子又はメチル基である。)で表わされる光増
感性構成単位を含有する高分子である。
この反応で用いられる一般式(U)で表わされる7エ/
−ル性水酸基を持つ化合物としては次のものがまた、こ
れらの化合物と反応させる(メjX)アクリル酸グリシ
ジルの共重合体に用いるビニル単m体としてはアクリロ
ニトリル、メタクリロニトリル、アクリル酸メチル、ア
クリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アク
リル酸ベンジル、アクリル酸、メタクリル酸エチル、メ
タクリル酸プロピル、メタクリル南ブチル、メタクリル
酸ベンジル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、N、N
−ジメチルアクリルアミド、N、N−ジメチルメタクリ
ルアミド、N−ビニルピロリドン、スチレン、2−ビニ
ルピリジン、4−ビニルピリジンなどをあげることが出
来る。これらのビニル共4重特開口aGO−23403
(4) 台車量体は1種のみを用いてもよく、または複数種を用
いても差し支えないことは言うまでもない。
−ル性水酸基を持つ化合物としては次のものがまた、こ
れらの化合物と反応させる(メjX)アクリル酸グリシ
ジルの共重合体に用いるビニル単m体としてはアクリロ
ニトリル、メタクリロニトリル、アクリル酸メチル、ア
クリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アク
リル酸ベンジル、アクリル酸、メタクリル酸エチル、メ
タクリル酸プロピル、メタクリル南ブチル、メタクリル
酸ベンジル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、N、N
−ジメチルアクリルアミド、N、N−ジメチルメタクリ
ルアミド、N−ビニルピロリドン、スチレン、2−ビニ
ルピリジン、4−ビニルピリジンなどをあげることが出
来る。これらのビニル共4重特開口aGO−23403
(4) 台車量体は1種のみを用いてもよく、または複数種を用
いても差し支えないことは言うまでもない。
この場合、これらのビニル共重合単量体と(メタ)アク
リル酸グリシジルとの共重合比は20 :80から98
=2までの範囲のいかなるものでもよい。
リル酸グリシジルとの共重合比は20 :80から98
=2までの範囲のいかなるものでもよい。
共重合単量体の比率がこれ以上小さいと得られる光増感
性高分子の保存安定性が劣るし、また逆にこの範囲より
大きいと光増感能を持つ残基の導入率が低いために、そ
の増感能は著しく低いものになってしまう。
性高分子の保存安定性が劣るし、また逆にこの範囲より
大きいと光増感能を持つ残基の導入率が低いために、そ
の増感能は著しく低いものになってしまう。
一般式(I)で表わされる光増感能を持つビニル単位を
含有する高分子を製造する第二の方法を次に説明する。
含有する高分子を製造する第二の方法を次に説明する。
この方法は、活性なハロゲン原子を有する高分子化合物
に一般式■で表わされるフェノール性水酸基を持つアミ
ノケトン誘導体を反応させるもの(式中の”II ”%
l Rat nは前記と同じ意味を持つ。)で表わされ
る光増感性構成単位を持つ高分子が製造される。
に一般式■で表わされるフェノール性水酸基を持つアミ
ノケトン誘導体を反応させるもの(式中の”II ”%
l Rat nは前記と同じ意味を持つ。)で表わされ
る光増感性構成単位を持つ高分子が製造される。
この反応で用いられる活性ハロゲン原子を持つ高分子と
しては、クロロメチルスチレンの重合体もしくは共重合
体、クロロ酢酸ビニルの重合体もしくは共重合体、ポリ
エピクロロヒドリンナトヲあげることが出来る。これら
のハロゲン含有高分子に一般式中)で表わされる7−ノ
ール誘導体を反応させるために、縮合剤として強塩基物
質を用いる。すなわち、一般式(n)で表わされるフェ
ノール誘導体を強アルカリによりそのアルカリ金属塩に
変じ、これを極性溶媒中でハロゲン含有分子に反応させ
る。ここで用いる極性溶媒としては、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、ジメヂルスルホキシド、
ジクロルベンゼンなどが好ましい。反応湿度は室温から
120”Cの間が都合がよい。また反応時間は、反応温
度やハロゲン含有高分子の反応性にもよるが、1時間か
ら20時間程度である。
しては、クロロメチルスチレンの重合体もしくは共重合
体、クロロ酢酸ビニルの重合体もしくは共重合体、ポリ
エピクロロヒドリンナトヲあげることが出来る。これら
のハロゲン含有高分子に一般式中)で表わされる7−ノ
ール誘導体を反応させるために、縮合剤として強塩基物
質を用いる。すなわち、一般式(n)で表わされるフェ
ノール誘導体を強アルカリによりそのアルカリ金属塩に
変じ、これを極性溶媒中でハロゲン含有分子に反応させ
る。ここで用いる極性溶媒としては、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、ジメヂルスルホキシド、
ジクロルベンゼンなどが好ましい。反応湿度は室温から
120”Cの間が都合がよい。また反応時間は、反応温
度やハロゲン含有高分子の反応性にもよるが、1時間か
ら20時間程度である。
さらに、この方法においてクラウンエーテルを用いて一
般弐〇)で表わされる化合物のアルカリ塩を有機溶媒中
でハロゲン金層高分子化合物と反応させてもよいし、あ
るいは有機アンモニウム塙やスルホニウム塩などの相聞
移動触媒を用いて有機溶媒と水との二相系で反応させて
もよい。
般弐〇)で表わされる化合物のアルカリ塩を有機溶媒中
でハロゲン金層高分子化合物と反応させてもよいし、あ
るいは有機アンモニウム塙やスルホニウム塩などの相聞
移動触媒を用いて有機溶媒と水との二相系で反応させて
もよい。
一般式(It)で表わされる化合物はアミノ基を持つの
で、活性ハロゲンにより四級化が起る可能性もある。実
際には、このアミ7基はベンゼン環を介してケトンまた
は共役ケトンにより著しく反応性が低下しており四級化
はほとんど起らない。四級化により生成物がゲル化する
ことを確実に防止するためには、一般式■で表わされる
化合物を活性ハロゲン基に対して等モル以上反応させれ
ばよい。
で、活性ハロゲンにより四級化が起る可能性もある。実
際には、このアミ7基はベンゼン環を介してケトンまた
は共役ケトンにより著しく反応性が低下しており四級化
はほとんど起らない。四級化により生成物がゲル化する
ことを確実に防止するためには、一般式■で表わされる
化合物を活性ハロゲン基に対して等モル以上反応させれ
ばよい。
過大に添加する必要はないので等モル−5倍モルの範囲
が好ましい。
が好ましい。
一般式中で表わされる光増感能を持つ側鎖を含有する高
分子を製造する第三の方法を次に説明するO この方法は前二者と異なり、あらかじめ光増感性残基を
含有するビニル単量体を1l11整し、これに他のビニ
ル単量体を共重合させるものである。
分子を製造する第三の方法を次に説明するO この方法は前二者と異なり、あらかじめ光増感性残基を
含有するビニル単量体を1l11整し、これに他のビニ
ル単量体を共重合させるものである。
ここで用いられる光増感性残基を含有するビニル単量体
は、一般式■ (式中、R,、R,、Ra+ ”4r πは前記と同じ
意味をで表わされる(荷造を持つ。その例としては次の
ものがあるが、この限りではない。
は、一般式■ (式中、R,、R,、Ra+ ”4r πは前記と同じ
意味をで表わされる(荷造を持つ。その例としては次の
ものがあるが、この限りではない。
これらのビニル単量体は、一般式中)で表わされるフェ
ノール性水酸基を有する不飽和ケトンに(メタ)アクリ
ル酸クロリドでアシル化することにより、あるいはクロ
ロメチルスチレンによりビニルベンジル化することによ
り容易に合成することができる。
ノール性水酸基を有する不飽和ケトンに(メタ)アクリ
ル酸クロリドでアシル化することにより、あるいはクロ
ロメチルスチレンによりビニルベンジル化することによ
り容易に合成することができる。
これらの光増感能を持つビニル単量体と共重合するビニ
ル単量体としては、アクリロニトリル、メタクリロニト
リル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリ
ル酸ブチル、アクリル醗2−エチルヘキシル、アクリル
酸ベンジル、アクリル酸テトラヒドロフルフリル、メタ
クリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プ
ロピル、メタクリ/L/酸ブチル、メタクリル酸ベンジ
ル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、N、N−ジメチ
ルアクリルアミド、H,H−ジメチルメタクリルアミド
、N−ビニルピロリドン、スチレン、2−ビニルピリジ
ン、4−ビニルピリジンなどをあげることができる。こ
れらのビニル単量体を単独または複数用いることができ
る。
ル単量体としては、アクリロニトリル、メタクリロニト
リル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリ
ル酸ブチル、アクリル醗2−エチルヘキシル、アクリル
酸ベンジル、アクリル酸テトラヒドロフルフリル、メタ
クリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プ
ロピル、メタクリ/L/酸ブチル、メタクリル酸ベンジ
ル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、N、N−ジメチ
ルアクリルアミド、H,H−ジメチルメタクリルアミド
、N−ビニルピロリドン、スチレン、2−ビニルピリジ
ン、4−ビニルピリジンなどをあげることができる。こ
れらのビニル単量体を単独または複数用いることができ
る。
ここで用いる共重合法は、通常行われる方法がそのまま
採用できるが、可溶性の高分子を確実に製造するために
は、溶液重合法が都合がよい。
採用できるが、可溶性の高分子を確実に製造するために
は、溶液重合法が都合がよい。
以上の三つの方法で製造される一般式(I)で表わされ
る光増感性残基を側鎖に有するビニル系高分子は、いず
れも保存性に優れている。しかも、この光増!a能を持
つビニル構成単位以外のビニル単位を成す共重合成分は
任意に選ぶことができるので、目的に応じた任意の物性
を高分子に付与するところに特徴がある。
る光増感性残基を側鎖に有するビニル系高分子は、いず
れも保存性に優れている。しかも、この光増!a能を持
つビニル構成単位以外のビニル単位を成す共重合成分は
任意に選ぶことができるので、目的に応じた任意の物性
を高分子に付与するところに特徴がある。
本発明で用いられる光増感性残基を側鎖に持つ高分子は
、それ単独では光照射により不溶化速度は遅いが、一般
式中で表わされる感光基と光照射により一電子移動を行
ってラジカル種を発生する化合物を共存させることによ
り高効率で光重合の開始系となる。このために用いられ
る一電子還元される化合物は電子受容性であり、その例
としてペンゾフェ/ン、ベンゾキノン、ナフトキノン、
アントラキノン、ベンツアントロン、フルオレノンなど
のケトンもしくはキノン系化合物、ジフェニルヨードニ
ウム塩、ジトリルヨードニウム塩、ジ(m−二トpフェ
ニル)ヨードニウム塩すどのヨードニウム+1.214
+6−トリス(トリクロロメチル)−8−)リアジン、
2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−8−
)リアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロ
メチル)−8−トリアジンなどのS−)リアジン誘導体
、p−二ト冒−α、α、a−)リプロモアセトフェノン
、0−ニトロ−α、α、α−トリブロモアセトフェノン
1αl’lα−トリブロモアセトフェノンなどのトリフ
10アセチル化ベンゼン誘導体、トリブロモメタンスル
ホニルベンゼン、1−トリブロモメタンスルホニル−3
−二トロベンゼンなどのトリハロメタンスルホン基を持
つベンゼン誘導体、トリフエニルビスイミダゾリルなど
をあげることができる。
、それ単独では光照射により不溶化速度は遅いが、一般
式中で表わされる感光基と光照射により一電子移動を行
ってラジカル種を発生する化合物を共存させることによ
り高効率で光重合の開始系となる。このために用いられ
る一電子還元される化合物は電子受容性であり、その例
としてペンゾフェ/ン、ベンゾキノン、ナフトキノン、
アントラキノン、ベンツアントロン、フルオレノンなど
のケトンもしくはキノン系化合物、ジフェニルヨードニ
ウム塩、ジトリルヨードニウム塩、ジ(m−二トpフェ
ニル)ヨードニウム塩すどのヨードニウム+1.214
+6−トリス(トリクロロメチル)−8−)リアジン、
2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−8−
)リアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロ
メチル)−8−トリアジンなどのS−)リアジン誘導体
、p−二ト冒−α、α、a−)リプロモアセトフェノン
、0−ニトロ−α、α、α−トリブロモアセトフェノン
1αl’lα−トリブロモアセトフェノンなどのトリフ
10アセチル化ベンゼン誘導体、トリブロモメタンスル
ホニルベンゼン、1−トリブロモメタンスルホニル−3
−二トロベンゼンなどのトリハロメタンスルホン基を持
つベンゼン誘導体、トリフエニルビスイミダゾリルなど
をあげることができる。
これらの電子受容性化合物は、一般式(Dで表わされる
感光性残基に対して0.5〜1.0部ル等景、さらに好
ましくは、1〜5モル等量を混合することにより、高効
率な光重合開始系となる。
感光性残基に対して0.5〜1.0部ル等景、さらに好
ましくは、1〜5モル等量を混合することにより、高効
率な光重合開始系となる。
本発明の光年溶性樹脂組成物を構成する第3の成分とし
ての重合能を有するエチレン性不飽和結合を少なくとも
1つ持つ化合物としては、ビニル系モノマーの他にオリ
ゴマーを含み、さらには高分子■化合物でもよい。具体
的にはアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコ
ン酸、マレイン酸、アクリルアミド、メタクリルアミド
、シア七トンアクリルアミド、N−ビニルカルバゾール
などの高沸点モノマーがあり、さらにはエチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール
、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール
、1,3−プロパンジオール、1.4−ブタンジオール
、1,5−ベンタンジオール、1.6−ヘキサンジオー
ル、1.10−デカンジオール、リ トリメチロールエタン、ペンタエリストール1.ソルビ
トール、マンニトールなどのジーあるいは、ポリアクリ
ルエステルやジー、あるいはポリメタクリルエステル、
さらにはアクリル化あるいはメタクリル化されたエポキ
シ樹脂、ポリエステルアクリレートオリゴマー、アクリ
ル化あるいはメタクリル化ウレタンオリゴマー、アクロ
レイン化ポリビニルアルコールなどをあげることができ
る。
ての重合能を有するエチレン性不飽和結合を少なくとも
1つ持つ化合物としては、ビニル系モノマーの他にオリ
ゴマーを含み、さらには高分子■化合物でもよい。具体
的にはアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコ
ン酸、マレイン酸、アクリルアミド、メタクリルアミド
、シア七トンアクリルアミド、N−ビニルカルバゾール
などの高沸点モノマーがあり、さらにはエチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール
、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール
、1,3−プロパンジオール、1.4−ブタンジオール
、1,5−ベンタンジオール、1.6−ヘキサンジオー
ル、1.10−デカンジオール、リ トリメチロールエタン、ペンタエリストール1.ソルビ
トール、マンニトールなどのジーあるいは、ポリアクリ
ルエステルやジー、あるいはポリメタクリルエステル、
さらにはアクリル化あるいはメタクリル化されたエポキ
シ樹脂、ポリエステルアクリレートオリゴマー、アクリ
ル化あるいはメタクリル化ウレタンオリゴマー、アクロ
レイン化ポリビニルアルコールなどをあげることができ
る。
これらの重合性化合物は、一般式(1)で表わされる感
光基を持つ光増感性高分子化合物(A)1部に対して0
.1〜5部が好ましい。また、これらの重合性化合物は
単独である必要はなく、二種以上の混合物であってもよ
いことは言うまでもないO本発明の光年溶性樹脂組成物
は、一般式(I)で表わされる感光基が吸収する波長の
光に対して非常に高い速度で不溶化する。これはこの感
光基が光エネルギーを吸収することによって、電子受容
性化合物(B)へ電子移動し、それによって生ずる次の
プロトンがアルキル基(−)から脱離して、それによっ
て生成するラジカルが重合を開始してグラフト重合を起
すために考えられる。さらには、電子受容性化合物自体
も−IUL>移動したのちにうJカルを発生して開始剤
となることも、本発明の樹脂組成物が高感度を示す一因
と考えられる。
光基を持つ光増感性高分子化合物(A)1部に対して0
.1〜5部が好ましい。また、これらの重合性化合物は
単独である必要はなく、二種以上の混合物であってもよ
いことは言うまでもないO本発明の光年溶性樹脂組成物
は、一般式(I)で表わされる感光基が吸収する波長の
光に対して非常に高い速度で不溶化する。これはこの感
光基が光エネルギーを吸収することによって、電子受容
性化合物(B)へ電子移動し、それによって生ずる次の
プロトンがアルキル基(−)から脱離して、それによっ
て生成するラジカルが重合を開始してグラフト重合を起
すために考えられる。さらには、電子受容性化合物自体
も−IUL>移動したのちにうJカルを発生して開始剤
となることも、本発明の樹脂組成物が高感度を示す一因
と考えられる。
本発明の光年溶性樹脂組成物には所望に応じて着色剤と
して顔料もしくは染料を添加しても差し支えない。さら
には、発生するラジカルを利用して発色せしめるために
ロイコ色素、たとえばロイコマラカイトグリーン、ロイ
ツクリスタルバイオレットなどを添加してもよい。この
場合には、光照射により生ずる可視発色により製版作業
上特に好都合になる。
して顔料もしくは染料を添加しても差し支えない。さら
には、発生するラジカルを利用して発色せしめるために
ロイコ色素、たとえばロイコマラカイトグリーン、ロイ
ツクリスタルバイオレットなどを添加してもよい。この
場合には、光照射により生ずる可視発色により製版作業
上特に好都合になる。
本発明の組成物に適した光源としては、高圧水銀灯、超
高圧水銀灯、高圧キセノン灯、ハpゲンランプ、蛍光灯
のほかに、He−0eLレーザーや鯉レーザーが利用で
きる。
高圧水銀灯、高圧キセノン灯、ハpゲンランプ、蛍光灯
のほかに、He−0eLレーザーや鯉レーザーが利用で
きる。
本発明の光不溶化樹脂組成物は、従来の光重合性組成物
よりも感度、解像性において優れた特性を持っているの
で、平版または凸版用製版材料、レリーフの作成、非銀
塩画像の作成、プリント配線板の作成など幅広い分野に
応用できるほか、レーザー光にも感光することから、ネ
ガレスでの製版用としても有効である。以下に実施例に
より、さらに詳細に説明する。
よりも感度、解像性において優れた特性を持っているの
で、平版または凸版用製版材料、レリーフの作成、非銀
塩画像の作成、プリント配線板の作成など幅広い分野に
応用できるほか、レーザー光にも感光することから、ネ
ガレスでの製版用としても有効である。以下に実施例に
より、さらに詳細に説明する。
実施例1
水酸化カリウム9.81をエタノール359に溶解し、
これにp−ジメチルアミノベンツアルデヒド14.99
とp−アセチルフェノール13.6Nを加えて溶解し、
これを3時間還流下反応させた。次いでエタノールを減
圧情夫して反応液を濃縮し、これを水500−に注入し
た。濃塩酸16Nを加えて生ずる橙色の沈殿をろ過して
集め、水でよく洗浄してからエタノールから再結晶する
ことにより、4−ジメチルアミノ−4′−ヒドロキシカ
ルフン18、Jl (収率70%)を得た。融点219
〜220℃同様にして4−ジエチルアミノ−4′−ヒド
ロキシカルコンおよび(p−ジメチルアミノシンナミリ
デン)−4−ヒト四キシアセトフェノールを得た。
これにp−ジメチルアミノベンツアルデヒド14.99
とp−アセチルフェノール13.6Nを加えて溶解し、
これを3時間還流下反応させた。次いでエタノールを減
圧情夫して反応液を濃縮し、これを水500−に注入し
た。濃塩酸16Nを加えて生ずる橙色の沈殿をろ過して
集め、水でよく洗浄してからエタノールから再結晶する
ことにより、4−ジメチルアミノ−4′−ヒドロキシカ
ルフン18、Jl (収率70%)を得た。融点219
〜220℃同様にして4−ジエチルアミノ−4′−ヒド
ロキシカルコンおよび(p−ジメチルアミノシンナミリ
デン)−4−ヒト四キシアセトフェノールを得た。
実施例2
メタクリル酸メチルとメタクリル酸グリシジルとの95
:5共重合体(Mw−2,64xlOIl、Mn=L7
7XIO’)2gをジメチルアセトアミド18gに溶解
し、さらにテトラブチルアンモニウムクロリド0.10
81を加えた。この溶液に4−ジメチルアミノ−4′−
ヒドロキシカルコン0.262 Fを加え、室温で30
分攪拌して溶解させてから80°Cで5時間加熱した。
:5共重合体(Mw−2,64xlOIl、Mn=L7
7XIO’)2gをジメチルアセトアミド18gに溶解
し、さらにテトラブチルアンモニウムクロリド0.10
81を加えた。この溶液に4−ジメチルアミノ−4′−
ヒドロキシカルコン0.262 Fを加え、室温で30
分攪拌して溶解させてから80°Cで5時間加熱した。
反応液をメタノール250−に注入してポリマーを沈殿
させて分離し、再びクロロホルム2011に溶解した。
させて分離し、再びクロロホルム2011に溶解した。
これをメタノール2oofrLtに注入して再沈させた
。分離した樹脂を充分にメタノールで洗浄してから50
℃で真空乾燥し黄色のポリマー1.761Fを得た。こ
のポリマーは、紫外線吸収スペクトルにより感光基ジメ
チルアミノカルコン残基を1.5モル%含有しているこ
とが明らかとなった。
。分離した樹脂を充分にメタノールで洗浄してから50
℃で真空乾燥し黄色のポリマー1.761Fを得た。こ
のポリマーは、紫外線吸収スペクトルにより感光基ジメ
チルアミノカルコン残基を1.5モル%含有しているこ
とが明らかとなった。
こうして得たポリマーをエチルセロソルブアセテートに
溶解してからポリマーに対してlow、1%のp−キシ
リレンジメタクリレートを添加し、さらに補助物質とし
てベンツアントロンを加えて感光溶液とした。この溶液
を陽極酸化アルミニウム板上にスピン塗布しKodal
c Photographic 5teptablet
& l A越しにキセノン灯で1分間照射してからエチ
ルセロソルブアセテートで1分間現像した。得られた画
像の段数により表現した感度をまとめて表1に示した。
溶解してからポリマーに対してlow、1%のp−キシ
リレンジメタクリレートを添加し、さらに補助物質とし
てベンツアントロンを加えて感光溶液とした。この溶液
を陽極酸化アルミニウム板上にスピン塗布しKodal
c Photographic 5teptablet
& l A越しにキセノン灯で1分間照射してからエチ
ルセロソルブアセテートで1分間現像した。得られた画
像の段数により表現した感度をまとめて表1に示した。
市販のポリ桂皮酸ビニル系感光材料は40秒露光で2段
不溶化するので、表1の結果からほぼ同等の感度を示す
ことがわかる。
不溶化するので、表1の結果からほぼ同等の感度を示す
ことがわかる。
表1 メタクリル酸メチル−メタクリル酸グリシジル系
光増感性高分子からなる組成物の感度 こうして得たポリマーのエチルセロソルブアセテート溶
液に、ポリマーの感光基に対して2モル等量のベンツア
ントロンを添加し、さらにp−キシリレンジメタクリレ
ートを量を変化させて添加して感光溶液とした。これら
の感光性組成物の感度を同様にして測定した結果を表2
にまとめて示した。この結果、p−キシリレンジメタク
リレートを50wt%添加することにより、ポリ桂皮酸
ビニル系感光材料の約1.5倍の感度を示すことが明ら
かとなった。
光増感性高分子からなる組成物の感度 こうして得たポリマーのエチルセロソルブアセテート溶
液に、ポリマーの感光基に対して2モル等量のベンツア
ントロンを添加し、さらにp−キシリレンジメタクリレ
ートを量を変化させて添加して感光溶液とした。これら
の感光性組成物の感度を同様にして測定した結果を表2
にまとめて示した。この結果、p−キシリレンジメタク
リレートを50wt%添加することにより、ポリ桂皮酸
ビニル系感光材料の約1.5倍の感度を示すことが明ら
かとなった。
実施例3
メタクリル酸π−ブチルとメタクリル酸グリシジルとの
80720共重合体(百w= 2.08X10’ 。
80720共重合体(百w= 2.08X10’ 。
Mn =1.p9 X 106) 2 fをジメチルア
セトアミド11fに溶解し、テトラブチルアンモニウム
クロリド0.62fを加えた。これに4−ジメチルアミ
ノ−4′−ヒドロキシカルコン0.75 fを加え、室
温で30分攪拌して溶解させてから80′Cで6時間反
応させた。反応液をクロロホルムで2倍に希釈してから
、メタノール200−に注入して生成ポリマーを沈殿さ
せた。分離したポリマーをクロロホルム20fに溶解し
、これをメタノール200−に注入して再沈した。析出
したポリマーをメタノールで十分に洗浄してから50°
Cで真空乾燥し、黄色ポリマー1.63fIを得た。こ
れは、紫外線吸収スペクトルにより感光基であるジメチ
ルアミノカルコン残基1O67モル%を含有しているこ
とが明らかとなった。
セトアミド11fに溶解し、テトラブチルアンモニウム
クロリド0.62fを加えた。これに4−ジメチルアミ
ノ−4′−ヒドロキシカルコン0.75 fを加え、室
温で30分攪拌して溶解させてから80′Cで6時間反
応させた。反応液をクロロホルムで2倍に希釈してから
、メタノール200−に注入して生成ポリマーを沈殿さ
せた。分離したポリマーをクロロホルム20fに溶解し
、これをメタノール200−に注入して再沈した。析出
したポリマーをメタノールで十分に洗浄してから50°
Cで真空乾燥し、黄色ポリマー1.63fIを得た。こ
れは、紫外線吸収スペクトルにより感光基であるジメチ
ルアミノカルコン残基1O67モル%を含有しているこ
とが明らかとなった。
こ、うして得たポリマーにベンツアントロンおよびp−
キシリレンジメタクリレートを添加した感光性樹脂、組
成物の感度を実施例3と同様にして測定した。得られた
結果をまとめて表3に示す。この結果は、ポリ桂皮酸ビ
ニル系感光材料に比べて約15倍の感度を示すことを意
味している。
キシリレンジメタクリレートを添加した感光性樹脂、組
成物の感度を実施例3と同様にして測定した。得られた
結果をまとめて表3に示す。この結果は、ポリ桂皮酸ビ
ニル系感光材料に比べて約15倍の感度を示すことを意
味している。
表3 メタクリル酸n−ブチル−メタクリル酸グリシジ
ル系光増感性高分子から成る組成物の感度 実施例4 実施例2において、4−ジメチルアミノ−4′−ヒドロ
キシカルコンの代りに、4−ジエチルアミノ−4′−ヒ
ドロキシカルコンの0.211を用いて同様に反応させ
た。分離精製した黄色ポリマー1.8゜fは感光基を1
.6モル%含有していることが紫外線吸収スペクトルに
より示された。このポリマーに対して50wt%のp−
キシリレンジメタクリレートを添加し、さらに感光基に
対して2モル等母ののベンツアントロンを加えて配合し
た感光性樹脂組成物を実施例1と同様にして感度評価し
た結果、4段まで不溶化した。
ル系光増感性高分子から成る組成物の感度 実施例4 実施例2において、4−ジメチルアミノ−4′−ヒドロ
キシカルコンの代りに、4−ジエチルアミノ−4′−ヒ
ドロキシカルコンの0.211を用いて同様に反応させ
た。分離精製した黄色ポリマー1.8゜fは感光基を1
.6モル%含有していることが紫外線吸収スペクトルに
より示された。このポリマーに対して50wt%のp−
キシリレンジメタクリレートを添加し、さらに感光基に
対して2モル等母ののベンツアントロンを加えて配合し
た感光性樹脂組成物を実施例1と同様にして感度評価し
た結果、4段まで不溶化した。
実施例5
実施例2において、4−ジメチルアミノ−4′−ヒドロ
キシカルフンの代りに(p−ジメチルアミノシンナミリ
デン)−4−ヒドロキシアセトフェノン0.300 f
lを用いて同様に反応させた。分離精製した黄橙色ポリ
マー1.83♂は感光基を1.5モル%含有しているこ
とが判明した。このポリマーに対して50wt%のp−
キシリレンジメタクリレートを添加し、さらに感光基に
対して2モA/等量のベンツアントロンを加えて配合し
た感光性樹脂組成物を実施例1と同様にして感光「F価
した結果、6段まで不溶化した。
キシカルフンの代りに(p−ジメチルアミノシンナミリ
デン)−4−ヒドロキシアセトフェノン0.300 f
lを用いて同様に反応させた。分離精製した黄橙色ポリ
マー1.83♂は感光基を1.5モル%含有しているこ
とが判明した。このポリマーに対して50wt%のp−
キシリレンジメタクリレートを添加し、さらに感光基に
対して2モA/等量のベンツアントロンを加えて配合し
た感光性樹脂組成物を実施例1と同様にして感光「F価
した結果、6段まで不溶化した。
実施例6
メタクリル酸メチル−クロロメチルスチレンの10gを
ジメチルアセトアミド90gに溶解し、これに4−ジメ
チルアミノ−47−ヒドロキシカルコンのカリウム(f
i4.12gを加え、室温で20分間↑゛、シ1拌して
7Jlら、65’Cで5時間反応を行った。反応液をメ
タノール800aJに注入してポリマーを沈殿させ、メ
タノールで十分に洗ってから40℃で真空乾燥し黄色ポ
リマー11.70j’ を得た。紫外線吸収スペクトル
により、これは5.5モ/l/%の感光基を含むことが
明らかとなった。
ジメチルアセトアミド90gに溶解し、これに4−ジメ
チルアミノ−47−ヒドロキシカルコンのカリウム(f
i4.12gを加え、室温で20分間↑゛、シ1拌して
7Jlら、65’Cで5時間反応を行った。反応液をメ
タノール800aJに注入してポリマーを沈殿させ、メ
タノールで十分に洗ってから40℃で真空乾燥し黄色ポ
リマー11.70j’ を得た。紫外線吸収スペクトル
により、これは5.5モ/l/%の感光基を含むことが
明らかとなった。
実施例7
実施例6において、4−ジメチルアミノ−4′−ヒドロ
キシカルコンの代りに4−ジエチルアミノ−4′−ヒド
ロキシカルコンを用いて同様の操作を行うことにより、
感光基5.3モル%導入されたポリマーを得た。
キシカルコンの代りに4−ジエチルアミノ−4′−ヒド
ロキシカルコンを用いて同様の操作を行うことにより、
感光基5.3モル%導入されたポリマーを得た。
実施例8
メタクリル酸メチル−クロロメチルスチレンの80:2
0共重合体(Mw==2.48 x 10’ 、 Mn
=s、al x ld’ )10Fをジメチルアセトア
ミド190 Nに溶解し、これに4−ジメチルアミノ−
4′−ヒドロキシカルコンのカリウム塩8.289を加
え、室温で20分攪拌してから、65℃で5時間反応を
行った。反応液をメタノール1.81!に注入してポリ
マーを沈殿させ、メタノールで洗浄してから室温で真空
乾燥を行う。得られたポリマーをテトラヒドロ7ラン9
0j+に溶解し、この溶液をろ過して不溶物を除いてか
らメタノールに再沈させた。これをメタノールで十分に
洗ってから40’Cで真空乾燥し、黄色ポリマー13.
フ4fを得た。これは紫外線吸収スペクトルから感光基
は11.6モル%導入されていることが明らかになった
。
0共重合体(Mw==2.48 x 10’ 、 Mn
=s、al x ld’ )10Fをジメチルアセトア
ミド190 Nに溶解し、これに4−ジメチルアミノ−
4′−ヒドロキシカルコンのカリウム塩8.289を加
え、室温で20分攪拌してから、65℃で5時間反応を
行った。反応液をメタノール1.81!に注入してポリ
マーを沈殿させ、メタノールで洗浄してから室温で真空
乾燥を行う。得られたポリマーをテトラヒドロ7ラン9
0j+に溶解し、この溶液をろ過して不溶物を除いてか
らメタノールに再沈させた。これをメタノールで十分に
洗ってから40’Cで真空乾燥し、黄色ポリマー13.
フ4fを得た。これは紫外線吸収スペクトルから感光基
は11.6モル%導入されていることが明らかになった
。
実施例9
実施例6〜8で得た光増感性高分子に重合性化合物とし
て、PKG400DA (0%= 0HOO,(−OE
T!−0%0−4ooaH=oHL)および補助物質を
添加して陽極酸化アルミニウム板にスピン塗布し1実施
例3と同様にKodak Photographic
5teptablet & l A越しにキセノンラン
プで5秒間露光し、次いでジメチルアセトアミドで15
秒間現像した。不溶化した段数により感度を衷現した結
果を表4にまとめて示す。
て、PKG400DA (0%= 0HOO,(−OE
T!−0%0−4ooaH=oHL)および補助物質を
添加して陽極酸化アルミニウム板にスピン塗布し1実施
例3と同様にKodak Photographic
5teptablet & l A越しにキセノンラン
プで5秒間露光し、次いでジメチルアセトアミドで15
秒間現像した。不溶化した段数により感度を衷現した結
果を表4にまとめて示す。
電子受容性の補助物質としてジフェニルヨードニウム・
ヘキサフルオロホスフェートと2−メチル−4,6−ビ
ス(トリクロロメチル)−s−ト1ノアジンを用いた。
ヘキサフルオロホスフェートと2−メチル−4,6−ビ
ス(トリクロロメチル)−s−ト1ノアジンを用いた。
この表における7段を示す感度はポリ桂皮酸ビニル系感
光材料の約128倍に相当する。
光材料の約128倍に相当する。
表4 メタクリル酸メチル−クロルメチルスチレンから
得た光増感性高分子からなる組成物の感度 実施例10 実施例1で得た4−ジメチルアミノ−4′−ヒドロキシ
カルコン20fをテトラヒドロ7ラン260fに溶解し
、これにエチルジイソブチルアミンa5fを加えた。室
温で攪拌しながらメタクリル酸クロリド8.6ffl−
滴下し、滴下終了後5時間経てから、エチルジイソブチ
ルアミン2.19を追加し、メタクリル酸クロリド2.
3IIをさらに滴下して12時間攪拌を続けた。析出し
た塩をろ別し、テトラヒドロフランを減圧下で留去して
からメチルシクロヘキサン300m1と混合した。黄橙
色の沈殿が生ずるので、これをろ別して減圧乾燥した。
得た光増感性高分子からなる組成物の感度 実施例10 実施例1で得た4−ジメチルアミノ−4′−ヒドロキシ
カルコン20fをテトラヒドロ7ラン260fに溶解し
、これにエチルジイソブチルアミンa5fを加えた。室
温で攪拌しながらメタクリル酸クロリド8.6ffl−
滴下し、滴下終了後5時間経てから、エチルジイソブチ
ルアミン2.19を追加し、メタクリル酸クロリド2.
3IIをさらに滴下して12時間攪拌を続けた。析出し
た塩をろ別し、テトラヒドロフランを減圧下で留去して
からメチルシクロヘキサン300m1と混合した。黄橙
色の沈殿が生ずるので、これをろ別して減圧乾燥した。
メタノールから再結晶することにより、4−ジメチルア
ミノ−47−メタクリロイルオキシカルコン18.6g
(収率69%)を得た。融点98〜100″C0実施
例11 4−ジメチルアミノ−4′−メタクリロイルオキシカル
コン1.5gとメタクリル酸メチル14.5577を2
00−の三角フラスコ中のベンゼン81gに溶解し、さ
らにアゾビスイソブチロニトリル8;1?+19を添加
した。フラスコ内を高純度アルゴンでガス置換をしてか
ら密閉し、50°Cで50時間反応させた。重合溶液を
n−ヘキサンに注入し、生じた沈殿をn−ヘキサンで洗
浄してから、40′Cで減圧乾燥することにより黄色の
ポリマー1e、5y (収率78%)を得た。紫外線吸
収スペクトルにより分析した結果3.5モル%の感光基
が導入されていることが明らかになった。
ミノ−47−メタクリロイルオキシカルコン18.6g
(収率69%)を得た。融点98〜100″C0実施
例11 4−ジメチルアミノ−4′−メタクリロイルオキシカル
コン1.5gとメタクリル酸メチル14.5577を2
00−の三角フラスコ中のベンゼン81gに溶解し、さ
らにアゾビスイソブチロニトリル8;1?+19を添加
した。フラスコ内を高純度アルゴンでガス置換をしてか
ら密閉し、50°Cで50時間反応させた。重合溶液を
n−ヘキサンに注入し、生じた沈殿をn−ヘキサンで洗
浄してから、40′Cで減圧乾燥することにより黄色の
ポリマー1e、5y (収率78%)を得た。紫外線吸
収スペクトルにより分析した結果3.5モル%の感光基
が導入されていることが明らかになった。
実施例12.13
実施例11と同様にして、4−ジメチルアミノ−4′−
メタクリロイルオキシカルフンとメタクリル酸メチルの
仕込み率を変えることにより、それぞれ感光基導入率の
変化したポリマーを得た。実施例11の結果もあわぜて
表5にそれらの結果を示す。
メタクリロイルオキシカルフンとメタクリル酸メチルの
仕込み率を変えることにより、それぞれ感光基導入率の
変化したポリマーを得た。実施例11の結果もあわぜて
表5にそれらの結果を示す。
表54−ジメチルアミノ−4′〜メタクリpイルオキシ
カルコンとMMAの共重合 実施例14 実施例11〜13で得たメタクリル酸メチル系光増感性
高分子を用いて表6に示す組成の感光性組成物を調整し
た。補助物質として、 表6 感光性組成物の配合 ジフェニルヨードニウム・ヘキサフルオロホスフェート
、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−8
−トリアジンおよびベンツアントロンを用い光増感性残
基に対するモル等量を変化させて組成物に添加した。こ
うして配合した感光液を400 rpmの回転数で陽極
酸化アルミニウム板に塗布し、この上にKOムしPho
tographio 8teptablet A IA
をのせてキセノンランプで2秒露光した。これをN、N
−ジメチルアセトアミドに1分間浸して現像し、不溶化
した段数により感度を訂価した。それらの結果をまとめ
て表7に示す。得られた不溶化膜は、黄色をしており光
増感性高分子自体が不溶化していることを示している。
カルコンとMMAの共重合 実施例14 実施例11〜13で得たメタクリル酸メチル系光増感性
高分子を用いて表6に示す組成の感光性組成物を調整し
た。補助物質として、 表6 感光性組成物の配合 ジフェニルヨードニウム・ヘキサフルオロホスフェート
、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−8
−トリアジンおよびベンツアントロンを用い光増感性残
基に対するモル等量を変化させて組成物に添加した。こ
うして配合した感光液を400 rpmの回転数で陽極
酸化アルミニウム板に塗布し、この上にKOムしPho
tographio 8teptablet A IA
をのせてキセノンランプで2秒露光した。これをN、N
−ジメチルアセトアミドに1分間浸して現像し、不溶化
した段数により感度を訂価した。それらの結果をまとめ
て表7に示す。得られた不溶化膜は、黄色をしており光
増感性高分子自体が不溶化していることを示している。
なお、この露光条件下で市販のポリビニル桂皮酸系感光
剤は20秒露光で2段、40秒露光で3段まで不溶化す
る。したがって、この市販辰:光剤に比較するとジフェ
ニルヨードニウム塩の17合は、2.5〜40倍、2−
メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−hリ
アジンの場合には2.5〜40倍、ベンツアントロンの
場合には10倍までの感度を示していることになる。
剤は20秒露光で2段、40秒露光で3段まで不溶化す
る。したがって、この市販辰:光剤に比較するとジフェ
ニルヨードニウム塩の17合は、2.5〜40倍、2−
メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−hリ
アジンの場合には2.5〜40倍、ベンツアントロンの
場合には10倍までの感度を示していることになる。
表7 メタクリル酸メチルとの光増感性モノマーとの共
重合体とpmoaoopA(a4=onao−po4o
駅。
重合体とpmoaoopA(a4=onao−po4o
駅。
−〇〇〇〇H二〇島)との2:1混合物に各種補助物質
を添加したときの光不溶化感度 実施例15〜17 10dアンプル管に4−ジメチルアミノ−4′−メタク
リロイルオキシカルコンQ、201fsメタクリル酸n
−ブチル1,33pおよびベンゼン7.68fを入れ、
さらにアゾビスイソブチロニトリル7.7m9を添加し
た。これを凍結、脱気、アルゴンガス置換を3回繰り返
したのちに減圧下で封管した。このアンプル管を50′
Cで48時間振とうしたのち、重合溶液をヘキサンに注
入した。生じた沈殿をヘキサンで洗浄してから40°C
で真空乾燥した。黄色のポリマー1.256g(収率8
2%)を得た。このときの仕込み感光基量は6モル%で
あったが、紫外線吸収スペクトルにより分析した結果5
.8モル%の感光基量が導入されていることが明らかに
なった。
を添加したときの光不溶化感度 実施例15〜17 10dアンプル管に4−ジメチルアミノ−4′−メタク
リロイルオキシカルコンQ、201fsメタクリル酸n
−ブチル1,33pおよびベンゼン7.68fを入れ、
さらにアゾビスイソブチロニトリル7.7m9を添加し
た。これを凍結、脱気、アルゴンガス置換を3回繰り返
したのちに減圧下で封管した。このアンプル管を50′
Cで48時間振とうしたのち、重合溶液をヘキサンに注
入した。生じた沈殿をヘキサンで洗浄してから40°C
で真空乾燥した。黄色のポリマー1.256g(収率8
2%)を得た。このときの仕込み感光基量は6モル%で
あったが、紫外線吸収スペクトルにより分析した結果5
.8モル%の感光基量が導入されていることが明らかに
なった。
4−ジメチルアミノ−4′−メタクリロイルオキシカル
フンとメタクリル、@−−ブチルとの仕込み率を変化さ
せ、同様にして感光基の導入率の異なるポリマーを得た
。以上の結果をまとめて表8に示す。
フンとメタクリル、@−−ブチルとの仕込み率を変化さ
せ、同様にして感光基の導入率の異なるポリマーを得た
。以上の結果をまとめて表8に示す。
表84−ジメチルアミノ−l−メタクリロイルオキシカ
ルコンとメタクリル酸n−ブチルとの共重合 実施例18 実施例11にI−じて感光基4.6モル%の導入率を示
すメタクリ・ル酸メチル系の光増感性高分子(Mw+=
2.99 x 10’ 、 Mn=エユ1×106)を
合成し、このメチルセロソルブ溶液に補助物質としてベ
ンツアン)aンを感光基に対して2モル等量添加し、さ
らに表9に示すような割合で各種のビニル重合性化合物
を加えて感光性組成物とした。この感光液を実施例14
と同様にしてt陽光評価した。ただし露光は5秒で、現
像液としてはメチルセロンルブを用いた。それらの結果
は、まとめて表9に示した。
ルコンとメタクリル酸n−ブチルとの共重合 実施例18 実施例11にI−じて感光基4.6モル%の導入率を示
すメタクリ・ル酸メチル系の光増感性高分子(Mw+=
2.99 x 10’ 、 Mn=エユ1×106)を
合成し、このメチルセロソルブ溶液に補助物質としてベ
ンツアン)aンを感光基に対して2モル等量添加し、さ
らに表9に示すような割合で各種のビニル重合性化合物
を加えて感光性組成物とした。この感光液を実施例14
と同様にしてt陽光評価した。ただし露光は5秒で、現
像液としてはメチルセロンルブを用いた。それらの結果
は、まとめて表9に示した。
表9 メタクリル酸メチル系光増感性高分千−ベンツア
ントロン系感光性組成物の感度に及ぼすビニル重合性化
合物の効果 ※1略称は次のとおり りPrca4ooDh、’> ay、=oHOo+oo
n、oz+oaooJs=ay。
ントロン系感光性組成物の感度に及ぼすビニル重合性化
合物の効果 ※1略称は次のとおり りPrca4ooDh、’> ay、=oHOo+oo
n、oz+oaooJs=ay。
OR,= C3−00+00H,O嫡0000=011
t(T T A) 000H=OHL (PIDTA:) H00H2−040H10000H
=0%)。
t(T T A) 000H=OHL (PIDTA:) H00H2−040H10000H
=0%)。
(DpnA) ジペンタエリスリトールへギサアクリレ
ートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混
合物 実施例19 実施例15〜17で得たメタクリルff1n−ブチル系
感光増感性高分子に感光基に対して2モル等量のジフェ
ニルヨードニウム・ヘキサフルオロホスプエートと50
wt%のPKG40ODAを添加した感度を評価した。
ートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混
合物 実施例19 実施例15〜17で得たメタクリルff1n−ブチル系
感光増感性高分子に感光基に対して2モル等量のジフェ
ニルヨードニウム・ヘキサフルオロホスプエートと50
wt%のPKG40ODAを添加した感度を評価した。
実施例11〜13で得たメタクリル酸メチル系のポリマ
ーが示す感度を比較のためにまとめて表10に示す。
ーが示す感度を比較のためにまとめて表10に示す。
表1Oメタクリル酸n−ブチル系光増感性高分子からな
る感光性組成物の感度 C
る感光性組成物の感度 C
Claims (5)
- (1)一般式 (式中、Rt+Ikは水素原子、低級γルキル基、低級
アルキル基であり、nはOから2までの整数である。)
で表わされるアミノケトン力1ら成る光増感性残基を側
鎖に少なくとも1つ有することを特徴とする光増感性高
分子化合物。 - (2)分子量が5000〜1000000の範囲にある
特許請求の範囲第1項記載の光増感性高分子イし合物。 - (3)一般式 (式中、R1,%、 R#、 nは前記と同じ意味を持
つ。 で表わされるフェノール性水酸基を有するアミ7ケトン
を(メタ)アクリル酸グリシジルを一成分とする共重合
体と反応させることを特徴とする、一般式 (式中、R1,%、 Ba、 nは前記と同じ意味を持
つ。)で表わされる光増感性残基を特徴とする特許請求
の範囲第1項記載の光増感性高分子化合物の製法。 - (4)一般式 (式中、R,、1%、 all、 nは前記と同じ意味
を持つ。)で表わされるフェノール性水酸基を有するア
ミ7ケトンと活性ハロゲンを有する高分子とを反応させ
ることを特徴とする、一般式 ・) (式中、Rut ”It RIIs …は前記に
同じ意味を持つ。)で表わされる光増感性残基を有する
特許請求の範囲第1項記載の光増感性高分子化合物の製
法。 - (5)一般式 (式中、RII hr ”a、”は前記と同じ意味を持
ち、現は水素原子またはメチル基を表わし、RsGt−
ooo −を有する不飽和ケトンを、不飽和エチレン性
結合を持つ化合物と共重合させることを特徴とする、一
般式 (式中、”0.’XI RIl+ ”は前記と同じ意味
を持つ。)で表わされる光増感性残基を含有する特許請
求の範囲第1項記載の光増感性高分子化合物の製法0
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13053183A JPS6023403A (ja) | 1983-07-18 | 1983-07-18 | 光増感性高分子化合物とその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13053183A JPS6023403A (ja) | 1983-07-18 | 1983-07-18 | 光増感性高分子化合物とその製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6023403A true JPS6023403A (ja) | 1985-02-06 |
| JPH0136482B2 JPH0136482B2 (ja) | 1989-08-01 |
Family
ID=15036519
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13053183A Granted JPS6023403A (ja) | 1983-07-18 | 1983-07-18 | 光増感性高分子化合物とその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6023403A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018168676A1 (ja) * | 2017-03-16 | 2018-09-20 | 東ソー株式会社 | 光架橋性重合体、絶縁膜、平坦化膜、親撥パターニング膜及びこれを含む有機電界効果トランジスタデバイス |
| JP2019073597A (ja) * | 2017-10-13 | 2019-05-16 | 東ソー株式会社 | 光架橋性重合体、絶縁膜及びこれを含む有機電界効果トランジスタデバイス |
-
1983
- 1983-07-18 JP JP13053183A patent/JPS6023403A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018168676A1 (ja) * | 2017-03-16 | 2018-09-20 | 東ソー株式会社 | 光架橋性重合体、絶縁膜、平坦化膜、親撥パターニング膜及びこれを含む有機電界効果トランジスタデバイス |
| JP2019073597A (ja) * | 2017-10-13 | 2019-05-16 | 東ソー株式会社 | 光架橋性重合体、絶縁膜及びこれを含む有機電界効果トランジスタデバイス |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0136482B2 (ja) | 1989-08-01 |
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